JPH0517374A - アレンの新規合成法 - Google Patents

アレンの新規合成法

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JPH0517374A
JPH0517374A JP16286391A JP16286391A JPH0517374A JP H0517374 A JPH0517374 A JP H0517374A JP 16286391 A JP16286391 A JP 16286391A JP 16286391 A JP16286391 A JP 16286391A JP H0517374 A JPH0517374 A JP H0517374A
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JP
Japan
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aryl
alcohol
allene
cycloalkyl
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JP16286391A
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English (en)
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Toshiro Konoike
敏郎 鴻池
Yoshitaka Araki
美貴 荒木
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Shionogi and Co Ltd
Original Assignee
Shionogi and Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 緩和な条件において光学純度の高いキラルア
レン化合物を合成し得る方法を提供する。 【構成】 式: 【化1】 [式中、R1、R2およびR3はそれぞれ水素、アルキル、
アルケニル、シクロアルキル、またはアリールを表わ
し、該シクロアルキルおよびアリールはさらに低級アル
キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロ
ゲンまたはアミノで置換されていてもよく、R4は低級
アルキルまたはアリールを表わす]で示されるビニルス
ズアルコールをデオキシスタニル化することを特徴とす
る式: 【化2】 [式中、R1、R2およびR3は前記と同意義である]で示
されるアレンの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、医薬品合成に有用なアレン化合
物の新規合成法に関し、詳細には、ビニルスズアルコー
ル化合物をデオキシスタニル化することによるアレン化
合物の新規製造法を提供するものである。更に本発明
は、プロパルギルアルコール化合物をハイドロスタニル
化し、次いで、生成したビニルスズアルコール化合物を
デオキシスタニル化することによるアレン化合物の2段
階1ポット合成法を提供するものである。
【0002】アレン化合物は、生理活性物質の構造活性
相関を調べたり、医薬品の新規合成法を開発する上で有
用な化合物である。例えば、下記構造式で示す様に、ア
レンのユニットを導入したエンプロスチルを合成してそ
の構造活性相関を検討したり(Gooding,O.W.,Beard,C.
C.,Jackson,D.Y.,Wren,D.L.,J.Org.Chem.1991,56,108
3)、下記反応式で示す様に、アレン化合物を中間体とす
るコンパクチンのような生理活性化合物を合成するのに
有用である(Deutsch,E.A.,Snider,B.B., J.Org.Chem.,1
982,47,2684;Tetrahedron Lett.1983,24,3701;Keck,G.
E., Kachensky,D.F.,J.Org.Chem. 1986,51,2487)。
【化10】
【0003】アレン化合物の合成法は多数知られている
(Schuster,H.F., Coppola,G.M., Allenes in Organic C
hemistry, Wiley:New York,1984)が、過酷な条件下で行
なうものが多く、医薬品合成に用いるには不適当なもの
が多い。また、近年の不斉合成の進歩に伴い、キラルア
レン化合物の合成法もいくつか報告されている(Alexaki
s,A., Marek,I.,Mangeney,P.,Nornant,J.F., J.Amer.Ch
em.Soc.1990,112,8042)。その合成法の多くはキラルな
プロパルギルアルコール化合物を原料とするものである
が、この原料を高い光学純度(鏡像異性体過剰(ee))で得
る経済的な合成法はなかった。
【0004】本発明者らはこれらの点に鑑み、簡便かつ
グラムスケールで実施可能であり、緩和な条件において
官能基を有するアレン化合物を合成することができ、光
学純度の高いキラルアレン化合物を合成し得る新規な合
成法を開発することを目的として鋭意研究を行ない、本
発明を完成するに至った。
【0005】即ち、本発明は、ラセミ体のプロパルギル
アルコール化合物を出発物質としてその三重結合へスズ
ハイドライドを付加(ハイドロスタニル化)し、次いで、
生成したビニルスズアルコール化合物からスタノールを
β−脱離(デオキシスタニル化)させることを特徴とする
ラセミ体アレン化合物の2段階1ポット合成法を提供す
るものである。また、この反応を利用して中間体のビニ
ルスズアルコール化合物を酸化し、次いで、触媒的不斉
還元してキラルビニルスズアルコール化合物とし、これ
にデオキシスタニル化を行なってキラルアレン化合物を
合成する方法をも提供するものである。
【0006】具体的には、本発明は、式:
【化11】 [式中、R1、R2およびR3はそれぞれ水素、アルキル、
アルケニル、シクロアルキル、またはアリールを表わ
し、該シクロアルキルおよびアリールはさらに低級アル
キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロ
ゲンまたはアミノで置換されていてもよく、R4は低級
アルキルまたはアリールを表わす]で示されるビニルス
ズアルコールをデオキシスタニル化することを特徴とす
る式:
【化12】 [式中、R1、R2およびR3は前記と同意義である]で示
されるアレンの製造方法を提供するものである。
【0007】ビニルスズアルコールの製造法は既知であ
り(例えば、Mark Lautens et al.,Tetrahedron Letter
s, Vol.31, No.22,pp3105-3108,1990を参照)、得られた
ビニルスズアルコールは単離精製することなく、1ポッ
トでデオキシスタニル化することができる。
【0008】従って、本発明は更に、式:
【化13】 [式中、R1、R2およびR3はそれぞれ水素、アルキル、
アルケニル、シクロアルキル、またはアリールを表わ
し、該シクロアルキルおよびアリールはさらに低級アル
キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロ
ゲンまたはアミノで置換されていてもよい]で示される
プロパルギルアルコールを式: R4 3SnH [式中、R4は低級アルキルまたはアリールを表わす]で
示されるスズハイドライドでハイドロスタニル化して
式:
【化14】 [式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同意義であ
る]で示されるビニルスズアルコールとした後、デオキ
シスタニル化することを特徴とする式:
【化15】 [式中、R1、R2およびR3は前記と同意義である]で示
されるアレンの製造方法を提供するものである。
【0009】本発明方法によれば、抗菌作用を有する天
然物のキラルアレン化合物を容易に合成することができ
る。以下に本発明についてより詳細に説明する。通常、
プロパルギルアルコールとスズハイドライドを無溶媒あ
るいはトルエンの様な溶媒中、1:1〜1:2、好まし
くは1:1.1〜1:1.5モル比で混合し、触媒量のア
ゾビスイソブチロニトリル存在下、約80〜約90℃で
1〜2時間反応させることによりハイドロスタニル化
し、ビニルスズアルコールを得る。次いで、ビニルスズ
アルコール、塩化メタンスルホニルおよびトリエチルア
ミンを、例えばクロロホルム、ジクロロメタンの様な塩
素化炭化水素溶媒中、1:1:1〜1:3:6、好まし
くは1:1.5:3モル比で混合し、室温で1〜2時間
反応させることによって、ビニルスズアルコールをデオ
キシスタニル化し、アレン化合物を得る。得られたアレ
ン化合物は、蒸留、カラムクロマトグラフィーなど公知
の手段によって単離することができる。
【0010】上記のプロパルギルアルコールを出発物質
とするアレンの製造方法に於いて、第1段のハイドロス
タニル化の収率および立体選択性(Lautens,M.;Huboux,
A.H.,Tetrahedron Lett. 1990,31,3105)は、出発物質で
あるプロパルギルアルコールの構造に依存する。R1が
アルキル基の場合、高い収率および位置選択性で反応が
進行する。R1がフェニルまたはビニル基であるsp2置
換基の場合や3級プロパルギルアルコールの場合、収率
は中程度である。立体選択性はR2の構造に依存し、R2
がアルキル基の場合には立体選択性もよく、Z体のビニ
ルスズアルコールが生成する。R2がsp2置換基の場合
には選択性はなく、Z:Eがほぼ1:1の混合物として得
られる。第2段のデオキシスタニル化は、ビニルスズア
ルコールの構造に拘わらず高収率で進行する。中間体と
考えられるメシル体は観察されない。従来、スズと同族
体のケイ素によるデオキシシリル化はPeterson反応(Age
r,D.J. In “Org.React.",Wiley:New York,1990;Vol.3
8,pp1-223)として知られており、炭素−炭素二重結合の
生成反応として有機合成に広く用いられている。これに
対してデオキシスタニル化による炭素−炭素二重結合の
生成は非常に例が少なく、酸性条件(Sano,H., Ohtsuka,
H.,Migita,T.,J.Amer.Chem.Soc.1988,110,2014)あるい
は熱的(Kauffmann,T.,Angew.Chem.,Int.Ed.Engl.,1982,
21,410)に行なわれている。本発明で用いた塩化メタン
スルホニル、トリエチルアミンによる方法は、中性条件
で行なう新規な方法であり、有機合成において重要であ
る。
【0011】本発明で使用されるスズハイドライドに
は、例えばトリブチルスズハイドライド、トリメチルス
ズハイドライドのようなトリアルキルスズハイドライ
ド、例えばトリフェニルスズハイドライドのようなトリ
アリールスズハイドライド等がある。
【0012】上記のように、本発明方法は、原料および
試薬の入手が容易な、アレン化合物の簡便な合成法であ
る。本発明方法のその他の特徴は、反応条件が緩和であ
り、アレン化合物にジエン、アセチレンの異性体を含ま
ないことである。
【0013】次に、キラルアレン化合物、例えば、(S)
−(+)−2,3−デカジエンは、以下のようにして製造
される。
【化16】
【0014】ラセミ体のビニルスズアルコール(2a)を
酸化してケトン(5)とし、更にCoreyの試薬(Corey,E.
J., Bakshi,R.K., Tetrahedron Lett., 1990,31,611)に
より不斉還元して光学活性なビニルスズアルコール
((R)−2a)とする。(R)−2aの絶対構造及び光学純度
(ee)はMosherのMTPAエステル(S−(−)−α−メト
キシ−α−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸とアルコ
ールとのエステル)として決定する(Ohtani,I.,Kusumi,
T.,Kashman,Y.,Kakisawa,H., J.Org.Chem.,1991,56,129
6)。こうして得られた光学活性ビニルスズアルコール
((R)−2a)を塩化メタンスルホニル、トリエチルアミ
ンで処理すると、46%eeの光学活性アレン((S)−3
a)が80%収率で得られる。このことはデオキシスタニ
ル化がメシル体を経由して主にアンチ脱離で進行してい
ることを示している。またアレンのeeが原料の((R)−
2a)より低下していることは、デオキシスタニル化が部
分的にラセミ化を伴っていることを示している。これ
は、一部アリリックカチオンを経てデオキシスタニル化
が進行し、ラセミ体アレンを与えるためと考えられる。
光学活性アレン((S)−3a)のeeの向上は、((R)−2a)
を塩化メタンスルホニルおよびトリエチルアミンで処理
する際に塩化テトラエチルアンモニウムを添加したとき
に得られる。これは、塩化テトラエチルアンモニウムの
添加により塩素アニオンの濃度が高くなるためアンチ脱
離が促進されるからである。
【0015】より高いeeの((S)−3a)は下記の反応式
に示した2段階反応により合成される。((R)−2a)を
アセチル化して(6)とし、次いで(6)にテトラブチルア
ンモニウムフルオライドによるデアセトキシスタニル化
(Chan,T.H.,Mychajlowskij,W.,Ong.B.S.,Harpp,D.N.,
J.Org.Chem.,1978,43,1526)を行なうと立体特異的にア
ンチ脱離が進行し、高い光学純度(90%ee以上(Mannsc
hreck,A.,Munninger,W.,Burgmeister,T.,Gore,J.,Caze
s,B.,Tetrahedron 1986,42,399))のキラルアレン((S)
−3a)が得られる。このアレンの合成法では触媒量の不
斉源で高いeeのキラルアレンが得られ、その絶対構造も
不斉源の絶対構造を選ぶことにより任意のキラルアレン
が得られることが特徴である。
【化17】
【0016】更に、以下の反応式で示す様に、上記光学
活性アレンの合成法を用いて落葉樹Sapium japonicumの
抗菌物質、(−)8−ヒドロキシオクタ−5,6−ジエン
酸メチル(4)(Huguet,J.,Reyes,M.d.C.,Tetrahedron Le
tt.,1990,31,4279)を合成することができる。アルデヒ
ド(8)とプロパルギルアルコール(7)との縮合で得られ
るアルコール(9)を出発物質とする。(9)をテトラブチ
ルスズハイドライドでハイドロスタニル化し、酸化、不
斉還元によりキラルアルコール((S)−11)(95%ee)
とし、((S)−11)を塩化メタンスルホニル、トリエチ
ルアミン、塩化テトラエチルアンモニウムでデオキシス
タニル化し、次いでTBDMS基を脱保護し、(4)を得
る。このようにして合成される(4)は天然物とほぼ同じ
比旋光度を示す。
【化18】
【0017】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に
説明するが、これらは本発明の範囲を限定する意図のも
のではない。
【0018】実施例1 ラセミ体アレンの一般的合成
【化19】
【0019】アレン(3a)(式(3)においてR1=Me、R2=n
-C6H13、R3=H)の合成 3−デシン−2−オール(2.0
g,12.97mmol)とトリブチルスズハイドライド(3.8
4ml,14.27mmol)の混合物にアゾビスイソブチロニ
トリル(50mg)を加え、85℃で1.5時間加熱撹拌
し、ビニルスズアルコール(2a)(式(2)に於いてR1=M
e、R2=n-C6H13)を得た。(2a):1H NMR(200MH
z/CDCL3)δ6.20(t,1H,3JHH=7.1Hz,3J
SnH=132.0/120.0Hz),4.36(q,1H,J=
6.4Hz),2.1−1.8(m,2H),1.6−1.2(m,23
H),1.0−0.8(m,18H).この(2a)を含む混合物
を室温まで冷却し、塩化メチレン(20ml)で希釈した。
この溶液に0℃でトリエチルアミン(5.4ml)と塩化メ
タンスルホニル(1.51ml)を加えた。反応混合物を2
0分間撹拌後、室温で1時間撹拌を続けた。混合物を氷
−希塩酸に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレ
ン層を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。抽出液を濃縮後、シリ
カゲルクロマトグラフィーにより粗2,3−デカジエン
(3a)(2.195g)を分離した。得られた粗2,3−デカ
ジエン(3a)をクーゲルロールより蒸留して沸点120
−170℃/170mmHgの部分を集め、1.456g(8
1%)の2,3−デカジエン(3a)を得た。(3a):1H N
MR(200MHz/CDCL3)δ5.1−4.9(m,2
H),2.1−1.9(2H,m),1.7−1.6(m,3H),1.
5−1.2(m,8H),0.89(t,3H,J=6.4Hz);13
C NMR(50MHz/CDCL3)δ205.3,90.
6,85.6,31.9,29.3,29.0,28.9,22.
8,14.7,14.2;IR(CHCL3)2922,195
8,1459cm-1その他のアレン(3b)〜(3h)も同様の
方法で合成した。
【0020】(3b)(式(3)においてR1=Et、R2=n-C
6H13、R3=H):1H NMR(200MHz/CDCL3)δ
5.2−5.0(m,2H),2.1−1.9(m,4H),1.5−
1.2(m,8H),1.09(t,3H,J=7.4Hz),0.8
9(t,3H,J=6.4Hz);13C NMR(50MHz/C
DCL3)δ203.5,92.6,91.6,31.8,29.
3,29.1,28.9,22.7,22.1,14.1,13.
5;IR(CHCL3)2924,1956,1456cm-1
【0021】(3c)(式(3)においてR1=Et、R2=Ph、R3=
H):1H NMR(200MHz/CDCL3)δ7.4−7.
1(m,5H),6.16(dt,1H,J=6.4,3.4Hz),5.
63(q,1H,J=6.4Hz),2.3−2.1(m,2H),1.
09(t,3H,J=7.4Hz);13C NMR(50MHz/
CDCL3)δ204.8,135.2,128.5,126.
6,120.5,96.8,95.3,22.0,13.5;IR
(CHCL3)2958,1939,1490,1453cm-1
【0022】(3d)(式(3)においてR1=シクロヘキシ
ル、R2=n-C4H9、R3=H):1H NMR(200MHz/CD
CL3)δ5.2−5.0(m,2H),2.1−1.8(m,3H),
1.8−1.5(m,5H),1.5−1.0(m,9H),0.90
(t,3H,J=6.5Hz);13C NMR(50MHz/CD
CL3)δ202.6,97.0,91.8,37.3,33.2,
31.4,28.8,26.2,26.1,22.2,13.9;
IR(CHCL3)2952,1954,1446cm-1
【0023】(3e)(式(3)においてR1=Me、R2=シクロ
ヘキサン−1−エン−1−イル、R3=H):1H NMR(2
00MHz/CDCL3)δ5.8−5.7(m,1H),5.7
−5.6(m,1H),5.4−5.2(m,1H),2.2−1.9
(m,4H),1.7−1.5(m,7H);IR(CHCL3)29
20,1933,1432cm-1
【0024】(3f)(式(3)においてR1=Me−(CH)2−、R2
=n-C6H13、R3=H):1H NMR(200MHz/CDC
L3)δ5.9−5.5(m,3H),5.3−5.2(m,1H),
2.1−1.9(m,2H),1.8−1.7(m,3H),1.5−
1.2(m,8H),0.86(t,3H,J=6.5Hz);13C
NMR(50MHz/CDCL3)δ206.9,127.8,
126.7,94.3,92.4,32.0,29.5,29.3,
29.0,22.9,18.1,14.2;IR(CHCL3)2
948,1935,1449cm-1
【0025】(3g)(式(3)においてR1=Ph、R2=−CH2OT
BDMS、R3=H):1H NMR(200MHz/CDCL3)δ
7.4−7.1(m,5H),6.23(dt,1H,J=6.4,3.
4Hz),5.68(q,1H,J=6.2Hz),4.30(dd,2
H,J=6.2,3.4Hz),0.89(s,9H),0.09(s,
3H),0.08(s,3H)
【0026】(3h)(式(3)においてR1=Me、R2=n-C
6H13、R3=n-C4H9):1H NMR(200MHz/CDC
L3)δ5.1−4.9(m,1H),2.1−1.8(m,4H),
1.66(d,3H,J=3.0Hz),1.6−1.2(m,12
H),0.89(t,6H,J=7.2Hz);13C NMR(50
MHz/CDCL3)δ201.2,99.1,90.1,33.
9,31.8,29.8,29.4,29.3,28.8,22.
7,22.4,19.3,14.1,14.0;IR(CHC
L3)2918,1952,1459cm-1
【0027】実施例2 (S)−(+)−2,3−デカジエ
ン((S)−3a)
【化20】
【0028】ケトン(5)の製造 3−デシン−2−オー
ル(3.6g)とトリブチルスズハイドライド(9.77g)か
ら上のようにして合成した(2a)を、塩化メチレン(30
ml)に溶解した。別に、DMSO(6.65ml)の塩化メチ
レン(60ml)中溶液に、−78℃でオギザリルクロライ
ド(4.08ml)を滴下した。20分間撹拌後、先ほどの
(2a)の溶液を滴下した。40分撹拌後、トリエチルア
ミン(26ml)を滴下し、更に−78℃で3時間撹拌を続
けた。これを希塩酸に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン層を更に水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。抽出液を濃縮後、シリカゲルクロマトグ
ラフィー(ヘキサン〜ヘキサン/酢酸エチル(9:1))に
よりケトン(5)(6.91g)(67%収率)を得た。(5):1
H NMR(200MHz/CDCL3)δ7.17(t,1H,
3JHH=7.3Hz,3JSnH=116.8/111.8Hz),
2.27(s,3H),2.3−2.1(m,2H),1.6−1.2
(m,20H),1.0−0.8(m,18H).
【0029】((R)−2a)の製造 ケトン(5)をCorey
の方法で還元し、定量的に((R)−2a)を得た。ケトン
(5)(1.755g,3.95mmole)をトルエン(18ml)に
溶解し、そこにオキサボロリジン(0.5Mトルエン溶
液)(0.9ml,0.11当量)を加える。混合物を−78℃
に冷却し、撹拌しながらカテコールボラン(3.2g,7.
90mmole,2当量)を20分間で滴下する。−78℃で
10時間撹拌した後、水、1N NaOH(20ml)、ヘキ
サンを加え、抽出する。有機層を分離し、水、塩化アン
モニウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄す
る。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、
((R)−2a)(1.76g)を得る。Mosherのエステルとし
て決定したeeは、94%eeであった。ラセミ体(2a)のMosherのエステル :1H NMR(200
MHz/CDCL3)δ7.7−7.3(m,5H),6.31お
よび6.18(2本のトリプレット,1H,J=7.2Hz),
5.7−5.5(m,1H),3.6−3.5(m,3H),2.1−
1.8(m,2H),1.5−1.1(m,23H),1.0−0.8
(m,18H).((R)−2a)の(S)−(−)Mosherエステル :1H NMR
(200MHz/CDCL3)δ7.6−7.3(m,5H),6.
17(t,1H,3JHH=7.2Hz,3JSnH=121.0/1
14.0Hz),5.62(q,1H,3JHH=6.4Hz,3JSnH
=47.8Hz),3.6−3.5(m,3H),2.0−1.8(m,
2H),1.5−1.2(m,23H),1.0−0.8(m,18
H).
【0030】(S)−(+)−2,3−デカジエン((S)−3
a)の製造 a)塩化テトラエチルアンモニウム添加による1工程合成
((R)−2a)(208mg)の塩化メチレン(2ml中)溶液に
塩化テトラエチルアンモニウム(155mg)を加え、0℃
でトリエチルアミン(0.13ml)と、塩化メタンスルホ
ニル(.054ml)を加える。同じ温度で1時間撹拌後、
ラセミ体の合成と同様にして処理し、(S)−(+)−2,
3−デカジエン((S)−3a)を得た。[α]24 D +48.
7(c l.8、メタノール)69%ee.
【0031】b)酢酸エステル(6)を経る2工程合成
【化21】
【0032】((R)−2a)の酢酸エステル(6)の製造
((R)−2a)(1.78g)の塩化メチレン(9ml)中溶液に
0℃でピリジン(0.65ml)、ジメチルアミノピリジン
(122mg)、無水酢酸(0.57ml)を加える。室温で1.
5時間撹拌した後、氷水にあけ、エーテルで抽出する。
エーテル層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。抽出液を濃縮
後、シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル(30:1))により酢酸エステル(6)(1.54g)(8
1%収率)を得た。(6) :[α]24 D +28.4(c l.7 CHCl3) 1H N
MR(200MHz/CDCL3)δ6.20(t,1H,3JHH
=7.2Hz,3JSnH=128.2/120.0Hz),5.3
7(q,1H,3JHH=6.3Hz,3JSnH=54Hz),2.0
(s,3H),2.0−1.8(m,2H),1.6−1.2(m,23
H),1.0−0.8(m,18H).
【0033】((S)−3a)の製造 酢酸エステル(6)(2
44mg)のアセトニトリル(1ml)溶液に、テトラブチル
アンモニウムフルオライドのTHF溶液(1M溶液)(1.
0ml)を加える。撹拌下に6時間還流を続ける。ラセミ
体の合成と同様にして処理し、(S)−(+)−2,3−デ
カジエン((S)−3a)(29mg)(42%)を得た。((S)−3a) :[α]24 D +70.0(c l.3 メタノール)
96%ee.シフト試薬では90%ee以上。
【0034】実施例3 (R)−(−)8−ヒドロキシオク
タ−5,6−ジエン酸メチル(4)の合成
【化22】
【0035】アセチレンアルコール(9)の製造 窒素雰
囲気中、TBDMS保護したプロパルギルアルコール
(7)(8.9g,52.3mmol)のTHF溶液(90ml)に、−
78℃でn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6M)
(32.5ml,52mmol)を滴下し、室温まで温度をあげ
る。窒素雰囲気中、アルデヒド(8)(6.51g,50mmo
l)のTHF(60ml)溶液に−78℃で、先に調製したア
ニオンを滴下した。30分撹拌後水にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を乾燥および濃縮した後、シリカゲ
ルクロマトグラフィー(トルエン/酢酸エチル(4:1)で
(9)を分離した。(9) :1H NMR(200MHz/CDCL3)δ4.4−
4.5(m,1H),4.34(d,2H,J=1.6Hz),3.68
(s,3H),2.37(t,2H,J=7.0Hz),1.6−1.9
(m,5H),0.91(s,9H),0.12(s,6H).
【0036】((S)−11)の製造 (9)(2.4g,8mmo
l)にトリブチルスズハイドライド(2.4ml,8.8mmo
l)、AIBN(24mg)を加え、90℃で1時間加熱撹拌
し、ラセミ体(11)を得た。こうして得た(11)を先に
述べた方法で酸化および不斉還元し、((S)−11)を3
9%の収率で得た。((S)−11) :1H NMR(200MHz/CDCL3)δ
6.26(dt,1H,4JHH=1.0Hz,3JHH=6.1Hz,3J
SnH=123/118Hz),4.1−4.2(m,1H),4.1
3(d,2H,J=6.1Hz),3.67(s,3H),2.34(t,
2H,J=7.2Hz),1.2−1.8(m,17H),0.8−
1.0(m,15H),0.90(s,9H),0.07(s,6H).
【0037】(4)の製造 実施例2のa)塩化テトラエチ
ルアンモニウム添加による(S)−(+)−2,3−デカジ
エン((S)−3a)の1工程合成法と同様にして、((S)−
11)から(4)を合成した。(4) :[α]26 D −52.9(c l.4 CHCl3);IR(C
HCl3)3454,2946,1959,1725,121
9cm-1;1H NMR(200MHz/CDCL3)δ5.2
−5.4(m,2H),4.12(dd,2H,J=6.0,2.6H
z),3.68(s,3H),2.38(t,2H,J=7.4Hz),
2.08(ddt,2H,J=3.0,3.2,6.7Hz),1.6−
1.9(m,3H);13C NMR(50Hz/CDCL3)δ2
03.4,174.2,92.6,92.4,60.7,51.6,
33.2,27.8,24.1.
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 15/02 8619−4H 67/317 67/333 69/732 Z 9279−4H

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、R1、R2およびR3はそれぞれ水素、アルキル、
    アルケニル、シクロアルキル、またはアリールを表わ
    し、該シクロアルキルおよびアリールはさらに低級アル
    キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロ
    ゲンまたはアミノで置換されていてもよく、R4は低級
    アルキルまたはアリールを表わす]で示されるビニルス
    ズアルコールをデオキシスタニル化することを特徴とす
    る式: 【化2】 [式中、R1、R2およびR3は前記と同意義である]で示
    されるアレンの製造方法。
  2. 【請求項2】 該ビニルスズアルコールを塩化メタンス
    ルホニルおよびトリエチルアミンで処理することにより
    デオキシスタニル化する請求項1に記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 式: 【化3】 で示されるビニルスズアルコールを出発物質として式: 【化4】 で示されるアレンを得る請求項1に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 式: 【化5】 [式中、R1、R2およびR3はそれぞれ水素、アルキル、
    アルケニル、シクロアルキル、またはアリールを表わ
    し、該シクロアルキルおよびアリールはさらに低級アル
    キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロ
    ゲンまたはアミノで置換されていてもよい]で示される
    プロパルギルアルコールを式: R4 3SnH [式中、R4は低級アルキルまたはアリールを表わす]で
    示されるスズハイドライドでハイドロスタニル化して
    式: 【化6】 [式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同意義である]
    で示されるビニルスズアルコールとした後、デオキシス
    タニル化することを特徴とする式: 【化7】 [式中、R1、R2およびR3は前記と同意義である]で示
    されるアレンの製造方法。
  5. 【請求項5】 式: 【化8】 [式中、Meはメチル、TBDMSはt−ブチルジメチル
    シリルを表わす]で示されるプロパルギルアルコールを
    出発物質として式: 【化9】 で示されるアレンを得る請求項4に記載の製造方法。
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