JPH0517874A - 超微粒子分散膜の粒径制御成膜方法 - Google Patents
超微粒子分散膜の粒径制御成膜方法Info
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- JPH0517874A JPH0517874A JP16985391A JP16985391A JPH0517874A JP H0517874 A JPH0517874 A JP H0517874A JP 16985391 A JP16985391 A JP 16985391A JP 16985391 A JP16985391 A JP 16985391A JP H0517874 A JPH0517874 A JP H0517874A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 分散膜を形成する超微粒子の粒径を制御する
ことができる成膜方法を実現する。 【構成】 予め超微粒子の粒径と膜厚計の表示膜厚との
間の関係を求め、膜厚計が所定の表示膜厚を示すまで、
蒸発源３から蒸発した薄膜原料を基板２面に蒸着させ、
所定の粒径の超微粒子よりなる分散膜を形成させるもの
とすることにより、超微粒子の粒径をコントロールする
ことができ、再現性のよい超微粒子分散膜の成膜方法を
実現する。
ことができる成膜方法を実現する。 【構成】 予め超微粒子の粒径と膜厚計の表示膜厚との
間の関係を求め、膜厚計が所定の表示膜厚を示すまで、
蒸発源３から蒸発した薄膜原料を基板２面に蒸着させ、
所定の粒径の超微粒子よりなる分散膜を形成させるもの
とすることにより、超微粒子の粒径をコントロールする
ことができ、再現性のよい超微粒子分散膜の成膜方法を
実現する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非線形光学材料の超微
粒子分散膜の粒径制御成膜方法に関する。
粒子分散膜の粒径制御成膜方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の成膜方法においては、装置条件に
より超微粒子の粒径を制御しており、製造中に粒径をモ
ニターする方法はなかった。また、膜厚計の表示膜厚を
薄膜形成初期における粒径の制御モニターとして使用す
る例はなかった。
より超微粒子の粒径を制御しており、製造中に粒径をモ
ニターする方法はなかった。また、膜厚計の表示膜厚を
薄膜形成初期における粒径の制御モニターとして使用す
る例はなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の超微粒子分散膜
の成膜方法においては、粒径をモニターする手法がない
ため、粒径を制御し再現性よく製造しようとするには、
装置条件をすべて同一にする必要があるが、装置条件を
同一にしても微妙な運転条件の違いがあるため、再現性
よく超微粒子分散膜を製造することができなかった。
の成膜方法においては、粒径をモニターする手法がない
ため、粒径を制御し再現性よく製造しようとするには、
装置条件をすべて同一にする必要があるが、装置条件を
同一にしても微妙な運転条件の違いがあるため、再現性
よく超微粒子分散膜を製造することができなかった。
【０００４】本発明は上記の課題を解決しようとするも
のである。
のである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の超微粒子分散膜
の粒径制御成膜方法は、基板と蒸発源が内部に設けられ
た真空容器中の上記基板の近傍に膜厚計の測定子を配設
し、予め膜厚計の表示膜厚と基板表面に蒸着される薄膜
原料の粒径との関係をもとめた後、基板に形成される分
散膜の膜厚を上記膜厚計により測定しながら蒸発源から
薄膜原料を蒸発させ、上記予め求めた膜厚計の表示膜厚
と薄膜原料の粒径との関係より所定の粒径に対応した表
示膜厚となるまで薄膜原料を基板に蒸着させることを特
徴としている。
の粒径制御成膜方法は、基板と蒸発源が内部に設けられ
た真空容器中の上記基板の近傍に膜厚計の測定子を配設
し、予め膜厚計の表示膜厚と基板表面に蒸着される薄膜
原料の粒径との関係をもとめた後、基板に形成される分
散膜の膜厚を上記膜厚計により測定しながら蒸発源から
薄膜原料を蒸発させ、上記予め求めた膜厚計の表示膜厚
と薄膜原料の粒径との関係より所定の粒径に対応した表
示膜厚となるまで薄膜原料を基板に蒸着させることを特
徴としている。
【０００６】
【作用】上記において、蒸発源より蒸発し基板面に生成
される超微粒子の粒径は、基板に蒸着する薄膜原料の量
が多くなるほど大きくなるため、超微粒子の粒径と膜厚
計の表示膜厚との間には対応関係がある。そのため、膜
厚計が所定の表示膜厚を示すまで、蒸発源から蒸発した
薄膜原料を基板面に蒸着させ分散膜を形成させることに
より、所定の粒径の超微粒子からなる分散膜とすること
ができる。
される超微粒子の粒径は、基板に蒸着する薄膜原料の量
が多くなるほど大きくなるため、超微粒子の粒径と膜厚
計の表示膜厚との間には対応関係がある。そのため、膜
厚計が所定の表示膜厚を示すまで、蒸発源から蒸発した
薄膜原料を基板面に蒸着させ分散膜を形成させることに
より、所定の粒径の超微粒子からなる分散膜とすること
ができる。
【０００７】上記により、超微粒子の粒径をコントロー
ルすることができ、再現性のよい超微粒子分散膜の成膜
方法を実現する。
ルすることができ、再現性のよい超微粒子分散膜の成膜
方法を実現する。
【０００８】
【実施例】本発明の一実施例に適用される装置につい
て、図１により説明する。図１において、１は真空容器
であり、３は同真空容器１内下部に設けられ金Ａｕ及び
二酸化ケイ素ＳｉＯ2 を蒸発する蒸発源、２は上記真空
容器１内上部に設けられ蒸発源３より蒸発したＡｕおよ
びＳｉＯ2 を捕集するＳｉＯ2 基板、４は上記真空容器
１内側部に設けられた水晶振動子膜厚計の膜厚測定子で
ある。
て、図１により説明する。図１において、１は真空容器
であり、３は同真空容器１内下部に設けられ金Ａｕ及び
二酸化ケイ素ＳｉＯ2 を蒸発する蒸発源、２は上記真空
容器１内上部に設けられ蒸発源３より蒸発したＡｕおよ
びＳｉＯ2 を捕集するＳｉＯ2 基板、４は上記真空容器
１内側部に設けられた水晶振動子膜厚計の膜厚測定子で
ある。
【０００９】上記において、蒸発源３より蒸発しＳｉＯ
2 基板２面に生成されるＡｕ超微粒子の粒径はＳｉＯ2
基板２に蒸着するＡｕの量が多くなるほど大きくなるた
め、Ａｕ超微粒子の粒径と膜厚計により表示される膜厚
との間には対応関係がある。この関係を実験により求め
たものが、図２に示すグラフである。
2 基板２面に生成されるＡｕ超微粒子の粒径はＳｉＯ2
基板２に蒸着するＡｕの量が多くなるほど大きくなるた
め、Ａｕ超微粒子の粒径と膜厚計により表示される膜厚
との間には対応関係がある。この関係を実験により求め
たものが、図２に示すグラフである。
【００１０】本実施例においては、予め図２に示すＡｕ
超微粒子の粒径と膜厚計の表示膜厚の関係を求めてお
き、膜厚計の表示膜厚が５Åとなるまで蒸発源３よりＡ
ｕを蒸発させ、ＳｉＯ2 基板２面に粒径が３０ÅのＡｕ
超微粒子を生成した膜を形成させた。続いて、蒸発源３
よりＳｉＯ2 を蒸発させて上記Ａｕ超微粒子の上に蒸着
させ、同Ａｕ超微粒子を十分覆う程度の膜厚（５００
Å）まで成膜させた。
超微粒子の粒径と膜厚計の表示膜厚の関係を求めてお
き、膜厚計の表示膜厚が５Åとなるまで蒸発源３よりＡ
ｕを蒸発させ、ＳｉＯ2 基板２面に粒径が３０ÅのＡｕ
超微粒子を生成した膜を形成させた。続いて、蒸発源３
よりＳｉＯ2 を蒸発させて上記Ａｕ超微粒子の上に蒸着
させ、同Ａｕ超微粒子を十分覆う程度の膜厚（５００
Å）まで成膜させた。
【００１１】上記により得られた薄膜は、粒径３０Åの
Ａｕ超微粒子がＳｉＯ2 中に分散した薄膜であり、本実
施例と同一方法で数回くり返し成膜を行なったところ、
いずれの場合も上記と同様の分散膜を得ることができ、
再現性があることが判った。
Ａｕ超微粒子がＳｉＯ2 中に分散した薄膜であり、本実
施例と同一方法で数回くり返し成膜を行なったところ、
いずれの場合も上記と同様の分散膜を得ることができ、
再現性があることが判った。
【００１２】また、上記と同様の方法で、Ａｕ超微粒子
の粒径が２０Å，４０Å，５０Åになるような膜厚計の
表示膜厚で成膜を行い、それぞれ２０Å，４０Å，５０
ÅのＡｕ超微粒子分散膜を成膜することができた。
の粒径が２０Å，４０Å，５０Åになるような膜厚計の
表示膜厚で成膜を行い、それぞれ２０Å，４０Å，５０
ÅのＡｕ超微粒子分散膜を成膜することができた。
【００１３】上記により、Ａｕ超微粒子の粒径をコント
ロールすることができ、再現性のよいＡｕ超微粒子分散
膜の成膜方法を実現した。
ロールすることができ、再現性のよいＡｕ超微粒子分散
膜の成膜方法を実現した。
【００１４】
【発明の効果】本発明の超微粒子分散膜の粒径制御成膜
方法は、予め超微粒子の粒径と膜厚計の表示膜厚との間
の関係を求め、膜厚計が所定の表示膜厚を示すまで、蒸
発源から蒸発した薄膜原料を基板面に蒸着させ、所定の
粒径の超微粒子よりなる分散膜を形成させるものとする
ことによって、超微粒子の粒径をコントロールすること
ができ、再現性のよい超微粒子分散膜の成膜方法を実現
する。
方法は、予め超微粒子の粒径と膜厚計の表示膜厚との間
の関係を求め、膜厚計が所定の表示膜厚を示すまで、蒸
発源から蒸発した薄膜原料を基板面に蒸着させ、所定の
粒径の超微粒子よりなる分散膜を形成させるものとする
ことによって、超微粒子の粒径をコントロールすること
ができ、再現性のよい超微粒子分散膜の成膜方法を実現
する。
【図１】本発明の一実施例に係る成膜装置の説明図であ
る。
る。
【図２】上記一実施例に係る粒径と膜厚計表示膜厚の関
係図である。
係図である。
１ 真空容器 ２ ＳｉＯ2 基板 ３ 蒸発源 ４ 膜厚測定子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板と蒸発源が内部に設けられた真空容
器中の上記基板の近傍に膜厚計の測定子を配設し、予め
膜厚計の表示膜厚と基板表面に蒸着される薄膜原料の粒
径との関係を求めた後、基板に形成される分散膜の膜厚
を上記膜厚計により測定しながら蒸発源から薄膜原料を
蒸発させ、上記予め求めた膜厚計の表示膜厚と薄膜原料
の粒径との関係より所定の粒径に対応した表示膜厚とな
るまで薄膜原料を基板に蒸着させることを特徴とする超
微粒子分散膜の粒径制御成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16985391A JPH0517874A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 超微粒子分散膜の粒径制御成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16985391A JPH0517874A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 超微粒子分散膜の粒径制御成膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0517874A true JPH0517874A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15894153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16985391A Withdrawn JPH0517874A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 超微粒子分散膜の粒径制御成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0517874A (ja) |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP16985391A patent/JPH0517874A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |