JPH0346504A - 水晶発振子 - Google Patents
水晶発振子Info
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- JPH0346504A JPH0346504A JP18350789A JP18350789A JPH0346504A JP H0346504 A JPH0346504 A JP H0346504A JP 18350789 A JP18350789 A JP 18350789A JP 18350789 A JP18350789 A JP 18350789A JP H0346504 A JPH0346504 A JP H0346504A
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Landscapes
- Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、例えば膜厚測定用センサ等として使用する
水晶発振子に関するものである。
水晶発振子に関するものである。
〈従来の技術〉
厚膜センサに用いられている水晶発振子は第4図に示す
ように、水晶板1の両面にAuやAgを使用して電極膜
2.3を設けた構造になっている。
ように、水晶板1の両面にAuやAgを使用して電極膜
2.3を設けた構造になっている。
そして、金属層4を蒸着時に、金属層4の蒸着速度のモ
ニターとして用いる。
ニターとして用いる。
〈発明が解決しようとする課題〉
上記金属層4の蒸着工程は、水晶板1が400〜500
℃の高温状態におかれると共に、電極膜2に用いたAu
、 Ag等の金属に対して、金属層4を形成するIuや
Snは高温の蒸着時にAuやAgと合金をつくり易く、
このため、第4図で示したように、電極膜2は蒸着され
た金属層4と合金化5して食われてしまい、電極膜2と
水晶板1との間の接触が不安定になり、途中で水晶発振
が止まり、金属層4の蒸着モニターが行なえなくなると
いう問題がある。
℃の高温状態におかれると共に、電極膜2に用いたAu
、 Ag等の金属に対して、金属層4を形成するIuや
Snは高温の蒸着時にAuやAgと合金をつくり易く、
このため、第4図で示したように、電極膜2は蒸着され
た金属層4と合金化5して食われてしまい、電極膜2と
水晶板1との間の接触が不安定になり、途中で水晶発振
が止まり、金属層4の蒸着モニターが行なえなくなると
いう問題がある。
この発明の目的は、上記のような問題点を解決するため
、電極膜とその表面に蒸着する金属層との合金化を防止
し、金属層の蒸着速度を安定にかつ正確にモニターする
ことができ、発振特性の安定化を図ることができる水晶
発振子を提供することにある。
、電極膜とその表面に蒸着する金属層との合金化を防止
し、金属層の蒸着速度を安定にかつ正確にモニターする
ことができ、発振特性の安定化を図ることができる水晶
発振子を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
上記のような課題を解決するため、この発明は、水晶板
の表面に設けた電極膜上に絶縁層をその周囲に電極膜を
残した状態で形成し、この絶縁層上に金属層を蒸着した
構成としたものである。
の表面に設けた電極膜上に絶縁層をその周囲に電極膜を
残した状態で形成し、この絶縁層上に金属層を蒸着した
構成としたものである。
〈作用〉
電極膜上に予め絶縁層を形成し、この絶縁層上に金属層
を蒸着したので、金属層の蒸着時に電極膜に対して金属
膜が合金化するのを絶縁層によって防止することができ
、蒸着工程時に水晶発振が止まることがなく、金属層の
蒸着モニターが行なえることになり、正確な層厚の金属
層を形成することができる。
を蒸着したので、金属層の蒸着時に電極膜に対して金属
膜が合金化するのを絶縁層によって防止することができ
、蒸着工程時に水晶発振が止まることがなく、金属層の
蒸着モニターが行なえることになり、正確な層厚の金属
層を形成することができる。
〈実施例〉
以下、この発明の実施例を添付図面の第1図乃至第3図
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
第3図に示すように、両面に電極膜2.3を設けた膜厚
測定用水晶板1に対してリング状のマスク11を用意し
、このマスク11を表面側の電極膜2上に重ねて取付け
、電極膜2のマスク11で囲まれて露出する部分にM2
O3や5iOa等の絶縁材料を5000〜10000人
の厚みになるよう、電子ビーム蒸着やスパッタリング法
にて塗布し、電極膜2上に絶縁層12を形成する。
測定用水晶板1に対してリング状のマスク11を用意し
、このマスク11を表面側の電極膜2上に重ねて取付け
、電極膜2のマスク11で囲まれて露出する部分にM2
O3や5iOa等の絶縁材料を5000〜10000人
の厚みになるよう、電子ビーム蒸着やスパッタリング法
にて塗布し、電極膜2上に絶縁層12を形成する。
この絶縁層12はマスク11の内径によって外径が設定
されるが、第1図に示した如く、表面側電極膜2を外周
に残すよう円形に形成する。
されるが、第1図に示した如く、表面側電極膜2を外周
に残すよう円形に形成する。
次にマスク11を取外した後、絶縁層12の表面にIu
、 Sn等を蒸着して金属層4を設ける。
、 Sn等を蒸着して金属層4を設ける。
上記金属層4は、400〜500℃の高温状態で絶縁層
12よりも小径の円形になるようマスクを用いて蒸着す
る。
12よりも小径の円形になるようマスクを用いて蒸着す
る。
このとき、水晶板1の画電極膜2.3に電荷を加え、水
晶発振によって蒸着のモニターを行なうものであるが、
金属層4と電極膜2の間に絶縁層12が介在しているた
め、電極膜2と金属層4が材質的に合金化する条件にあ
っても、両者は合金化することがなく、従って、金属層
4の蒸着時に電極膜2と水晶板1との接触が安定し、発
振の安定化を図ることができ、蒸着速度をモニターとし
て蒸着量を制御することができる。
晶発振によって蒸着のモニターを行なうものであるが、
金属層4と電極膜2の間に絶縁層12が介在しているた
め、電極膜2と金属層4が材質的に合金化する条件にあ
っても、両者は合金化することがなく、従って、金属層
4の蒸着時に電極膜2と水晶板1との接触が安定し、発
振の安定化を図ることができ、蒸着速度をモニターとし
て蒸着量を制御することができる。
〈効果〉
以上のように、この発明によると、水晶板に設けた電極
膜上に絶縁層を設け、この絶縁層上に金属層を蒸着する
ようにしたので、電極膜上に金属層を蒸着するとき、絶
縁層によって両者の合金化を防ぐことができ、従って金
属層の蒸着工程時において、水晶発振子を発振させて蒸
着速度をモニターすることができ、金属層を正確な膜厚
に形成できる。
膜上に絶縁層を設け、この絶縁層上に金属層を蒸着する
ようにしたので、電極膜上に金属層を蒸着するとき、絶
縁層によって両者の合金化を防ぐことができ、従って金
属層の蒸着工程時において、水晶発振子を発振させて蒸
着速度をモニターすることができ、金属層を正確な膜厚
に形成できる。
第1図はこの発明に係る水晶発振子の正面図、第2図は
同上の平面図、第3図は同上における金属蒸着時の状態
を示す説明図、第4図は従来の水晶発振子の縦断正面図
である。
同上の平面図、第3図は同上における金属蒸着時の状態
を示す説明図、第4図は従来の水晶発振子の縦断正面図
である。
Claims (1)
- 水晶板の表面に設けた電極膜上に絶縁層をその周囲に
電極膜を残した状態で形成し、この絶縁層上に金属層を
蒸着した水晶発振子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18350789A JPH0346504A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 水晶発振子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18350789A JPH0346504A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 水晶発振子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346504A true JPH0346504A (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=16137048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18350789A Pending JPH0346504A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 水晶発振子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0346504A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06196547A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属膜堆積装置および金属膜堆積方法 |
| JP2004048639A (ja) * | 2002-05-17 | 2004-02-12 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子及びその製造方法等 |
| JP2004221622A (ja) * | 2002-01-08 | 2004-08-05 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子、圧電フィルタ、デュプレクサ、通信装置および圧電共振子の製造方法 |
| US7240410B2 (en) | 2002-01-08 | 2007-07-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for manufacturing a piezoelectric resonator |
| CN106092002A (zh) * | 2016-06-07 | 2016-11-09 | 应达利电子股份有限公司 | 用于成膜厚度监测的石英晶体谐振器、监测仪及监测方法 |
| KR20170139675A (ko) * | 2015-09-22 | 2017-12-19 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 발진 수정들을 위한 확산 장벽, 증착 레이트를 측정하기 위한 측정 조립체 및 그 방법 |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP18350789A patent/JPH0346504A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06196547A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属膜堆積装置および金属膜堆積方法 |
| JP2004221622A (ja) * | 2002-01-08 | 2004-08-05 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子、圧電フィルタ、デュプレクサ、通信装置および圧電共振子の製造方法 |
| US7240410B2 (en) | 2002-01-08 | 2007-07-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for manufacturing a piezoelectric resonator |
| JP2004048639A (ja) * | 2002-05-17 | 2004-02-12 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子及びその製造方法等 |
| KR20170139675A (ko) * | 2015-09-22 | 2017-12-19 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 발진 수정들을 위한 확산 장벽, 증착 레이트를 측정하기 위한 측정 조립체 및 그 방법 |
| CN108027349A (zh) * | 2015-09-22 | 2018-05-11 | 应用材料公司 | 用于振荡晶体的扩散阻挡物、用于测量沉积速率的测量组件及其方法 |
| JP2018526615A (ja) * | 2015-09-22 | 2018-09-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 発振水晶のための拡散バリア、堆積速度を測定するための測定アセンブリ及びその方法 |
| CN106092002A (zh) * | 2016-06-07 | 2016-11-09 | 应达利电子股份有限公司 | 用于成膜厚度监测的石英晶体谐振器、监测仪及监测方法 |
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