JPH05180165A - 真空容器用真空排気装置 - Google Patents
真空容器用真空排気装置Info
- Publication number
- JPH05180165A JPH05180165A JP21174991A JP21174991A JPH05180165A JP H05180165 A JPH05180165 A JP H05180165A JP 21174991 A JP21174991 A JP 21174991A JP 21174991 A JP21174991 A JP 21174991A JP H05180165 A JPH05180165 A JP H05180165A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- pump
- exhaust line
- exhaust
- oil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 排気性能を向上できる真空容器用真空排気装
置を提供する。 【構成】 真空排気装置は、ターボ分子ポンプ（主ポン
プ）３と、油回転式真空ポンプ（補助ポンプ）１１と、
各ポンプ間に配置され油回転式真空ポンプ１１からの油
蒸気を吸着するフィルタ７を有する第１排気ライン４
と、第１排気ライン４に並列接続された第２排気ライン
５と、油回転式真空ポンプ１１から遠ざかるに従い加熱
温度が上昇するような温度勾配で真空チャンバ１，ター
ボ分子ポンプ３及び第２排気ライン５を加熱するヒータ
１２，１３とを備えている。
置を提供する。 【構成】 真空排気装置は、ターボ分子ポンプ（主ポン
プ）３と、油回転式真空ポンプ（補助ポンプ）１１と、
各ポンプ間に配置され油回転式真空ポンプ１１からの油
蒸気を吸着するフィルタ７を有する第１排気ライン４
と、第１排気ライン４に並列接続された第２排気ライン
５と、油回転式真空ポンプ１１から遠ざかるに従い加熱
温度が上昇するような温度勾配で真空チャンバ１，ター
ボ分子ポンプ３及び第２排気ライン５を加熱するヒータ
１２，１３とを備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空排気装置、特に、
真空排気用の主ポンプと、油を用いて真空容器を真空排
気する補助ポンプとを備えた真空容器用真空排気装置に
関する。
真空排気用の主ポンプと、油を用いて真空容器を真空排
気する補助ポンプとを備えた真空容器用真空排気装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】たとえば薄膜形成装置や分
析装置等において、真空チャンバの真空排気を行う装置
として真空排気装置が用いられている。この真空排気装
置は、図２に示すように、真空チャンバ（ＣＨ）２０に
遮断バルブ２１を介して接続された例えばターボ分子ポ
ンプ（ＴＭＰ）２２等の主ポンプと、これに接続された
例えば油回転式真空ポンプ（ＲＰ）２３とを備えてい
る。
析装置等において、真空チャンバの真空排気を行う装置
として真空排気装置が用いられている。この真空排気装
置は、図２に示すように、真空チャンバ（ＣＨ）２０に
遮断バルブ２１を介して接続された例えばターボ分子ポ
ンプ（ＴＭＰ）２２等の主ポンプと、これに接続された
例えば油回転式真空ポンプ（ＲＰ）２３とを備えてい
る。
【０００３】真空排気時には、遮断バルブ２１を開き、
ターボ分子ポンプ２２及び油回転式真空ポンプ２３を駆
動することにより、真空チャンバ２０内を真空引きす
る。ところが、このような真空排気装置では、真空排気
時に油回転式真空ポンプ２３が高温となるため、油回転
式真空ポンプ２３からの油蒸気が排気ラインを通ってタ
ーボ分子ポンプ２２側に逆流するという問題が生じる。
この結果、真空排気装置の排気性能が低下する。
ターボ分子ポンプ２２及び油回転式真空ポンプ２３を駆
動することにより、真空チャンバ２０内を真空引きす
る。ところが、このような真空排気装置では、真空排気
時に油回転式真空ポンプ２３が高温となるため、油回転
式真空ポンプ２３からの油蒸気が排気ラインを通ってタ
ーボ分子ポンプ２２側に逆流するという問題が生じる。
この結果、真空排気装置の排気性能が低下する。
【０００４】そこで、油回転式真空ポンプからターボ分
子ポンプ側への油蒸気の逆流を防止するために、図３に
示すような真空排気装置が既に実用に供されている。こ
の図３に示す真空排気装置では、ターボ分子ポンプ２２
と油回転式真空ポンプ２３との間に遮断バルブ２４及び
フィルタ（ＦＬＴ）２５が接続されている点が図２の真
空排気装置と異なっている。また、フィルタ２５は吸着
トラップから構成されている。
子ポンプ側への油蒸気の逆流を防止するために、図３に
示すような真空排気装置が既に実用に供されている。こ
の図３に示す真空排気装置では、ターボ分子ポンプ２２
と油回転式真空ポンプ２３との間に遮断バルブ２４及び
フィルタ（ＦＬＴ）２５が接続されている点が図２の真
空排気装置と異なっている。また、フィルタ２５は吸着
トラップから構成されている。
【０００５】この排気装置を用いて真空排気を行う際に
は、遮断バルブ２１及び２４を開き、ターボ分子ポンプ
２２及び油回転式真空ポンプ２３を駆動する。油回転式
真空ポンプ２３の駆動時には、油回転式真空ポンプ２３
からの油蒸気が排気ラインの上流側に逆流しようとする
が、この油蒸気はフィルタ２５内の吸着トラップにより
吸着される。これにより、油回転式真空ポンプ２３から
の油蒸気が遮断バルブ２４を通ってターボ分子ポンプ２
２に到達するのが防止される。
は、遮断バルブ２１及び２４を開き、ターボ分子ポンプ
２２及び油回転式真空ポンプ２３を駆動する。油回転式
真空ポンプ２３の駆動時には、油回転式真空ポンプ２３
からの油蒸気が排気ラインの上流側に逆流しようとする
が、この油蒸気はフィルタ２５内の吸着トラップにより
吸着される。これにより、油回転式真空ポンプ２３から
の油蒸気が遮断バルブ２４を通ってターボ分子ポンプ２
２に到達するのが防止される。
【０００６】ところが、このような真空排気装置では、
上述の真空排気処理に先立って一般に行われる、真空チ
ャンバ２０を加熱しながら真空引きするベーキングの際
に、真空チャンバ２０からの水蒸気を含む放出ガスが排
気ラインを通ってフィルタ２５内の吸着トラップに吸着
される。これにより、吸着トラップが目詰まりを起こ
し、ターボ分子ポンプ２２の背圧が上昇する。この結
果、排気性能が低下するという問題が生じる。
上述の真空排気処理に先立って一般に行われる、真空チ
ャンバ２０を加熱しながら真空引きするベーキングの際
に、真空チャンバ２０からの水蒸気を含む放出ガスが排
気ラインを通ってフィルタ２５内の吸着トラップに吸着
される。これにより、吸着トラップが目詰まりを起こ
し、ターボ分子ポンプ２２の背圧が上昇する。この結
果、排気性能が低下するという問題が生じる。
【０００７】本発明の目的は、排気性能を向上できる真
空容器用真空排気装置を提供することにある。
空容器用真空排気装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係る真空容器用
真空排気装置は、主ポンプと、補助ポンプと、第１及び
第２排気ラインと、加熱手段とを備えている。前記主ポ
ンプは、真空容器に接続され、真空容器を真空排気する
ためのものである。前記補助ポンプは、主ポンプに接続
され、油を用いて真空容器を真空排気するためのもので
ある。前記第１排気ラインは、前記各ポンプ間に配置さ
れ、補助ポンプからの油蒸気を吸着する吸着トラップを
有するものである。前記第２排気ラインは、各ポンプ間
において第１排気ラインに並列に接続されている。前記
加熱手段は、真空容器、主ポンプ及び第２排気ラインの
周囲に配設され、補助ポンプから遠ざかるに従い加熱温
度が上昇するような温度勾配で真空容器、主ポンプ及び
第２排気ラインを加熱するものである。
真空排気装置は、主ポンプと、補助ポンプと、第１及び
第２排気ラインと、加熱手段とを備えている。前記主ポ
ンプは、真空容器に接続され、真空容器を真空排気する
ためのものである。前記補助ポンプは、主ポンプに接続
され、油を用いて真空容器を真空排気するためのもので
ある。前記第１排気ラインは、前記各ポンプ間に配置さ
れ、補助ポンプからの油蒸気を吸着する吸着トラップを
有するものである。前記第２排気ラインは、各ポンプ間
において第１排気ラインに並列に接続されている。前記
加熱手段は、真空容器、主ポンプ及び第２排気ラインの
周囲に配設され、補助ポンプから遠ざかるに従い加熱温
度が上昇するような温度勾配で真空容器、主ポンプ及び
第２排気ラインを加熱するものである。
【０００９】
【作用】本発明では、真空容器を加熱しながら真空引き
するベーキング時には、加熱手段が真空容器、主ポンプ
及び第２排気ラインを加熱する。そして、主ポンプ及び
補助ポンプを駆動して第２排気ラインにより真空容器の
真空引きを行う。この場合には、加熱手段による加熱温
度の設定が補助ポンプから遠ざかるに従い上昇するよう
な温度勾配を有している。このため、第２排気ラインに
おいて主ポンプ側に近づくに従い第２排気ライン内の飽
和蒸気圧が上昇している。この結果、補助ポンプからの
油蒸気が第２排気ラインを通って主ポンプ側に逆流する
のが防止できる。
するベーキング時には、加熱手段が真空容器、主ポンプ
及び第２排気ラインを加熱する。そして、主ポンプ及び
補助ポンプを駆動して第２排気ラインにより真空容器の
真空引きを行う。この場合には、加熱手段による加熱温
度の設定が補助ポンプから遠ざかるに従い上昇するよう
な温度勾配を有している。このため、第２排気ラインに
おいて主ポンプ側に近づくに従い第２排気ライン内の飽
和蒸気圧が上昇している。この結果、補助ポンプからの
油蒸気が第２排気ラインを通って主ポンプ側に逆流する
のが防止できる。
【００１０】また、ベーキング後の高真空排気時には、
主ポンプ及び補助ポンプを駆動して第１排気ラインによ
り真空引きを行う。このとき、補助ポンプからの油蒸気
は第１排気ラインの吸着トラップにより吸着される。こ
の場合には、第１及び第２排気ラインが並列接続されて
いるので、ベーキング時には加熱手段による加熱下で第
２排気ラインを用い、また高真空排気時には第１排気ラ
インを用いることにより、補助ポンプからの油蒸気の逆
流を防止できるとともに、吸着トラップへの水蒸気の付
着を防止して吸着トラップの性能劣化を防止できる。こ
のようにして、排気性能を向上できる。
主ポンプ及び補助ポンプを駆動して第１排気ラインによ
り真空引きを行う。このとき、補助ポンプからの油蒸気
は第１排気ラインの吸着トラップにより吸着される。こ
の場合には、第１及び第２排気ラインが並列接続されて
いるので、ベーキング時には加熱手段による加熱下で第
２排気ラインを用い、また高真空排気時には第１排気ラ
インを用いることにより、補助ポンプからの油蒸気の逆
流を防止できるとともに、吸着トラップへの水蒸気の付
着を防止して吸着トラップの性能劣化を防止できる。こ
のようにして、排気性能を向上できる。
【００１１】
【実施例】図１は、本発明の一実施例を示している。図
１において、真空チャンバ（ＣＨ）１は、基板（図示せ
ず）に対して成膜処理を行うための室である。真空チャ
ンバ１には、遮断バルブ２を介して主ポンプとしてのタ
ーボ分子ポンプ（ＴＭＰ）３が接続されている。ターボ
分子ポンプ３には、第１排気ライン４及び第２排気ライ
ン５が並列に接続されている。
１において、真空チャンバ（ＣＨ）１は、基板（図示せ
ず）に対して成膜処理を行うための室である。真空チャ
ンバ１には、遮断バルブ２を介して主ポンプとしてのタ
ーボ分子ポンプ（ＴＭＰ）３が接続されている。ターボ
分子ポンプ３には、第１排気ライン４及び第２排気ライ
ン５が並列に接続されている。
【００１２】第１排気ライン４には、遮断バルブ６、フ
ィルタ（ＦＬＴ）７及び遮断バルブ８が直列に接続され
ている。フィルタ７は、吸着トラップから構成されてい
る。第２排気ライン５には、その両端に遮断バルブ９及
び１０が設けられている。また、第１及び第２排気ライ
ン４，５には、補助ポンプとしての油回転式真空ポンプ
（ＲＰ）１１が接続されている。
ィルタ（ＦＬＴ）７及び遮断バルブ８が直列に接続され
ている。フィルタ７は、吸着トラップから構成されてい
る。第２排気ライン５には、その両端に遮断バルブ９及
び１０が設けられている。また、第１及び第２排気ライ
ン４，５には、補助ポンプとしての油回転式真空ポンプ
（ＲＰ）１１が接続されている。
【００１３】真空チャンバ１、遮断バルブ２及びターボ
分子ポンプ３の周囲には、ベーキング用のヒータ１２が
配設されている。また、第２排気ライン５の周囲には、
油回転式真空ポンプ１１からの油蒸気の逆流を防止する
ためのヒータ１３が配設されている。各ヒータ１２，１
３の加熱温度は、上流側（図１上側）にいくに従い加熱
温度が上昇するような温度勾配に設定されている。
分子ポンプ３の周囲には、ベーキング用のヒータ１２が
配設されている。また、第２排気ライン５の周囲には、
油回転式真空ポンプ１１からの油蒸気の逆流を防止する
ためのヒータ１３が配設されている。各ヒータ１２，１
３の加熱温度は、上流側（図１上側）にいくに従い加熱
温度が上昇するような温度勾配に設定されている。
【００１４】次に、上述の実施例の作動について説明す
る。ベーキング時には、ヒータ１２により真空チャンバ
１、遮断バルブ２及びターボ分子ポンプ３を加熱すると
ともに、ヒータ１３により第２排気ライン５を加熱す
る。そして、遮断バルブ２，９及び１０を開くととも
に、遮断バルブ６及び８を閉じる。この状態から、ター
ボ分子ポンプ３及び油回転式真空ポンプ１１を駆動す
る。すると、真空チャンバ１内の水蒸気を含む放出ガス
がターボ分子ポンプ３、第２排気ライン５及び油回転式
真空ポンプ１１により装置外に排出される。
る。ベーキング時には、ヒータ１２により真空チャンバ
１、遮断バルブ２及びターボ分子ポンプ３を加熱すると
ともに、ヒータ１３により第２排気ライン５を加熱す
る。そして、遮断バルブ２，９及び１０を開くととも
に、遮断バルブ６及び８を閉じる。この状態から、ター
ボ分子ポンプ３及び油回転式真空ポンプ１１を駆動す
る。すると、真空チャンバ１内の水蒸気を含む放出ガス
がターボ分子ポンプ３、第２排気ライン５及び油回転式
真空ポンプ１１により装置外に排出される。
【００１５】また、このベーキング時には、油回転式真
空ポンプ１１が高温となって油蒸気が発生する。一方、
第２排気ライン５においてヒータ１３の加熱温度の設定
は上述のように、第２排気ライン５の上流側（ターボ分
子ポンプ３側）にいくに従い上昇するような温度勾配を
有している。これにより、第２排気ライン５内において
上流側にいくに従い飽和蒸気圧が上昇している。この結
果、油回転式真空ポンプ１１からの油蒸気が第２排気ラ
イン５内を通ってターボ分子ポンプ３側に逆流するのが
防止される。
空ポンプ１１が高温となって油蒸気が発生する。一方、
第２排気ライン５においてヒータ１３の加熱温度の設定
は上述のように、第２排気ライン５の上流側（ターボ分
子ポンプ３側）にいくに従い上昇するような温度勾配を
有している。これにより、第２排気ライン５内において
上流側にいくに従い飽和蒸気圧が上昇している。この結
果、油回転式真空ポンプ１１からの油蒸気が第２排気ラ
イン５内を通ってターボ分子ポンプ３側に逆流するのが
防止される。
【００１６】次に、高真空排気時には、ヒータ１２及び
１３を止め、遮断バルブ９及び１０を閉じるとともに遮
断バルブ６及び８を開く。この状態からターボ分子ポン
プ３及び油回転式真空ポンプ１１の駆動によりチャンバ
１内を真空引きする。このとき、油回転式真空ポンプ１
１からの油蒸気はフィルタ７内の吸着トラップにより吸
着される。これにより、油回転式真空ポンプ１１からの
油蒸気が第１排気ライン４を通ってターボ分子ポンプ３
側に逆流するのが防止される。また、この場合には、真
空チャンバ１内の水蒸気を含む放出ガスは、上述のベー
キングにより排除されているため、チャンバ１からの水
蒸気がフィルタ７内の吸着トラップに吸着することな
く、その目詰まりが防止される。これにより、吸着トラ
ップの性能劣化が防止できる。
１３を止め、遮断バルブ９及び１０を閉じるとともに遮
断バルブ６及び８を開く。この状態からターボ分子ポン
プ３及び油回転式真空ポンプ１１の駆動によりチャンバ
１内を真空引きする。このとき、油回転式真空ポンプ１
１からの油蒸気はフィルタ７内の吸着トラップにより吸
着される。これにより、油回転式真空ポンプ１１からの
油蒸気が第１排気ライン４を通ってターボ分子ポンプ３
側に逆流するのが防止される。また、この場合には、真
空チャンバ１内の水蒸気を含む放出ガスは、上述のベー
キングにより排除されているため、チャンバ１からの水
蒸気がフィルタ７内の吸着トラップに吸着することな
く、その目詰まりが防止される。これにより、吸着トラ
ップの性能劣化が防止できる。
【００１７】このように、ベーキング時には第２排気ラ
イン５を用いてチャンバ１内の水蒸気を含む放出ガスを
排出するとともに、ヒータ１３により油回転式真空ポン
プ１１からの油蒸気の逆流を防止する。また、高真空排
気時には第１排気ライン４を用いて真空排気するととも
に、フィルタ７により油回転式真空ポンプ１１からのタ
ーボ分子ポンプ３への油蒸気の逆流を防止する。これに
より、排気性能が向上する。
イン５を用いてチャンバ１内の水蒸気を含む放出ガスを
排出するとともに、ヒータ１３により油回転式真空ポン
プ１１からの油蒸気の逆流を防止する。また、高真空排
気時には第１排気ライン４を用いて真空排気するととも
に、フィルタ７により油回転式真空ポンプ１１からのタ
ーボ分子ポンプ３への油蒸気の逆流を防止する。これに
より、排気性能が向上する。
【００１８】
【発明の効果】本発明に係る真空容器用真空排気装置で
は、上述のような第１及び第２排気ラインと加熱手段と
が設けられるので、排気性能を向上できる。
は、上述のような第１及び第２排気ラインと加熱手段と
が設けられるので、排気性能を向上できる。
【図１】本発明の一実施例の概略構成図。
【図２】従来装置の図１に相当する図。
【図３】従来装置の図１に相当する図。
１ 真空チャンバ ３ ターボ分子ポンプ ４ 第１排気ライン ５ 第２排気ライン １１ 油回転式真空ポンプ １２，１３ ヒータ
Claims (1)
- 【請求項１】真空容器に接続された、前記真空容器を真
空排気するための主ポンプと、 前記主ポンプに接続され、油を用いて前記真空容器を真
空排気するための補助ポンプと、 前記各ポンプ間に配置され、前記補助ポンプからの油蒸
気を吸着する吸着トラップを有する第１排気ラインと、 前記各ポンプ間において前記第１排気ラインに並列に接
続された第２排気ラインと、 前記真空容器、主ポンプ及び第２排気ラインの周囲に配
設され、前記補助ポンプから遠ざかるに従いその加熱温
度が上昇するような温度勾配で前記真空容器、主ポンプ
及び第２排気ラインを加熱する加熱手段と、を備えた真
空容器用真空排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21174991A JPH05180165A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 真空容器用真空排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21174991A JPH05180165A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 真空容器用真空排気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05180165A true JPH05180165A (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=16610949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21174991A Pending JPH05180165A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 真空容器用真空排気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05180165A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1199327A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
| JP2014122602A (ja) * | 2012-12-21 | 2014-07-03 | High Energy Accelerator Research Organization | ハイブリッド真空装置及びそれを用いた排気方法 |
| KR20160053710A (ko) * | 2014-11-05 | 2016-05-13 | 김성기 | 진공 흡착장치용 진공펌프 |
-
1991
- 1991-08-23 JP JP21174991A patent/JPH05180165A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1199327A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
| JP2014122602A (ja) * | 2012-12-21 | 2014-07-03 | High Energy Accelerator Research Organization | ハイブリッド真空装置及びそれを用いた排気方法 |
| KR20160053710A (ko) * | 2014-11-05 | 2016-05-13 | 김성기 | 진공 흡착장치용 진공펌프 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3822675B2 (ja) | 真空室を迅速に排気するための装置 | |
| CN1637283B (zh) | 用于真空加工腔室的真空排气设备和加工真空压力的方法 | |
| EP0397051B1 (en) | Evacuation apparatus and evacuation method | |
| KR960003788B1 (ko) | 진공배기 시스템 및 배기방법 | |
| US5228838A (en) | Method for the evacuation of a low-vacuum chamber and of a HGH-vacuum chamber, as well as a high-vacuum apparatus for the practice thereof | |
| JPH0778775A (ja) | 超真空に対する真空チャンバの真空引き及び掃気方法 | |
| JP3544989B2 (ja) | 前真空ポンプを有する漏れ検出装置 | |
| JP4819828B2 (ja) | 真空スクリュポンプをクリーニングするための方法 | |
| CN101006275A (zh) | 负载锁定外壳的排空 | |
| CN113924417B (zh) | 涡轮分子泵、真空抽吸系统和排空真空腔室的方法 | |
| JP2507518B2 (ja) | 真空排気装置 | |
| JPH03106432A (ja) | 真空装置の脱ガス方法及び脱ガス装置 | |
| JPH11230034A (ja) | 真空排気システム及びその運転方法 | |
| JPH07310657A (ja) | 真空排気装置 | |
| JP4136405B2 (ja) | 真空排気システムおよびその運転方法 | |
| CN117899583B (zh) | 一种适用于立式teos设备的尾气排放装置 | |
| JPS58165584A (ja) | 真空排気装置 | |
| JPS628393Y2 (ja) | ||
| JPH08232840A (ja) | 極高真空ポンプ系 | |
| JPH07167053A (ja) | 高真空排気装置 | |
| JPH041481A (ja) | 真空容器の真空排気機構 | |
| SU1495500A1 (ru) | Вакуумна установка и способ ее работы | |
| JPH05121359A (ja) | ガスエツチング装置のエツチングガス置換方法およびガスエツチング装置 | |
| JPS6036791A (ja) | 清浄る高真空を得る方法 | |
| JPH07185299A (ja) | 真空形成方法及び真空装置 |