JPS628393Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS628393Y2 JPS628393Y2 JP5244181U JP5244181U JPS628393Y2 JP S628393 Y2 JPS628393 Y2 JP S628393Y2 JP 5244181 U JP5244181 U JP 5244181U JP 5244181 U JP5244181 U JP 5244181U JP S628393 Y2 JPS628393 Y2 JP S628393Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- exhaust pipe
- vacuum
- sublimation
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は高真空且つ高清浄な真空を必要とする
電子顕微鏡等の排気に使用されるサブリメーシヨ
ンポンプのベーキング装置に関する。
電子顕微鏡等の排気に使用されるサブリメーシヨ
ンポンプのベーキング装置に関する。
斯かるサブリメーシヨンポンプはチタニウムフ
イラメントを高温に加熱して昇華させることによ
りポンプ内壁にチタニウムの膜（ゲツター面）を
形成し、化学反応によりポンプ容器内のガス分子
をゲツター面に吸着させてポンプ作用を行うもの
である。そこでポンプ稼動前にはポンプ内壁をベ
ーキングしてゲツター面に吸着したガス分子を放
出させながら油回転ポンプでこのガス分子を排気
するいわゆるベーキングを行わなければならな
い。このベーキングに際しては取り扱い者が経険
的に把握した一定時間（例えば1H程度）行うの
が普通である。
イラメントを高温に加熱して昇華させることによ
りポンプ内壁にチタニウムの膜（ゲツター面）を
形成し、化学反応によりポンプ容器内のガス分子
をゲツター面に吸着させてポンプ作用を行うもの
である。そこでポンプ稼動前にはポンプ内壁をベ
ーキングしてゲツター面に吸着したガス分子を放
出させながら油回転ポンプでこのガス分子を排気
するいわゆるベーキングを行わなければならな
い。このベーキングに際しては取り扱い者が経険
的に把握した一定時間（例えば1H程度）行うの
が普通である。
ところがゲツター面に吸着するガス分子の量は
その都度異なつているため、ガス分子の量が少な
いときにはサブリメーシヨンポンプと油回転ポン
プとを接続する排気管内の真空が良くなり、粘性
流領域から中間領域及び分子流領域に入り、蒸気
圧の高い油回転ポンプの油蒸気がサブリメーシヨ
ンポンプ内に逆流してポンプ内壁に付着する。こ
の油蒸気が付着するとチタニウムフイラメントを
昇華させてポンプ内壁に付着（蒸着）するとき、
チタニウム膜がはがれてしまうため、排気速度が
落ちる不都合が生ずる。
その都度異なつているため、ガス分子の量が少な
いときにはサブリメーシヨンポンプと油回転ポン
プとを接続する排気管内の真空が良くなり、粘性
流領域から中間領域及び分子流領域に入り、蒸気
圧の高い油回転ポンプの油蒸気がサブリメーシヨ
ンポンプ内に逆流してポンプ内壁に付着する。こ
の油蒸気が付着するとチタニウムフイラメントを
昇華させてポンプ内壁に付着（蒸着）するとき、
チタニウム膜がはがれてしまうため、排気速度が
落ちる不都合が生ずる。
本考案は斯様な不都合を解決することを目的と
するものであり、本考案の構成はサブリメーシヨ
ンポンプと、該サブリメーシヨンポンプ内を排気
管を介して粗引する油回転ポンプと、前記サブリ
メーシヨンポンプと油回転ポンプとの間を遮断す
るためのバルブと、前記排気管内の真空度に応じ
た信号を発生する真空計と、前記サブリメーシヨ
ンポンプをベーキングする手段と、前記サブリメ
ーシヨンポンプのベーキング中前記真空計からの
信号をモニターして前記排気管内の真空度が中間
流領域の真空度以上に達したとき前記バルブを閉
鎖するための手段とを設けることにより油回転ポ
ンプの油蒸気がサブリメーシヨンポンプ内に逆流
するのを阻止することを特徴とするものである。
以下本考案を図面に示した一実施例に基づき詳説
する。
するものであり、本考案の構成はサブリメーシヨ
ンポンプと、該サブリメーシヨンポンプ内を排気
管を介して粗引する油回転ポンプと、前記サブリ
メーシヨンポンプと油回転ポンプとの間を遮断す
るためのバルブと、前記排気管内の真空度に応じ
た信号を発生する真空計と、前記サブリメーシヨ
ンポンプをベーキングする手段と、前記サブリメ
ーシヨンポンプのベーキング中前記真空計からの
信号をモニターして前記排気管内の真空度が中間
流領域の真空度以上に達したとき前記バルブを閉
鎖するための手段とを設けることにより油回転ポ
ンプの油蒸気がサブリメーシヨンポンプ内に逆流
するのを阻止することを特徴とするものである。
以下本考案を図面に示した一実施例に基づき詳説
する。
添付図面は本考案の一実施例を示す構成略図で
あり、１はチタニウムフイラメント２を使用した
サブリメーシヨンポンプである。該ポンプ１は主
排気管３を介して電子顕微鏡等の被排気室４に接
続されており、又該ポンプ１は副排気管５を介し
て油回転ポンプ６に接続されている。前記主排気
管３及び副排気管５にはバルブ７，８が夫々設け
てある。９は前記チタニウムフイラメント２にベ
ーキング電流を供給するためのベーキング用電源
で、１０はチタニウムフイラメント２に昇華電流
を供給するための昇華用電源で、これら電源は切
換スイツチ１１によりチタニウムフイラメント２
に接続される。
あり、１はチタニウムフイラメント２を使用した
サブリメーシヨンポンプである。該ポンプ１は主
排気管３を介して電子顕微鏡等の被排気室４に接
続されており、又該ポンプ１は副排気管５を介し
て油回転ポンプ６に接続されている。前記主排気
管３及び副排気管５にはバルブ７，８が夫々設け
てある。９は前記チタニウムフイラメント２にベ
ーキング電流を供給するためのベーキング用電源
で、１０はチタニウムフイラメント２に昇華電流
を供給するための昇華用電源で、これら電源は切
換スイツチ１１によりチタニウムフイラメント２
に接続される。
１２は前記副排気管５内の真空度に応じた信号
を発生する真空計で、出力信号は比較回路１３に
送られて基準電源１４の基準信号と比較される。
該比較回路１３は両信号が一致したとき出力信号
をバルブ８の駆動部に送り、このバルブ８を閉鎖
する。尚チタニウムフイラメント２は実際には数
本設置してある。
を発生する真空計で、出力信号は比較回路１３に
送られて基準電源１４の基準信号と比較される。
該比較回路１３は両信号が一致したとき出力信号
をバルブ８の駆動部に送り、このバルブ８を閉鎖
する。尚チタニウムフイラメント２は実際には数
本設置してある。
今、サブリメーシヨンポンプ１をベーキングす
るには先ずバルブ７を閉じ、バルブ８を開放して
サブリメーシヨンポンプ内を油回転ポンプ６によ
り排気する。この状態において切換スイツチ１１
を図面に示す様にベーキング用電源９に接続して
チタニウムフイラメント２にベーキング電流を供
給することにより加熱する。このフイラメント２
の加熱によりサブリメーシヨンポンプ内壁が輻射
によつて加熱されるため、脱ガスが行われる。し
かしてベーキングが進行するにつれて副排気管５
内の真空が粘性流領域から中間領域に入ると真空
計１２からの出力信号の値が基準電源１４からの
基準信号の値よりも大きくなるため、比較回路１
３は出力信号をバルブ８の駆動部に送り、バルブ
８を閉鎖する。これにより油回転ポンプ６の油蒸
気がサブリメーシヨンポンプ１内に進入するのが
防止できる。又チタニウムフイラメント２の加熱
による脱ガスにより副排気管５内の真空が再び悪
くなつて粘性流領域に入ると比較回路１３からの
出力信号が停止されるため、バルブ８は再び開放
し、サブリメーシヨンポンプ内のガス分子が排気
される。以下この動作が繰り返されて、ベーキン
グが完了する。
るには先ずバルブ７を閉じ、バルブ８を開放して
サブリメーシヨンポンプ内を油回転ポンプ６によ
り排気する。この状態において切換スイツチ１１
を図面に示す様にベーキング用電源９に接続して
チタニウムフイラメント２にベーキング電流を供
給することにより加熱する。このフイラメント２
の加熱によりサブリメーシヨンポンプ内壁が輻射
によつて加熱されるため、脱ガスが行われる。し
かしてベーキングが進行するにつれて副排気管５
内の真空が粘性流領域から中間領域に入ると真空
計１２からの出力信号の値が基準電源１４からの
基準信号の値よりも大きくなるため、比較回路１
３は出力信号をバルブ８の駆動部に送り、バルブ
８を閉鎖する。これにより油回転ポンプ６の油蒸
気がサブリメーシヨンポンプ１内に進入するのが
防止できる。又チタニウムフイラメント２の加熱
による脱ガスにより副排気管５内の真空が再び悪
くなつて粘性流領域に入ると比較回路１３からの
出力信号が停止されるため、バルブ８は再び開放
し、サブリメーシヨンポンプ内のガス分子が排気
される。以下この動作が繰り返されて、ベーキン
グが完了する。
ところで、以下の関係がクヌーセン
（Knndsen）により導かれている。
（Knndsen）により導かれている。
即ち、管の内径をＤ、長さをＬ、管内の圧力を
Ｐとすると、この管の排気コンダンクタンスＣ
（ｌ／ｓ）は Ｃ＝12.1（D3／Ｌ）Ｊ …(1) で与えられる。
Ｐとすると、この管の排気コンダンクタンスＣ
（ｌ／ｓ）は Ｃ＝12.1（D3／Ｌ）Ｊ …(1) で与えられる。
但し、上式中におけるフアクターＪは下式
Ｊ＝１＋２７１ＤＰ＋４７９０（ＤＰ）２／１＋３１
６ＤＰ で与えられ、DP（Torr・cm）の関数として第２
図に示す値となる。
６ＤＰ で与えられ、DP（Torr・cm）の関数として第２
図に示す値となる。
さて、管内の流れは分子流、中間流、粘性流に
分類できるが、分子流、中間流、粘性流の夫々が
支配的となる領域は、DPの値に応じて第２図に
示すようになる。
分類できるが、分子流、中間流、粘性流の夫々が
支配的となる領域は、DPの値に応じて第２図に
示すようになる。
以上のクヌーセンにより導かれた結果から、中
間流領域の代表値として、例えば DP＝２×10-1（Torr・cm） を選んだとし、これを実施例における副排気管に
当てはめれば、この副排気管が中間流領域となる
圧力P0は P0＝２×10-1／D0 と表わされる。ここで、D0は副排気管の内径で
ある。いま、内径D0が８mmの副排気管を使用し
た場合には、この圧力P0は、 P0＝2.5×10-1（Torr） となる。そこで副排気管内の真空度が2.5×
10-1Torrに達したときバルブ８を閉鎖する様に
基準電源の基準値を設定すればよい。
間流領域の代表値として、例えば DP＝２×10-1（Torr・cm） を選んだとし、これを実施例における副排気管に
当てはめれば、この副排気管が中間流領域となる
圧力P0は P0＝２×10-1／D0 と表わされる。ここで、D0は副排気管の内径で
ある。いま、内径D0が８mmの副排気管を使用し
た場合には、この圧力P0は、 P0＝2.5×10-1（Torr） となる。そこで副排気管内の真空度が2.5×
10-1Torrに達したときバルブ８を閉鎖する様に
基準電源の基準値を設定すればよい。
以上の様に本考案においては副排気管内の真空
が油回転ポンプの油蒸気が逆流する真空度（中間
領域真空度）に達すると自動的にバルブが閉じて
サブリメーシヨンポンプと油回転ポンプとの間が
遮断されるため、サブリメーシヨンポンプ内壁に
油蒸気が付着することによりチタニウム膜がはく
離されることを阻止することができ、排気速度の
低下を防止することができる。
が油回転ポンプの油蒸気が逆流する真空度（中間
領域真空度）に達すると自動的にバルブが閉じて
サブリメーシヨンポンプと油回転ポンプとの間が
遮断されるため、サブリメーシヨンポンプ内壁に
油蒸気が付着することによりチタニウム膜がはく
離されることを阻止することができ、排気速度の
低下を防止することができる。
尚前述の説明ではチタニウムフイラメントにベ
ーキング電流を流してサブリメーシヨンポンプ内
壁を加熱する場合について述べたが、これに代え
てサブリメーシヨンポンプ壁に加熱コイルを巻装
してもよい。
ーキング電流を流してサブリメーシヨンポンプ内
壁を加熱する場合について述べたが、これに代え
てサブリメーシヨンポンプ壁に加熱コイルを巻装
してもよい。
第１図は本考案の一実施例を示す構成略図、第
２図は分子流、中間流、粘性流の各領域とDPの
値との関係を示すための図である。 １：サブリメーシヨンポンプ、２：チタニウム
フイラメント、３：主排気管、４：被排気室、
５：副排気管、６：油回転ポンプ、７，８：バル
ブ、９：ベーキング用電源、１０：昇華用電源、
１１：切換スイツチ、１２：真空計、１３：比較
回路、１４：基準電源。
２図は分子流、中間流、粘性流の各領域とDPの
値との関係を示すための図である。 １：サブリメーシヨンポンプ、２：チタニウム
フイラメント、３：主排気管、４：被排気室、
５：副排気管、６：油回転ポンプ、７，８：バル
ブ、９：ベーキング用電源、１０：昇華用電源、
１１：切換スイツチ、１２：真空計、１３：比較
回路、１４：基準電源。
Claims (1)
- サブリメーシヨンポンプと、該サブリメーシヨ
ンポンプ内を排気管を介して粗引する油回転ポン
プと、前記サブリメーシヨンポンプと油回転ポン
プとの間を遮断するためのバルブと、前記排気管
内の真空度に応じた信号を発生する真空計と、前
記サブリメーシヨンポンプをベーキングする手段
と、前記サブリメーシヨンポンプのベーキング中
前記真空計からの信号をモニターして前記排気管
内の真空度が中間流領域の真空度以上に達したと
き前記バルブを閉鎖するための手段とからなるサ
ブリメーシヨンポンプのベーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5244181U JPS628393Y2 (ja) | 1981-04-10 | 1981-04-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5244181U JPS628393Y2 (ja) | 1981-04-10 | 1981-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57164270U JPS57164270U (ja) | 1982-10-16 |
| JPS628393Y2 true JPS628393Y2 (ja) | 1987-02-26 |
Family
ID=29849126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5244181U Expired JPS628393Y2 (ja) | 1981-04-10 | 1981-04-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628393Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5016988B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2012-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 |
| JP6201729B2 (ja) * | 2013-12-20 | 2017-09-27 | 株式会社豊田中央研究所 | 熱遷移流ポンプシステム及び熱遷移流ポンプを用いた真空室の真空維持方法 |
-
1981
- 1981-04-10 JP JP5244181U patent/JPS628393Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57164270U (ja) | 1982-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5400604A (en) | Cryopump and process for regenerating said cryopump | |
| US5575853A (en) | Vacuum exhaust system for processing apparatus | |
| TW533504B (en) | Gas recirculation flow control method and apparatus for use in vacuum system | |
| JP4580943B2 (ja) | インシトゥーゲッターポンプ装置及び方法 | |
| US5259735A (en) | Evacuation system and method therefor | |
| JPH0927458A (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2001060578A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPS628393Y2 (ja) | ||
| JPS6312336A (ja) | 超高純度ガスの供給方法及び供給系 | |
| KR100514776B1 (ko) | 진공펌프작동방법 | |
| JP3941147B2 (ja) | 真空排気装置及びそのメンテナンス方法 | |
| JPH09317641A (ja) | 真空排気装置 | |
| JPH03106432A (ja) | 真空装置の脱ガス方法及び脱ガス装置 | |
| JPH0633231A (ja) | イオンスパッタリング装置 | |
| JPH0569994B2 (ja) | ||
| JPS6278615A (ja) | 圧力調整制御方法 | |
| JPH087625Y2 (ja) | 減圧ｃｖｄ装置 | |
| JPH05136041A (ja) | 薬液塗布装置 | |
| JP2666710B2 (ja) | 真空形成方法及び真空装置 | |
| JPS6224063Y2 (ja) | ||
| JPH02107775A (ja) | 処理装置及びその排気方法 | |
| JPH05180165A (ja) | 真空容器用真空排気装置 | |
| JP2696920B2 (ja) | 雰囲気処理装置 | |
| JPS6353848A (ja) | イオンポンプの活性化方法 | |
| JP2858618B2 (ja) | フッ素樹脂コーティングを施した金属製真空二重びんの製造方法 |