JPH05183280A - マルチチップ・モジュール - Google Patents
マルチチップ・モジュールInfo
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- JPH05183280A JPH05183280A JP4148545A JP14854592A JPH05183280A JP H05183280 A JPH05183280 A JP H05183280A JP 4148545 A JP4148545 A JP 4148545A JP 14854592 A JP14854592 A JP 14854592A JP H05183280 A JPH05183280 A JP H05183280A
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- chip
- heat sink
- ain
- silicon
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
- H05K7/02—Arrangements of circuit components or wiring on supporting structure
- H05K7/10—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets
- H05K7/1053—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads
- H05K7/1061—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads co-operating by abutting
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W40/00—Arrangements for thermal protection or thermal control
- H10W40/20—Arrangements for cooling
- H10W40/25—Arrangements for cooling characterised by their materials
- H10W40/259—Ceramics or glasses
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W40/00—Arrangements for thermal protection or thermal control
- H10W40/60—Securing means for detachable heating or cooling arrangements, e.g. clamps
- H10W40/611—Bolts or screws
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W40/00—Arrangements for thermal protection or thermal control
- H10W40/20—Arrangements for cooling
- H10W40/231—Arrangements for cooling characterised by their places of attachment or cooling paths
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W40/60—Securing means for detachable heating or cooling arrangements, e.g. clamps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】熱伝導性が良好で、熱膨張による影響がなく、
高密度実装が可能で、堅牢なマルチチップ・モジュール
を提供すること。 【構成】シリコン・チップをその上に実装した窒化アル
ミニュウム基板(AIN)をヒートシンクと印刷回路板
との間に挟持する。これらチップとPCBとの間には整
列リングが用いられ、且つこの溝の中に弾性電導体が配
置され、これが圧縮されると共に、チップとの間の電気
的接続を作る。AINとシリコンチップとは熱膨張が近
似しており、上記目的逹成される。
高密度実装が可能で、堅牢なマルチチップ・モジュール
を提供すること。 【構成】シリコン・チップをその上に実装した窒化アル
ミニュウム基板(AIN)をヒートシンクと印刷回路板
との間に挟持する。これらチップとPCBとの間には整
列リングが用いられ、且つこの溝の中に弾性電導体が配
置され、これが圧縮されると共に、チップとの間の電気
的接続を作る。AINとシリコンチップとは熱膨張が近
似しており、上記目的逹成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は大規模集積回路(すなわ
ちIC)と、大規模のマイクロプロセッサ及びその他の
システム・レベルの特定用途用集積回路(すなわちAS
IC)に使用されるものを含むその他のマルチチップ・
モジュール(すなわちMCM)とを含む大規模の、高密
度マルチチップ電子パッケージの製造と組立てに関す
る。
ちIC)と、大規模のマイクロプロセッサ及びその他の
システム・レベルの特定用途用集積回路(すなわちAS
IC)に使用されるものを含むその他のマルチチップ・
モジュール(すなわちMCM)とを含む大規模の、高密
度マルチチップ電子パッケージの製造と組立てに関す
る。
【0002】
【従来技術とその問題点】このような、大規模の高密度
マルチチップ電子パッケージへの従来のアプローチは、
必要な全ての回路が集積される基板として単一の大規模
なモノリシック・シリコンチップが使用される大規模、
もしくは超大規模集積回路であった。
マルチチップ電子パッケージへの従来のアプローチは、
必要な全ての回路が集積される基板として単一の大規模
なモノリシック・シリコンチップが使用される大規模、
もしくは超大規模集積回路であった。
【0003】このようなチップが複雑であることによ
り、従来の設計サイクルは比較的コスト高であり、製造
の歩どまりは低かった。回路の複雑さと、高速度のオン
・チップクロック速度により必要となった集積化の増大
によって、別のパッケージ方法が追求されるようになっ
た。大規模モノリシックIC設計の限界の幾つかが大幅
に改良されたのはマルチチップ・モジュール、すなわち
MCMの開発によるものである。代表的なMCMでは、
複雑な回路が2個又はそれ以上の分離したチップすなわ
ちサブチップの間に配分されている。このようなサブチ
ップはMCMの回路全体の一部をしか含んでいないの
で、等価のモノリシック・チップと比較して設計、試
作、製造及び検査の複雑さが大幅に少なく、しかもコス
トが安い。
り、従来の設計サイクルは比較的コスト高であり、製造
の歩どまりは低かった。回路の複雑さと、高速度のオン
・チップクロック速度により必要となった集積化の増大
によって、別のパッケージ方法が追求されるようになっ
た。大規模モノリシックIC設計の限界の幾つかが大幅
に改良されたのはマルチチップ・モジュール、すなわち
MCMの開発によるものである。代表的なMCMでは、
複雑な回路が2個又はそれ以上の分離したチップすなわ
ちサブチップの間に配分されている。このようなサブチ
ップはMCMの回路全体の一部をしか含んでいないの
で、等価のモノリシック・チップと比較して設計、試
作、製造及び検査の複雑さが大幅に少なく、しかもコス
トが安い。
【0004】MCMへの挑戦はサービスが容易なマルチ
チップ基板のパッケージ戦略であった。TAB結合、フ
リップチップ及びワイヤ結合を含むマルチチップ基板と
個々のサブチップとの間のインタフェースに利用できる
幾つかの魅力的な高密度技術がある。これまでこのよう
な技術を有効に利用することは、基板パッケージ・イン
タフェースに関連する困難さや費用、特に前述のチップ
基板技術で達成できるチップの密度が比較的高いことに
よる高温管理の問題に起因する困難さによって制約され
てきた。
チップ基板のパッケージ戦略であった。TAB結合、フ
リップチップ及びワイヤ結合を含むマルチチップ基板と
個々のサブチップとの間のインタフェースに利用できる
幾つかの魅力的な高密度技術がある。これまでこのよう
な技術を有効に利用することは、基板パッケージ・イン
タフェースに関連する困難さや費用、特に前述のチップ
基板技術で達成できるチップの密度が比較的高いことに
よる高温管理の問題に起因する困難さによって制約され
てきた。
【0005】従って充分な熱放散レベルで処理でき、よ
り高い所望の性能レベルを達成し、且つチップを基板接
続技術へと発展することができる便利で経済的なMCM
基板パッケージ技術が必要である。これまで幾つかの方
法が開発されてきたが、完全に満足できるものは無かっ
た。
り高い所望の性能レベルを達成し、且つチップを基板接
続技術へと発展することができる便利で経済的なMCM
基板パッケージ技術が必要である。これまで幾つかの方
法が開発されてきたが、完全に満足できるものは無かっ
た。
【0006】このようなアプローチの一つはシリコン・
チップと基板との間の最適な熱伝動を達成するためにシ
リコン・ウェーハ基板を使用っすることである。このア
プローチは基板としてのシリコン材料が比較的もろいこ
とにより著しく制約される。このアプローチでは高価な
基板の破損を防止するため、基板の非チップ側と、高密
度のチップ配列によって発生される多くの熱を放散させ
るために使用されるヒートシンクとの間を高度に平坦に
することが必要である。このアプローチにはシリコン内
に便利な相互接続構造を提供しないので、順次処理され
た薄膜構造が必要である。このアプローチではシリコン
基板の外部の接続用のリード又はピンを与える便利な技
術は得られない。
チップと基板との間の最適な熱伝動を達成するためにシ
リコン・ウェーハ基板を使用っすることである。このア
プローチは基板としてのシリコン材料が比較的もろいこ
とにより著しく制約される。このアプローチでは高価な
基板の破損を防止するため、基板の非チップ側と、高密
度のチップ配列によって発生される多くの熱を放散させ
るために使用されるヒートシンクとの間を高度に平坦に
することが必要である。このアプローチにはシリコン内
に便利な相互接続構造を提供しないので、順次処理され
た薄膜構造が必要である。このアプローチではシリコン
基板の外部の接続用のリード又はピンを与える便利な技
術は得られない。
【0007】酸化アルミニウムもMCM基板として使用
されてきたが、これにも重大な制約がある。酸化アルミ
ニウムはその上に実装されるシリコン・チップと熱的に
適合せず、また熱伝導率が良好ではない。従って、酸化
アルミニウム基板を使用したパッケージの組立ては扱い
にくく、コストがかかり、且つ(あるいは)非効率であ
る。
されてきたが、これにも重大な制約がある。酸化アルミ
ニウムはその上に実装されるシリコン・チップと熱的に
適合せず、また熱伝導率が良好ではない。従って、酸化
アルミニウム基板を使用したパッケージの組立ては扱い
にくく、コストがかかり、且つ(あるいは)非効率であ
る。
【0008】
【発明の目的】本発明は、熱伝導性が良好で、熱膨張に
よる影響がなく、高密度実装が可能で、堅牢なマルチチ
ップ・モジュールを提供することである。
よる影響がなく、高密度実装が可能で、堅牢なマルチチ
ップ・モジュールを提供することである。
【0009】
【発明の概要】本発明の第1の側面では、アルミニウム
製ヒートシンクと印刷配線板との間でチップ側面側が圧
縮された多層の焼結窒化アルミニウム・焼成セラミック
基板を使用した集積回路マルチチップ・モジュールを提
供する。僅かに圧縮されたエラストマ・コネクタを含む
位置合わせリングは基板とヒートシンクを位置決めし、
また基板をPCBに接続するために使用される。AIN
(窒化アルミニウム)基板の熱伝導率が高く、頑丈であ
り、シリコンのTCE(熱膨張係数)との適合性がある
ので、TAB、フリップチップ及びワイヤ・ボンディン
グのような現在のチップと基板との相互接続方法と適応
する、簡単で経済的であり、しかも熱的及び機械的に頑
丈な、高密度の基板パッケージが達成される。別の側面
では、本発明はヒートシンクと、第1の表面で該ヒート
シンクと熱接続された窒化アルミニウム基板と、基板の
第2の表面に実装された複数個のシリコンチップと、印
刷配線板の上部でヒートシンクを支持する第1部分と回
路板上部で基板を支持する第2分とを有する位置合わせ
リング部材と、この位置合わせリング部材と連結され、
基板と印刷配線板との間の電気的接続を行うためのエラ
ストマ・コネクタとを備えたマルチチップ・モジュール
を提供する。
製ヒートシンクと印刷配線板との間でチップ側面側が圧
縮された多層の焼結窒化アルミニウム・焼成セラミック
基板を使用した集積回路マルチチップ・モジュールを提
供する。僅かに圧縮されたエラストマ・コネクタを含む
位置合わせリングは基板とヒートシンクを位置決めし、
また基板をPCBに接続するために使用される。AIN
(窒化アルミニウム)基板の熱伝導率が高く、頑丈であ
り、シリコンのTCE(熱膨張係数)との適合性がある
ので、TAB、フリップチップ及びワイヤ・ボンディン
グのような現在のチップと基板との相互接続方法と適応
する、簡単で経済的であり、しかも熱的及び機械的に頑
丈な、高密度の基板パッケージが達成される。別の側面
では、本発明はヒートシンクと、第1の表面で該ヒート
シンクと熱接続された窒化アルミニウム基板と、基板の
第2の表面に実装された複数個のシリコンチップと、印
刷配線板の上部でヒートシンクを支持する第1部分と回
路板上部で基板を支持する第2分とを有する位置合わせ
リング部材と、この位置合わせリング部材と連結され、
基板と印刷配線板との間の電気的接続を行うためのエラ
ストマ・コネクタとを備えたマルチチップ・モジュール
を提供する。
【0010】
【実施例】図1はその上にMCM10を実装することを
意図した多層印刷配線板、すなわちPCB12の部分切
断図を含むMCM10の分解斜視図である。図2はMC
M10がPCB12上に実装され、図面を明解にするた
めにある程度寸法を拡大した、図1の2ー2線に沿った
MCMの横断面図である。以下の説明では前記の双方の
図面を参照する。MCM10は位置合わせリング32の
溝24,26,28及び30に適合するZ軸エラストマ
・コネクタ16,18,20及び22上に支持された基
板14を備えている。支持リング34は4個のファスナ
によってPCB12の片側に実装されるが、前記ファス
ナのうちの2個が図2に一対のネジ及びナット42、4
6として図示されている。ファスナはヒートシンク48
をPCB12の別の側に締めつけるため、穴36,3
8,40及び42のような適宜の取付け穴を通して配置
されている。このアセンブリはヒートシンク48と、コ
ネクタ16,18,20及び22を溝24,26,28
及び30内に押圧する基板14のヒートシンク表面54
との間で密接状態を保持し、それによって基板14とP
CB12との間に複数の電導経路を確保する機能を果た
す。ヒートシンク48と基板14のヒートシンク表面5
4との良好な熱接続を確保するため、組立て前に、これ
ら双方の間に熱グリースの薄層を付与してもよい。
意図した多層印刷配線板、すなわちPCB12の部分切
断図を含むMCM10の分解斜視図である。図2はMC
M10がPCB12上に実装され、図面を明解にするた
めにある程度寸法を拡大した、図1の2ー2線に沿った
MCMの横断面図である。以下の説明では前記の双方の
図面を参照する。MCM10は位置合わせリング32の
溝24,26,28及び30に適合するZ軸エラストマ
・コネクタ16,18,20及び22上に支持された基
板14を備えている。支持リング34は4個のファスナ
によってPCB12の片側に実装されるが、前記ファス
ナのうちの2個が図2に一対のネジ及びナット42、4
6として図示されている。ファスナはヒートシンク48
をPCB12の別の側に締めつけるため、穴36,3
8,40及び42のような適宜の取付け穴を通して配置
されている。このアセンブリはヒートシンク48と、コ
ネクタ16,18,20及び22を溝24,26,28
及び30内に押圧する基板14のヒートシンク表面54
との間で密接状態を保持し、それによって基板14とP
CB12との間に複数の電導経路を確保する機能を果た
す。ヒートシンク48と基板14のヒートシンク表面5
4との良好な熱接続を確保するため、組立て前に、これ
ら双方の間に熱グリースの薄層を付与してもよい。
【0011】Z軸エラストマ・コネクタ16,18,2
0及び22は幾つかの市販のエラストマ・コネクタ材料
の任意の一つから構成することができる。便利な製品の
一つはカリフォルニア州、ユニオン・シティの米国シン
エツ社から市販されているGD型インタコネクタのよう
な、エラストマ棒の中にマトリクスとして埋設された電
気的コンダクタを使用している。この種類のコネクタの
例が図2にZ軸エラストマ・コネクタ16として図示さ
れている。図中のエラストマ・コネクタ16の断面図に
は埋設された導体60として示された3本の微細な導体
が露呈されており、これらの導体は約1.0mmの間隔
を隔てていることが便利である。このような導線のマト
リクスがコネクタ16内に埋設されており、よって図中
の断面と平行で、且つその両側に約1.0mmの間隔を
隔てた別の断面でも別の3組の埋設導体60が存在す
る。
0及び22は幾つかの市販のエラストマ・コネクタ材料
の任意の一つから構成することができる。便利な製品の
一つはカリフォルニア州、ユニオン・シティの米国シン
エツ社から市販されているGD型インタコネクタのよう
な、エラストマ棒の中にマトリクスとして埋設された電
気的コンダクタを使用している。この種類のコネクタの
例が図2にZ軸エラストマ・コネクタ16として図示さ
れている。図中のエラストマ・コネクタ16の断面図に
は埋設された導体60として示された3本の微細な導体
が露呈されており、これらの導体は約1.0mmの間隔
を隔てていることが便利である。このような導線のマト
リクスがコネクタ16内に埋設されており、よって図中
の断面と平行で、且つその両側に約1.0mmの間隔を
隔てた別の断面でも別の3組の埋設導体60が存在す
る。
【0012】別の形式のエラストマ導体が図2にZ軸エ
ラストマ・コネクタ18として図示さている。この方法
では、一連の平行な電導経路が可撓導体62として示さ
れた可撓性材料上に形成されており、この可撓導体はコ
ア64のような非導電性エラストマ・コアの周囲に全
部、又は一部が巻付けられている。動作時には、Z軸エ
ラストマ・コネクタ16は埋設された導体60及びまた
は可撓導体62を介して、基板14およびPCB12上
の任意の一対の対向導体パッド間の直接接続を行う。M
CM10の組立て前に、コネクタ16,18,20及び
22を溝24,26,28及び30内にはめ込み、且つ
位置合わせリング32のレール部分66の上部に約1.
0mm出しておくことが好ましい。図2に示したような
MCM10の最終組立てによって、基板14はレール部
分66に対して押圧され、コネクタ16,18,20及
び20を部分的に圧縮して、良好な電気的接続が確保さ
れる。
ラストマ・コネクタ18として図示さている。この方法
では、一連の平行な電導経路が可撓導体62として示さ
れた可撓性材料上に形成されており、この可撓導体はコ
ア64のような非導電性エラストマ・コアの周囲に全
部、又は一部が巻付けられている。動作時には、Z軸エ
ラストマ・コネクタ16は埋設された導体60及びまた
は可撓導体62を介して、基板14およびPCB12上
の任意の一対の対向導体パッド間の直接接続を行う。M
CM10の組立て前に、コネクタ16,18,20及び
22を溝24,26,28及び30内にはめ込み、且つ
位置合わせリング32のレール部分66の上部に約1.
0mm出しておくことが好ましい。図2に示したような
MCM10の最終組立てによって、基板14はレール部
分66に対して押圧され、コネクタ16,18,20及
び20を部分的に圧縮して、良好な電気的接続が確保さ
れる。
【0013】一連のシリコンチップ50はTAB、フリ
ップチップ及びワイヤ・ボンディングを含む従来の技術
によって、基板14の接続面52上に実装され、且つ相
互に接続されて、MCM10内にパッケージされた電子
回路が形成される。基板14はシリコンチップ50を互
いに、又、基板14内の同様の表面及び(又は)導電経
路と接続するために、一連の内部及び(又は)表面の導
電経路56を含む多層基板であることが便利である。基
板14が製造される材料は本発明にとって非常に重要で
ある。好ましい実施例では、基板14は例えばカリフォ
ルニア州サニーベルのコーニング・グラス・カンパニー
又はアイビデンUSA社から市販されている焼結窒化ア
ルミニウム(すなわちAIN)焼成セラミック材料から
成る多層基板である。AINは優れた熱物理特性を備え
ており、MCM10内の熱応力を最小限にするのに極め
て有効であることが実証されている。市販されているA
INは170ワット/cmの熱伝導率を有し、一方、特
別注文で約220ワット/cmの範囲の更に高い熱伝導
率のものも入手可能である。
ップチップ及びワイヤ・ボンディングを含む従来の技術
によって、基板14の接続面52上に実装され、且つ相
互に接続されて、MCM10内にパッケージされた電子
回路が形成される。基板14はシリコンチップ50を互
いに、又、基板14内の同様の表面及び(又は)導電経
路と接続するために、一連の内部及び(又は)表面の導
電経路56を含む多層基板であることが便利である。基
板14が製造される材料は本発明にとって非常に重要で
ある。好ましい実施例では、基板14は例えばカリフォ
ルニア州サニーベルのコーニング・グラス・カンパニー
又はアイビデンUSA社から市販されている焼結窒化ア
ルミニウム(すなわちAIN)焼成セラミック材料から
成る多層基板である。AINは優れた熱物理特性を備え
ており、MCM10内の熱応力を最小限にするのに極め
て有効であることが実証されている。市販されているA
INは170ワット/cmの熱伝導率を有し、一方、特
別注文で約220ワット/cmの範囲の更に高い熱伝導
率のものも入手可能である。
【0014】AIN基板14の熱伝導率が高いことによ
って、MCM10の熱設計に熱発散装置を設ける必要が
ない。図面に示すように、ヒートシンク48は基板14
のヒートシンク表面54に直接、又は熱グリースを介し
て結合できる。更に、AIN基板14の熱膨張係数、す
なわちTCEは4.2ppmであり、これは3.5pp
mであるシリコンチップ50のTCEと極めて近いの
で、フリップチップの場合のダイスの亀裂又ははんだ接
続の疲れ破損が軽減される。これは従来のMCMパッケ
ージの方法では、特に一辺が1cm又はそれ以上の大型
のシリコンチップの場合、従来の基板と、これに結合さ
れるシリコンチップ、例えばシリコンチップ50との熱
膨張率が異なることによる著しい熱応力の結果として発
生するものである。
って、MCM10の熱設計に熱発散装置を設ける必要が
ない。図面に示すように、ヒートシンク48は基板14
のヒートシンク表面54に直接、又は熱グリースを介し
て結合できる。更に、AIN基板14の熱膨張係数、す
なわちTCEは4.2ppmであり、これは3.5pp
mであるシリコンチップ50のTCEと極めて近いの
で、フリップチップの場合のダイスの亀裂又ははんだ接
続の疲れ破損が軽減される。これは従来のMCMパッケ
ージの方法では、特に一辺が1cm又はそれ以上の大型
のシリコンチップの場合、従来の基板と、これに結合さ
れるシリコンチップ、例えばシリコンチップ50との熱
膨張率が異なることによる著しい熱応力の結果として発
生するものである。
【0015】AIN基板14とシリコンチップ50との
熱適合性が良好であることにより、熱伝導率が高い金属
ダイス実装技術、例えば各々のシリコンチップ50と基
板14との間のアマルガムを使用することができる。そ
の結果、ヒートシンク48は便利に、簡単に押出し成形
されたアルミニウム製ヒートシンクでよく、約100ワ
ットまでの電力放散を処理するために従来の空冷設計の
ものを使用できる。この方法によって、MCM10を従
来のシステムで代用し、新規の回路の設計、製造に費や
される時間とコストを節減することもできる。
熱適合性が良好であることにより、熱伝導率が高い金属
ダイス実装技術、例えば各々のシリコンチップ50と基
板14との間のアマルガムを使用することができる。そ
の結果、ヒートシンク48は便利に、簡単に押出し成形
されたアルミニウム製ヒートシンクでよく、約100ワ
ットまでの電力放散を処理するために従来の空冷設計の
ものを使用できる。この方法によって、MCM10を従
来のシステムで代用し、新規の回路の設計、製造に費や
される時間とコストを節減することもできる。
【0016】熱伝導率が良好であり、シリコンチップと
TCEが適合することによって、例えばフリップチップ
・ボンディングのようなある種のチップと基板とのイン
タフェースに極めて有利である。フリップチップ結合さ
れたチップの場合、シリコンチップ50と基板14との
間のはんだ隆起(バンプ)の熱伝導率が高いので、特に
チップと基板との間を接続するはんだ隆起が約250個
以上もある場合は、熱を発生するチップとヒートシンク
48との間の熱抵抗が極めて低くなる。AIN基板14
を使用したAINのMCM10又は単一チップ・モジュ
ールの場合、チップ接合部の温度を容易に約85℃まで
下げることが可能である。AIN基板14が頑丈である
ことによっても、設計上の選択肢が拡がる。基板14は
便利に、厚膜印刷経路と部品、及び細線薄膜部品とを結
合する多層基板であることができる。
TCEが適合することによって、例えばフリップチップ
・ボンディングのようなある種のチップと基板とのイン
タフェースに極めて有利である。フリップチップ結合さ
れたチップの場合、シリコンチップ50と基板14との
間のはんだ隆起(バンプ)の熱伝導率が高いので、特に
チップと基板との間を接続するはんだ隆起が約250個
以上もある場合は、熱を発生するチップとヒートシンク
48との間の熱抵抗が極めて低くなる。AIN基板14
を使用したAINのMCM10又は単一チップ・モジュ
ールの場合、チップ接合部の温度を容易に約85℃まで
下げることが可能である。AIN基板14が頑丈である
ことによっても、設計上の選択肢が拡がる。基板14は
便利に、厚膜印刷経路と部品、及び細線薄膜部品とを結
合する多層基板であることができる。
【0017】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、アルミ
ニウム製ヒートシンクと印刷配線板との間でチップ側面
側が圧縮された多層の焼結窒化アルミニウム・焼成セラ
ミック基板を使用した集積回路マルチチップ・モジュー
ルが提供される。僅かに圧縮されたエラストマ・コネク
タを含む位置合わせリングは基板とヒートシンクを位置
決めし、また基板をPCBに接続するために使用され
る。AIN(窒化アルミニウム)基板の熱伝導率が高
く、頑丈であり、シリコンのTCE(熱膨張係数)との
適合性があるので、TAB、フリップチップ及びワイヤ
・ボンディングのような現在のチップと基板との相互接
続方法と適応する、簡単で経済的であり、しかも熱的及
び機械的に頑丈な、高密度の基板パッケージが達成され
る。
ニウム製ヒートシンクと印刷配線板との間でチップ側面
側が圧縮された多層の焼結窒化アルミニウム・焼成セラ
ミック基板を使用した集積回路マルチチップ・モジュー
ルが提供される。僅かに圧縮されたエラストマ・コネク
タを含む位置合わせリングは基板とヒートシンクを位置
決めし、また基板をPCBに接続するために使用され
る。AIN(窒化アルミニウム)基板の熱伝導率が高
く、頑丈であり、シリコンのTCE(熱膨張係数)との
適合性があるので、TAB、フリップチップ及びワイヤ
・ボンディングのような現在のチップと基板との相互接
続方法と適応する、簡単で経済的であり、しかも熱的及
び機械的に頑丈な、高密度の基板パッケージが達成され
る。
【図1】本発明によるマルチチップ・モジュールの分解
斜視図である。
斜視図である。
【図2】第1図の線2ー2による断面図である。
10:マルチチップ・モジュール、12:印刷回路板、
14:基板、16、18、20、22:弾性コネクタ、
32:整列リング、48:ヒートシンク
14:基板、16、18、20、22:弾性コネクタ、
32:整列リング、48:ヒートシンク
Claims (1)
- 【請求項1】ヒートシンクと、前記ヒートシンクのー方
の表面に熱的に接続された窒化アルミニウム基板と、前
記基板の他方の表面に実装された複数のチップと、前記
基板と印刷回路板との間に装着された整列手段と、前記
基板と前記印刷回路板との間に装着されてこれらの間に
電気的接続を与える弾性手段とより成るマルチチップ・
モジュール。
Applications Claiming Priority (2)
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| US700784 | 1991-05-15 |
Publications (1)
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|---|---|
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Family
ID=24814856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (2)
| Country | Link |
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