JPH05194672A - 高屈折率光学材料 - Google Patents
高屈折率光学材料Info
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- JPH05194672A JPH05194672A JP4010129A JP1012992A JPH05194672A JP H05194672 A JPH05194672 A JP H05194672A JP 4010129 A JP4010129 A JP 4010129A JP 1012992 A JP1012992 A JP 1012992A JP H05194672 A JPH05194672 A JP H05194672A
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- bis
- carbon atoms
- alkylene
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 屈折率が大きく耐衝撃性にすぐれた光学材料
の提供。 【構成】 下式〔Ｉ〕のビス（メタ）アクリレート、下
式〔II〕〜〔IV〕の少なくとも一つのメルカプト化合物
およびスチレン化合物の重合硬化物。 （式中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基、Ｒ２はＣ１
〜６のアルキレン基、ＡｒはＣ６〜30のアリーレン基、
アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子で置
換されたそれらの基、Ｘ０は−Ｏ−または−Ｓ−、Ｙは
Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ−または−ＳＯ２−、
Ｘ０が−Ｓ−を示す場合には−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｃ
Ｏ−、またはＣ１〜12のアルキレン基等） （式中、Ｒ３は−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２−、Ｒ
４はＣ２〜15の炭化水素残基またはアルキルエーテル残
基。）
の提供。 【構成】 下式〔Ｉ〕のビス（メタ）アクリレート、下
式〔II〕〜〔IV〕の少なくとも一つのメルカプト化合物
およびスチレン化合物の重合硬化物。 （式中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基、Ｒ２はＣ１
〜６のアルキレン基、ＡｒはＣ６〜30のアリーレン基、
アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子で置
換されたそれらの基、Ｘ０は−Ｏ−または−Ｓ−、Ｙは
Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ−または−ＳＯ２−、
Ｘ０が−Ｓ−を示す場合には−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｃ
Ｏ−、またはＣ１〜12のアルキレン基等） （式中、Ｒ３は−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２−、Ｒ
４はＣ２〜15の炭化水素残基またはアルキルエーテル残
基。）
Description
【０００１】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、高屈折率光学材料、特
に高屈折率でかつ耐衝撃性に優れたレンズ用樹脂、に関
する。
に高屈折率でかつ耐衝撃性に優れたレンズ用樹脂、に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラスチックレンズ用樹脂として
は、ジエチレングリコールビスアリールカーボネート樹
脂が広く用いられている。この樹脂は、耐衝撃性、透明
性に優れ、かつ光分散特性が良好であるなどの長所を有
しているが、屈折率が１．５０と低く、ガラスと同等の
屈折を得るにはレンズが肉厚になる欠点があった。
は、ジエチレングリコールビスアリールカーボネート樹
脂が広く用いられている。この樹脂は、耐衝撃性、透明
性に優れ、かつ光分散特性が良好であるなどの長所を有
しているが、屈折率が１．５０と低く、ガラスと同等の
屈折を得るにはレンズが肉厚になる欠点があった。
【０００３】一方、種々のジアクリレート又はジメタア
クリレート（以下、両者を総称して、ジ（メタ）アクリ
レートという）は、容易にラジカル重合して透明性に優
れたレンズ用樹脂を与えることが知られている。たとえ
ば、臭素含有ビスフェノールＡ骨格を有するジ（メタ）
アクリレート（特開昭５９−１８４２１０号、特開昭５
９−１９３９１５号各公報）、イオウ含有芳香族骨格を
有するジ（メタ）アクリレート（特開昭６０−２６０１
０号、特開昭６２−１９５３５７号各公報）などから得
られるレンズ用樹脂は、高屈折率でかつ高アツベ数のバ
ランスに優れた光学特性を示すことが知られている。
クリレート（以下、両者を総称して、ジ（メタ）アクリ
レートという）は、容易にラジカル重合して透明性に優
れたレンズ用樹脂を与えることが知られている。たとえ
ば、臭素含有ビスフェノールＡ骨格を有するジ（メタ）
アクリレート（特開昭５９−１８４２１０号、特開昭５
９−１９３９１５号各公報）、イオウ含有芳香族骨格を
有するジ（メタ）アクリレート（特開昭６０−２６０１
０号、特開昭６２−１９５３５７号各公報）などから得
られるレンズ用樹脂は、高屈折率でかつ高アツベ数のバ
ランスに優れた光学特性を示すことが知られている。
【０００４】一般に、このような種々のジ（メタ）アク
リレート化合物の重合によって得られる高度の架橋構造
体からなる硬化樹脂は、耐熱性、研磨性、透明性に優れ
ているが、その反面において硬化樹脂が脆い傾向を示す
欠点があった。この欠点を改良する手段として、臭素含
有ビスフェノールＡ誘導体をウレタン（メタ）アクリレ
ート化したものの使用が提案されたが（特開昭６０−５
１７０６号公報）、この樹脂は臭素原子を含有するため
に比重が大きくなり、かつ耐候性が悪くなるなどの問題
点があった。
リレート化合物の重合によって得られる高度の架橋構造
体からなる硬化樹脂は、耐熱性、研磨性、透明性に優れ
ているが、その反面において硬化樹脂が脆い傾向を示す
欠点があった。この欠点を改良する手段として、臭素含
有ビスフェノールＡ誘導体をウレタン（メタ）アクリレ
ート化したものの使用が提案されたが（特開昭６０−５
１７０６号公報）、この樹脂は臭素原子を含有するため
に比重が大きくなり、かつ耐候性が悪くなるなどの問題
点があった。
【０００５】また、特開平２−１４１７０２号公報にお
いては、ビス‐（メタ）アクリロキシメチル‐トリシク
ロデカンに、ペンタエリスリトールテトラキス（β‐チ
オプロピオネート）等の多官能チオールを添加して重合
させた衝撃性を改良した樹脂が提案されたが、この樹脂
はアツベ数は高いけれども屈折率が１．５５以下と比較
的に低い欠点がある。また、特開昭６３−３０９５０９
号公報では、チオールとジビニルベンゼンとの反応によ
って得られる重合性単量体を用いる提案がされている
が、この場合にはラジカル末端をピロガロールで処理す
る必要があるなどの克服すべき問題点がある。
いては、ビス‐（メタ）アクリロキシメチル‐トリシク
ロデカンに、ペンタエリスリトールテトラキス（β‐チ
オプロピオネート）等の多官能チオールを添加して重合
させた衝撃性を改良した樹脂が提案されたが、この樹脂
はアツベ数は高いけれども屈折率が１．５５以下と比較
的に低い欠点がある。また、特開昭６３−３０９５０９
号公報では、チオールとジビニルベンゼンとの反応によ
って得られる重合性単量体を用いる提案がされている
が、この場合にはラジカル末端をピロガロールで処理す
る必要があるなどの克服すべき問題点がある。
【０００６】〔発明の概要〕
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のレン
ズ用樹脂の種々の欠点を改良した、軽量で高屈折率であ
り、かつ透明性及び耐衝撃性に優れた光学材料を提供し
ようとするものである。
ズ用樹脂の種々の欠点を改良した、軽量で高屈折率であ
り、かつ透明性及び耐衝撃性に優れた光学材料を提供し
ようとするものである。
【０００７】
＜要旨＞本発明による高屈折率光学材料は、下記の化合
物Ａ、ＢおよびＣを含んでなる組成物を熱および（また
は）活性エネルギー線および（または）エチレン性不飽
和結合に対するラジカル発生剤の作用に付すことによっ
て固化させてなる樹脂からなるものである。
物Ａ、ＢおよびＣを含んでなる組成物を熱および（また
は）活性エネルギー線および（または）エチレン性不飽
和結合に対するラジカル発生剤の作用に付すことによっ
て固化させてなる樹脂からなるものである。
【０００８】
【０００９】（式中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基
を示す。Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基を示す。
Ａｒは、炭素数がいずれも６〜３０であるアリーレン
基、アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子
で置換されたそれらの基を示す。Ｘ０は、−Ｏ−または
−Ｓ−を示す。Ｙは、Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ
−または−ＳＯ２−を示し、Ｘ０が−Ｓ−を示す場合に
は−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、または炭素数がいず
れも１〜１２であるアルキレン基、アラルキレン基、ア
ルキレンエーテル基、アラルキレンエーテル基、アルキ
レンチオエーテル基およびアラルキレンチオエーテル基
から選ばれた基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ１〜５
の整数を示す。ｐは、０〜１０の数を示す。複数個存在
する基は、同一でも異なってもよい。）
を示す。Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基を示す。
Ａｒは、炭素数がいずれも６〜３０であるアリーレン
基、アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子
で置換されたそれらの基を示す。Ｘ０は、−Ｏ−または
−Ｓ−を示す。Ｙは、Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ
−または−ＳＯ２−を示し、Ｘ０が−Ｓ−を示す場合に
は−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、または炭素数がいず
れも１〜１２であるアルキレン基、アラルキレン基、ア
ルキレンエーテル基、アラルキレンエーテル基、アルキ
レンチオエーテル基およびアラルキレンチオエーテル基
から選ばれた基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ１〜５
の整数を示す。ｐは、０〜１０の数を示す。複数個存在
する基は、同一でも異なってもよい。）
【００１０】
【００１１】（式中、Ｒ３は、−ＣＨ２−または−ＣＨ
２ＣＨ２−を示す。Ｒ４は、炭素数がいずれも２〜１５
の炭化水素残基またはアルキルエーテル残基を示す。ｑ
は、２〜６の整数を示す。複数個存在する基は同一でも
異なってもよい。）
２ＣＨ２−を示す。Ｒ４は、炭素数がいずれも２〜１５
の炭化水素残基またはアルキルエーテル残基を示す。ｑ
は、２〜６の整数を示す。複数個存在する基は同一でも
異なってもよい。）
【００１２】
【化４】
【００１３】
【００１４】
【化５】
【００１５】（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ同一
または異なる炭素数１〜３のアルキレン基を示す。ｄお
よびｅはそれぞれ０または１、ｆは１または２を示す。
複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。）
または異なる炭素数１〜３のアルキレン基を示す。ｄお
よびｅはそれぞれ０または１、ｆは１または２を示す。
複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。）
【００１６】 Ｃ．下記一般式〔Ｖ〕で示されるスチレン化合物 １〜４９重量％
【００１７】
【化６】
【００１８】（式中、Ｒ５は、水素原子またはメチル基
を示し、Ｘ２はフッ素を除くハロゲン原子、ｚは０また
は１〜５の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも
異なってもよい。）
を示し、Ｘ２はフッ素を除くハロゲン原子、ｚは０また
は１〜５の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも
異なってもよい。）
【００１９】＜効果＞特定の三種の化合物Ａ、Ｂおよび
Ｃを重合硬化させてなる樹脂は高屈折率を有していて、
しかも耐衝撃性にすぐれている。
Ｃを重合硬化させてなる樹脂は高屈折率を有していて、
しかも耐衝撃性にすぐれている。
【００２０】〔発明の具体的説明〕 ＜重合硬化物の化学的実体＞本発明による光学材料は、
化合物Ａ、ＢおよびＣを熱および（または）活性エネル
ギー線および（または）エチレン性不飽和結合に対する
ラジカル発生剤の作用からなる励起作用に付すことによ
って重合硬化させてなるものである。
化合物Ａ、ＢおよびＣを熱および（または）活性エネル
ギー線および（または）エチレン性不飽和結合に対する
ラジカル発生剤の作用からなる励起作用に付すことによ
って重合硬化させてなるものである。
【００２１】化合物ＡおよびＣはエチレン性不飽和結合
を有するから、上記の励起作用によってエチレン性不飽
和結合の重付加によって高分子化すると考えられる。そ
のような重合の場に共存する非エチレン性不飽和化合物
Ｃがどのように挙動するかは必ずしも明らかではない
が、化合物Ｂのチオール基が化合物Ａおよび（または）
Ｃのエチレン性不飽和化合物に対して所謂マイケル型付
加をすることによって、重合条件下に在る化合物Ａおよ
び（または）Ｃと結合する可能性が考えられる。
を有するから、上記の励起作用によってエチレン性不飽
和結合の重付加によって高分子化すると考えられる。そ
のような重合の場に共存する非エチレン性不飽和化合物
Ｃがどのように挙動するかは必ずしも明らかではない
が、化合物Ｂのチオール基が化合物Ａおよび（または）
Ｃのエチレン性不飽和化合物に対して所謂マイケル型付
加をすることによって、重合条件下に在る化合物Ａおよ
び（または）Ｃと結合する可能性が考えられる。
【００２２】前記一般式〔Ｉ〕で表わされるビス（メ
タ）アクリレートは、それ単独でも重合させることがで
きるが、得られる硬化樹脂は耐衝撃性に劣る欠点があ
る。しかるに、本発明にしたがって、これと一般式〔I
I〕、〔III 〕および（または）〔IV〕で表わされるメ
ルカプト化合物と一般式〔Ｖ〕で表わされる化合物とを
共重合させることにより、得られる硬化樹脂は着色を防
止することができ、また硬化物の面精度が向上するばか
りでなく、耐衝撃性が著しく向上する。
タ）アクリレートは、それ単独でも重合させることがで
きるが、得られる硬化樹脂は耐衝撃性に劣る欠点があ
る。しかるに、本発明にしたがって、これと一般式〔I
I〕、〔III 〕および（または）〔IV〕で表わされるメ
ルカプト化合物と一般式〔Ｖ〕で表わされる化合物とを
共重合させることにより、得られる硬化樹脂は着色を防
止することができ、また硬化物の面精度が向上するばか
りでなく、耐衝撃性が著しく向上する。
【００２３】＜化合物Ａ＞化合物Ａは、一般式〔Ｉ〕で
示されるビス（メタ）アクリレートである。ここで、
「（メタ）アクリレート」がアクリレートおよびメタア
クリレートを意味するものであることは前記したところ
である。
示されるビス（メタ）アクリレートである。ここで、
「（メタ）アクリレート」がアクリレートおよびメタア
クリレートを意味するものであることは前記したところ
である。
【００２４】
【００２５】（式中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基
を示す。Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基を示す。
Ａｒは、炭素数がいずれも６〜３０であるアリーレン
基、アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子
で置換されたそれらの基を示す。Ｘ０は、−Ｏ−または
−Ｓ−を示す。Ｙは、Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ
−または−ＳＯ２−を示し、Ｘ０が−Ｓ−を示す場合に
は−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、または炭素数がいず
れも１〜１２であるアルキレン基、アラルキレン基、ア
ルキレンエーテル基、アラルキレンエーテル基、アルキ
レンチオエーテル基およびアラルキレンチオエーテル基
から選ばれた基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ１〜５
の整数を示す。ｐは、０〜１０の数を示す。複数個存在
する基は、同一でも異なってもよい。）
を示す。Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基を示す。
Ａｒは、炭素数がいずれも６〜３０であるアリーレン
基、アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子
で置換されたそれらの基を示す。Ｘ０は、−Ｏ−または
−Ｓ−を示す。Ｙは、Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ
−または−ＳＯ２−を示し、Ｘ０が−Ｓ−を示す場合に
は−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、または炭素数がいず
れも１〜１２であるアルキレン基、アラルキレン基、ア
ルキレンエーテル基、アラルキレンエーテル基、アルキ
レンチオエーテル基およびアラルキレンチオエーテル基
から選ばれた基を示す。ｍおよびｎは、それぞれ１〜５
の整数を示す。ｐは、０〜１０の数を示す。複数個存在
する基は、同一でも異なってもよい。）
【００２６】このビス（メタ）アクリレートは、式中の
各基の定義から明らかなように、含硫芳香族ビス（メ
タ）アクリレートである。
各基の定義から明らかなように、含硫芳香族ビス（メ
タ）アクリレートである。
【００２７】本発明で用いる前記一般式〔Ｉ〕で表わさ
れる含イオウ芳香族（メタ）アクリレートは、アクリル
酸、メタクリル酸又はそれらのメチルエステルを、イオ
ウを含む鎖で連続した構造を有するものであり、２種以
上を併用することもできる。
れる含イオウ芳香族（メタ）アクリレートは、アクリル
酸、メタクリル酸又はそれらのメチルエステルを、イオ
ウを含む鎖で連続した構造を有するものであり、２種以
上を併用することもできる。
【００２８】一般式〔Ｉ〕のビス（メタ）アクリレート
の具体例としては、たとえば、下記のものがある。
の具体例としては、たとえば、下記のものがある。
【００２９】（イ） ｐ‐ビス（β‐アクリロイルオキ
シエチルチオ）キシリレン、ｐ‐ビス（β‐メタクリロ
イルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ‐ビス（β‐ア
クリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ‐ビス
（β‐メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、
α，α′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエチルチオ）
‐２，３，５，６‐テトラクロロ‐ｐ‐キシリレン、
α，α′‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルチ
オ）‐２，３，５，６‐テトラクロロ‐ｐ‐キシリレ
ン、４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエトキ
シ）ジフェニルスルフィド、４，４′‐ビス（β‐メタ
クリロイルオキシエトキシ）ジフェニルスルフィド、
４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエトキシエト
キシ）ジフェニルスルホン、４，４′‐ビス（β‐メタ
クリロイルオキシエトキシエトキシ）ジフェニルスルホ
ン、４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエチルチ
オ）ジフェニルスルフィド、４，４′‐ビス（β‐メタ
クリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルフィド、
４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエチルチオ）
ジフェニルスルホン、４，４′‐ビス（β‐メタクリロ
イルオキシジエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，
４′‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルチオ）ジ
フェニルケトン、β，β′‐ビス（ｐ‐アクリロイルオ
キシフェニルチオ）ジエチルエーテル、β，β′‐ビス
（ｐ‐メタクリロイルオキシフェニルチオ）ジエチルエ
ーテル、β，β′‐ビス（ｐ‐メタクリロイルオキシフ
ェニルチオ）ジエチルエーテル、β，β′‐ビス（ｐ‐
メタクリロイルオキシフェニルチオ）ジエチルチオエー
テル。
シエチルチオ）キシリレン、ｐ‐ビス（β‐メタクリロ
イルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ‐ビス（β‐ア
クリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ‐ビス
（β‐メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン、
α，α′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエチルチオ）
‐２，３，５，６‐テトラクロロ‐ｐ‐キシリレン、
α，α′‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルチ
オ）‐２，３，５，６‐テトラクロロ‐ｐ‐キシリレ
ン、４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエトキ
シ）ジフェニルスルフィド、４，４′‐ビス（β‐メタ
クリロイルオキシエトキシ）ジフェニルスルフィド、
４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエトキシエト
キシ）ジフェニルスルホン、４，４′‐ビス（β‐メタ
クリロイルオキシエトキシエトキシ）ジフェニルスルホ
ン、４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエチルチ
オ）ジフェニルスルフィド、４，４′‐ビス（β‐メタ
クリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルフィド、
４，４′‐ビス（β‐アクリロイルオキシエチルチオ）
ジフェニルスルホン、４，４′‐ビス（β‐メタクリロ
イルオキシジエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，
４′‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルチオ）ジ
フェニルケトン、β，β′‐ビス（ｐ‐アクリロイルオ
キシフェニルチオ）ジエチルエーテル、β，β′‐ビス
（ｐ‐メタクリロイルオキシフェニルチオ）ジエチルエ
ーテル、β，β′‐ビス（ｐ‐メタクリロイルオキシフ
ェニルチオ）ジエチルエーテル、β，β′‐ビス（ｐ‐
メタクリロイルオキシフェニルチオ）ジエチルチオエー
テル。
【００３０】（ロ） 一般式〔Ｉ〕におけるＸ０が−Ｓ
−の場合の式 −Ａｒ−（−Ｙ−Ａｒ−）ｐ−が、一般式
−の場合の式 −Ａｒ−（−Ｙ−Ａｒ−）ｐ−が、一般式
【００３１】
【化７】
【００３２】（式中、Ｒ６は炭素数１〜１２の、好まし
くは１〜６の、鎖中にエーテル結合を有していてもよい
アルキレン基を示し、ｇは平均オリゴマー化度を表わす
１〜５の数である。）で表わされるオリゴマー、 （ハ） 一般式
くは１〜６の、鎖中にエーテル結合を有していてもよい
アルキレン基を示し、ｇは平均オリゴマー化度を表わす
１〜５の数である。）で表わされるオリゴマー、 （ハ） 一般式
【００３３】
【化８】
【００３４】（式中、ｈは平均オリゴマー化度を表わす
１〜５の数である。）で表わすオリゴマー。
１〜５の数である。）で表わすオリゴマー。
【００３５】前記一般式〔Ｉ〕で表わされる単量体のう
ちでも、重合体の屈折率等の光学的性質及び単量体粘度
等の取扱い性の点から特に好ましい単量体は、下記一般
式〔Ｉ′〕で示される含硫ビス（メタ）アクリレートで
ある。
ちでも、重合体の屈折率等の光学的性質及び単量体粘度
等の取扱い性の点から特に好ましい単量体は、下記一般
式〔Ｉ′〕で示される含硫ビス（メタ）アクリレートで
ある。
【００３６】
【化９】
【００３７】（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を
示す。Ｒ７およびＲ８は、それぞれ炭素数１〜４の２価
の炭化水素残基を示し、Ｚはフッ素を除くハロゲン原子
を示し、ｉは０または１〜４の整数を示す。複数個存在
する基は、同一でも異なってもよい。）
示す。Ｒ７およびＲ８は、それぞれ炭素数１〜４の２価
の炭化水素残基を示し、Ｚはフッ素を除くハロゲン原子
を示し、ｉは０または１〜４の整数を示す。複数個存在
する基は、同一でも異なってもよい。）
【００３８】この一般式〔Ｉ′〕で表わされる単量体の
具体例としては、たとえば、ｐ‐ビス〔β‐（メタ）ア
クリロイルオキシイソプロピルチオ〕キシリレン、ｍ‐
ビス〔β‐（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ〕エ
チルフェニレン、ｐ‐ビス〔β‐（メタ）アクリロイル
オキシブチルチオ〕テトラクロロキシリレン、ｐ‐ビス
〔β‐（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ〕キシリ
レン、およびｍ‐ビス〔β‐（メタ）アクリロイルオキ
シエチルチオ〕キシリレンなどがあり、さらにより好ま
しい単量体は後の二者である。
具体例としては、たとえば、ｐ‐ビス〔β‐（メタ）ア
クリロイルオキシイソプロピルチオ〕キシリレン、ｍ‐
ビス〔β‐（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ〕エ
チルフェニレン、ｐ‐ビス〔β‐（メタ）アクリロイル
オキシブチルチオ〕テトラクロロキシリレン、ｐ‐ビス
〔β‐（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ〕キシリ
レン、およびｍ‐ビス〔β‐（メタ）アクリロイルオキ
シエチルチオ〕キシリレンなどがあり、さらにより好ま
しい単量体は後の二者である。
【００３９】＜化合物Ｂ＞化合物Ｂは、一般式〔II〕、
〔III 〕および〔IV〕で示されるメルカプト化合物の少
なくとも一種である。式から明らかなように、この化合
物は、ポリチオール化合物である。
〔III 〕および〔IV〕で示されるメルカプト化合物の少
なくとも一種である。式から明らかなように、この化合
物は、ポリチオール化合物である。
【００４０】（式中、Ｒ３は、−ＣＨ２−または−ＣＨ
２ＣＨ２−を示す。Ｒ４は、炭素数がいずれも２〜１５
の炭化水素残基またはアルキルエーテル残基を示す。ｑ
は、２〜６の整数を示す。複数個存在する基は同一でも
異なってもよい。）
２ＣＨ２−を示す。Ｒ４は、炭素数がいずれも２〜１５
の炭化水素残基またはアルキルエーテル残基を示す。ｑ
は、２〜６の整数を示す。複数個存在する基は同一でも
異なってもよい。）
【００４１】
【化１０】
【００４２】
【００４３】
【化１１】
【００４４】（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ同一
または異なる炭素数１〜３のアルキレン基を示す。ｄお
よびｅはそれぞれ０または１、ｆは１または２を示す。
複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。） これらの化合物は、各群内でも併用することができる。
または異なる炭素数１〜３のアルキレン基を示す。ｄお
よびｅはそれぞれ０または１、ｆは１または２を示す。
複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。） これらの化合物は、各群内でも併用することができる。
【００４５】（イ） 一般式〔II〕で表わされる化合物
は、２〜６価のチオグリコール酸又はチオプロピオン酸
エステルである。その化合物〔II〕の具体例としては、
たとえば、ペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チ
オプロピオネート）、ペンタエリスリトール＝テトラキ
ス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパン＝ト
リス（β‐チオプロピオネート）、トリメチロールプロ
パン＝トリス（チオグリコレート）、ジエチレングリコ
ール＝ビス（β‐チオプロピオネート）、ジエチレング
リコール＝ビス（チオグリコレート）、トリエチレング
リコール＝ビス（β‐チオプロピオネート）、トリエチ
レングリコール＝ビス（チオグリコレート）、ジペンタ
エリスリトール＝ヘキサキス（β‐チオプロピオネー
ト）、ジペンタエリスリトール＝ヘキサキス（チオグリ
コレート）などがあげられる。
は、２〜６価のチオグリコール酸又はチオプロピオン酸
エステルである。その化合物〔II〕の具体例としては、
たとえば、ペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チ
オプロピオネート）、ペンタエリスリトール＝テトラキ
ス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパン＝ト
リス（β‐チオプロピオネート）、トリメチロールプロ
パン＝トリス（チオグリコレート）、ジエチレングリコ
ール＝ビス（β‐チオプロピオネート）、ジエチレング
リコール＝ビス（チオグリコレート）、トリエチレング
リコール＝ビス（β‐チオプロピオネート）、トリエチ
レングリコール＝ビス（チオグリコレート）、ジペンタ
エリスリトール＝ヘキサキス（β‐チオプロピオネー
ト）、ジペンタエリスリトール＝ヘキサキス（チオグリ
コレート）などがあげられる。
【００４６】（ロ） 化合物III 一般式〔III 〕で示される化合物の具体例としては、た
とえば、トリス〔２‐（β‐チオプロピオニルオキシ）
エチル〕トリイソシアヌレート、トリス（２‐チオグリ
コニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス〔２‐
（β‐チオプロピオニルオキジエトキシ）エチル〕トリ
イソシアヌレート、トリス（２‐チオグリコニルオキシ
エトキシエチル）トリイソシアヌレート、トリス〔３‐
（β‐チオプロピオニルオキシ）プロピル〕トリイソシ
アヌレート、トリス（３‐チオグリコニルオキシプロピ
ル）トリイソシアヌレートなどがあげられる。
とえば、トリス〔２‐（β‐チオプロピオニルオキシ）
エチル〕トリイソシアヌレート、トリス（２‐チオグリ
コニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス〔２‐
（β‐チオプロピオニルオキジエトキシ）エチル〕トリ
イソシアヌレート、トリス（２‐チオグリコニルオキシ
エトキシエチル）トリイソシアヌレート、トリス〔３‐
（β‐チオプロピオニルオキシ）プロピル〕トリイソシ
アヌレート、トリス（３‐チオグリコニルオキシプロピ
ル）トリイソシアヌレートなどがあげられる。
【００４７】（ハ） 一般式〔IV〕で表わされる化合物
の具体例としては、たとえば、ベンゼンジメルカプタ
ン、キシリレンジメルカプタン、４，４′‐ジメルカプ
トジフェニルスルフィドなどがあげられる。
の具体例としては、たとえば、ベンゼンジメルカプタ
ン、キシリレンジメルカプタン、４，４′‐ジメルカプ
トジフェニルスルフィドなどがあげられる。
【００４８】＜化合物Ｃ＞一般式〔Ｖ〕で表わされる化
合物の具体例として、たとえば、スチレン、α‐メチル
スチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジブロモスチレン、ペンタブロモスチレンな
どがあげられる。
合物の具体例として、たとえば、スチレン、α‐メチル
スチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジブロモスチレン、ペンタブロモスチレンな
どがあげられる。
【００４９】＜単量体組成物＞本発明に従って「重合硬
化」させるべき組成物は、化合物Ａ、ＢおよびＣを下記
の比率で含んでなるものである。
化」させるべき組成物は、化合物Ａ、ＢおよびＣを下記
の比率で含んでなるものである。
【００５０】さらに具体的にいえば、本発明におけるビ
ス（メタ）アクリレート〔Ｉ〕と、一般式〔II〕、〔II
I 〕および（または）〔IV〕で表わされるメルカプト化
合物との組成割合は、前者の５０〜９８重量部に対して
後者が１〜３０重量部、好ましくは前者の６０〜８５重
量部に対して後者が２〜２０重量部、の範囲である。一
般に、メルカプト化合物の割合が少なすぎると硬化樹脂
の耐衝撃性の改良効果が得られなくなるし、逆に多すぎ
ると硬化樹脂の耐熱性が低くなる。
ス（メタ）アクリレート〔Ｉ〕と、一般式〔II〕、〔II
I 〕および（または）〔IV〕で表わされるメルカプト化
合物との組成割合は、前者の５０〜９８重量部に対して
後者が１〜３０重量部、好ましくは前者の６０〜８５重
量部に対して後者が２〜２０重量部、の範囲である。一
般に、メルカプト化合物の割合が少なすぎると硬化樹脂
の耐衝撃性の改良効果が得られなくなるし、逆に多すぎ
ると硬化樹脂の耐熱性が低くなる。
【００５１】一方、ビス（メタ）アクリレート（式Ｉ〕
とそれと共重合しうる他の単量体（式Ｖ）の組成割合
は、前者の５０〜９８重量部に対して後者が１〜４９重
量部、好ましくは前者の６０〜８５重量部に対して後者
が５〜３５重量部である。この割合が少なすぎると、硬
化樹脂の耐衝撃性の改良効果が得られなくなるし、逆
に、この割合が過度に多い場合には、硬化樹脂の耐熱性
が低くなる。
とそれと共重合しうる他の単量体（式Ｖ）の組成割合
は、前者の５０〜９８重量部に対して後者が１〜４９重
量部、好ましくは前者の６０〜８５重量部に対して後者
が５〜３５重量部である。この割合が少なすぎると、硬
化樹脂の耐衝撃性の改良効果が得られなくなるし、逆
に、この割合が過度に多い場合には、硬化樹脂の耐熱性
が低くなる。
【００５２】この単量体組成物は、化合物Ａ、Ｂおよび
Ｃを含んでなるものである。ここで「含んでなる」とい
うことは、生成重合硬化物が高屈折率および高耐衝撃性
という本発明光学材料の特徴を過度に損なわない限り、
化合物ＡおよびＣと共重合可能なエチレン性不飽和単量
体を少量、たとえば化合物Ａ＋Ｂ＋Ｃ合計１００重量部
に対して１０重量部程度まで、また適当な補助資材を、
含んでもよいことを意味する。そのような単量体として
は、メタクリル酸低級アルキル、ジビニルベンゼン、前
記公知技術に属するジ（メタ）アクリレートその他があ
りうる。そのような補助資材としては、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、染顔料、その他がある。
Ｃを含んでなるものである。ここで「含んでなる」とい
うことは、生成重合硬化物が高屈折率および高耐衝撃性
という本発明光学材料の特徴を過度に損なわない限り、
化合物ＡおよびＣと共重合可能なエチレン性不飽和単量
体を少量、たとえば化合物Ａ＋Ｂ＋Ｃ合計１００重量部
に対して１０重量部程度まで、また適当な補助資材を、
含んでもよいことを意味する。そのような単量体として
は、メタクリル酸低級アルキル、ジビニルベンゼン、前
記公知技術に属するジ（メタ）アクリレートその他があ
りうる。そのような補助資材としては、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、染顔料、その他がある。
【００５３】＜重合硬化＞エチレン性不飽和化合物では
ない化合物Ｂをも含んでなる組成物を、熱および（また
は）活性エネルギー線および（または）エチレン性不飽
和結合に対するラジカル発生剤の作用に一段であるいは
多段にわたって付すことによって、重合硬化させて、本
発明による光学材料を製造する。
ない化合物Ｂをも含んでなる組成物を、熱および（また
は）活性エネルギー線および（または）エチレン性不飽
和結合に対するラジカル発生剤の作用に一段であるいは
多段にわたって付すことによって、重合硬化させて、本
発明による光学材料を製造する。
【００５４】ここで、化合物Ａ、ＢおよびＣの重合硬化
に対する励起作用のうち「熱」は、単なる熱の加用の外
に、熱重合開始剤（詳細後記）の併用を包含するもので
あり、「活性エネルギー線」は紫外線、イオン化放射線
その他のエネルギー線の単なる加用の外に、光重合開始
剤（詳細後記）の併用を包含するものであり、また「ラ
ジカル発生剤」は上記の熱重合開始剤と重複することが
あり得て、単なる該剤の使用の外にたとえばそれが過酸
化物等の酸化剤からなるときに還元剤と組合せた所謂レ
ドックス系をなす場合を包含するものである。
に対する励起作用のうち「熱」は、単なる熱の加用の外
に、熱重合開始剤（詳細後記）の併用を包含するもので
あり、「活性エネルギー線」は紫外線、イオン化放射線
その他のエネルギー線の単なる加用の外に、光重合開始
剤（詳細後記）の併用を包含するものであり、また「ラ
ジカル発生剤」は上記の熱重合開始剤と重複することが
あり得て、単なる該剤の使用の外にたとえばそれが過酸
化物等の酸化剤からなるときに還元剤と組合せた所謂レ
ドックス系をなす場合を包含するものである。
【００５５】重合硬化工程は、単量体組成物に上記のよ
うな励起作用を印加することによって実施することがで
きる。具体的には、たとえば遊離ラジカルを発生する開
始剤を添加する公知のラジカル重合により行なわせるこ
とができるが、その生産性を向上させるために、紫外線
硬化または紫外線硬化と加熱重合とを併用するのが望ま
しい。たとえば、組成物に光重合開始剤および熱重合開
始剤を添加したものを型内に注入し、紫外線照射により
脱型するに充分な程度まで硬化させ、次いで脱型後、オ
ーブンでさらに加熱重合させる。
うな励起作用を印加することによって実施することがで
きる。具体的には、たとえば遊離ラジカルを発生する開
始剤を添加する公知のラジカル重合により行なわせるこ
とができるが、その生産性を向上させるために、紫外線
硬化または紫外線硬化と加熱重合とを併用するのが望ま
しい。たとえば、組成物に光重合開始剤および熱重合開
始剤を添加したものを型内に注入し、紫外線照射により
脱型するに充分な程度まで硬化させ、次いで脱型後、オ
ーブンでさらに加熱重合させる。
【００５６】その際に用いる光重合開始剤としては、た
とえば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ジエチルチオキサン
ソン、ジエトキシアセトフェノン、１‐ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、２，４，６‐トリメチルベ
ンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどがあげ
られる。
とえば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ジエチルチオキサン
ソン、ジエトキシアセトフェノン、１‐ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、２，４，６‐トリメチルベ
ンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどがあげ
られる。
【００５７】また、その熱重合開始剤としては、ベンゾ
イルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボ
ネート、ラウロイルパーオキサイド、ｔ‐ブチルパーオ
キシ（２‐エチルヘキサノエート）、アゾイソブチロニ
トリルなどがあげられる。
イルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボ
ネート、ラウロイルパーオキサイド、ｔ‐ブチルパーオ
キシ（２‐エチルヘキサノエート）、アゾイソブチロニ
トリルなどがあげられる。
【００５８】光重合開始剤及び熱重合開始剤の使用量
は、組成物の総重量に対して０．０１〜５％程度、好ま
しくは０．０３〜２％、の範囲である。その使用量が少
なすぎると硬化が不充分となるし、多すぎると硬化樹脂
が黄変しやすいし、かつ重合制御が困難となる。
は、組成物の総重量に対して０．０１〜５％程度、好ま
しくは０．０３〜２％、の範囲である。その使用量が少
なすぎると硬化が不充分となるし、多すぎると硬化樹脂
が黄変しやすいし、かつ重合制御が困難となる。
【００５９】本発明においては、重合硬化前の組成物に
酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加して硬化させること
ができることは前記したところである。
酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加して硬化させること
ができることは前記したところである。
【００６０】本発明により得られる光学材料は上記のよ
うな重合硬化物からなるものである。この重合硬化物は
屈折率が大きくて、その値は、１．５８〜１．６２程度
であることがふつうである。この重合硬化物のアッベ数
は、３４〜３８程度である。また、この重合硬化物は耐
衝撃強度が大きい（後記実施例参照）。さらにまた、こ
の重合硬化物は、透明性が良好である（後記実施例参
照）。
うな重合硬化物からなるものである。この重合硬化物は
屈折率が大きくて、その値は、１．５８〜１．６２程度
であることがふつうである。この重合硬化物のアッベ数
は、３４〜３８程度である。また、この重合硬化物は耐
衝撃強度が大きい（後記実施例参照）。さらにまた、こ
の重合硬化物は、透明性が良好である（後記実施例参
照）。
【００６１】このような重合硬化物からなる光学材料
は、種々の光学素子の形で利用することができる。代表
的な光学素子としては、レンズ（フレネルレンズ、棒レ
ンズ、その他の形状のものを包含するものとする）、プ
リズム、光ファイバー、ミラーその他がある。
は、種々の光学素子の形で利用することができる。代表
的な光学素子としては、レンズ（フレネルレンズ、棒レ
ンズ、その他の形状のものを包含するものとする）、プ
リズム、光ファイバー、ミラーその他がある。
【００６２】このような光学素子は、単に本発明重合硬
化物の成型物である外に、その表面にハードコート、反
射防止コートなどの表面処理を行なったものであっても
よい。
化物の成型物である外に、その表面にハードコート、反
射防止コートなどの表面処理を行なったものであっても
よい。
【００６３】
【実施例】以下の実施例および比較例は、本発明をさら
に詳述するためものである。これらの例における「部」
は、重量部を意味する。また、これらの例における樹脂
の諸物性は、下記の試験方法により測定したものであ
る。 外観 目視による。 屈折率 アツベ屈折計で、２５℃で測定した値である。 耐衝撃性 厚さ２．０mmの平板にＦＤＡ規格に基づき、鋼球（重さ
１６．３ｇ、直径１５．９mm）を高さ１２７cmより垂直
に落下させ、破損の発生がなかった場合を○、破損をし
た場合を×とした。測定温度は２５℃。 硬度 鉛筆硬度による。
に詳述するためものである。これらの例における「部」
は、重量部を意味する。また、これらの例における樹脂
の諸物性は、下記の試験方法により測定したものであ
る。 外観 目視による。 屈折率 アツベ屈折計で、２５℃で測定した値である。 耐衝撃性 厚さ２．０mmの平板にＦＤＡ規格に基づき、鋼球（重さ
１６．３ｇ、直径１５．９mm）を高さ１２７cmより垂直
に落下させ、破損の発生がなかった場合を○、破損をし
た場合を×とした。測定温度は２５℃。 硬度 鉛筆硬度による。
【００６４】実施例１ ｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルチオ）キシ
リレン７５部、ペンタエリスリトール＝テトラキス（β
‐チオプロピオネート）８部、スチレン１７部、ベンゾ
フェノン０．０５部、ｔ‐ブチルパーオキシ‐２‐エチ
ルヘキサノエート（日本油脂社商品名「パーブチル
Ｏ」）０．３部を攪拌混合し、ガラス板とシリコンゴム
とで構成された直径４０mm、厚さ２mmのペーサー内に注
入し、出力８０Ｗ／cm2 の高圧水銀灯を用いて、高さ４
０cmからガラスの片面より１回１０分ずつ、合計６回照
射した。得られた硬化物を脱型後、オーブン内で８０℃
で１時間、次いで１００℃で２時間加熱して、硬化物を
得た。その硬化物の物性測定結果は表１に示す通りであ
った。
リレン７５部、ペンタエリスリトール＝テトラキス（β
‐チオプロピオネート）８部、スチレン１７部、ベンゾ
フェノン０．０５部、ｔ‐ブチルパーオキシ‐２‐エチ
ルヘキサノエート（日本油脂社商品名「パーブチル
Ｏ」）０．３部を攪拌混合し、ガラス板とシリコンゴム
とで構成された直径４０mm、厚さ２mmのペーサー内に注
入し、出力８０Ｗ／cm2 の高圧水銀灯を用いて、高さ４
０cmからガラスの片面より１回１０分ずつ、合計６回照
射した。得られた硬化物を脱型後、オーブン内で８０℃
で１時間、次いで１００℃で２時間加熱して、硬化物を
得た。その硬化物の物性測定結果は表１に示す通りであ
った。
【００６５】実施例２〜９ 単量体組成物組成を表１に示すように変更し、そのほか
は実施例１と同様に組成物を調製し、同様にして重合硬
化させた。得られた各硬化物の物性測定結果は、表１に
示す通りであった。
は実施例１と同様に組成物を調製し、同様にして重合硬
化させた。得られた各硬化物の物性測定結果は、表１に
示す通りであった。
【００６６】比較例１ 実施例１においてｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシ
エチルチオ）キシリレン７５部、ペンタエリスリトール
＝テトラキス（β‐チオプロピオネート）８部、スチレ
ン１７部を用いる代りに、ｐ‐ビス（β‐メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）キシリレンのみを１００部用い、
そのほかは実施例１と同様にして硬化物を得た。その硬
化物の物性測定結果は表１に示すとおりであった。
エチルチオ）キシリレン７５部、ペンタエリスリトール
＝テトラキス（β‐チオプロピオネート）８部、スチレ
ン１７部を用いる代りに、ｐ‐ビス（β‐メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）キシリレンのみを１００部用い、
そのほかは実施例１と同様にして硬化物を得た。その硬
化物の物性測定結果は表１に示すとおりであった。
【００６７】比較例２ 実施例１におけるｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシ
エチルチオ）キシリレン７５部、ペンタエリスリトール
＝テトラキス（β‐チオプロピオネート）８部、スチレ
ン１７部を用いる代りに、ｐ‐ビス（β‐メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）キシリレン８０部、スチレン２０
部を用い、ペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チ
オプロピオネート）を用いず、そのほかは実施例１と同
様にして硬化物を得た。
エチルチオ）キシリレン７５部、ペンタエリスリトール
＝テトラキス（β‐チオプロピオネート）８部、スチレ
ン１７部を用いる代りに、ｐ‐ビス（β‐メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）キシリレン８０部、スチレン２０
部を用い、ペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チ
オプロピオネート）を用いず、そのほかは実施例１と同
様にして硬化物を得た。
【００６８】比較例３ 実施例１におけるｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシ
エチルチオ）キシリレン７５部の代りに、同化合物を４
０部、またペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チ
オプロピオネート）８部の代りに、同化合物を４３部を
用い、そのほかは実施例１と同様に組成物を調製し、同
様にして重合硬化を行なわせた。得られた硬化物は非常
に柔らかくて、レンズ用樹脂として用いることができな
かった。
エチルチオ）キシリレン７５部の代りに、同化合物を４
０部、またペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チ
オプロピオネート）８部の代りに、同化合物を４３部を
用い、そのほかは実施例１と同様に組成物を調製し、同
様にして重合硬化を行なわせた。得られた硬化物は非常
に柔らかくて、レンズ用樹脂として用いることができな
かった。
【００６９】
【表１】
【００７０】Ａ：ｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシ
エチルチオ）キシリレン Ｂ：ｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルオキシ
エチルチオ）キシリレン Ｃ：α，α′‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチル
チオ）‐２，３，５，６‐テトラクロロ‐ｐ‐キシリレ
ン Ｄ：ペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チオプロ
ピオネート） Ｅ：トリス〔２（β‐チオプロピオニルオキシ）エチ
ル〕トリイソシアヌレート Ｆ：４，４′‐ジメルカプトジフェニルスルフィド Ｇ：スチレン Ｈ：ｐ‐クロロスチレン Ｉ：２，４‐ジブロモスチレン Ｊ：ベンゾフェノン Ｋ：ｔ‐ブチルパーオキシ‐２‐エチルヘキサノエート
エチルチオ）キシリレン Ｂ：ｐ‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチルオキシ
エチルチオ）キシリレン Ｃ：α，α′‐ビス（β‐メタクリロイルオキシエチル
チオ）‐２，３，５，６‐テトラクロロ‐ｐ‐キシリレ
ン Ｄ：ペンタエリスリトール＝テトラキス（β‐チオプロ
ピオネート） Ｅ：トリス〔２（β‐チオプロピオニルオキシ）エチ
ル〕トリイソシアヌレート Ｆ：４，４′‐ジメルカプトジフェニルスルフィド Ｇ：スチレン Ｈ：ｐ‐クロロスチレン Ｉ：２，４‐ジブロモスチレン Ｊ：ベンゾフェノン Ｋ：ｔ‐ブチルパーオキシ‐２‐エチルヘキサノエート
【００７１】
【発明の効果】本発明による特定の単量体組成物の重合
硬化物からなる光学材料が高屈折率で高耐衝撃性のもの
であることは〔発明の概要〕の項において前記したとこ
ろである。
硬化物からなる光学材料が高屈折率で高耐衝撃性のもの
であることは〔発明の概要〕の項において前記したとこ
ろである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亘 文 恵 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】下記の化合物Ａ、ＢおよびＣを含んでなる
組成物を熱および（または）活性エネルギー線および
（または）エチレン性不飽和結合に対するラジカル発生
剤の作用に付すことによって重合硬化させてなる樹脂か
らなる高屈折率光学材料。 （式中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を示す。Ｒ２
は、炭素数１〜６のアルキレン基を示す。Ａｒは、炭素
数がいずれも６〜３０であるアリーレン基、アラルキレ
ン基、またはフッ素を除くハロゲン原子で置換されたそ
れらの基を示す。Ｘ０は、−Ｏ−または−Ｓ−を示す。
Ｙは、Ｘ０が−Ｏ−を示す場合には−Ｓ−または−ＳＯ
２−を示し、Ｘ０が−Ｓ−を示す場合には−Ｓ−、−Ｓ
Ｏ２−、−ＣＯ−、または炭素数がいずれも１〜１２で
あるアルキレン基、アラルキレン基、アルキレンエーテ
ル基、アラルキレンエーテル基、アルキレンチオエーテ
ル基およびアラルキレンチオエーテル基から選ばれた基
を示す。ｍおよびｎは、それぞれ１〜５の整数を示す。
ｐは、０〜１０の数を示す。複数個存在する基は、同一
でも異なってもよい。） （式中、Ｒ３は、−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２−を
示す。Ｒ４は、炭素数がいずれも２〜１５の炭化水素残
基またはアルキルエーテル残基を示す。ｑは、２〜６の
整数を示す。複数個存在する基は同一でも異なってもよ
い。） 【化１】 【化２】 （式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ同一または異なる
炭素数１〜３のアルキレン基を示す。ｄおよびｅはそれ
ぞれ０または１、ｆは１または２を示す。複数個存在す
る基は、同一でも異なってもよい。） Ｃ．下記一般式〔Ｖ〕で示されるスチレン化合物 １〜４９重量％ 【化３】 （式中、Ｒ５は、水素原子またはメチル基を示し、Ｘ２
はフッ素を除くハロゲン原子、ｚは０または１〜５の整
数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよ
い。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4010129A JPH05194672A (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | 高屈折率光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4010129A JPH05194672A (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | 高屈折率光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05194672A true JPH05194672A (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=11741678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4010129A Pending JPH05194672A (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | 高屈折率光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05194672A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0632843A (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-08 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 高屈折率レンズ用樹脂の製造法 |
| JPH09152510A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-06-10 | Mitsubishi Chem Corp | 低複屈折光学部材及びその製造方法 |
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