JPH11140130A

JPH11140130A - 近赤外線吸収体

Info

Publication number: JPH11140130A
Application number: JP9310368A
Authority: JP
Inventors: Kazuhisa Miyashita; 和久宮下; Akihiko Sakai; 昭彦坂井; Tetsuya Kubota; 哲哉久保田; Tomomi Nakano; 智美中野
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-11-12
Filing date: 1997-11-12
Publication date: 1999-05-25
Anticipated expiration: 2017-11-12
Also published as: JP3887913B2

Abstract

(57)【要約】【課題】近赤外線吸収能、可視光線透過性、あるいは
リタデーション値等に優れた近赤外線吸収体を提供す
る。【解決手段】近赤外線吸収剤を含む光硬化樹脂組成物
よりなり、４００〜７００ｎｍの可視光線透過率が５０
％以上、８００〜１，０００ｎｍの近赤外線透過率が１
０％以下であることを特徴とする近赤外線吸収体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、近赤外線吸収能、
可視光線透過性に優れた近赤外線吸収体に関する。この
近赤外線吸収体はシートとして、近赤外線を遮断するフ
ィルターなどに好適に使用することができる。

【０００２】

【従来の技術】透明樹脂に近赤外線吸収能を持つ物質を
配合してなる近赤外線吸収透明樹脂組成物に関する発明
としては種々のものが知られている。例えば、特開平６
−２４０１４６号公報には、ポリカーボネート系樹脂、
（メタ）アクリル樹脂等の透明樹脂にフタロシアニン化
合物を配合した組成物が開示されている。また、特開平
６−２５６５４１号公報には、ポリカーボネート系樹
脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の透明樹脂にア
ントラキノン系化合物を配合した組成物から成る成形フ
ィルムが開示されている。更に、特開平７−１７９６５
６号公報には、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン
等の透明樹脂に、硫化鉛、チオ尿素誘導体を配合した組
成物が開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】以上のような従来から
の近赤外線吸収性の樹脂組成物では、透明樹脂に対して
近赤外線吸収剤を高温で溶融混練するため、耐熱性に乏
しい近赤外線吸収剤が使用できないという問題点があ
る。また、透明樹脂として使用される通常の熱可塑性樹
脂では、一般的に、ガラス基材と比較して、軽量性や加
工性において優れている面があるが、光学特性において
性能が十分でないという問題がある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記問題
点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の近赤外線吸収
剤を含む光硬化樹脂体が、近赤外線吸収能に優れるほ
か、一般に要求される諸物性、特に光学特性に優れてい
ること、更には低温成形が可能であることを見出し、本
発明を完成するに至ったものである。

【０００５】即ち、本発明は、近赤外線吸収剤を含む光
硬化樹脂組成物よりなり、４００〜７００ｎｍの可視光
線透過率が５０％以上、８００〜１，０００ｎｍの近赤
外線透過率が１０％以下であることを特徴とする近赤外
線吸収体に存する。

【０００６】

【発明の実施の形態】（Ａ）光硬化樹脂本発明の近赤外線吸収性体を構成する光硬化性樹脂は、
紫外線等の照射によって硬化する樹脂である。具体的に
は、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート
化合物よりなる樹脂組成物、このアクリレート化合物と
チオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成
物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等
のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶融せし
めた樹脂組成物等が挙げられるがこれらに限定されるも
のではない。

【０００７】このうち、式（１）で示される含イオウビ
ス（メタ）アクリレート及び式（２）で示される脂環骨
格ビス（メタ）アクリレートより選ばれる少なくとも１
種のビス（メタ）アクリレートよりなる組成物が耐薬品
性、剛性等の面で好ましい。なお「（メタ）アクリレー
ト」は、アクリレートないしメタクリレートを総称する
ものである。

【０００８】

【化６】

【０００９】［式（１）中、Ｒ¹ 及びＲ² は、互に異っ
ていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ³ は炭
素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を有していてもよ
い炭素数１〜６の炭化水素基、好ましくは炭素数２〜４
のアルキレン基を示す。Ｒ4 は炭素鎖中に酸素原子及び
／又は硫黄原子を有していてもよい炭素数１〜６の炭化
水素基、好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基を示
す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は
炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、ａは０〜４の整数
を示す。但しａが２以上の整数の場合には、複数のＸは
互に異っていてもよい。］式（１）で示される化合物のいくつかを例示すれば、次
の通りである。ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエ
チルチオメチル）ベンゼン、ｐ−ビス（β−アクリロイ
ルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｍ−ビス（β−
メタクリロイルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｍ
−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオメチル）ベ
ンゼン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルオ
キシエチルチオメチル）ベンゼン、ｐ−ビス（β−メタ
クリロイルオキシエチルチオエチルチオメチル）ベンゼ
ン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオメ
チル）テトラブロムベンゼン、ｍ−ビス（β−メタクリ
ロイルオキシエチルチオメチル）テトラクロロベンゼ
ン。これらの化合物は、例えば、特開昭６２−１９５３
５７号公報に開示されている方法で合成することができ
る。

【００１０】

【化７】

【００１１】［式（２）中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は、互に異っ
ていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。ｂは１又
は２を示し、ｃは０又は１を示す。］式（２）で示される化合物のいくつかを例示すれば、次
の通りである。ビス（オキシメチル）トリシクロ〔５．
２．１．０^2．６〕デカン＝ジアクリレート、ビス（オ
キシメチル）トリシクロ〔５．２．１．０^2．６〕デカ
ン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシク
ロ〔５．２．１．０^2．６〕デカン＝アクリレートメタ
クリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ〔６．
５．１．１^3.6．０^2.7．０^9.13〕ペンタデカン＝ジアク
リレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ〔６．
５．１．１^3.6．０^2.7．０^9.13〕ペンタデカン＝ジメタ
クリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ〔６．
５．１．１^3.6．０^2.7．０^9. ¹³〕ペンタデカン＝アクリ
レートメタクリレート。これらの化合物は、例えば、特
開昭６２−２２５５０８号公報に開示されている方法で
合成することができる。

【００１２】以上の式（１）及び式（２）で示される
（メタ）アクリレートは、単独もしくは２種以上を併用
して用いることができる。式（１）の化合物を単独で用
いる場合、本発明により得られる低複屈折板の屈折率
は、ナトリウムのＤ線（５８９．３ｍｍ）において室温
で１．５４〜１．６５となり、高屈折率を有する。また
式（２）の化合物を単独で用いる場合は比較的低い屈折
率１．４７〜１．５１となる。従って、式（１）及び式
（２）で示される化合物を２種以上併用することによ
り、１．４７〜１．６５の間で所望の屈折率を有する低
複屈折板を得ることができる。

【００１３】光硬化樹脂は、上記ビス（メタ）アクリレ
ートを、単独で重合させて使用することができるが、下
記の式（３）、（４）及び（５）で示される分子内に２
個以上のチオール基を有するメルカプト化合物より選ば
れる少なくとも１種のメルカプト化合物をビス（メタ）
アクリレート８０〜９９．１重量部に対して、０．１〜
２０重量部、より好ましくは１〜１５重量部、更に好ま
しくは５〜１０重量部配合することにより複屈折の低
減、適度の靱性を付与することができる。メルカプト化
合物が２０重量部を超えると耐熱性が低くなるのであま
り好ましくない。

【００１４】

【化８】

【００１５】［式（３）中、複数のＲ⁷ は互に異ってい
てもよく、それぞれメチレン基又はエチレン基を示す。
Ｒ⁸ は炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を含んで
いてもよい炭素数２〜１５、好ましくは２〜６の炭化水
素残基を示す。ｄは２〜６の整数を示す。］即ち、式（３）で示される化合物は、チオグリコール酸
又はチオプロピオン酸とポリオールとのジエステル〜ヘ
キサエステルである。そのいくつかを例示すると、ペン
タエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレ
ート）、トリメチロールプロパントリス（β−チオプロ
ピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグ
リコレート）、ジエチレングリコールビス（β−チオプ
ロピオネート）、ジエチレングリコールビス（チオグリ
コレート）、トリエチレングリコールビス（β−チオプ
ロピオネート）、トリエチレングリコールビス（チオグ
リコレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（β
−チオプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキ
サキス（チオグリコレート）などが挙げられる。

【００１６】

【化９】

【００１７】［式（４）中、Ｙは互に異っていてもよ
く、ＨＳ−（ＣＨ₂ ）e −（ＣＯ）（ＯＣＨ₂ −ＣＨ
₂ ）f −（ＣＨ₂ ）g −を示す。但しｅは１〜４の整
数、ｆは１〜４の整数、ｇは０〜２の整数をそれぞれ示
す。］すなわち、式（４）の化合物はω−ＳＨ基含有トリイソ
シアヌレートである。そのいくつかを例示すると、トリ
ス〔２−（β−チオプロピオニルオキシ）エチル〕イソ
シアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、トリス〔２−（β−チオプロピ
オニルオキシエトキシ）エチル〕イソシアヌレート、ト
リス（２−チオグリコニルオキシエトキシエチル）イソ
シアヌレート、トリス〔３−（β−チオプロピオニルオ
キシ）プロピル〕イソシアヌレート、トリス（３−チオ
グリコニルオキシプロピル）イソシアヌレートなどが挙
げられる。

【００１８】

【化１０】

【００１９】［式（５）中、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は、互に異っ
ていてもよく、炭素数１〜３の炭化水素基を示す。ｍ及
びｎはそれぞれ０又は１を示す。ｐは１又は２を示
す。］すなわち、式（５）の化合物はα，ω−ＳＨ基含有化合
物である。そのいくつかを例示すると、ベンゼンジメル
カプタン、キシリレンジメルカプタン、４，４′−ジメ
ルカプトジフェニルスルフィドなどが挙げられる。

【００２０】また、以上の光硬化樹脂の重合の際に用い
る他の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリ
レート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシ
メチルテトラシクロドデカン、メタクリロイルオキシメ
チルテトラシクロドデセン、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アク
リレート、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオ
キシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２′−ビス
［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘ
キシル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキ
シメチル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び（又は）側鎖置換及び非置
換スチレンなどが挙げられる。これらの他の単量体の中
でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、２，
２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）
フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メタク
リロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、
１，４−ビス（メタクリロイルオキシメチル）シクロヘ
キサン、及びこれらの混合物が特に好ましい。更に、こ
れらには少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、充
填剤等を含んでいてもよい。

【００２１】以上のようなビス（メタ）アクリレート又
はビス（メタ）アクリレートとメルカプト化合物との混
合物は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカルを
発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合に
より硬化させる。その際に用いる光重合開始剤として
は、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセ
トフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光開
始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノンである。こ
れら光重合開始剤は２種以上を併用してもよい。

【００２２】光重合開始剤の添加量は、モノマー１００
重量部に対し０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２
〜０．３重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎ
ると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけ
でなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を充分
に硬化させることができなくなる。照射する活性エネル
ギー線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生する範囲
であれば任意であるが、極端に少ない場合は重合が不完
全なため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現され
ず、逆に極端に過剰な場合には硬化物の黄変等の光によ
る劣化を生じるので、モノマーの組成及び光重合開始剤
の種類、量に合わせて２００〜４００ｎｍの紫外線を好
ましくは０．１〜２００Ｊの範囲で照射する。使用する
ランプの具体例としては、メタルハライドランプ、高圧
水銀灯ランプ等を挙げることができる。

【００２３】硬化をすみやかに完了させる目的で、熱重
合を併用してもよい。即ち、光照射と同時に組成物並び
に型全体を通常３０〜３００℃の範囲で加熱する。この
場合は重合をよりよく完結するためにラジカル重合開始
剤を添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大と色
相の悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例としてはベ
ンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカー
ボネート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノ
エート）等が挙げられ、使用量はモノマー１００重量部
に対して１重量部以下が好ましい。

【００２４】更に、光照射によるラジカル重合を行った
後、硬化物を加熱することにより重合反応の完結及び重
合時に発生する内部歪を低減することも可能である。加
熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度に合わせて適
宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色相悪化をもた
らすため、ガラス転移温度付近かそれ以下の温度が好ま
しい。

【００２５】光硬化樹脂シートの成形方法は、少なくと
も一面が活性エネルギー線を透過可能な２枚の相対する
平板（以下「成形型」という。）を用いスペーサー等に
よりキャビティを形成させ周辺部をシールしてなる注入
型に光硬化樹脂を注入し、活性エネルギー線を照射して
光硬化樹脂を硬化させる。成形型の材質は、硬化後のシ
ートの表面から、好ましくは研磨ガラスを用い、光硬化
性樹脂を硬化させるに充分な活性エネルギー線の透過性
を持ち、熱等により容易にその形状を変形させないもの
であればよい。また、研磨ガラスと同等な表面性を得ら
れるアクリル板等のプラスチック等が挙げられる。

【００２６】また、必要により成形型上に剥離剤等の塗
布、又は剥離層を設け硬化後の光硬化性樹脂シートを成
形型より除去し易くする処理を行うこともできる。用い
る剥離剤、剥離層、その塗布、については特に限定する
ものではないが、光硬化樹脂を硬化させるに充分な活性
エネルギー線の透過性を持つ物質であり、更に、光硬化
性樹脂を硬化させるための活性エネルギー線や、硬化時
に発生する熱等により容易にその形成状態を変形しない
物質であり、ガラス表面並の平面性が得られる物質であ
ればよい。

【００２７】活性エネルギー線は光硬化樹脂を硬化させ
るものであり、例えば、紫外線等が挙げられる。活性エ
ネルギー線の照射量は用いる光硬化樹脂を硬化させる量
であればよい。キャビティを形成させるスペーサー等に
ついては、特に限定しないが、所望のシート厚さが得ら
れるものであればよい。例えば、シリコンゴム等のゴム
製、金属製の板もしくは棒状、テフロン等の樹脂製の板
もしくは棒状が挙げられる。

【００２８】なお、以上の光硬化樹脂には、一般に公知
である添加剤、例えば、フェノール系、燐系等の酸化防
止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合すること
ができる。光硬化樹脂シートの厚さは０．１〜２．０ｍ
ｍの範囲が好ましい。０．１ｍｍ未満では層が自重によ
りたわみ易く、平坦性に劣る傾向があり、２．０ｍｍを
超えると従来の１．５〜０．７ｍｍのガラス基板と同じ
重量となり、軽量化の目的からはずれてしまう。

【００２９】また、光硬化樹脂シートの光学特性として
は、複屈折率が２０ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下である
ことが好ましい。２０ｎｍよりも大きいと、該シートを
を表示装置などで利用した場合に表示画面の色ムラが生
じる傾向がある。また、光硬化樹脂シートのリターデー
ション値（Ｒ値）は、好ましくは２０ｎｍ以下、特に好
ましくは１０ｎｍ以下である。２０ｎｍを超えると表示
画面の表示斑を生じる傾向がある。

【００３０】更に、光硬化樹脂シートの表面粗度（Ｒａ
値）は、０．０５μｍ以下であることが好ましい。０．
０５μｍを超える表示画面のに表示ムラが生じてしまう
傾向がある。また、該シートに他の層を積層する際の積
層表面が乱れて上記光学的特性を悪化させる傾向がある
があるので好ましくない。（Ｂ）近赤外線吸収剤本発明の近赤外線吸収体は、波長領域８００〜１１００
ｎｍの近赤外線透過率が１０％以下、好ましくは８％以
下である。この近赤外線吸収能を付与するための方法と
しては、近赤外線吸収剤を光硬化樹脂に配合するか、も
しくは、近赤外線吸収剤を光硬化モノマー等よりなる反
応混合物中に添加して光硬化させる方法がある。光硬化
樹脂組成物中の近赤外線吸収剤の含有量は、近赤外線吸
収体の形状や吸収剤の種類等で大きく変化するが、上記
の光学特性を維持できる広い範囲であり、通常０．００
１〜２０重量％、０．０１〜１０重量％である。なお、
光硬化樹脂は、一般的に通常の熱可塑性樹脂よりも比較
的低温で成形できるので、熱に対して不安定な近赤外線
吸収剤も使用することが可能である。

【００３１】近赤外線吸収剤としては、イモニウム系化
合物、ジイモニウム系化合物、又はアルミニウム塩系化
合物を使用するのが好ましいが、他の近赤外線吸収剤を
併用してもよい。このような近赤外線吸収剤としては、
有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シア
ニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッ
ケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリ
ルメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキ
ノン系化合物、またはアミノ化合物、あるいは無機物質
であるカーボンブラックや、酸化アンチモン、または酸
化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４、５また
は６族に属する金属の酸化物、若しくは炭化物、または
ホウ化物等が挙げられる。この場合、波長領域８００〜
１１００ｎｍの近赤外線透過率が１０％以下となるよう
に上記化合物を適宜組み合わせて使用することができ
る。

【００３２】上記イモニウム系化合物、及びジイモニウ
ム系化合物としては、例えば下記式で表される化合物が
挙げられる。イモニウム系化合物或いはジイモニウム系化合物

【００３３】

【化１１】

【００３４】

【化１２】

【００３５】

【化１３】

【００３６】

【化１４】

【００３７】上記アルミニウム塩系化合物としては、例
えば下記の式で表される化合物が挙げられ、式中のＸの
具体例としては、六フッ化アンチモン酸イオン、過塩素
酸イオン、フッ化ホウ素酸イオン、六フッ化砒素酸イオ
ン、過ヨウ素酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、、塩
素イオン等が挙げられる。アルミニウム塩系化合物

【００３８】

【化１５】

【００３９】（Ｃ）積層体の構成本発明の赤外線吸収体は、通常、近赤外線吸収を含む光
硬化樹脂シートとして使用し、必要に応じて、電磁波シ
ールド層、傷付き防止層、あるいは光線反射防止層など
の任意層を積層してもよい。また、透明ガラス、光硬化
性樹脂、あるいはポリエステル樹脂、ポリカーボネート
系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、脂環
式オレフィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル等の通常の熱可塑性透明樹脂層を積層し
てもよい。積層の方法は公知の積層方法を採用すればよ
く、勿論、各層の間に接着層を介在させてもよい。

【００４０】上記の電磁波シールド層としては、金属、
あるいは金属酸化物等で可視光線を透過しうるものであ
れば、いかなるものであってもよい。好ましくは、酸化
スズ、酸化インジウムドープ酸化スズ（以下「ＩＴＯ」
という。）、アンチモンドープ酸化スズ（以下「ＡＴ
Ｏ」という。）、銀が挙げられる。電磁波シールド層を
形成する金属、あるいは金属酸化物は、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、
プラズマ化学蒸着法等の方法により基板上に形成するこ
とができる。あるいは、金属ペーストを基板上にコーテ
ィングすることにより形成することもできる。電磁波シ
ールド層の膜厚は、要求される物性、用途などにより異
なるが、透明性の観点から２０〜３００ｎｍの範囲とす
るのが好ましい。

【００４１】上記の傷付き防止層は、ポリウレタンアク
リレート、エポキシアクリレートなどのアクリレートあ
るいは多官能アクリレート、光重合開始剤、および有機
溶剤を主成分とするコート剤により形成される。傷付き
防止層は、上記コート剤の塗工液をディッピング法、フ
ローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコ
ート法、ロールコート法、ブレードコート法及びエアー
ナイフコート法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥
させ、さらに活性エネルギー線を照射することにより塗
工したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成さ
れる。前記活性エネルギー線としては、キセノンラン
プ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ
等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２
０００ｋｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、
α線、β線、γ線等を用いることができる。このように
して形成される傷付き防止層は、通常１〜５０μｍ、好
ましくは３〜２０μｍの厚みとする。

【００４２】上記の光線反射防止層は、比較的低屈折率
である酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、フッ
化マグネシウム、フッ化カルシウム、酸化アルミニウム
等、あるいは反射防止コーティング剤（例えば旭硝子
（株）製；商品名「サイトップ」等）を用いて形成され
る。これらのものを一層、あるいは２種類以上を組み合
わせて多層設け、反射防止層を形成する。反射防止層の
形成方法としては、金属アルコキシドを塗布後に焼成す
る方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法、あるいは
ロールコート法、ディッピング法等が挙げられる。この
反射防止層は、透明積層体の最表面に設けられることが
好ましい。また反射防止層の厚みは、通常５０〜１００
ｎｍであり、積層の順序は特に限定されないが、反射防
止層を最表面に設けられることが好ましい。

【００４３】積層体の具体例としては、近赤外線吸収
剤入り層光硬化樹脂層、近赤外線吸収剤入り光硬化樹
脂層／傷付き防止層／電磁波シールド層／光線反射防止
層、近赤外線吸収剤入り光硬化樹脂層／電磁波シール
ド層／傷付き防止層／光線反射防止層、近赤外線吸収
剤入り光硬化樹脂層／傷付き防止層／電磁波シールド層
／光線反射防止層、近赤外線吸収剤入り光硬化樹脂層
／ポリエステル樹脂層／電磁波シールド層／傷付き防止
層／光線反射防止層などがあり、かかる具体例において
も接着層を設ける場合もある。

【００４４】

【実施例】以下に実施例により本発明の具体的な態様を
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、これらの実施例によって限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、近赤外線透過率は、分光
光度計（ＢＩＯ−ＲＡＤ社製：ＦＴＳ−６０Ａ型）を、
可視光線透過率は、分光光度計（島津製作所（株）製：
ＭＰＳ−２０００型）を、またリターデーション値は自
動複屈折測定装置（オーク製作所製、ＡＤＲ−１５０
Ｎ）を用いて測定を行った。実施例１光学研磨ガラス平板（縦３１０ｍｍＸ横４１０ｍｍＸ厚
さ５ｍｍ）を用いて、スペーサーとして幅５ｍｍ、厚さ
１ｍｍのシリコン板を用いてキャビティを形成させ、周
辺部をテープでシールして注入型を形成した。光硬化性
樹脂としてｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチル
チオ）キシレン９９重量部、ペンタエリスリトールテト
ラキス（β−チオプロピオネート）１重量部、光開始剤
として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィノキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」０．
０５重量部、ベンゾフェノン０．０２重量部、日本触媒
社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フ
タロシアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収
剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量部を均
一に撹拌混合した後、脱泡して組成物を得た。この組成
物を注入型に注入し、ガラス面より距離４００ｍｍで上
下にある出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプの間
にて、３０分間紫外線を照射して硬化させた。注入型を
除去し光硬化性樹脂よりなる透明基板を得た。得られた
光硬化性樹脂よりなる透明基板は、縦３００ｍｍＸ横４
００ｍｍＸ厚さ１ｍｍ、リターデーション値（Ｒ値）５
ｎｍであった。

【００４５】得られた成形品の近赤外線透過率を分光光
度計（ＢＩＯ−ＲＡＤ社製ＦＴＳ−６０Ａ型）で測定し
た結果、８００ｎｍ〜１，０００ｎｍの平均透過率は２
％であった。また、分光光度計（島津社製ＵＶ−２２０
０型）で測定した結果、可視光線平均透過率は８０％で
あった。実施例２実施例１において、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イー
エクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量
部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」
（ジイモニウム系）４重量部を、日本感光色素研究所製
近赤外線吸収剤「ＮＫ−３０２７」（ベンゾピリリウム
系）２重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−
０２２」（ジイモニウム系）１重量部、日本触媒社製近
赤外線吸収剤「イーエクスカラー９０１Ｂ」（フタロシ
アニン系）２重量部得られた成形品の近赤外線平均透
過率は８％、可視光線平均透過率は８５％であった。実施例３実施例１において、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イー
エクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量
部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」
（ジイモニウム系）４重量部を、日本触媒社製近赤外線
吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン
系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−
００２」（アミニウム系）４重量部に変更した以外は、
同例と同様に実施し、成型品を得た。得られた成形品の
近赤外線平均透過率は３％、可視光線平均透過率は７５
％であった。比較例１三菱レーヨン社製ポリメタクリル酸メチルアクリペット
「ＶＨ５」１００重量部に、日本感光色素研究所社製近
赤外線吸収剤ＮＫ−３０２７（ベンゾピリリウム系）２
重量部、ＮＫＸ−１２４（シアニン系）１重量部、日本
化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニ
ウム系）２重量部を添加し、４０ｍｍ径の単軸押出機で
混練し、透明樹脂組成物を得た。得られた組成物を、射
出成形機（日本製鋼所製Ｊ−１５０）にて成形し、１０
０ｍｍ□×２ｍｍｔのシート状成形体を得た。

【００４６】得られた成形体に、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペン
タアクリレートの混合物（日本化薬社製「カラヤッドＤ
ＰＨＡ」）の４０％メチルエチルケトン溶液１００部
に、ベンジルジメチルケタール０．２部を混合したハー
ドコート剤を、バーコーター＃２０で塗工し、実施例１
と同様に紫外線硬化させた。

【００４７】得られた成形体の近赤外線平均透過率は２
０％、可視光線平均透過率は５０％であった。比較例２実施例１において、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イー
エクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量
部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」
（ジイモニウム系）４重量部をなくした以外は、同例と
同様に実施し、成型品を得た。

【００４８】得られた成形体の近赤外線平均透過率は９
０％、可視光線平均透過率は９０％であった。

【００４９】

【発明の効果】本発明の近赤外線吸収体は近赤外線吸収
能に特に優れているほか、可視光線透過性、あるいはリ
タデーション値等に代表される光学特性に優れている。
また、耐衝撃性、耐薬品性及び剛性などに優れていると
もに、軽量で取扱いやすい。本発明の近赤外線吸収体体
は、近赤外線を遮断するフィルター、具体的にはプラズ
マデイスプレイのような画像表示装置のフィルター、窓
ガラス、褪色保護シート、サングラス、保護眼鏡、リモ
コン受光器などに好適に使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中野智美三重県四日市市東邦町１番地三菱化学株式会社四日市事業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】近赤外線吸収剤を含む光硬化樹脂組成物
よりなり、４００〜７００ｎｍの可視光線透過率が５０
％以上、８００〜１，０００ｎｍの近赤外線透過率が１
０％以下であることを特徴とする近赤外線吸収体。
【請求項２】下式（１）及び（２）より選ばれた少な
くとも１種のビス（メタ）アクリレートを含んでなる組
成物を活性エネルギー線により硬化させて成形したシー
トからなることを特徴とする請求項１記載の近赤外線吸
収性吸収体。【化１】［式（１）中、Ｒ¹ 及びＲ² は、互に異っていてもよ
く、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ³ 及びＲ⁴ は、互
に異っていてもよく、炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫
黄原子を有していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基を
示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基及
び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれた置換基を示
し、ａは０〜４の整数を示す。但しａが２以上の整数の
場合には、複数のＸは互に異っていてもよい。］【化２】［式（２）中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は、互に異っていてもよ
く、水素原子又はメチル基を示す。ｂは１又は２を示
し、ｃは０又は１を示す。］
【請求項３】式（１）及び（２）より選ばれた少なく
とも１種のビス（メタ）アクリレート８０〜９９．９重
量部と下式（３）、（４）及び（５）より選ばれた少な
くとも１種のメルカプト化合物０．１〜２０重量部とを
含んでなる組成物を活性エネルギー線により硬化させて
成形したシートからなることを特徴とする請求項２記載
の近赤外線吸収体。【化３】［式（３）中、複数のＲ⁷ は互に異っていてもよく、そ
れぞれメチレン基又はエチレン基を示す。Ｒ⁸ は炭素鎖
中に酸素原子及び／又は硫黄原子を含んでいてもよい炭
素数２〜１５の炭化水素残基を示す。ｄは２〜６の整数
を示す。］【化４】［式（４）中、Ｙは互に異っていてもよく、ＨＳ−（Ｃ
Ｈ₂ ）e −（ＣＯ）（ＯＣＨ₂ −ＣＨ₂ ）f −（ＣＨ
₂ ）g −を示す。但しｅは１〜４の整数、ｆは１〜４の
整数、ｇは０〜２の整数をそれぞれ示す。］【化５】［式（５）中、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は、互に異っていてもよ
く、炭素数１〜３の炭化水素基を示す。ｍ及びｎはそれ
ぞれ０又は１を示す。ｐは１又は２を示す。］
【請求項４】近赤外線吸収剤が、イモニウム系化合
物、ジイモニウム系化合物及びアミニウム塩系化合物の
いずれかから選ばれる近赤外線吸収剤であることを特徴
とする請求項１ないし３のいずれかに記載の近赤外線吸
収体。
【請求項５】シートの厚さが０．１〜２．０ｍｍであ
ることを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載
の近赤外線吸収体。
【請求項６】シートの複屈折率が２０ｎｍ以下である
ことを特徴とする請求項２ないし５のいずれかに記載の
近赤外線吸収体。