JPH05196149A

JPH05196149A - 磁性流体シール装置

Info

Publication number: JPH05196149A
Application number: JP4029985A
Authority: JP
Inventors: Hiromi Kumagai; 浩洋熊谷; Katsuhiko Kosogi; 克彦小曽木
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Priority date: 1992-01-21
Filing date: 1992-01-21
Publication date: 1993-08-06

Abstract

(57)【要約】【目的】塑性流動をもたせた磁性流体を用いた磁性流
体シール装置を提供する。【構成】２つの空間、例えば低圧雰囲気８と高圧雰囲
気１０との間をシールすべく、マグネット５４とポール
ピース５６とを交互に多段に設けた磁性流体シール装置
において、この磁性流体シール部６２の全体に磁性流体
６４を、隙間や空間を生ぜしめることなく連続的に充填
する。これにより、塑性流動現象を生ぜしめて、ずり速
度がゼロの場合でも一定のずり応力を発生させて気密シ
ールを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁性流体シール装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、磁性流体を回転軸の密封に応用
した密封機構、すなわち磁性流体シール装置は広く知ら
れている。この磁性流体は、図１３及び図１４に示すよ
うに粒径１００〜２００Åの例えばフェライト系の酸化
鉄よりなる磁性粉２に、オレイン酸などの界面活性剤４
を吸着させて、これを例えば水や不揮発性の液体６に溶
かし込んで形成されている。上記界面活性剤４の弾性反
発力により、磁性粉同士が合体して凝集することが防止
され、また、この活性剤により磁性粉と周囲の液体とを
つなぐなじみの役割が果たされている。そして、このよ
うな磁性粉に磁界をかけると、磁界の強度に応じてコロ
イド状の磁性粉が集まり、ずり応力等の種々の特性を示
すようになる。このずり応力とは、このコロイド状の磁
性粉が接触している物体が僅かに動き出す時にそのずれ
方向に反発するように発生する力を言い、一般的にはず
り速度ゼロのときはずり応力もゼロであり、ずり速度が
大きくなるに従ってずり応力も大きくなる。

【０００３】このような磁性流体を用いた磁性流体シー
ル装置として、特開昭５９−２３１２７０号公報に開示
されたものがある。この装置は、図１５に示すように、
２つの空間、例えば低圧雰囲気８と高圧雰囲気１０との
間に耐差圧を保持する目的で複数個の永久磁石１２Ａ、
１２Ｂ、１２Ｃ及びヨークとしてのポールピース１４
Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄとを交互に配置している。
そして、駆動軸１６とポールピース１４Ａ〜１４Ｄとの
間に複数個の間隙を確保し、この間隙に前記永久磁石１
２Ａ〜１２Ｃの磁束によって、磁性流体１６Ａ〜１６Ｄ
を保持するように構成している。保持された磁性流体に
よりシール部が形成され、隣接するシール部間に空間１
８Ａ〜１８Ｃが形成される。更に、低圧雰囲気８側に近
い第１段目の空間１８Ａと、低圧雰囲気８とを連通させ
る狭い流通部２０を前記ポールピース１４Ａに形成して
いる。この流通部２０を形成することにより、空間１８
Ａと低圧雰囲気８との間の差圧が、第１段目の磁性流体
１６Ａにより形成されるシール部の耐圧よりも大きくな
ることを防止している。

【０００４】一方、流通部２０が存在しない場合には、
空間１８Ａ及び低圧雰囲気８の差圧力が大きくなる場合
があり、第１段目の磁性流体１６Ａが一旦破壊された際
に、その流体が低圧雰囲気８側に飛散してしまう。従っ
て、上記公報の発明においては、第１段目の磁性流体１
６Ａが低圧雰囲気８内に飛散してその雰囲気を汚染する
という弊害を防止できるとしている。同様な技術が、特
開昭５９−１６４４６０号公報にも開示されている。一
方、特公平３−９３４６号公報では、空間１８Ａ内の気
圧と低圧雰囲気８内の気圧とを略等しくするように、空
間１８Ａ内を排気する排気手段を備えた装置が開示され
ている。これと同種の技術として、特開昭６１−２３６
９７１号公報には、空間１８Ａ内の圧力を、第１段目の
磁性流体１６Ａのシール部の耐圧に比べて小さい圧力に
排気する排気手段を備えた技術が開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開昭５９−２３１２
７０号公報によれば、低圧雰囲気８と高圧雰囲気１０と
の間の差圧が大きくなった場合には、第２段目の磁性流
体１６Ｂが破壊され、それが空間１８Ａ内に飛散するこ
とがあると認められている。ところが、この空間１８Ａ
内に飛散した磁性流体は、狭い流通部２０を通過する割
合が極めて少ないため、磁性流体による低圧雰囲気８の
汚染が少ないと言及している。しかしながら、本発明者
の実験によれば、空間１８Ａと低圧雰囲気８との間の差
圧を少なくでき、且つ、圧力損失の少ない大きさでたと
え流通部２０を形成したとしても、特に低圧雰囲気８内
にて半導体ウエハの処理を行う場合に、このウエハを汚
染するのに十分な磁性流体が磁性流体シールの流通部２
０を経由して低圧雰囲気８内に流入してしまうという改
善点があった。

【０００６】特に、近年半導体素子の微細化、高密度化
が進むにつれ、酸化鉄などからなる磁性流体がウエハ上
にパーティクルとして付着することを低減しなければ半
導体素子の歩留りの低下を招き、これを防止するため
の、実用上使用するに足るシール装置を実現することは
できず、上記した汚染の問題点の解決が強く望まれてい
る。一方、特公平３−９３４６号公報または特開昭６１
−２３６９７１号公報等に開示されているように、低圧
雰囲気８の真空排気手段とは別個に、空間１８Ａ内を排
気する排気手段を設けることは、装置を複雑且つ大型化
してしまい、コストの上昇を余儀なくされるという改善
点を有していた。更に、昇圧と減圧が繰り返される低圧
雰囲気８内の圧力に応じて制御しながら空間１８Ａ内を
排気することは、技術上極めて困難であるという改善点
もあった。本発明は、以上のような問題点に着目し、こ
れを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の
目的は、塑性流動をもたせた磁性流体を用いた磁性流体
シール装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、２つの空間の間を、複数の磁性流体シ
ール部によりシールする磁性流体シール装置において、
前記複数の磁性流体シール部の間に連続的に磁性流体を
充填したものである。

【０００８】

【作用】本発明は、以上のように構成したので、例えば
高圧雰囲気の空間と低圧雰囲気の空間とを結ぶ複数の磁
性流体シール部の間には、連続的に磁性流体が充填さ
れ、塑性流動がもたせられる。このような、塑性流動を
もたせた磁性流体は、ずり速度がゼロの場合、すなわち
磁性流体がその形状を保ち変形しない間においても一定
のずり応力、すなわち粘性力を発揮するものであり、こ
のような磁性流体をＮ、Ｓ極が複数設けられた磁性流体
シール部に連続的に充填することにより、磁束密度の大
小に応じて磁性粉が疎密に交互に集合して塑性流動作用
が生ずる。従って、ずり速度ゼロにおいても一定の耐圧
差を有する磁性粉密部分が複数乃至多段に形成されるこ
とになり、全体として磁性流体シールの段数に応じた圧
力差に耐え得ることができる。

【０００９】

【実施例】以下に、本発明に係る磁性流体シール装置の
一実施例を添付図面に基づいて詳述する。本実施例にお
いては、本発明を半導体ウエハの減圧処理装置に適用し
た一実施例について、図面を参照して具体的に説明す
る。図１は、本発明に係る磁性流体シール装置を示す断
面図、図２は上記シール装置を適用した半導体ウエハの
減圧処理装置を示す概略構成図である。尚、従来装置と
同一部分については同一符号を付す。まず、図２を参照
して本実施例装置の全体概要について説明する。同図に
おいて、減圧処理を行うプロセスチャンバー２２の両側
には、ゲートバルブ２４Ａ、２４Ｂを介してそれぞれ搬
入側、搬出側のロードロックチャンバー２６、２８が連
結されている。被処理体である半導体ウエハは、搬入口
側のゲートバルブ２４Ｃを開放してロードロックチャン
バー２６内部に配置される。このロードロックチャンバ
ー２６の内部は、ゲートバルブ２４Ｃの閉鎖後に、大気
圧から真空雰囲気に置換され、チャンバー２６、２２内
の圧力が略同一となった後に、他方のゲートバルブ２４
Ａを開放することで、半導体ウエハをプロセスチャンバ
ー２２内に搬入している。

【００１０】このプロセスチャンバー２２は、半導体ウ
エハを減圧処理する各種のプロセス装置として構成さ
れ、例えばエッチング装置、熱処理装置、スパッタ装
置、プラズマＣＶＤ装置等として構成されている。ウエ
ハの処理後は、ゲートバルブ２４Ｂを開放して半導体ウ
エハを搬出側のロードロックチャンバー２８の内部に搬
入し、ゲートバルブ２４Ｂを閉鎖する。そして、搬出側
ロードロックチャンバー２８の内部の雰囲気を真空雰囲
気から大気圧雰囲気に置換した後、搬出側のゲートバル
ブ２４Ｄを開放してウエハの搬出が行われる。各チャン
バー２２〜２６はそれぞれ真空引きが可能であり、この
ため各チャンバー２２〜２６には真空ポンプ３０が接続
されている。更に、各チャンバー２２〜２６は大気圧ま
たはその前後の圧力に昇圧することが可能である。この
ために、不活性ガス例えばＮ₂ガスの供給管３２が設け
られ、この供給管３２は３本に分岐され、分岐管３４と
して各チャンバー２２〜２６に連結されている。この各
分岐管３４の途中には、直径が例えば０．０１μｍ以上
の粒子をトラップできるフィルタ３６と、管路を断続す
るためのバルブ３８と、流量調整を行うマス・フロー・
コントローラ４０とが接続されている。

【００１１】ロードロックチャンバー２６、２８内部に
は、例えばフログレッグ方式の搬送アーム４２が配置さ
れる（チャンバー２８内部は図示せず）。この搬送アー
ム４２は、その先端側のウエハ載置部４４を、チャンバ
ー内部からその外部の左右両側に移動できるように構成
している。この搬送アーム４２を駆動するために、チャ
ンバー２６、２８の外部から内部に貫通して駆動軸４６
が設けられている。一般に搬送アーム４２の駆動軸は多
軸となるが、以下の説明では説明の便宜上、駆動軸４６
が１本のみ存在する場合について説明する。この駆動軸
４６の周囲には、本実施例の特徴的構造を有する磁性流
体シール装置４８が設けられ、駆動軸４６の回転を許容
しつつその気密シールを行っている。

【００１２】次に、前記磁性流体シール装置４８の詳細
について、図１を参照して説明する。同図に示すよう
に、磁性流体シール装置４８は、筒体状の外囲器５０を
有し、その先端部のフランジ部５２がロードロックチャ
ンバー２６または２８の外壁に固定される。外囲器５０
の筒体状内壁面には、マグネット５４と、そのヨークと
して機能するポールピース５６がそれぞれ交互に配列固
定されている。各ポールピース５６の高さ、すなわち図
中上下方向の長さは、各マグネット５４の高さよりも短
く設定されており、各マグネット５４の先端部と駆動軸
１６との間には比較的大きな空間部５８が複数乃至多段
に形成されると共に各ポールピース５６の先端部と駆動
軸１６との間には僅かな大きさの間隙部６０が複数乃至
多段に形成されている。

【００１３】このように、比較的大きな空間部５８と僅
かな大きさの間隙部６０とが交互に複数乃至多段に形成
された磁性流体シール部６２内全体に、本発明の特長と
する磁性流体６４が連続的に充填されており、マグネッ
ト５４、ポールピース５６、間隙部６０、駆動軸１６、
隣接する間隙部６０、隣接するポールピース５６及びマ
グネット５４を通る磁気回路の一部を形成する各間隙部
６０に相当する部分は、磁力線が強いことからコロイド
状の磁性粉が多量に集まって濃度が濃くなり、逆に磁気
回路の一部を構成しない各空間部５８に相当する部分
は、磁力線が弱いことからコロイド状の磁性粉が小量し
か集まらず、濃度が薄くなり、全体として塑性流動を持
たせるように、構成されている。。このような塑性流動
をもたせた磁性流体６４の特性は図３に示すグラフ中の
直線Ｌ１によって示される。すなわち図３はずり応力Ｆ
とずり速度Ｖとの関係を示すグラフであり、塑性流動を
もたせた磁性流体は直線Ｌ１に示すように、ずり速度が
ゼロの場合、すなわち駆動軸１６の回転がゼロの場合に
おいても一定のずり応力、すなわち降伏値Ｓに相当する
応力が作用し、ずり速度が大きくなるに従ってずり応力
も直線的あるいは曲線的に増加する特性を有するもので
ある。

【００１４】従って、駆動軸１６が停止している状態に
おいても各間隙部６０に相当する部分には磁性粉の濃度
の濃い塑性流動をもたせた磁性流体となって所定の降伏
値すなわちずり応力（耐圧力）を有することになり、結
果的に複数設けた間隙部６０内の塑性流動磁性流体の各
耐圧力の総和によって２つの空間、例えば低圧雰囲気８
と高圧雰囲気１０との間の圧力差に対抗させてシール性
を保持し得るように構成されている。ここで高圧雰囲気
及び低圧雰囲気とは、相対的に圧力差のある空間を意味
し、例えば高圧雰囲気とはここでは大気を指し、低圧雰
囲気とは大気圧よりも圧力の低い減圧乃至真空雰囲気を
指す。これに対して、従来のシール装置に使用されてい
た単なる磁性流体は、特性曲線Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４で示す
ようにそれぞれニュートン流動特性、擬塑性流動特性及
びダイラタント流動特性として表され、これら各特性の
いずれもがずり速度ゼロにおいてずり応力が略ゼロを示
し、ずり速度の増加に従ってずり応力も直線的或いは曲
線的に増加する特性を有し、本発明において使用される
塑性流動をもたせた磁性流体とは全く異なった特性を示
す。

【００１５】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、駆動軸１６の長手方向に
沿って複数のマグネット５４と複数のポールピース５６
とを交互に配置することにより形成された磁性流体シー
ル部６２の全域に渡って隙間なく塑性流動をまたせた磁
性流体６４を充填する。これにより、ポールピース５６
と駆動軸１６の外周壁との間に形成される各間隙部６０
に相当する部分は、磁力線が強いことから磁性粉濃度が
濃くなって塑性流動状態となり、そして、各マグネット
５４と隣接するポールピース５６及び駆動軸１６の外周
壁との間に形成される各空間部５８に相当する部分は、
磁力線が弱いことから磁性粉濃度が薄くなる。そして、
各間隙部６０に相当する部分の塑性流動磁性流体６４に
は、駆動軸１６の回転速度がゼロ、すなわちずり速度が
ゼロの場合においても一定のずり応力、すなわち耐圧力
を有しており、高圧雰囲気１０と低圧雰囲気８との差圧
が各間隙部の塑性流動磁性流体６４に分散されることに
なり、その結果、従来装置と異なり、磁性流体に何らバ
ーストを生ぜしめることなく高圧雰囲気と低圧雰囲気と
の間を気密にシールすることが可能となる。

【００１６】すなわち、従来装置に用いていた単なる磁
性流体、例えばニュートン流動特性を示す磁性流体にあ
っては回転軸１６が停止している場合には、ずり応力は
略ゼロであったが、本実施例にあっては塑性流動状態に
なされた磁性流体を用いていることから磁性流体がその
形状を保ち変形しない間は降伏値に相当する一定のずり
応力、すなわち耐圧力が発生し、各段の間隙部６０に相
当する部分の塑性流動磁性流体に圧力差が分散されてシ
ール性が保持される。また、ずり速度が大きくなった場
合には、ずり応力は更に増大することからシール性は一
層向上することになる。本実施例にあっては、１つの間
隙部６０に相当する部分の塑性流動磁性流体の耐圧力は
約０．３ｋｇ／ｃｍ²程度あり、例えば１０^-8〜１０^-9
Ｔｏｒｒ程度の高真空度に真空引きする場合には例えば
４段程度設けるようにする。

【００１７】このように塑性流動をもたせた磁性流体
は、例えば使用されるシール部の磁界の強さにも依存す
るが、一般的には通常のニュートン流動特性を有する磁
性流体よりも磁性粉の濃度はやや高く設定されている。
具体的には、例えばフェライト粉体、純鉄粉体、コバル
ト粉体、ニットル粉体等の磁性粉をケロシン、アイコシ
ルナフタリン、ポリアルファオレフィン等の溶媒に溶か
し込み、使用されるシール部の磁界を考慮して塑性流動
を生ずる粘性（濃度）に設定する。例えば、通常の真空
シールに用いる場合には、フェライト粉体等の磁性粉を
溶媒としてアイコシルナフタリンに溶かし込み、粘性
（濃度）を通常の値、例えば３２０±５０ｃＰｓよりも
ある程度大きくして塑性流動特性を有するように設定す
る。

【００１８】本実施例においては上記塑性流動をもたせ
た磁性流体を用いて１０段のシール部を構成したところ
約３気圧の耐圧を有した。このようなシール装置によれ
ば、チャンバー２６または２８内を真空引きしても、従
来装置と異なり磁性流体のバーストを何ら生ぜしめるこ
となく低圧雰囲気８と高圧雰囲気１０との間を確実に気
密にシールすることができ、従って、磁性流体がチャン
バー内側へ飛散して半導体ウエハ上にパーティクルとし
て付着することを確実に阻止することができる。特に、
近年では、半導体チップの微細化が進み、僅かな酸化鉄
の付着でも半導体ウエハの歩留まりの低下に大きく影響
するので、半導体製品の歩留まりを大幅に向上させるこ
とが可能となる。

【００１９】また、上記実施例にあっては、説明の便宜
上、駆動軸１６が１本存在する装置について説明した
が、本発明を複数本の駆動軸のシール装置にも適用する
ことができる。また、磁性粉体の種類、溶媒の種類、粘
度（濃度）等もシール装置が適用される条件に応じて塑
性流動をもつように適宜選択され、例えばシール装置が
適用される条件によっては溶媒として水を用いてもよ
い。更に、上記実施例にあっては、シール装置を圧力差
のある２つの空間の耐圧差を保持する目的で設けたが、
これに限定されず、本発明は例えば埃よけ等の目的で圧
力差のない２つの空間の間をシールする場合にも勿論適
用することができる。尚、上記実施例にあっては、本発
明に係るシール装置４８を、ロードロックチャンバー２
６、２８の搬送アーム４２の駆動軸４６に適用した場合
について説明したが、気密シールを必要とするどのよう
な装置、例えば以下に示すような装置等の駆動軸にも適
用することができる。

【００２０】図４は真空木材乾燥機を示す概略構成図で
あり、炉７０内に入れた木材７２を真空中で加熱し且つ
温風を当てて乾燥するものである。この場合、高温中で
ファン７４を回転して熱攪拌を行うことから静電気に起
因する爆発事故を防止するため及び木材の汚染を防止す
るために、ファン用モータ７６に回転される駆動軸７８
に本発明に係る磁性流体シール装置４８を適用するよう
にしてもよい。また、図５はウエハや磁気ディスク等の
乾燥機を示す概略構成図であり、モータ８０の回転軸８
２に取り付けたウエハカセット８４を槽体８６内に収容
し、上記回転軸８２に本発明に係る磁性流体シール装置
４８を適用する。これにより、シール装置に起因して半
導体ウエハに付着する汚染物を大幅に減少させることが
可能となる。

【００２１】更に、図６は化学工業や製薬関係において
使用される真空攪拌機の概略構成図を示し、槽体８８内
へ収容した薬剤９０をモータ９２に連結された回転軸９
４の先端部のファン９６により攪拌するものである。こ
のような装置の回転軸９４に本発明に係る磁性流体シー
ル装置４８を適用することにより、攪拌中の材料（薬
剤）９０に不純物が混入することを確実に防止すること
ができる。また更に、図７はＸ線を利用して金属等の厚
さや分析に使用するＸ線回転体陰極装置を示す概略構成
図であり、回転軸９６の先端に設けた例えば銅製回転体
９８に高エネルギの電子ビーム１００を照射して純粋な
Ｘ線１０２を発生し、このＸ線１０２を資料の分析等に
用いるものである。この回転軸９６に本発明の磁性流体
シール装置４８を適用することにより、バーストにとも
なう飛散磁性流体に起因する不純なＸ線の発生を阻止す
ることができる。

【００２２】また、図８は各種の有機材料を攪拌する有
機材料攪拌装置を示す概略構成図であり、槽体内に収容
した有機材料１０４を回転軸１０６に取り付けたファン
１０８により攪拌するものである。このような回転軸１
０６に発明に係る磁性流体シール装置４８を適用するこ
とにより、有機材料１０４の汚染を防止することができ
る。更に、図９は単結晶引き上げ装置を示す概略構成図
であり、溶融炉１１０内に収容した結晶材料１１２を、
水平面内に回転する引き上げ機構１１４からの種により
結晶化させつつ単結晶１１６を成長させるものである。
この引き上げ機構１１４の回転部に発明に係る磁性流体
シール装置４８を適用することにより、単結晶が不必要
な不純物により汚染されることを防止することができ
る。

【００２３】また、図１０はウエハ真空チャック装置を
示す概略構成図であり、回転軸１１８の上端部に真空チ
ャック部１２０を取り付けてウエハを真空保持する。こ
の回転軸１１８に本発明に係る磁性流体シール装置４８
を適用することにより磁性流体のバーストに起因するウ
エハに対する汚染物の付着を防止することができる。更
に、図１１はイオン注入装置を示す概略構成図を示し、
ウエハ等に不純物イオンを注入するものである。この装
置の回転機構部に本発明に係る磁性流体シール装置４８
を適用することにより、不必要な不純物のないイオン源
等を形成することができる。そして、図１２はエピタキ
シャル成長装置を示す概略構成図であり、ウエハを支持
する回転支持板１２２の回転軸１２４に本発明の磁性流
体シール装置４８を適用することにより、エピタキシャ
ル成長層に不純物が混入することを防止することができ
る。

【００２４】本発明は、上記した装置例の他に、ターボ
ポンプの回転軸または、ＣＶＤ装置、スパッタリング装
置、エッチング装置、各種コーティング装置、ハードデ
ィスクメモリ、冷却装置等の回転軸にも適用することが
できる。

【００２５】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば次の
ような優れた作用効果を発揮することができる。磁性流
体を複数の磁性流体シール部に連続的に充填して用いる
ようにしたので、磁性流体シールの段数に応じた圧力差
を持つ気密シールを行うことができる。また、磁性流体
のバーストや吹き出しにより、飛散する磁性流体に起因
する汚染から低圧雰囲気を守ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁性流体シール装置を示す断面図
である。

【図２】本発明の磁性流体シール装置を適用した半導体
ウエハの減圧処理装置を示す概略構成図である。

【図３】各種磁性流体のずり応力とずり速度との関係を
示すグラフである。

【図４】本発明を適用した真空木材乾燥機を示す概略構
成図である。

【図５】本発明を適用した乾燥機を示す概略構成図であ
る。

【図６】本発明を適用した真空攪拌機を示す概略構成図
である。

【図７】本発明を適用したＸ線回転体陰極装置を示す概
略構成図である。

【図８】本発明を適用した試料攪拌装置を示す概略構成
図である。

【図９】本発明を適用した単結晶引き上げ装置を示す概
略構成図である。

【図１０】本発明を適用したウエハ真空チャック装置を
示す概略構成図である。

【図１１】本発明を適用したイオン注入装置を示す概略
構成図である。

【図１２】本発明を適用したエピタキシャル成長装置を
示す概略構成図である。

【図１３】磁性流体の状態を示す状態図である。

【図１４】磁性流体の状態を示す拡大状態図である。

【図１５】従来の磁性流体シール装置を示す構成図であ
る。

【符号の説明】

８低圧雰囲気（空間）１０高圧雰囲気（空間）１６、４６駆動軸２２プロセスチャンバー２６、２８ロードロックチャンバー４８磁性流体シール装置５４マグネット５６ポールピース６２磁性流体シール部６４塑性流動をもたせた磁性流体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２つの空間の間を、複数の磁性流体シール
部によりシールする磁性流体シール装置において、前記
複数の磁性流体シール部の間に連続的に磁性流体を充填
したことを特徴とする磁性流体シール装置。