JPH05197075A - 紫外線吸収剤を含有する写真フィルム材料 - Google Patents
紫外線吸収剤を含有する写真フィルム材料Info
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- JPH05197075A JPH05197075A JP4260740A JP26074092A JPH05197075A JP H05197075 A JPH05197075 A JP H05197075A JP 4260740 A JP4260740 A JP 4260740A JP 26074092 A JP26074092 A JP 26074092A JP H05197075 A JPH05197075 A JP H05197075A
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
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- G—PHYSICS
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- G03C1/00—Photosensitive materials
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Abstract
(57)【要約】
【構成】透明な支持体上にハロゲン化銀乳剤層と光不感
受層を設けた写真フィルム材料において、紫外線吸収剤
として、式(1) ［Ｒ1 ：Ｈ、Ｃ1 〜Ｃ18アルキル、Ｃ原
子１〜４個をアルキル部分に含むフェニルアルキル、シ
クロヘキシル等；Ｒ2 ：Ｃ1 〜Ｃ18アルキル、Ｃ原子１
〜４個をアルキル部分に含むフェニルアルキル、シクロ
ヘキシル、 -ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＲ、 -ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃ
ＯＮＲＲ等；Ｒ3 ：Ｃ6 〜Ｃ18アルキル、シクロヘキシ
ル、Ｃ3 〜Ｃ18アルケニル、Ｃ原子１〜９個をアルキル
部分に含むフェニルアルキル、フェニル、１又は２個の
Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル等］の化合
物を含有する。 【効果】フィルム材料の生産における静電痕跡が減少し
曝露におけるかぶりも防止される。式(I) 化合物は同材
料中の紫外線吸収剤の用途に大変適する。 【化１】
受層を設けた写真フィルム材料において、紫外線吸収剤
として、式(1) ［Ｒ1 ：Ｈ、Ｃ1 〜Ｃ18アルキル、Ｃ原
子１〜４個をアルキル部分に含むフェニルアルキル、シ
クロヘキシル等；Ｒ2 ：Ｃ1 〜Ｃ18アルキル、Ｃ原子１
〜４個をアルキル部分に含むフェニルアルキル、シクロ
ヘキシル、 -ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＲ、 -ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃ
ＯＮＲＲ等；Ｒ3 ：Ｃ6 〜Ｃ18アルキル、シクロヘキシ
ル、Ｃ3 〜Ｃ18アルケニル、Ｃ原子１〜９個をアルキル
部分に含むフェニルアルキル、フェニル、１又は２個の
Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル基で置換されたフェニル等］の化合
物を含有する。 【効果】フィルム材料の生産における静電痕跡が減少し
曝露におけるかぶりも防止される。式(I) 化合物は同材
料中の紫外線吸収剤の用途に大変適する。 【化１】
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線吸収剤を含有す
る新規な写真フィルム材料に関する。
る新規な写真フィルム材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外光線が写真材料に有害な効果を与え
ることは、とりわけ、US-A-4220711、US-A-4200464、US
-A-4946768および EP-A-323853に教示されている。
ることは、とりわけ、US-A-4220711、US-A-4200464、US
-A-4946768および EP-A-323853に教示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】たとえかかる材料の生
産の間でさえ、静電的に荷電された透明な写真支持体上
での放電は、光感受層の曝露の結果となり、そして現像
された像において静電痕跡として現われる。さらに、未
現像の写真材料を曝露したとき、紫外光線が材料を通り
抜け、これにより色彩の変化、勾配の変化そして、特
に、現像された像においてカブリを生じるであろうとい
う可能性もまたある。
産の間でさえ、静電的に荷電された透明な写真支持体上
での放電は、光感受層の曝露の結果となり、そして現像
された像において静電痕跡として現われる。さらに、未
現像の写真材料を曝露したとき、紫外光線が材料を通り
抜け、これにより色彩の変化、勾配の変化そして、特
に、現像された像においてカブリを生じるであろうとい
う可能性もまたある。
【０００４】これらの現象は、典型的には雪景色を写真
で写すときに起きるが、しかし、それは人工的な光源、
例えばタングステンランプを使用したときにもまた観察
される。
で写すときに起きるが、しかし、それは人工的な光源、
例えばタングステンランプを使用したときにもまた観察
される。
【０００５】紫外線吸収剤を使用することにより、かか
る欠点を回避することは知られている。
る欠点を回避することは知られている。
【０００６】本発明者は、今、この目的のために賞賛に
値する程適する特別な種類の紫外線吸収剤を見出した。
値する程適する特別な種類の紫外線吸収剤を見出した。
【０００７】
【課題を解決するための手段】明確には、本発明は、透
明な支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層と
少なくとも一層の光不感受層とを設けた写真フィルム材
料において、紫外線吸収剤として、式
明な支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層と
少なくとも一層の光不感受層とを設けた写真フィルム材
料において、紫外線吸収剤として、式
【化１３】 ［式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、１ないし４個の炭素原子をアルキル部分に
含むフェニルアルキル基、シクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし１
８のアルキル基、１ないし４個の炭素原子をアルキル部
分に含むフェニルアルキル基、シクロペンチル基もしく
はシクロヘキシル基、ヒドロキシル基もしくは
アルキル基、１ないし４個の炭素原子をアルキル部分に
含むフェニルアルキル基、シクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし１
８のアルキル基、１ないし４個の炭素原子をアルキル部
分に含むフェニルアルキル基、シクロペンチル基もしく
はシクロヘキシル基、ヒドロキシル基もしくは
【化１４】 ｛式中、Ｒ4 は、炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、炭素原子数１ないし１８のヒドロキシアルキル基ま
たは酸素原子により中断された炭素原子数４ないし１８
のヒドロキシアルキル基を表わす。｝を表わすか、また
はＲ2 は
基、炭素原子数１ないし１８のヒドロキシアルキル基ま
たは酸素原子により中断された炭素原子数４ないし１８
のヒドロキシアルキル基を表わす。｝を表わすか、また
はＲ2 は
【化１５】 ｛式中、Ｒ5 は
【化１６】 または
【化１７】 （式中、Ｒ6 は、水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、炭素原子数１ないし１８のヒドロキシアル
キル基もしくは酸素原子により中断された炭素原子数４
ないし１８のヒドロキシアルキル基を表わすか、また
は、酸素原子により中断されかつ
アルキル基、炭素原子数１ないし１８のヒドロキシアル
キル基もしくは酸素原子により中断された炭素原子数４
ないし１８のヒドロキシアルキル基を表わすか、また
は、酸素原子により中断されかつ
【化１８】 （式中、Ｒ9 は、炭素原子数１ないし１２のアルキル基
を表わす。）により置換された炭素原子数２ないし１８
のアルキル基を表わすか、またはＲ6 は、炭素原子数３
ないし１８のアルケニル基を表わし、そしてＲ7 および
Ｒ8 は、各々他方と独立して水素原子または炭素原子数
１ないし１８のアルキル基を表わすか、または一緒にな
って、炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表わ
す。）を表わす。｝を表わし、そしてＲ3 は、炭素原子
数６ないし１８のアルキル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル
基、１ないし９個の炭素原子をアルキル部分に含むフェ
ニルアルキル基、フェニル基、１個または２個の、各々
炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフ
ェニル基を表わすか、または式
を表わす。）により置換された炭素原子数２ないし１８
のアルキル基を表わすか、またはＲ6 は、炭素原子数３
ないし１８のアルケニル基を表わし、そしてＲ7 および
Ｒ8 は、各々他方と独立して水素原子または炭素原子数
１ないし１８のアルキル基を表わすか、または一緒にな
って、炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表わ
す。）を表わす。｝を表わし、そしてＲ3 は、炭素原子
数６ないし１８のアルキル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル
基、１ないし９個の炭素原子をアルキル部分に含むフェ
ニルアルキル基、フェニル基、１個または２個の、各々
炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフ
ェニル基を表わすか、または式
【化１９】 ｛式中、ｎは０ないし８を表わし、そしてＲ1 およびＲ
2 は上記に与えた意味を有する。｝で表わされる基を表
わす。］で表わされる化合物を含有する写真フィルム材
料に関する。
2 は上記に与えた意味を有する。｝で表わされる基を表
わす。］で表わされる化合物を含有する写真フィルム材
料に関する。
【０００８】式(I)で表わされる化合物は、１８個まで
のアルキル基、典型的にはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、t-オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、テトラデシル基およびオクタデシル基
並びに対応する枝分かれ異性体を含むことができる。
のアルキル基、典型的にはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、t-オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、テトラデシル基およびオクタデシル基
並びに対応する枝分かれ異性体を含むことができる。
【０００９】１８個までの炭素原子を含むアルケニル基
は、引用したアルキル基より誘導することができる。ま
た本発明において有用なアルケニル基は、ポリ不飽和さ
れていてもよい。
は、引用したアルキル基より誘導することができる。ま
た本発明において有用なアルケニル基は、ポリ不飽和さ
れていてもよい。
【００１０】適する、酸素原子により中断されたアルキ
ル基は、典型的には
ル基は、典型的には
【化２０】 および
【化２１】 （式中、ｘおよびｙは１ないし８の整数を表わす。）の
ような構造単位を含むものである。
ような構造単位を含むものである。
【００１１】フェニルアルキル基は、アルキル部分に１
ないし９個の炭素原子を含みそして典型的にはベンジル
基、フェニルジェチル基、クミル基またはフェニルブチ
ル基を表わす。
ないし９個の炭素原子を含みそして典型的にはベンジル
基、フェニルジェチル基、クミル基またはフェニルブチ
ル基を表わす。
【００１２】本発明の実施における使用に好適な、式
(I) で表わされる化合物は、紫外線輻射、熱および湿気
について優れた安定性を有する。これらは、写真層に問
題なく混入することができる。該化合物は紫外光線を大
変効率的に吸収するので、通常相対的に少量のみの紫外
線吸収剤がこの目的のために必要とされる。その結果と
して高沸点有機溶媒の濃度もまた低く、このため層の厚
さの増加は許容される限界内で変化する。
(I) で表わされる化合物は、紫外線輻射、熱および湿気
について優れた安定性を有する。これらは、写真層に問
題なく混入することができる。該化合物は紫外光線を大
変効率的に吸収するので、通常相対的に少量のみの紫外
線吸収剤がこの目的のために必要とされる。その結果と
して高沸点有機溶媒の濃度もまた低く、このため層の厚
さの増加は許容される限界内で変化する。
【００１３】加えて、式(I) で表わされる化合物は、３
００ないし４００ｎｍの範囲においてその高い吸収があ
る故に、とりわけ静電痕跡を防止するのに適する。
００ないし４００ｎｍの範囲においてその高い吸収があ
る故に、とりわけ静電痕跡を防止するのに適する。
【００１４】さらに、それらは、その中に存在しそして
フィルム材料の感光度測定特性に有害な影響を与えない
ところの層において拡散−耐性である。
フィルム材料の感光度測定特性に有害な影響を与えない
ところの層において拡散−耐性である。
【００１５】しかしながら、大変有効な紫外線吸収剤の
フィルム材料への適用は、制限される。それらは黄色い
固有色彩を有するので、それらは写真紙のための紫外線
吸収剤として用途に適さない。
フィルム材料への適用は、制限される。それらは黄色い
固有色彩を有するので、それらは写真紙のための紫外線
吸収剤として用途に適さない。
【００１６】本発明の実施における使用に大変適する写
真材料は、式(I) ［式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベン
ジル基またはクミル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、クミル基または
真材料は、式(I) ［式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベン
ジル基またはクミル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、クミル基または
【化２２】 （式中、Ｒ6 は、上記に与えられた意味を有する。）を
表わし、そしてＲ3 は、炭素原子数７ないし１４のアル
キル基、フェニル基、または式
表わし、そしてＲ3 は、炭素原子数７ないし１４のアル
キル基、フェニル基、または式
【化２３】 （式中、ｎ、Ｒ1 およびＲ2 は上記に与えられた意味を
有する。）で表わされる基を表わす。］で表わされる化
合物を含有するものである。
有する。）で表わされる基を表わす。］で表わされる化
合物を含有するものである。
【００１７】より好ましい材料は、式(I) ［式中、Ｒ1
は、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基またはクミル基を表わ
し、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、クミル基または
は、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基またはクミル基を表わ
し、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、クミル基または
【化２４】 （式中、Ｒ6 は、炭素原子数６ないし１２のアルキル基
を表わす。）を表わし、そしてＲ3 は、炭素原子数７な
いし１４のアルキル基またはフェニル基を表わすもの、
そして、より特に、式中、Ｒ1 は水素原子または第三ブ
チル基を表わし、Ｒ2 はメチル基、第三ブチル基、
を表わす。）を表わし、そしてＲ3 は、炭素原子数７な
いし１４のアルキル基またはフェニル基を表わすもの、
そして、より特に、式中、Ｒ1 は水素原子または第三ブ
チル基を表わし、Ｒ2 はメチル基、第三ブチル基、
【化２５】 または
【化２６】 を表わし、そしてＲ3 はフェニル基を表わす。］で表わ
される化合物を含有するものである。
される化合物を含有するものである。
【００１８】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、より
好ましくは、支持体の中にまたは支持体の上側および／
または下側の層の中に存在する。この場合において本発
明のフィルム材料は、静電痕跡に対して特に良好に保護
される。
好ましくは、支持体の中にまたは支持体の上側および／
または下側の層の中に存在する。この場合において本発
明のフィルム材料は、静電痕跡に対して特に良好に保護
される。
【００１９】また式(I) で表わされる化合物は、有利
に、新規フィルム材料の感光層および／または光不感受
層の中に存在することができる。この方法により安定化
された材料は、色彩の変化、勾配の変化そして、特に、
カブリに対して実質的に保護される。典型的な光不感受
層は、特に中間層、フィルタ層または保護層である。
に、新規フィルム材料の感光層および／または光不感受
層の中に存在することができる。この方法により安定化
された材料は、色彩の変化、勾配の変化そして、特に、
カブリに対して実質的に保護される。典型的な光不感受
層は、特に中間層、フィルタ層または保護層である。
【００２０】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、通常
知られた方法により新規フィルム材料に混入することが
できる。例えば、紫外線吸収剤を、高沸点溶媒中に、好
都合には高級アルキル−またはアリルホスフェート中に
溶解し、そして溶液を慣用の結合剤、典型的にはゼラチ
ンまたはポリビニルアルコールの水溶液と一緒にコロイ
ドミル中で懸濁させる。この手順において、助剤、例え
ば紫外線吸収剤の凝集または結晶化を防止するところの
他の溶媒および安定剤を使用することができる。かかる
結合剤および助剤の実際例は、RESEARCH DISCLOSURE ,
November 1989, 873ないし 876頁に記載されている。
知られた方法により新規フィルム材料に混入することが
できる。例えば、紫外線吸収剤を、高沸点溶媒中に、好
都合には高級アルキル−またはアリルホスフェート中に
溶解し、そして溶液を慣用の結合剤、典型的にはゼラチ
ンまたはポリビニルアルコールの水溶液と一緒にコロイ
ドミル中で懸濁させる。この手順において、助剤、例え
ば紫外線吸収剤の凝集または結晶化を防止するところの
他の溶媒および安定剤を使用することができる。かかる
結合剤および助剤の実際例は、RESEARCH DISCLOSURE ,
November 1989, 873ないし 876頁に記載されている。
【００２１】フィルム材料の適当な層は、好ましくは式
(I) で表わされる化合物を５ないし１５００ mg/m2、好
ましくは５ないし７００ mg/m2の流延量で含有する。適
当な支持体は、慣用の材料、例えばセルロース誘導体
（硝酸塩、エステル例えばトリ−およびジアセテー
ト）、ポリアミド、ＰＶＣコポリマー、ポリカーボネー
トおよび同様のものである。かかる支持体は、上記した
RESEARCH DISCLOSURE の 879頁記載されている。
(I) で表わされる化合物を５ないし１５００ mg/m2、好
ましくは５ないし７００ mg/m2の流延量で含有する。適
当な支持体は、慣用の材料、例えばセルロース誘導体
（硝酸塩、エステル例えばトリ−およびジアセテー
ト）、ポリアミド、ＰＶＣコポリマー、ポリカーボネー
トおよび同様のものである。かかる支持体は、上記した
RESEARCH DISCLOSURE の 879頁記載されている。
【００２２】式(I) で表わされる紫外線吸収剤を支持体
に混入することを望むときは、これら化合物は、支持体
の生産のために使用されるところの流延溶液の中に溶解
することができる。これは、特に、セルロース誘導体が
支持体として選択されている場合である。他の支持体、
例えばポリカーボネートを使用するとき、紫外線吸収剤
は、流延溶融物に加えられる。
に混入することを望むときは、これら化合物は、支持体
の生産のために使用されるところの流延溶液の中に溶解
することができる。これは、特に、セルロース誘導体が
支持体として選択されている場合である。他の支持体、
例えばポリカーボネートを使用するとき、紫外線吸収剤
は、流延溶融物に加えられる。
【００２３】また、式(I) で表わされる紫外線吸収剤
は、他の種類の紫外線吸収剤、例えば２−ヒドロキシフ
ェニルトリアジン、２−ヒドロキシベンゾフェノンおよ
び／またはオキサニリドと共に使用することができる。
かかる化合物は、就中、 EP-A-0453396 に開示されてい
る。
は、他の種類の紫外線吸収剤、例えば２−ヒドロキシフ
ェニルトリアジン、２−ヒドロキシベンゾフェノンおよ
び／またはオキサニリドと共に使用することができる。
かかる化合物は、就中、 EP-A-0453396 に開示されてい
る。
【００２４】新規なフィルム材料は、公知の種類のハロ
ゲン化銀を含有することができる。かかるハロゲン化銀
についての詳細な編集は、引用されたRESEARCH DISCLOS
UREの 863− 865頁にて見出すことができる。
ゲン化銀を含有することができる。かかるハロゲン化銀
についての詳細な編集は、引用されたRESEARCH DISCLOS
UREの 863− 865頁にて見出すことができる。
【００２５】新規なフィルム材料は、黒白の材料並びに
カラー材料、すなわちクロモジニック現像（chromogeni
c development ）のための材料、銀ブリーチ材料、カラ
ーブリーチ材料およびカラー拡散材料を含む。クロモジ
ニック材料に適する染料カップラーは、引用されたRESE
ARCH DISCLOSURE の 871− 872頁に Chapter C、D、Fおよ
びG において挙げられている。
カラー材料、すなわちクロモジニック現像（chromogeni
c development ）のための材料、銀ブリーチ材料、カラ
ーブリーチ材料およびカラー拡散材料を含む。クロモジ
ニック材料に適する染料カップラーは、引用されたRESE
ARCH DISCLOSURE の 871− 872頁に Chapter C、D、Fおよ
びG において挙げられている。
【００２６】本発明の別の主題は、式(I) で表わされる
紫外線吸収剤を、写真フィルム材料の透明な支持体の中
にまたは支持体の上側および／または下側の層の中に混
入することよりなる、写真フィルム材料の生産の間にお
ける静電痕跡の減少方法にある。
紫外線吸収剤を、写真フィルム材料の透明な支持体の中
にまたは支持体の上側および／または下側の層の中に混
入することよりなる、写真フィルム材料の生産の間にお
ける静電痕跡の減少方法にある。
【００２７】本発明の別の主題は、式(I) で表わされる
紫外線吸収剤を、ハロゲン化銀乳剤層の中に混入するこ
とよりなる、写真フィルム材料の曝露の間におけるかぶ
りの減少方法にある。
紫外線吸収剤を、ハロゲン化銀乳剤層の中に混入するこ
とよりなる、写真フィルム材料の曝露の間におけるかぶ
りの減少方法にある。
【００２８】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、５−
位がハロゲン化されている公知の式
位がハロゲン化されている公知の式
【化２７】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、上記に与えた意味を有す
る。）で表わされるヒドロキシフェニルベンゾトリアゾ
ールを、式
る。）で表わされるヒドロキシフェニルベンゾトリアゾ
ールを、式
【化２８】 （式中、Ｒ3 は、上記に与えた意味を有する。）で表わ
される対応するメルカプタンと反応させることにより、
製造することができる。
される対応するメルカプタンと反応させることにより、
製造することができる。
【００２９】反応は、より好ましくは、非プロトン性溶
媒、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンまたはジメ
チルスルホキシド中で、３０ないし２００℃の温度にお
いて行なわれる。反応の間に生成するハロゲン化水素と
結合する塩基の存在は、重要である。適する塩基は、典
型的には、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸
塩および水酸化物である。
媒、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンまたはジメ
チルスルホキシド中で、３０ないし２００℃の温度にお
いて行なわれる。反応の間に生成するハロゲン化水素と
結合する塩基の存在は、重要である。適する塩基は、典
型的には、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸
塩および水酸化物である。
【００３０】
【実施例】本発明を以下の実施例により、より詳細に説
明する。ここで、％は重量％を表わす。
明する。ここで、％は重量％を表わす。
【００３１】実施例：紫外線吸収剤（表 参照） 102 m
g を、酢酸エチル中のトリクレシルホスフェート 2.4％
の溶液 2 ml の中に溶解した。その後この溶液 1 ml
を、ゼラチン水溶液（ゼラチン 27.6g/lおよび４，８−
ジイソブチルナフチル−２−ナトリウムスルホネートの
8％水溶液 6.8g/l を含有する。） 9 ml を用いて超音
波処理により 3分間乳化した。得られた乳濁液 7.5 ml
に、２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−
トリアジンのナトリウム塩の 0.24 ％水溶液 4.5ml を
加えた。その後この乳濁液 8 ml をポリエステル支持体
（13×18 cm ）に塗布し、層とした。該層は、紫外線吸
収剤を 1.09 g/m2の塗布量で含有するものであった。室
温にて 7日の乾燥時間の後、試料の紫外線吸収スペクト
ルを記録した。該スペクトルは、黄色域の中へ延びる幅
広の吸収帯（ 377 nm にて極大）を示すものであった。
g を、酢酸エチル中のトリクレシルホスフェート 2.4％
の溶液 2 ml の中に溶解した。その後この溶液 1 ml
を、ゼラチン水溶液（ゼラチン 27.6g/lおよび４，８−
ジイソブチルナフチル−２−ナトリウムスルホネートの
8％水溶液 6.8g/l を含有する。） 9 ml を用いて超音
波処理により 3分間乳化した。得られた乳濁液 7.5 ml
に、２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−
トリアジンのナトリウム塩の 0.24 ％水溶液 4.5ml を
加えた。その後この乳濁液 8 ml をポリエステル支持体
（13×18 cm ）に塗布し、層とした。該層は、紫外線吸
収剤を 1.09 g/m2の塗布量で含有するものであった。室
温にて 7日の乾燥時間の後、試料の紫外線吸収スペクト
ルを記録した。該スペクトルは、黄色域の中へ延びる幅
広の吸収帯（ 377 nm にて極大）を示すものであった。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
Claims (11)
- 【請求項１】 透明な支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層と少なくとも一層の光不感受層とを設け
た写真フィルム材料において、紫外線吸収剤として、式 【化１】 ［式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、１ないし４個の炭素原子をアルキル部分に
含むフェニルアルキル基、シクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし１
８のアルキル基、１ないし４個の炭素原子をアルキル部
分に含むフェニルアルキル基、シクロペンチル基もしく
はシクロヘキシル基、ヒドロキシル基もしくは 【化２】 ｛式中、Ｒ4 は、炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、炭素原子数１ないし１８のヒドロキシアルキル基ま
たは酸素原子により中断された炭素原子数４ないし１８
のヒドロキシアルキル基を表わす。｝を表わすか、また
はＲ2 は 【化３】 ｛式中、Ｒ5 は 【化４】 または 【化５】 （式中、Ｒ6 は、水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、炭素原子数１ないし１８のヒドロキシアル
キル基もしくは酸素原子により中断された炭素原子数４
ないし１８のヒドロキシアルキル基を表わすか、また
は、酸素原子により中断されかつ 【化６】 （式中、Ｒ9 は、炭素原子数１ないし１２のアルキル基
を表わす。）により置換された炭素原子数２ないし１８
のアルキル基を表わすか、またはＲ6 は、炭素原子数３
ないし１８のアルケニル基を表わし、そしてＲ7 および
Ｒ8 は、各々他方と独立して水素原子または炭素原子数
１ないし１８のアルキル基を表わすか、または一緒にな
って、炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表わ
す。）を表わす。｝を表わし、そしてＲ3 は、炭素原子
数６ないし１８のアルキル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル
基、１ないし９個の炭素原子をアルキル部分に含むフェ
ニルアルキル基、フェニル基、１個または２個の、各々
炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフ
ェニル基を表わすか、または式 【化７】 ｛式中、ｎは０ないし８を表わし、そしてＲ1 およびＲ
2 は上記に与えた意味を有する。｝で表わされる基を表
わす。］で表わされる化合物を含有する写真フィルム材
料。 - 【請求項２】式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素原子数１な
いし１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基
またはクミル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし
１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ク
ミル基または 【化８】 （式中、Ｒ6 は、請求項１に与えられた意味を有す
る。）を表わし、そしてＲ3は、炭素原子数７ないし１
４のアルキル基、フェニル基、または式 【化９】 （式中、ｎは請求項１に与えられた意味を有し、Ｒ1 お
よびＲ2 は上記に与えた意味を有する。）で表わされる
基を表わすところの請求項１記載の写真フィルム材料。 - 【請求項３】式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素原子数１な
いし１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基
またはクミル基を表わし、Ｒ2 は、炭素原子数１ないし
１８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ク
ミル基または 【化１０】 （式中、Ｒ6 は、炭素原子数６ないし１２のアルキル基
を表わす。）を表わし、そしてＲ3 は、炭素原子数７な
いし１４のアルキル基またはフェニル基を表わすところ
の請求項１記載の写真フィルム材料。 - 【請求項４】式中、Ｒ1 は水素原子または第三ブチル基
を表わし、Ｒ2 はメチル基、第三ブチル基、 【化１１】 または 【化１２】 を表わし、そしてＲ3 はフェニル基を表わすところの請
求項３記載の写真フィルム材料。 - 【請求項５】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、支持
体の中にまたは支持体の上側および／または下側の層の
中に存在するところの請求項１記載の写真フィルム材
料。 - 【請求項６】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、感光
層の中に存在するところの請求項１記載の写真フィルム
材料。 - 【請求項７】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、光不
感受層の中に存在するところの請求項１記載の写真フィ
ルム材料。 - 【請求項８】光不感受層は、中間層、フィルタ層または
保護層であるところの請求項７記載の写真フィルム材
料。 - 【請求項９】式(I) で表わされる紫外線吸収剤は、２−
ヒドロキシフェニルトリアジン、２−ヒドロキシベンゾ
フェノンおよび／またはオキサニリドの種類の紫外線吸
収剤と共に存在するところの請求項１記載の写真フィル
ム材料。 - 【請求項１０】請求項１記載の式(I) で表わされる紫外
線吸収剤を、写真フィルム材料の透明な支持体の中にま
たは支持体の上側および／または下側の層の中に混入す
ることよりなる、写真フィルム材料の生産の間における
静電痕跡の減少方法。 - 【請求項１１】請求項１記載の式(I) で表わされる紫外
線吸収剤を、ハロゲン化銀乳剤層の中に混入することよ
りなる、写真フィルム材料の曝露の間におけるかぶりの
減少方法。
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|---|---|---|---|
| CH260691 | 1991-09-05 | ||
| CH02606/91-5 | 1991-09-05 |
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|---|---|
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