JPH0519974B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0519974B2 JPH0519974B2 JP60095665A JP9566585A JPH0519974B2 JP H0519974 B2 JPH0519974 B2 JP H0519974B2 JP 60095665 A JP60095665 A JP 60095665A JP 9566585 A JP9566585 A JP 9566585A JP H0519974 B2 JPH0519974 B2 JP H0519974B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- disk
- mask
- coils
- magnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/64—Movable or adjustable work or tool supports characterised by the purpose of the movement
- B23Q1/66—Worktables interchangeably movable into operating positions
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、複数のマスクの支持個所が回転可能
な円板上にあり、この円板はマスク支持個所の1
つを写真印刷処理のための所望の位置に動かし、
この位置は検出器によつて検出され、この検出器
は、位置サーボシステムが回路に接続された後、
前記の位置サーボシステムに検出信号を供給し円
板の調整を制御するようにした、半導体装置の写
真印刷処理に用いられるマスク交換装置に関する
ものである。
な円板上にあり、この円板はマスク支持個所の1
つを写真印刷処理のための所望の位置に動かし、
この位置は検出器によつて検出され、この検出器
は、位置サーボシステムが回路に接続された後、
前記の位置サーボシステムに検出信号を供給し円
板の調整を制御するようにした、半導体装置の写
真印刷処理に用いられるマスク交換装置に関する
ものである。
この種の装置は公告された英国特許出願第
2096316号に記載されている(特に第13図参
照)。集積回路のような半導体装置の製造中、多
数のマスクが続けて使用される。この場合、半導
体ウエーハに、製造の種々の工程を制御するのに
要するテストパターンを形成することも必要であ
る。例えば前記の英国特許出願に記載されたよう
な半導体装置の製造に使用されるステツプアンド
リピートカメラによつて、テストパターンを得る
ためのマスクの交換は公知の処理工程である。前
記の英国特許出願には、マスクを置いた円板を所
望の位置に動かす装置については示されていな
い。実際には、マスクをその上に置いた回転可能
な円板がウオームおよびウオムホイールをそなえ
たステツプモータによつて回転される。この調整
は大変で、高価につき、また比較的緩りと動作す
る。
2096316号に記載されている(特に第13図参
照)。集積回路のような半導体装置の製造中、多
数のマスクが続けて使用される。この場合、半導
体ウエーハに、製造の種々の工程を制御するのに
要するテストパターンを形成することも必要であ
る。例えば前記の英国特許出願に記載されたよう
な半導体装置の製造に使用されるステツプアンド
リピートカメラによつて、テストパターンを得る
ためのマスクの交換は公知の処理工程である。前
記の英国特許出願には、マスクを置いた円板を所
望の位置に動かす装置については示されていな
い。実際には、マスクをその上に置いた回転可能
な円板がウオームおよびウオムホイールをそなえ
たステツプモータによつて回転される。この調整
は大変で、高価につき、また比較的緩りと動作す
る。
本発明の目的は、マスクの円板を比較的簡単な
装置によつて迅速且つ正確に回転できるマスク交
換装置を得ることにある。
装置によつて迅速且つ正確に回転できるマスク交
換装置を得ることにある。
本発明は、冒頭に記載した様式のマスク交換装
置を次のようにすることによつて前記の目的を達
成したものである、すなわち、円板の回転のため
に夫々磁石とコイルとを有する2個の電磁運動装
置が設けられ、磁石またはコイル対の何れか一方
は固定して配設され、他方の対は円板に設けられ
て該円板と共に回転可能てあり、またコイルの電
流接続部があり、このコイルに一定電流を供給す
る装置が設けられる。
置を次のようにすることによつて前記の目的を達
成したものである、すなわち、円板の回転のため
に夫々磁石とコイルとを有する2個の電磁運動装
置が設けられ、磁石またはコイル対の何れか一方
は固定して配設され、他方の対は円板に設けられ
て該円板と共に回転可能てあり、またコイルの電
流接続部があり、このコイルに一定電流を供給す
る装置が設けられる。
この場合1つの位置から他の位置への運動は極
めて迅速に行われ、一方構造は簡単なままであ
る。
めて迅速に行われ、一方構造は簡単なままであ
る。
電磁運動装置は、その行程の終りでコイルが磁
石装置のギャツプ内に入り込む所謂潜入形のコイ
ル装置として形成するのが有利である。
石装置のギャツプ内に入り込む所謂潜入形のコイ
ル装置として形成するのが有利である。
両コイルは1つの支持体に取付けられ、これ等
コイルの巻線は、電源に接続されるとコイルを関
係の磁石から遠ざけようとする力を発生するよう
に直列に接続すると、簡単につくれる有利な実施
形態が得られる。
コイルの巻線は、電源に接続されるとコイルを関
係の磁石から遠ざけようとする力を発生するよう
に直列に接続すると、簡単につくれる有利な実施
形態が得られる。
以下本発明を図面の実施例を参照して詳しく説
明する。
明する。
円板状のターンテーブル1はシヤフト2を有す
る。前記のターンテーブルはこのシヤフトを中心
として回転することができる。ターンテーブル上
には2つの支持個所3,4があり、この支持個所
にマスク5,6を設けることができる。前記の支
持個所は透明である。マスクの一方例えば6は、
処理すべき半導体ウエーハ上にテストパターンを
形成するのに役立つ。
る。前記のターンテーブルはこのシヤフトを中心
として回転することができる。ターンテーブル上
には2つの支持個所3,4があり、この支持個所
にマスク5,6を設けることができる。前記の支
持個所は透明である。マスクの一方例えば6は、
処理すべき半導体ウエーハ上にテストパターンを
形成するのに役立つ。
2つの磁石装置7と8が半導体装置の写真印刷
処理装置例えばステツプアンドリピートカメラ
(図示せず)に固定配設される。図示の磁石装置
7,8は線図的に示した鉄のヨーク9,10と磁
石11,12を有する。磁石のヨークに面する側
は例えばS極を形成する。この場合磁石11,1
2の自由端はN極を形成する。この磁石装置7と
8は任意の適当な方法で形成してよく、図はその
一例を示したものに過ぎない。
処理装置例えばステツプアンドリピートカメラ
(図示せず)に固定配設される。図示の磁石装置
7,8は線図的に示した鉄のヨーク9,10と磁
石11,12を有する。磁石のヨークに面する側
は例えばS極を形成する。この場合磁石11,1
2の自由端はN極を形成する。この磁石装置7と
8は任意の適当な方法で形成してよく、図はその
一例を示したものに過ぎない。
前記の磁石装置はリニヤモータの一部を形成す
る。図の実施例では2つのコイル13と14がリ
ニヤモータの他の部分を形成する。この2つのコ
イル13,14は支持体15によつてターンテー
ブル1に固定して取付けられる。
る。図の実施例では2つのコイル13と14がリ
ニヤモータの他の部分を形成する。この2つのコ
イル13,14は支持体15によつてターンテー
ブル1に固定して取付けられる。
前記のコイル13と14は、ヨーク9,10と
磁石11,12間のギヤツプ16内に動くことが
できるように形成され配置される。図ではコイル
は夫々支持体15の一方の側に位置されている。
他の配置も可能で、例えばコイルを夫々或る距離
はなれた別個の支持体に取付けるようにすること
も可能である。更に、コイルを固定して配し、磁
石装置がターンテーブルにあるようにしてもよ
い。コイルに電流を流すための接続装置は図示し
ない任意の適当な方法で構成してよい。
磁石11,12間のギヤツプ16内に動くことが
できるように形成され配置される。図ではコイル
は夫々支持体15の一方の側に位置されている。
他の配置も可能で、例えばコイルを夫々或る距離
はなれた別個の支持体に取付けるようにすること
も可能である。更に、コイルを固定して配し、磁
石装置がターンテーブルにあるようにしてもよ
い。コイルに電流を流すための接続装置は図示し
ない任意の適当な方法で構成してよい。
コイル13と14は別々に電源に接続してもよ
い。この接続は、コイルによつて発生する磁場が
関係の磁石装置7または8と共働するための正し
い極性を有するようなものでなくてはならない。
い。この接続は、コイルによつて発生する磁場が
関係の磁石装置7または8と共働するための正し
い極性を有するようなものでなくてはならない。
けれども、これ等のコイル13,14は、若し
所定の電流接続でコイル13が磁石装置7と反発
するとすればコイル14はこの電流接続で磁石装
置8と反発するように直列に接続するのが好まし
い。
所定の電流接続でコイル13が磁石装置7と反発
するとすればコイル14はこの電流接続で磁石装
置8と反発するように直列に接続するのが好まし
い。
ターンテーブルには2つのミラー17と18が
設けられるが、これ等ミラーは反射プリズムとし
て構成されるのが好ましい。更に、検出ユニツト
19が半導体の写真印刷処理装置(図示せず)に
固定して配置される。前記の検出ユニツトは、光
ビームを放射し、この光ビームが反射によりミラ
ーの一方から検出ユニツトに反射されるような光
源検出ユニツトであるのが好ましい。反射された
光ビームは検出システム内に集められることがで
きるが、この検出システムは前記の英国特許出願
に記載されたような2つの検出器を有するのが好
ましい。光源検出ユニツトを形成する2つの検出
器の差信号はターンテーブルを正しい位置に配置
するのに用いることができる。これは位置サーボ
システム(図示せず)で行うことができる。この
位置サーボシステムは本発明の直接の主題ではな
く、検出器より信号を受信してコイル13と14
の電流値を制御する。
設けられるが、これ等ミラーは反射プリズムとし
て構成されるのが好ましい。更に、検出ユニツト
19が半導体の写真印刷処理装置(図示せず)に
固定して配置される。前記の検出ユニツトは、光
ビームを放射し、この光ビームが反射によりミラ
ーの一方から検出ユニツトに反射されるような光
源検出ユニツトであるのが好ましい。反射された
光ビームは検出システム内に集められることがで
きるが、この検出システムは前記の英国特許出願
に記載されたような2つの検出器を有するのが好
ましい。光源検出ユニツトを形成する2つの検出
器の差信号はターンテーブルを正しい位置に配置
するのに用いることができる。これは位置サーボ
システム(図示せず)で行うことができる。この
位置サーボシステムは本発明の直接の主題ではな
く、検出器より信号を受信してコイル13と14
の電流値を制御する。
マスクの位置の変更は次のように行うことがで
きる。図の位置ではマスク5は写真印刷処理に望
ましい位置を占め、マスク6が次にこの位置にく
るべきものとする。又両コイル13と14は前述
したように直列に接続されているものとする。交
換は、一定電流が両コイルに重畳され、この電流
はコイル13が磁石装置と反発されるような磁界
がコイル13に発生する方向であるようにするこ
とにより行われる。ターンテーブル1は加速さ
れ、コイル14が磁石装置8に近づく迄回転され
る。この場合ターンテーブルは、コイルを流れる
一定電流によつて、該ターンテーブルが他の方向
に加速されたと同じだけ減速される。
きる。図の位置ではマスク5は写真印刷処理に望
ましい位置を占め、マスク6が次にこの位置にく
るべきものとする。又両コイル13と14は前述
したように直列に接続されているものとする。交
換は、一定電流が両コイルに重畳され、この電流
はコイル13が磁石装置と反発されるような磁界
がコイル13に発生する方向であるようにするこ
とにより行われる。ターンテーブル1は加速さ
れ、コイル14が磁石装置8に近づく迄回転され
る。この場合ターンテーブルは、コイルを流れる
一定電流によつて、該ターンテーブルが他の方向
に加速されたと同じだけ減速される。
ミラー18が検出器19に近づくと、ターンテ
ーブルが所望の位置に近づく少し前で前記の英国
特許出願に記載されているように検出器19によ
つて信号が供給される。この信号によつて、ター
ンテーブルの速度が零になつた時に、前記の位置
サーボシステムが回路に接続される。この位置サ
ーボシステムによつて、ターンテーブルしたがつ
てマスクも極めて迅速に所望の位置に動かし、一
方検出器は位置サーボシステムに修正信号を送る
ことができる。
ーブルが所望の位置に近づく少し前で前記の英国
特許出願に記載されているように検出器19によ
つて信号が供給される。この信号によつて、ター
ンテーブルの速度が零になつた時に、前記の位置
サーボシステムが回路に接続される。この位置サ
ーボシステムによつて、ターンテーブルしたがつ
てマスクも極めて迅速に所望の位置に動かし、一
方検出器は位置サーボシステムに修正信号を送る
ことができる。
第1図は本発明のマスク交換装置の一実施例の
平面図、第2図はその側面図を示す。 1……ターンテーブル、2……シヤフト、3,
4……マスク支持個所、5,6……マスク、7,
8……磁石装置、9,10……ヨーク、11,1
2……磁石、13,14……コイル、15……支
持体、16……ギヤツプ、17,18……ミラ
ー、19……検出ユニツト。
平面図、第2図はその側面図を示す。 1……ターンテーブル、2……シヤフト、3,
4……マスク支持個所、5,6……マスク、7,
8……磁石装置、9,10……ヨーク、11,1
2……磁石、13,14……コイル、15……支
持体、16……ギヤツプ、17,18……ミラ
ー、19……検出ユニツト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 複数のマスクの支持個所が回転可能な円板上
にあり、この円板はマスク支持個所の1つを写真
印刷処理のための所望の位置に動かし、この位置
は検出器によつて検出され、この検出器は、位置
サーボシステムが回路に接続された後、前記の位
置サーボシステムに検出信号を供給し円板の調整
を制御するようにした、半導体装置の写真印刷処
理に用いられるマスク交換装置において、円板の
回転のために夫々磁石とコイルとを有する2個の
電磁運動装置が設けられ、磁石対またはコイル対
の何れか一方は固定して配設され、他方の対は円
板に設けられて該円板と共に回転可能であり、ま
たコイルの電流接続部があり、このコイルに一定
電流を供給する装置が設けられたことを特徴とす
るマスク交換装置。 2 電磁運動装置は、その行程の終わりでコイル
が磁石装置のギヤツプに入り込むようにした所謂
潜入形のコイル装置として形成された特許請求の
範囲第1項記載の装置。 3 両コイルは1つの支持体に取りつけられ、こ
れ等のコイルの巻線は、電源に接続されるとコイ
ルを関係の磁石から遠ざけようとする力を発生す
るように直列に接続された特許請求の範囲第1項
または第2項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8401476 | 1984-05-09 | ||
| NL8401476A NL8401476A (nl) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | Inrichting voor het wisselen van maskers. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60243658A JPS60243658A (ja) | 1985-12-03 |
| JPH0519974B2 true JPH0519974B2 (ja) | 1993-03-18 |
Family
ID=19843924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60095665A Granted JPS60243658A (ja) | 1984-05-09 | 1985-05-07 | マスク交換装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4603968A (ja) |
| EP (1) | EP0161029B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60243658A (ja) |
| DE (1) | DE3561526D1 (ja) |
| NL (1) | NL8401476A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4878086A (en) * | 1985-04-01 | 1989-10-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Flat panel display device and manufacturing of the same |
| US4814830A (en) * | 1985-04-01 | 1989-03-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Flat panel display device and manufacturing of the same |
| US4999671A (en) * | 1986-07-11 | 1991-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticle conveying device |
| US4849794A (en) * | 1986-07-18 | 1989-07-18 | Micro-Radiographs, Inc. | High precision photoreduction process and related apparatus |
| US4758863A (en) * | 1987-02-17 | 1988-07-19 | Hewlett-Packard Company | Multi-image reticle |
| KR960016175B1 (en) * | 1987-08-28 | 1996-12-04 | Tokyo Electron Ltd | Exposing method and apparatus thereof |
| JPH0223606A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Fujitsu Ltd | レチクル移動交換機 |
| JPH0223605A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Fujitsu Ltd | レチクル移動交換機 |
| US5138368A (en) * | 1988-10-25 | 1992-08-11 | Greyhawk Systems, Inc. | Fabrication of printed wiring boards by projection imaging |
| JP6383414B2 (ja) | 2013-11-01 | 2018-08-29 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 光治療装置 |
| DE102014107912B4 (de) * | 2014-06-05 | 2016-02-04 | Von Ardenne Gmbh | Prozesskammeranordnung und Verfahren zum Prozessieren eines oder mehrerer Substrate |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1299156A (en) * | 1970-03-02 | 1972-12-06 | Engineering And Automation Ltd | Machine |
| SE399628B (sv) * | 1975-02-13 | 1978-02-20 | Westerberg Erik Gerhard Natana | Drivanordning, speciellt for anvendning vid en avsokningsanordning for framstellning av masker for mikrokretsar |
| DE2734324C2 (de) * | 1977-07-29 | 1982-02-25 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung zum Halten von Vorlagen |
| NL8101668A (nl) * | 1981-04-03 | 1982-11-01 | Philips Nv | Inrichting voor het detekteren van de positie van een voorwerp. |
| JPS589319A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-19 | Hitachi Ltd | パターン露光装置 |
-
1984
- 1984-05-09 NL NL8401476A patent/NL8401476A/nl not_active Application Discontinuation
-
1985
- 1985-04-24 DE DE8585200639T patent/DE3561526D1/de not_active Expired
- 1985-04-24 EP EP85200639A patent/EP0161029B1/en not_active Expired
- 1985-05-07 JP JP60095665A patent/JPS60243658A/ja active Granted
- 1985-05-07 US US06/731,634 patent/US4603968A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL8401476A (nl) | 1985-12-02 |
| EP0161029A1 (en) | 1985-11-13 |
| DE3561526D1 (en) | 1988-03-03 |
| EP0161029B1 (en) | 1988-01-27 |
| JPS60243658A (ja) | 1985-12-03 |
| US4603968A (en) | 1986-08-05 |
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