JPH05201990A - 新規なナフタレン誘導体 - Google Patents
新規なナフタレン誘導体Info
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- JPH05201990A JPH05201990A JP4275808A JP27580892A JPH05201990A JP H05201990 A JPH05201990 A JP H05201990A JP 4275808 A JP4275808 A JP 4275808A JP 27580892 A JP27580892 A JP 27580892A JP H05201990 A JPH05201990 A JP H05201990A
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】
【化１】
で表される新規ナフタレン誘導体及びその塩。
【効果】 この新規ナフタレン誘導体及びその塩は、人
体に対する安全性に優れ、かつ抗真菌作用、特に深在性
真菌症治療における有用性が期待される化合物である。
体に対する安全性に優れ、かつ抗真菌作用、特に深在性
真菌症治療における有用性が期待される化合物である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗真菌剤としての作用
が期待される新規なナフタレン誘導体及びその塩に関す
る。
が期待される新規なナフタレン誘導体及びその塩に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ナフタレン系化合物の研究開発は近年活
発に行われており、特にナフチフィン（特開昭５２−１
３１５６４号公報参照）、テルビナフィン（特開昭５６
−３２４４０号公報参照）が臨床に供されて以来、抗真
菌剤としての開発が盛んである。
発に行われており、特にナフチフィン（特開昭５２−１
３１５６４号公報参照）、テルビナフィン（特開昭５６
−３２４４０号公報参照）が臨床に供されて以来、抗真
菌剤としての開発が盛んである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の化合物はいずれも外皮用剤であり、静注あるいは経口
的投与ができないため、近年、日和見感染症として増加
している深在性、全身性真菌症治療薬としては制限があ
る。深在性真菌症治療薬として開発する場合、毒性が低
く、副作用の少ない事が一つの重要な要件であり、例え
ば現在汎用されているアゾール系抗真菌剤でさえ、深在
性真菌症の大半を占める、重篤な基礎疾患を保持してい
る真菌症患者に対しては、副作用を配慮しながら投与し
ているのが現状である。
の化合物はいずれも外皮用剤であり、静注あるいは経口
的投与ができないため、近年、日和見感染症として増加
している深在性、全身性真菌症治療薬としては制限があ
る。深在性真菌症治療薬として開発する場合、毒性が低
く、副作用の少ない事が一つの重要な要件であり、例え
ば現在汎用されているアゾール系抗真菌剤でさえ、深在
性真菌症の大半を占める、重篤な基礎疾患を保持してい
る真菌症患者に対しては、副作用を配慮しながら投与し
ているのが現状である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、安全性に優
れ、かつ静注あるいは経口投与の可能性が期待される化
合物の探索を鋭意行った結果、新規なナフタレン誘導体
を見い出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本
発明は一般式（１）
れ、かつ静注あるいは経口投与の可能性が期待される化
合物の探索を鋭意行った結果、新規なナフタレン誘導体
を見い出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本
発明は一般式（１）
【０００５】
【化４】
【０００６】で示されるナフタレン誘導体及びその塩に
関する。ここで酸付加塩の場合は、例えば塩酸、臭化水
素酸、硫酸、硝酸などの無機酸または、ギ酸、酢酸、マ
レイン酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。一
般式（１）のＲ及びＲ4 は、具体的には水素、炭素数１
〜６のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を示
し、Ｒ及びＲ4 上に有する置換基としては、炭素数１〜
６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン、水酸基、炭素
数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、炭素数１〜６のア
ルコキシカルボニル基、アミド基、非芳香族系複素環、
芳香族系複素環等が挙げられる。Ｒ1 は、具体的には酸
素原子、硫黄原子、窒素原子の組み合わせから成る環で
あり、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の非芳香
族系複素環またはピリジン、ピロール、イミダゾール、
トリアゾール、チアジアゾール等の芳香系族複素環であ
る。Ｒ1 上に有する置換基としては、炭素数１〜６のア
ルキル基、フェニル基、ハロゲン、水酸基、炭素数１〜
６のアルコキシ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルコキ
シカルボニル基、アミド基等が挙げられる。Ｒ2 及びＲ
3 は窒素原子とともに、他のヘテロ原子を含んでもよい
５員環または６員環を示すが、具体的には酸素原子、硫
黄原子、窒素原子の組み合わせから成る環であり、ピロ
リジン、ピペリジン、モルホリン等の非芳香族系複素環
またはピリジン、ピロール、イミダゾール、トリアゾー
ル、チアジアゾール等の芳香族系複素環である。それら
環上に有する置換基としては、炭素数１〜６のアルキル
基、フェニル基、ハロゲン、水酸基、炭素数１〜６のア
ルコキシ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルコキシカル
ボニル基、アミド基等が挙げられる。ナフタレン環と−
ＣＨ2 −及び酸素原子の結合位置はナフタレン環の１
位、２位いずれでも構わないが、−Ｙが−ＣＨ2 −ＮＲ
Ｒ1 の場合はナフタレン環の１位が、−Ｙが一般式（１
−１）及び一般式（１−２）の場合はナフタレン環の２
位が好ましい。
関する。ここで酸付加塩の場合は、例えば塩酸、臭化水
素酸、硫酸、硝酸などの無機酸または、ギ酸、酢酸、マ
レイン酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。一
般式（１）のＲ及びＲ4 は、具体的には水素、炭素数１
〜６のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を示
し、Ｒ及びＲ4 上に有する置換基としては、炭素数１〜
６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン、水酸基、炭素
数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、炭素数１〜６のア
ルコキシカルボニル基、アミド基、非芳香族系複素環、
芳香族系複素環等が挙げられる。Ｒ1 は、具体的には酸
素原子、硫黄原子、窒素原子の組み合わせから成る環で
あり、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の非芳香
族系複素環またはピリジン、ピロール、イミダゾール、
トリアゾール、チアジアゾール等の芳香系族複素環であ
る。Ｒ1 上に有する置換基としては、炭素数１〜６のア
ルキル基、フェニル基、ハロゲン、水酸基、炭素数１〜
６のアルコキシ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルコキ
シカルボニル基、アミド基等が挙げられる。Ｒ2 及びＲ
3 は窒素原子とともに、他のヘテロ原子を含んでもよい
５員環または６員環を示すが、具体的には酸素原子、硫
黄原子、窒素原子の組み合わせから成る環であり、ピロ
リジン、ピペリジン、モルホリン等の非芳香族系複素環
またはピリジン、ピロール、イミダゾール、トリアゾー
ル、チアジアゾール等の芳香族系複素環である。それら
環上に有する置換基としては、炭素数１〜６のアルキル
基、フェニル基、ハロゲン、水酸基、炭素数１〜６のア
ルコキシ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルコキシカル
ボニル基、アミド基等が挙げられる。ナフタレン環と−
ＣＨ2 −及び酸素原子の結合位置はナフタレン環の１
位、２位いずれでも構わないが、−Ｙが−ＣＨ2 −ＮＲ
Ｒ1 の場合はナフタレン環の１位が、−Ｙが一般式（１
−１）及び一般式（１−２）の場合はナフタレン環の２
位が好ましい。
【０００７】本発明化合物は、例えば下記に示す如き方
法により製造されるが、これらに限定されるものではな
い。 −Ｙが−ＣＨ2 −ＮＲＲ1 で示されるナフタレン誘導
体の場合 反応式１に従って
法により製造されるが、これらに限定されるものではな
い。 −Ｙが−ＣＨ2 −ＮＲＲ1 で示されるナフタレン誘導
体の場合 反応式１に従って
【０００８】
【化５】
【０００９】一般式Ｒ1 −ＮＨ2 で示されるアミン
（２）［Ｒ1 は前述と同様］と一般式（３）で示される
ナフトアルデヒドを、必要ならば酸触媒の存在下、共沸
的に水を除去する条件で反応させる事により一般式
（４）で示されるシッフ化合物（Ｒ1 は前述と同様）を
得る。この際溶媒は反応に悪影響を及ぼさないすべての
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等
のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニトロベンゼン
等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等の極性溶媒などが使用可能である
が、好ましくはテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒
中で行うのが望ましい。用いるＲ1 −ＮＨ2 が芳香族系
アミンの場合は、共沸的に水を除去する条件で酸触媒存
在下反応を行う事が好ましい。用いる酸触媒としては、
硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が
使用可能であり、その使用量はアミン（２）に対して１
〜１００％mol の範囲、特に５〜２０％mol が好適であ
る。実施する反応温度は用いる溶媒により異なるが、４
０〜１５０℃の範囲であり、好ましくは６０〜９０℃で
行う。一方Ｒ1 −ＮＨ2 が非芳香族系アミンの場合は、
通常、酸触媒及び加熱は必要としない。
（２）［Ｒ1 は前述と同様］と一般式（３）で示される
ナフトアルデヒドを、必要ならば酸触媒の存在下、共沸
的に水を除去する条件で反応させる事により一般式
（４）で示されるシッフ化合物（Ｒ1 は前述と同様）を
得る。この際溶媒は反応に悪影響を及ぼさないすべての
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等
のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニトロベンゼン
等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等の極性溶媒などが使用可能である
が、好ましくはテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒
中で行うのが望ましい。用いるＲ1 −ＮＨ2 が芳香族系
アミンの場合は、共沸的に水を除去する条件で酸触媒存
在下反応を行う事が好ましい。用いる酸触媒としては、
硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が
使用可能であり、その使用量はアミン（２）に対して１
〜１００％mol の範囲、特に５〜２０％mol が好適であ
る。実施する反応温度は用いる溶媒により異なるが、４
０〜１５０℃の範囲であり、好ましくは６０〜９０℃で
行う。一方Ｒ1 −ＮＨ2 が非芳香族系アミンの場合は、
通常、酸触媒及び加熱は必要としない。
【００１０】こうして得られる化合物（４）をハイドラ
イド供与型還元剤で還元する事により、Ｒ＝Ｈである、
一般式（１ａ）で示される化合物（Ｒ1 は前述と同様）
を得る。この際溶媒は反応に悪影響を及ぼさないすべて
の溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭
化水素系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール
系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等の第３級アミド系溶媒、ジメチルスルホキシドなどが
使用可能であり、反応温度は一般には２０〜１００℃の
範囲で行われる。また、使用するハイドライド供与型還
元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素
リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチ
ウムアルミニウム等が使用され、その使用量はシッフ化
合物（４）に対して０. ２５〜５倍mol の範囲であり、
特に１倍mol が好適である。但しこれら溶媒及び反応温
度の条件は、使用するハイドライド供与型還元剤の種類
により適宜選択され、更に使用するハイドライド供与型
還元剤の種類は、一般式（４）で示されるシッフ化合物
製造時に用いたＲ1 −ＮＨ2 の種類により適宜選択され
る。つまり具体的には、Ｒ1 −ＮＨ2 が芳香族系アミン
の場合はメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒
中、反応温度３０〜６０℃の範囲にて、ハイドライド供
与型還元剤としては水素化ホウ素ナトリウムによる処理
が好適であり、一方、Ｒ1 −ＮＨ2 非芳香族系アミンの
場合は、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒中、反
応温度３０〜８０℃の範囲にて、ハイドライド供与型還
元剤としては水素化リチウムアルミニウムによる処理が
好適である。
イド供与型還元剤で還元する事により、Ｒ＝Ｈである、
一般式（１ａ）で示される化合物（Ｒ1 は前述と同様）
を得る。この際溶媒は反応に悪影響を及ぼさないすべて
の溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭
化水素系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール
系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等の第３級アミド系溶媒、ジメチルスルホキシドなどが
使用可能であり、反応温度は一般には２０〜１００℃の
範囲で行われる。また、使用するハイドライド供与型還
元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素
リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチ
ウムアルミニウム等が使用され、その使用量はシッフ化
合物（４）に対して０. ２５〜５倍mol の範囲であり、
特に１倍mol が好適である。但しこれら溶媒及び反応温
度の条件は、使用するハイドライド供与型還元剤の種類
により適宜選択され、更に使用するハイドライド供与型
還元剤の種類は、一般式（４）で示されるシッフ化合物
製造時に用いたＲ1 −ＮＨ2 の種類により適宜選択され
る。つまり具体的には、Ｒ1 −ＮＨ2 が芳香族系アミン
の場合はメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒
中、反応温度３０〜６０℃の範囲にて、ハイドライド供
与型還元剤としては水素化ホウ素ナトリウムによる処理
が好適であり、一方、Ｒ1 −ＮＨ2 非芳香族系アミンの
場合は、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒中、反
応温度３０〜８０℃の範囲にて、ハイドライド供与型還
元剤としては水素化リチウムアルミニウムによる処理が
好適である。
【００１１】さらに、前記化合物（１ａ）を強塩基と処
理した後、一般式ＲＸで示される化合物（５）［Ｒは前
述と同様であるが水素原子ではなく、Ｘはハロゲン原子
を示す］と反応させる事により一般式（１ｂ）で示され
る化合物（Ｒは前述と同様であるが水素原子ではなく、
Ｒ1 は前述と同様）を得る。この際溶媒は反応に悪影響
を及ぼさないすべての溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジメチルホルムア
ミド等の第３級アミド系溶媒、ジメチルスルホキシドな
どが使用可能であるが、好ましくはテトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等の第３級
アミド系溶媒が挙げられる。実施する反応温度は用いる
溶媒により異なるが、一般に０〜１００℃の範囲であ
り、好ましくは１０〜７０℃で行う。塩基として水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の金属ハイドライド、ナ
トリウムメトキサイド、リチウムメトキサイド、第３級
ブトキシカリウムのような金属アルコラート、１, ８−
ジアザビシクロ［５. ４. ０］ウンデセ−７−エン等の
有機塩基が挙げられるが、好ましくは水素化ナトリウム
である。
理した後、一般式ＲＸで示される化合物（５）［Ｒは前
述と同様であるが水素原子ではなく、Ｘはハロゲン原子
を示す］と反応させる事により一般式（１ｂ）で示され
る化合物（Ｒは前述と同様であるが水素原子ではなく、
Ｒ1 は前述と同様）を得る。この際溶媒は反応に悪影響
を及ぼさないすべての溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジメチルホルムア
ミド等の第３級アミド系溶媒、ジメチルスルホキシドな
どが使用可能であるが、好ましくはテトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等の第３級
アミド系溶媒が挙げられる。実施する反応温度は用いる
溶媒により異なるが、一般に０〜１００℃の範囲であ
り、好ましくは１０〜７０℃で行う。塩基として水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の金属ハイドライド、ナ
トリウムメトキサイド、リチウムメトキサイド、第３級
ブトキシカリウムのような金属アルコラート、１, ８−
ジアザビシクロ［５. ４. ０］ウンデセ−７−エン等の
有機塩基が挙げられるが、好ましくは水素化ナトリウム
である。
【００１２】また、Ｒ上に有する置換基が、特に、前述
した複素環で置換されたメチル基である、一般式（１
ｃ）で示される化合物（Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は前述と同
様）を製造する場合は、反応式２に従って
した複素環で置換されたメチル基である、一般式（１
ｃ）で示される化合物（Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は前述と同
様）を製造する場合は、反応式２に従って
【００１３】
【化６】
【００１４】前記一般式（１ａ）で示される化合物を、
パラホルムアルデヒド及び一般式Ｒ3 Ｒ2 ＮＨで示され
るアミン（６）［Ｒ2 、Ｒ3 は前述と同様］と加熱条件
下反応させる事も可能である。この場合、溶媒は高沸点
を有し、かつ反応に悪影響を及ぼさないすべてのもの、
例えば１, ４−ジオキサン、１, ２−ジメトキシエタ
ン、２−メトキシエチルエーテル等のエーテル系溶媒、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の第３級アミ
ド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶
媒などが使用可能であるが、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等の第３級アミド系溶媒が好適であ
る。実施する反応温度は用いる溶媒により異なるが、一
般には５０〜２００℃の範囲であり、特に８０〜１２０
℃が望ましい。また、パラホルムアルデヒド及びＲ3 Ｒ
2 ＮＨの使用量は、各々化合物（１ａ）に対して１〜１
０倍mol 、好ましくは１〜２倍mol である。
パラホルムアルデヒド及び一般式Ｒ3 Ｒ2 ＮＨで示され
るアミン（６）［Ｒ2 、Ｒ3 は前述と同様］と加熱条件
下反応させる事も可能である。この場合、溶媒は高沸点
を有し、かつ反応に悪影響を及ぼさないすべてのもの、
例えば１, ４−ジオキサン、１, ２−ジメトキシエタ
ン、２−メトキシエチルエーテル等のエーテル系溶媒、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の第３級アミ
ド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶
媒などが使用可能であるが、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等の第３級アミド系溶媒が好適であ
る。実施する反応温度は用いる溶媒により異なるが、一
般には５０〜２００℃の範囲であり、特に８０〜１２０
℃が望ましい。また、パラホルムアルデヒド及びＲ3 Ｒ
2 ＮＨの使用量は、各々化合物（１ａ）に対して１〜１
０倍mol 、好ましくは１〜２倍mol である。
【００１５】なお、上記生成物の単離、精製は通常用い
られる方法、例えば結晶化、クロマトグラフィー等を組
み合わせる事により行われる。 −Ｙが一般式（１−１）で示されるナフタレン誘導体
の場合 反応式３に従って
られる方法、例えば結晶化、クロマトグラフィー等を組
み合わせる事により行われる。 −Ｙが一般式（１−１）で示されるナフタレン誘導体
の場合 反応式３に従って
【００１６】
【化７】
【００１７】一般式Ｒ3 Ｒ2 ＮＨで示されるアミン
（６）［Ｒ2 、Ｒ3 は前述と同様］と、一般式（７）で
示されるナフチルクロロチオホルメート誘導体を塩基の
存在下反応させる事により一般式（１−１ａ）［Ｒ2 、
Ｒ3 は前述と同様］を得る。この際溶媒は反応に悪影響
を及ぼさないすべての溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒などが使
用可能であるが、好ましくはアセトン等のケトン系溶媒
が挙げられる。また、塩基として、アミン（６）自身を
含め、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基あるい
は炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基のい
ずれも使用可能であるが、好ましくは炭酸水素ナトリウ
ムが挙げられる。実施する反応温度は用いる溶媒により
異なるが、−１０〜８０℃の範囲であり、好ましくは０
〜３０℃で行われる。
（６）［Ｒ2 、Ｒ3 は前述と同様］と、一般式（７）で
示されるナフチルクロロチオホルメート誘導体を塩基の
存在下反応させる事により一般式（１−１ａ）［Ｒ2 、
Ｒ3 は前述と同様］を得る。この際溶媒は反応に悪影響
を及ぼさないすべての溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒などが使
用可能であるが、好ましくはアセトン等のケトン系溶媒
が挙げられる。また、塩基として、アミン（６）自身を
含め、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基あるい
は炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基のい
ずれも使用可能であるが、好ましくは炭酸水素ナトリウ
ムが挙げられる。実施する反応温度は用いる溶媒により
異なるが、−１０〜８０℃の範囲であり、好ましくは０
〜３０℃で行われる。
【００１８】−Ｙが一般式（１−２）で示されるナフ
タレン誘導体の場合 反応式４に従って
タレン誘導体の場合 反応式４に従って
【００１９】
【化８】
【００２０】一般式Ｒ1 −ＮＨ2 で示されるアミン
（２）［Ｒ1 は前述と同様］と一般式Ｒ 4 −ＣＨＯ（Ｒ
4 は前述と同様）で示されるアルデヒド（８）を反応さ
せる事により、一般式（９）で示されるシッフ化合物
（Ｒ1 、Ｒ4 は前述と同様）を得る。この際、通常加熱
及び触媒は必要とせず、溶媒は反応に悪影響を及ぼさな
いすべての溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニト
ロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒などが使用可
能であるが、好ましくはテトラヒドロフラン等のエーテ
ル系溶媒中で行うのが望ましい。
（２）［Ｒ1 は前述と同様］と一般式Ｒ 4 −ＣＨＯ（Ｒ
4 は前述と同様）で示されるアルデヒド（８）を反応さ
せる事により、一般式（９）で示されるシッフ化合物
（Ｒ1 、Ｒ4 は前述と同様）を得る。この際、通常加熱
及び触媒は必要とせず、溶媒は反応に悪影響を及ぼさな
いすべての溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニト
ロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒などが使用可
能であるが、好ましくはテトラヒドロフラン等のエーテ
ル系溶媒中で行うのが望ましい。
【００２１】こうして得られる化合物（９）をハイドラ
イド供与型還元剤で還元する事により、一般式（１０）
で示される化合物（Ｒ1 、Ｒ4 は前述と同様）を得る。
この際溶媒は反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒、
例えばテトラヒドロラン、ジエチルエーテル等のエーテ
ル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶
媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジ
メチルホルアミド、ジメチルアセトアミド等の第３級ア
ミド系溶媒、ジメチルスルホキシドなどが使用可能であ
る。また、使用するハイドライド供与型還元剤として
は、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、
シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミ
ニウム等が使用され、その使用量はシッフ化合物（４）
に対して０. ２５〜５倍olの範囲であり、特に１倍mol
が好適である。反応温度は一般的には−２０〜６０℃の
範囲で行われ、使用するハイドライド供与型還元剤の種
類は用いる溶媒により適宜選択される。具体的には、メ
タノール、エタノール等のアルコール系溶媒中、反応温
度０〜１０℃の範囲にて、水素化ホウ素ナトリウム、ま
たは、塩酸等の添加による酸性条件下シアノ水素化ホウ
素ナトリウムによる処理が好適である。
イド供与型還元剤で還元する事により、一般式（１０）
で示される化合物（Ｒ1 、Ｒ4 は前述と同様）を得る。
この際溶媒は反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒、
例えばテトラヒドロラン、ジエチルエーテル等のエーテ
ル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶
媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジ
メチルホルアミド、ジメチルアセトアミド等の第３級ア
ミド系溶媒、ジメチルスルホキシドなどが使用可能であ
る。また、使用するハイドライド供与型還元剤として
は、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、
シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミ
ニウム等が使用され、その使用量はシッフ化合物（４）
に対して０. ２５〜５倍olの範囲であり、特に１倍mol
が好適である。反応温度は一般的には−２０〜６０℃の
範囲で行われ、使用するハイドライド供与型還元剤の種
類は用いる溶媒により適宜選択される。具体的には、メ
タノール、エタノール等のアルコール系溶媒中、反応温
度０〜１０℃の範囲にて、水素化ホウ素ナトリウム、ま
たは、塩酸等の添加による酸性条件下シアノ水素化ホウ
素ナトリウムによる処理が好適である。
【００２２】最後に前記化合物（１０）と、一般式
（７）で示されるナフチルクロロチオホルメート誘導体
を塩基の存在下反応させる事により一般式（１−２ａ）
［Ｒ1 、Ｒ4 は前述と同様］を得る。この際溶媒は反応
に悪影響を及ぼさないすべての溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒ジクロロメタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒などが使
用可能であるが、好ましくはアセトン等のケトン系溶媒
が挙げられる。また、塩基として、アミン（１０）自身
を含め、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基ある
いは炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基の
いずれも使用可能であるが、好ましくは炭酸水素ナトリ
ウムが挙げられる。実施する反応温度は用いる溶媒によ
り異なるが、−１０〜８０℃の範囲であり、好ましくは
０〜３０℃で行われる。
（７）で示されるナフチルクロロチオホルメート誘導体
を塩基の存在下反応させる事により一般式（１−２ａ）
［Ｒ1 、Ｒ4 は前述と同様］を得る。この際溶媒は反応
に悪影響を及ぼさないすべての溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒ジクロロメタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒などが使
用可能であるが、好ましくはアセトン等のケトン系溶媒
が挙げられる。また、塩基として、アミン（１０）自身
を含め、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基ある
いは炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基の
いずれも使用可能であるが、好ましくは炭酸水素ナトリ
ウムが挙げられる。実施する反応温度は用いる溶媒によ
り異なるが、−１０〜８０℃の範囲であり、好ましくは
０〜３０℃で行われる。
【００２３】なお、上述したいずれの場合も、生成物の
単離、精製は通常用いられる方法、例えば結晶化、クロ
マトグラフィー等の組み合わせにより行われる。
単離、精製は通常用いられる方法、例えば結晶化、クロ
マトグラフィー等の組み合わせにより行われる。
【００２４】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】
【実施例１】１−アミノイミダゾール１. ０６０g をテ
トラヒドロフラン１４. ０mlに溶解させ、ｐ−トルエン
スルホン酸０. １９４g 、１−ナフトアルデヒド１. ７
８mlを順次添加した後、水を共沸的に除去する条件下で
（デイ ーン・ シュターク使用）９時間加熱還流させる。
反応混合物を冷却し、減圧下濃縮、残留物にクロロホル
ムを添加して再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると、黄色固体
のＮ−（１−ナフチルメチレン）−イミダゾール−１−
アミン２. ５２４g を得た。（収率８９. ４％） このものは、特に精製しなくても次の反応に充分使用可
能であるが、ヘキサン等の有機溶媒で洗浄する事によ
り、容易に精製できる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ８７（ｓ, １
Ｈ）, ８. ７５〜８. ４７（ｍ, １Ｈ）, ８. ０７〜
７. ２７（ｍ, ８Ｈ）, ７. １４（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１.
６Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：２２１（Ｍ+ ）
トラヒドロフラン１４. ０mlに溶解させ、ｐ−トルエン
スルホン酸０. １９４g 、１−ナフトアルデヒド１. ７
８mlを順次添加した後、水を共沸的に除去する条件下で
（デイ ーン・ シュターク使用）９時間加熱還流させる。
反応混合物を冷却し、減圧下濃縮、残留物にクロロホル
ムを添加して再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると、黄色固体
のＮ−（１−ナフチルメチレン）−イミダゾール−１−
アミン２. ５２４g を得た。（収率８９. ４％） このものは、特に精製しなくても次の反応に充分使用可
能であるが、ヘキサン等の有機溶媒で洗浄する事によ
り、容易に精製できる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ８７（ｓ, １
Ｈ）, ８. ７５〜８. ４７（ｍ, １Ｈ）, ８. ０７〜
７. ２７（ｍ, ８Ｈ）, ７. １４（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１.
６Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：２２１（Ｍ+ ）
【００２６】
【実施例２】Ｎ−（１−ナフチルメチレン）−イミダゾ
ール−１−アミン１. ３００g をエタノール１０. ０ml
に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム０. ２２３g を添
加した後、４５℃で５時間反応させる。反応混合物を冷
却し、溶媒を減圧下濃縮、残留物にクロロホルムを添加
して再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで脱水、有機溶媒を減圧下留去すると、黄色固体のＮ
−（イミダゾール−１−イル）−１−ナフタレンメチル
アミン１. ３１１g を得た。（収率１００％） このものは、特に精製しなくても次の反応に充分使用可
能であるが、ジエチルエーテル、ヘキサン等の有機溶媒
で洗浄する事により、容易に精製できる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ２１〜７. ０７
（ｍ, ８Ｈ）, ６. ８１（ｓ, ２Ｈ）, ５. ４２（ｔ,
１Ｈ, Ｊ＝５. ４Ｈｚ）, ４. ４７（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝
５. ４Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：２２３（Ｍ+ ）
ール−１−アミン１. ３００g をエタノール１０. ０ml
に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム０. ２２３g を添
加した後、４５℃で５時間反応させる。反応混合物を冷
却し、溶媒を減圧下濃縮、残留物にクロロホルムを添加
して再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで脱水、有機溶媒を減圧下留去すると、黄色固体のＮ
−（イミダゾール−１−イル）−１−ナフタレンメチル
アミン１. ３１１g を得た。（収率１００％） このものは、特に精製しなくても次の反応に充分使用可
能であるが、ジエチルエーテル、ヘキサン等の有機溶媒
で洗浄する事により、容易に精製できる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ２１〜７. ０７
（ｍ, ８Ｈ）, ６. ８１（ｓ, ２Ｈ）, ５. ４２（ｔ,
１Ｈ, Ｊ＝５. ４Ｈｚ）, ４. ４７（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝
５. ４Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：２２３（Ｍ+ ）
【００２７】
【実施例３】水素化ナトリウム（６０％w/w,油性）０.
０１４g を反応容器に秤量し、窒素雰囲気下ヘキサンで
洗浄した後、ジメチルホルムアミド０. ４０ml、Ｎ−
（イミダゾール−１−イル）−１−ナフタレンメチルア
ミン０. ０７８g のジメチルホルムアミド溶液０. ２０
mlを順次添加し、室温で１. ５時間撹拌する。その後塩
化シンナミル０. ０４８mlを添加し、６. ５時間反応さ
せる。反応混合物を減圧下濃縮、残留物にクロロホルム
を添加して再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油状物が
得られる。
０１４g を反応容器に秤量し、窒素雰囲気下ヘキサンで
洗浄した後、ジメチルホルムアミド０. ４０ml、Ｎ−
（イミダゾール−１−イル）−１−ナフタレンメチルア
ミン０. ０７８g のジメチルホルムアミド溶液０. ２０
mlを順次添加し、室温で１. ５時間撹拌する。その後塩
化シンナミル０. ０４８mlを添加し、６. ５時間反応さ
せる。反応混合物を減圧下濃縮、残留物にクロロホルム
を添加して再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油状物が
得られる。
【００２８】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−ヘキサン系溶媒）により精製し、
Ｎ−（イミダゾール−１−イル）−Ｎ−シンナミル−１
−ナフタレンメチルアミン０. ０６１g を得た。（収率
２４. ５％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ３２〜６. ７４
（ｍ, １５Ｈ）, ６. ４３（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ７Ｈ
ｚ）, ６. ０３（ｄ−ｔ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ７Ｈｚ,
５. ７Ｈｚ）, ４ .４６（ｓ, ２Ｈ）, ３. ７６（ｄ,
２Ｈ, Ｊ＝５. ７Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３３９（Ｍ+ ）
フィー（酢酸エチル−ヘキサン系溶媒）により精製し、
Ｎ−（イミダゾール−１−イル）−Ｎ−シンナミル−１
−ナフタレンメチルアミン０. ０６１g を得た。（収率
２４. ５％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ３２〜６. ７４
（ｍ, １５Ｈ）, ６. ４３（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ７Ｈ
ｚ）, ６. ０３（ｄ−ｔ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ７Ｈｚ,
５. ７Ｈｚ）, ４ .４６（ｓ, ２Ｈ）, ３. ７６（ｄ,
２Ｈ, Ｊ＝５. ７Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３３９（Ｍ+ ）
【００２９】
【実施例４】１−アミノ−２, ６−ジメチルモルホリン
（シス／トランス混合物）１. ５１３g をテトラヒドロ
フラン１４. ０mlに溶解させ、１−ナフトアルデヒド
１. ５８mlを添加した後、室温で２. ５時間反応させ
る。反応混合物を減圧下濃縮し、残留物にジエチルエー
テルを加えて再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油状物
が得られる。
（シス／トランス混合物）１. ５１３g をテトラヒドロ
フラン１４. ０mlに溶解させ、１−ナフトアルデヒド
１. ５８mlを添加した後、室温で２. ５時間反応させ
る。反応混合物を減圧下濃縮し、残留物にジエチルエー
テルを加えて再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油状物
が得られる。
【００３０】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム−ヘキサン系溶媒）により精製
し、Ｎ−（１−ナフチルメチレン）−２, ６−ジメチル
モルホリン−１−アミン２. ８９３g を得た。（シス／
トランス混合物、収率９２. ７％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ６４〜８. ３４
（ｍ, １Ｈ）, ８. １１（ｓ, １Ｈ）, ７. ９４〜７.
２０（ｍ, ６Ｈ）, ４. ４１〜２. １４（ｍ, ６Ｈ）,
〔１. ３２（シス体−ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）＋１. ２６
（トランス体−ｄ,Ｊ＝６. ０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２６８（Ｍ+ ）
フィー（クロロホルム−ヘキサン系溶媒）により精製
し、Ｎ−（１−ナフチルメチレン）−２, ６−ジメチル
モルホリン−１−アミン２. ８９３g を得た。（シス／
トランス混合物、収率９２. ７％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ６４〜８. ３４
（ｍ, １Ｈ）, ８. １１（ｓ, １Ｈ）, ７. ９４〜７.
２０（ｍ, ６Ｈ）, ４. ４１〜２. １４（ｍ, ６Ｈ）,
〔１. ３２（シス体−ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）＋１. ２６
（トランス体−ｄ,Ｊ＝６. ０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２６８（Ｍ+ ）
【００３１】
【実施例５】Ｎ−（１−ナフチルメチレン）−２, ６−
ジメチルモルホリン−１−アミン（シス／トランス混合
物）３. ４２８g をテトラヒドロフラン２０. ０mlに溶
解させ、水素化リチウムアルミニウム０. ４４０g を添
加した後、５５℃で３時間反応させる。
ジメチルモルホリン−１−アミン（シス／トランス混合
物）３. ４２８g をテトラヒドロフラン２０. ０mlに溶
解させ、水素化リチウムアルミニウム０. ４４０g を添
加した後、５５℃で３時間反応させる。
【００３２】その後、反応混合物を冷却、水０. ４４m
l、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液０.４４ml、水１. ３２
mlを順次添加し不溶物を濾別、テトラヒドロフランで洗
浄する。濾液を減圧下濃縮し、残留物にクロロホルムを
加えて再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油状物が得ら
れる。
l、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液０.４４ml、水１. ３２
mlを順次添加し不溶物を濾別、テトラヒドロフランで洗
浄する。濾液を減圧下濃縮し、残留物にクロロホルムを
加えて再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油状物が得ら
れる。
【００３３】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−ヘキサン系溶媒）により精製しＮ
−（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−１−ナ
フタレンメチルアミン２. ６２５g を得た。（シス／ト
ランス混合物、収率８３. ８％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. １７〜７. ９６
（ｍ, １Ｈ）, ７. ８７〜７. １８（ｍ, ６Ｈ）, ４.
３６（ｓ, ２Ｈ）, ４. ２６〜１. ６２（ｍ, ７Ｈ, Ｄ
2 Ｏ置換で１Ｈ分消失）, 〔１. ２１（シス体−ｄ, Ｊ
＝６. ０Ｈｚ）＋１. ６１（トランス体−ｄ, Ｊ＝６.
０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２７０（Ｍ+ ）
フィー（酢酸エチル−ヘキサン系溶媒）により精製しＮ
−（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−１−ナ
フタレンメチルアミン２. ６２５g を得た。（シス／ト
ランス混合物、収率８３. ８％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. １７〜７. ９６
（ｍ, １Ｈ）, ７. ８７〜７. １８（ｍ, ６Ｈ）, ４.
３６（ｓ, ２Ｈ）, ４. ２６〜１. ６２（ｍ, ７Ｈ, Ｄ
2 Ｏ置換で１Ｈ分消失）, 〔１. ２１（シス体−ｄ, Ｊ
＝６. ０Ｈｚ）＋１. ６１（トランス体−ｄ, Ｊ＝６.
０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２７０（Ｍ+ ）
【００３４】
【実施例６】水素化ナトリウム（６０％w/w,油性）０.
３７８g を反応容器に秤量し、窒素雰囲気下ヘキサンで
洗浄した後、ジメチルホルムアミド４. ５０ml、Ｎ−
（２,６−ジメチルモルホリン−１−イル）−１−ナフ
タレンメチルアミン（シス／トランス混合物）２. ６１
５g のジメチルホルムアミド溶液６. ５０mlを順次添加
し、室温で１. ５時間撹拌する。その後臭化シンナミル
２. ３１０g を添加し、室温で５時間反応させる。反応
混合物を減圧下濃縮、残留物にクロロホルムを添加して
再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグネウムで脱
水、溶媒を減圧下留去すると燈色油状物が得られる。
３７８g を反応容器に秤量し、窒素雰囲気下ヘキサンで
洗浄した後、ジメチルホルムアミド４. ５０ml、Ｎ−
（２,６−ジメチルモルホリン−１−イル）−１−ナフ
タレンメチルアミン（シス／トランス混合物）２. ６１
５g のジメチルホルムアミド溶液６. ５０mlを順次添加
し、室温で１. ５時間撹拌する。その後臭化シンナミル
２. ３１０g を添加し、室温で５時間反応させる。反応
混合物を減圧下濃縮、残留物にクロロホルムを添加して
再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫酸マグネウムで脱
水、溶媒を減圧下留去すると燈色油状物が得られる。
【００３５】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−クロロホルム系溶）により精製
し、Ｎ−（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−
Ｎ−シンナミル−１−ナフタレンメチルアミン２. １６
０g （シス／トランスの混合物、収率５７. ８％）、及
びＮ−（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−Ｎ
−（α−フェニルアリル）−１−ナフタレンメチルアミ
ン０. ５３１g （シス／トランス混合物、収率１４. ２
％）を得た。
フィー（酢酸エチル−クロロホルム系溶）により精製
し、Ｎ−（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−
Ｎ−シンナミル−１−ナフタレンメチルアミン２. １６
０g （シス／トランスの混合物、収率５７. ８％）、及
びＮ−（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−Ｎ
−（α−フェニルアリル）−１−ナフタレンメチルアミ
ン０. ５３１g （シス／トランス混合物、収率１４. ２
％）を得た。
【００３６】上記Ｎ−シンナミル体のシス−トランス混
合物を再度シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル−ヘキサン系溶媒）により精製し、Ｎ−（シス−
２,６−ジメチルモルホリン−１−イル）−Ｎ−シンナ
ミル−１−ナフタレンメチルアミン０. ９６０g 、及び
Ｎ−（トランス−２, ６−ジメチルモルホリン−１−イ
ル）−Ｎ−シンナミル−１−ナフタレンメチルアミン
０. ９２１g を得た。
合物を再度シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル−ヘキサン系溶媒）により精製し、Ｎ−（シス−
２,６−ジメチルモルホリン−１−イル）−Ｎ−シンナ
ミル−１−ナフタレンメチルアミン０. ９６０g 、及び
Ｎ−（トランス−２, ６−ジメチルモルホリン−１−イ
ル）−Ｎ−シンナミル−１−ナフタレンメチルアミン
０. ９２１g を得た。
【００３７】＜シス体＞1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ４０〜８. １３
（ｍ, １Ｈ）, ７. ８８〜６. ９４（ｍ, １１Ｈ）,
６. ４１（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ）, ６. ０８
（ｄ−ｔ, １Ｈ, １５. ４Ｈｚ, ５. ０Ｈｚ）, ４. １
３（ｓ, ２Ｈ）, ３. ７９〜３. ２１（ｍ, ４Ｈ；但し
３. ３７（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝５. ０Ｈｚ）を含む）, ２.
９０（ｄ−ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝１１. ２Ｈｚ ,１. ６Ｈ
ｚ）, ２. ３１（ｄ−ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝１１. ２Ｈｚ, １
０. ０Ｈｚ）, １. ２７（ｄ, ６Ｈ, Ｊ＝６.０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３８７（Ｍ＋１） ＜トランス体＞1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ４６〜８. １６
（ｍ, １Ｈ）, ７. ９０〜６. ９８（ｍ, １１Ｈ）,
６. ４６（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ）, ６. １４
（ｄ−ｔ, １Ｈ, １５. ４Ｈｚ, ５. ０Ｈｚ）, ４. １
１（ｓ, ２Ｈ）, ４. １０〜３. ６２（ｍ, ２Ｈ）,
３. ３５（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝５. ０Ｈｚ）, ２. ８６（ｄ
−ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝１０. ３Ｈｚ, ３. １Ｈｚ）, ２. ４
８（ｄ−ｄ, ２Ｈ,Ｊ＝１０. ３Ｈｚ, ５. ０Ｈｚ）,
１. ０６（ｄ, ６Ｈ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３８７（Ｍ＋１）
（ｍ, １Ｈ）, ７. ８８〜６. ９４（ｍ, １１Ｈ）,
６. ４１（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ）, ６. ０８
（ｄ−ｔ, １Ｈ, １５. ４Ｈｚ, ５. ０Ｈｚ）, ４. １
３（ｓ, ２Ｈ）, ３. ７９〜３. ２１（ｍ, ４Ｈ；但し
３. ３７（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝５. ０Ｈｚ）を含む）, ２.
９０（ｄ−ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝１１. ２Ｈｚ ,１. ６Ｈ
ｚ）, ２. ３１（ｄ−ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝１１. ２Ｈｚ, １
０. ０Ｈｚ）, １. ２７（ｄ, ６Ｈ, Ｊ＝６.０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３８７（Ｍ＋１） ＜トランス体＞1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ４６〜８. １６
（ｍ, １Ｈ）, ７. ９０〜６. ９８（ｍ, １１Ｈ）,
６. ４６（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ）, ６. １４
（ｄ−ｔ, １Ｈ, １５. ４Ｈｚ, ５. ０Ｈｚ）, ４. １
１（ｓ, ２Ｈ）, ４. １０〜３. ６２（ｍ, ２Ｈ）,
３. ３５（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝５. ０Ｈｚ）, ２. ８６（ｄ
−ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝１０. ３Ｈｚ, ３. １Ｈｚ）, ２. ４
８（ｄ−ｄ, ２Ｈ,Ｊ＝１０. ３Ｈｚ, ５. ０Ｈｚ）,
１. ０６（ｄ, ６Ｈ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３８７（Ｍ＋１）
【００３８】
【実施例７】Ｎ−（イミダゾール−１−イル）−１−ナ
フタレンメチルアミン０. １０５gをジメチルホルムア
ミド０. ５０mlに溶解させ、１, ２, ４−１Ｈ−トリア
ゾール０. ０３６g 、パラホルムアルデヒド０. ０１６
g を順次添加した後、１００℃で３２. ５時間反応させ
る。反応混合物を室温付近に戻し、減圧下濃縮、残留物
にクロロホルムを添加して再溶解させた後、水で洗浄
し、無水硫酸マグシウムで脱水、溶媒を減圧下留去する
と濃黄色油状物が得られる。
フタレンメチルアミン０. １０５gをジメチルホルムア
ミド０. ５０mlに溶解させ、１, ２, ４−１Ｈ−トリア
ゾール０. ０３６g 、パラホルムアルデヒド０. ０１６
g を順次添加した後、１００℃で３２. ５時間反応させ
る。反応混合物を室温付近に戻し、減圧下濃縮、残留物
にクロロホルムを添加して再溶解させた後、水で洗浄
し、無水硫酸マグシウムで脱水、溶媒を減圧下留去する
と濃黄色油状物が得られる。
【００３９】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム−メタノール系溶媒）により精製
し、Ｎ−（イミダゾール−１−イル）−Ｎ−［（１,
２, ４−１Ｈ−トリアゾール−１−イル）メチル］−１
−ナフタレンメチルアミン０.０４４g （シス／トラン
ス混合物、収率３０. ８％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ２４〜７. １４
（ｍ, ９Ｈ）, ７. ０５（ｓ, １Ｈ）, ６. ７７（ｄ,
１Ｈ, Ｊ＝１. ６Ｈｚ）, ６. ５２（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝
１. ６Ｈｚ）, ５ .３０（ｓ, ２Ｈ）, ４. ７３（ｓ,
２Ｈ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３０４（Ｍ+ ）
フィー（クロロホルム−メタノール系溶媒）により精製
し、Ｎ−（イミダゾール−１−イル）−Ｎ−［（１,
２, ４−１Ｈ−トリアゾール−１−イル）メチル］−１
−ナフタレンメチルアミン０.０４４g （シス／トラン
ス混合物、収率３０. ８％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ２４〜７. １４
（ｍ, ９Ｈ）, ７. ０５（ｓ, １Ｈ）, ６. ７７（ｄ,
１Ｈ, Ｊ＝１. ６Ｈｚ）, ６. ５２（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝
１. ６Ｈｚ）, ５ .３０（ｓ, ２Ｈ）, ４. ７３（ｓ,
２Ｈ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３０４（Ｍ+ ）
【００４０】
【実施例８】１, ２, ４−１Ｈ−トリアゾール０. １６
４g をアセトン５. ００mlに溶解させ、炭酸水素ナトリ
ウム０. ２９９g 、２−ナフチルクロロチオホルメート
０.５２９g のアセトン溶液１. ５０mlを順次添加し、
室温で３. ５時間反応させる。その後、反応混合物の不
溶物を濾別、アセトンで洗浄する。濾液を減圧下濃縮
し、残留物にクロロホルムを加えて再溶解させた後、水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水、溶媒を減圧下
留去すると黄色固体が得られる。
４g をアセトン５. ００mlに溶解させ、炭酸水素ナトリ
ウム０. ２９９g 、２−ナフチルクロロチオホルメート
０.５２９g のアセトン溶液１. ５０mlを順次添加し、
室温で３. ５時間反応させる。その後、反応混合物の不
溶物を濾別、アセトンで洗浄する。濾液を減圧下濃縮
し、残留物にクロロホルムを加えて再溶解させた後、水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水、溶媒を減圧下
留去すると黄色固体が得られる。
【００４１】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−クロロホルム系溶媒）により精製
し、Ｏ−２−ナフチル （１, ２, ４−１Ｈ−トリアゾ
ール−１−イル）−チオホルメート０. ４０５g を得
た。（収率６６. ８％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ９. １４（ｓ, １
Ｈ）, ８. １３（ｓ, １Ｈ）, ８. ００〜７. １４
（ｍ, ７Ｈ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：２５５（Ｍ+ ）
フィー（酢酸エチル−クロロホルム系溶媒）により精製
し、Ｏ−２−ナフチル （１, ２, ４−１Ｈ−トリアゾ
ール−１−イル）−チオホルメート０. ４０５g を得
た。（収率６６. ８％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ９. １４（ｓ, １
Ｈ）, ８. １３（ｓ, １Ｈ）, ８. ００〜７. １４
（ｍ, ７Ｈ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：２５５（Ｍ+ ）
【００４２】
【実施例９】実施例８における１, ２, ４−１Ｈ−トリ
アゾールの代わりに、２, ６−ジメチルモルホリン（シ
ス／トランス＝１／１の混合物）０. ３２３g を用い、
実施例７と同様に反応、精製を行い、Ｏ−２−ナフチル
（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−チオホ
ルメート０. ８４０g を得た。（シス／トランス混合
物、収率９９. ４％） 上記シス−トランス混合物を再度シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（クロロホルム−ヘキサン系溶媒）によ
り精製し、Ｏ−２−ナフチル （シス−２, ６−ジメチ
ルモルホリン−１−イル）−チオホルメ−ト０. ４２１
g 及びＯ−２−ナフチル（トランス−２, ６−ジメチル
モルホリン−１−イル）−チオホルメート０. ４０２g
を得た。
アゾールの代わりに、２, ６−ジメチルモルホリン（シ
ス／トランス＝１／１の混合物）０. ３２３g を用い、
実施例７と同様に反応、精製を行い、Ｏ−２−ナフチル
（２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル）−チオホ
ルメート０. ８４０g を得た。（シス／トランス混合
物、収率９９. ４％） 上記シス−トランス混合物を再度シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（クロロホルム−ヘキサン系溶媒）によ
り精製し、Ｏ−２−ナフチル （シス−２, ６−ジメチ
ルモルホリン−１−イル）−チオホルメ−ト０. ４２１
g 及びＯ−２−ナフチル（トランス−２, ６−ジメチル
モルホリン−１−イル）−チオホルメート０. ４０２g
を得た。
【００４３】＜シス体＞1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ０４〜７. ０７
（ｍ, ７Ｈ）, ４. ７９（ｄ−ｄ−ｔ, ２Ｈ, Ｊ＝１
２. ３Ｈｚ, ２１. ８Ｈｚ, １. ８Ｈｚ）, ４. ０４〜
３. ３０（ｍ, ２Ｈ） ,２. ７８（ｄ−ｄ−ｔ, ２Ｈ,
Ｊ＝１２. ３Ｈｚ, ９. ８Ｈｚ, ３. ０Ｈｚ）, １. ２
３（ｄ, ６Ｈ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３０１（Ｍ+ ） ＜トランス体＞1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ０３〜７. ２３
（ｍ, ３Ｈ）, ７. １８〜７. ０７（ｍ, ４Ｈ）, ４.
６１〜３. ４３（ｍ, ６Ｈ）, １. ２０（ｄ, ６Ｈ, Ｊ
＝６. ０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３０１（Ｍ+ ）
（ｍ, ７Ｈ）, ４. ７９（ｄ−ｄ−ｔ, ２Ｈ, Ｊ＝１
２. ３Ｈｚ, ２１. ８Ｈｚ, １. ８Ｈｚ）, ４. ０４〜
３. ３０（ｍ, ２Ｈ） ,２. ７８（ｄ−ｄ−ｔ, ２Ｈ,
Ｊ＝１２. ３Ｈｚ, ９. ８Ｈｚ, ３. ０Ｈｚ）, １. ２
３（ｄ, ６Ｈ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３０１（Ｍ+ ） ＜トランス体＞1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ８. ０３〜７. ２３
（ｍ, ３Ｈ）, ７. １８〜７. ０７（ｍ, ４Ｈ）, ４.
６１〜３. ４３（ｍ, ６Ｈ）, １. ２０（ｄ, ６Ｈ, Ｊ
＝６. ０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：３０１（Ｍ+ ）
【００４４】
【実施例１０】１−アミノ−２, ６−ジメチルモルホリ
ン（シス／トランス混合物）１. ９７５g をテトラヒド
ロフラン１２. ０mlに溶解させ、トランス−シンナムア
ルデヒド１ .８１mlを添加した後、室温で２. ５時間反
応させる。反応混合物を減圧下濃縮し、残留物ジエチル
エーテルを加えて再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油
状物が得られる。
ン（シス／トランス混合物）１. ９７５g をテトラヒド
ロフラン１２. ０mlに溶解させ、トランス−シンナムア
ルデヒド１ .８１mlを添加した後、室温で２. ５時間反
応させる。反応混合物を減圧下濃縮し、残留物ジエチル
エーテルを加えて再溶解させた後、水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで脱水、溶媒を減圧下留去すると黄色油
状物が得られる。
【００４５】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−ヘキサン系溶媒）により精製し、
Ｎ−シンナミリデン−２, ６−ジメチルモルホリン−１
−アミン２. ６８８g を得た。（シス／トランス混合
物、収率７６. ７％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ７. ５４〜７. ０４
（ｍ, ６Ｈ）, ６. ８９〜６. ３４（ｍ, ２Ｈ）, ４.
３３〜１. ９１（ｍ, ６Ｈ）, 〔１. ３２（シス体−
ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）＋１. ２６（トランス体−ｄ, Ｊ
＝６. ０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２４４（Ｍ+ ）
フィー（酢酸エチル−ヘキサン系溶媒）により精製し、
Ｎ−シンナミリデン−２, ６−ジメチルモルホリン−１
−アミン２. ６８８g を得た。（シス／トランス混合
物、収率７６. ７％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ７. ５４〜７. ０４
（ｍ, ６Ｈ）, ６. ８９〜６. ３４（ｍ, ２Ｈ）, ４.
３３〜１. ９１（ｍ, ６Ｈ）, 〔１. ３２（シス体−
ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）＋１. ２６（トランス体−ｄ, Ｊ
＝６. ０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２４４（Ｍ+ ）
【００４６】
【実施例１１】Ｎ−シンナミリデン−２, ６−ジメチル
モルホリン−１−アミン（シス／トランス混合物）０.
５１３g をメタノール６. ００mlに溶解させ、濃塩酸
０. １８ml、シアノ水素化ホウ素ナトリウム０. １３６
g を順次添加した後、室温で１時間反応させる。その
後、反応混合物を減圧下濃縮し、残留物にクロロホルム
を加えて再溶解させた後、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液で順次洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで
脱水、溶媒を減圧下留去すると、白色固体のＮ−（２,
６−ジメチルモルホリン−１−イル）−シンナミルアミ
ン０. ４９１g が得られる。（シス／トランス混合物、
収率９５. ０％） このものは特に精製しなくても次の反応に充分使用可能
であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製できる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ７. ４５〜６. ９５
（ｍ, ５Ｈ）, ６. ５０（ｄ, １Ｈ ,Ｊ＝１５. ４Ｈ
ｚ）, ６. １４（ｄ−ｔ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ、
５. ０Ｈｚ）, ４ .８８（ｓ, １Ｈ）, ４. ２６〜１.
８２（ｍ, ８Ｈ）, 〔１. ２１（シス体−ｄ, Ｊ＝６.
０Ｈｚ）＋１. ６１（トランス体−ｄ, Ｊ＝６.０Ｈ
ｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２４６（Ｍ+ ）
モルホリン−１−アミン（シス／トランス混合物）０.
５１３g をメタノール６. ００mlに溶解させ、濃塩酸
０. １８ml、シアノ水素化ホウ素ナトリウム０. １３６
g を順次添加した後、室温で１時間反応させる。その
後、反応混合物を減圧下濃縮し、残留物にクロロホルム
を加えて再溶解させた後、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液で順次洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで
脱水、溶媒を減圧下留去すると、白色固体のＮ−（２,
６−ジメチルモルホリン−１−イル）−シンナミルアミ
ン０. ４９１g が得られる。（シス／トランス混合物、
収率９５. ０％） このものは特に精製しなくても次の反応に充分使用可能
であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製できる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ７. ４５〜６. ９５
（ｍ, ５Ｈ）, ６. ５０（ｄ, １Ｈ ,Ｊ＝１５. ４Ｈ
ｚ）, ６. １４（ｄ−ｔ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ、
５. ０Ｈｚ）, ４ .８８（ｓ, １Ｈ）, ４. ２６〜１.
８２（ｍ, ８Ｈ）, 〔１. ２１（シス体−ｄ, Ｊ＝６.
０Ｈｚ）＋１. ６１（トランス体−ｄ, Ｊ＝６.０Ｈ
ｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：２４６（Ｍ+ ）
【００４７】
【実施例１２】Ｎ−（２, ６−ジメチルモルホリン−１
−イル）−シンナミルアミン（シス／トランス混合物）
０. ５８６g をアセトン５. ００mlに溶解させ、炭酸水
素ナトリウム０. ２００g 、２−ナフチルクロロチオホ
ルメート０. ５３０g のアセトン溶液１. ５０mlを順次
添加し、室温で３. ５時間反応させる。その後、反応混
合物の不溶物を濾別、アセトンで洗浄する。濾液を減圧
下濃縮し、残留物にクロロホルムを加えて再溶解させた
後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水、溶媒を
減圧下留去すると黄色固体が得られる。
−イル）−シンナミルアミン（シス／トランス混合物）
０. ５８６g をアセトン５. ００mlに溶解させ、炭酸水
素ナトリウム０. ２００g 、２−ナフチルクロロチオホ
ルメート０. ５３０g のアセトン溶液１. ５０mlを順次
添加し、室温で３. ５時間反応させる。その後、反応混
合物の不溶物を濾別、アセトンで洗浄する。濾液を減圧
下濃縮し、残留物にクロロホルムを加えて再溶解させた
後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水、溶媒を
減圧下留去すると黄色固体が得られる。
【００４８】このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン−クロロホルム系溶媒）により精製
し、Ｏ−２−ナフチル Ｎ−（２, ６−ジメチルモルホ
リン−１−イル）−Ｎ−シンナミル−チオカーバメート
０. ９２４g を得た。（シス／トランス混合物、収率８
９. ８％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ７. ９５〜６. ９２
（ｍ, １２Ｈ）, ６. ４１（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈ
ｚ）, ６. ０９（ｄ−ｔ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ、
５. ０Ｈｚ）, ４. ５３（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝５. ０Ｈ
ｚ）, ４. ２６〜１. ６５（ｍ, ６Ｈ）, 〔１. ２１
（シス体−ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）＋１. ６（トランス体
−ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：４３２（Ｍ+ ）
フィー（ヘキサン−クロロホルム系溶媒）により精製
し、Ｏ−２−ナフチル Ｎ−（２, ６−ジメチルモルホ
リン−１−イル）−Ｎ−シンナミル−チオカーバメート
０. ９２４g を得た。（シス／トランス混合物、収率８
９. ８％）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δ７. ９５〜６. ９２
（ｍ, １２Ｈ）, ６. ４１（ｄ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈ
ｚ）, ６. ０９（ｄ−ｔ, １Ｈ, Ｊ＝１５. ４Ｈｚ、
５. ０Ｈｚ）, ４. ５３（ｄ, ２Ｈ, Ｊ＝５. ０Ｈ
ｚ）, ４. ２６〜１. ６５（ｍ, ６Ｈ）, 〔１. ２１
（シス体−ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）＋１. ６（トランス体
−ｄ, Ｊ＝６. ０Ｈｚ）, ６Ｈ〕 ＭＳ（ｍ／ｅ）：４３２（Ｍ+ ）
【００４９】
【参考例】（試験管内抗真菌活性試験） ｙｅａｓｔ ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙ ａｇｅｒ（ＹＭＡ
培地）、ｓａｂｏｕｒａｕｄ ｄｅｘｔｒｏｓｅ ａｇ
ｅｒ（ＳＤ培地）及び感性デイ スク培地（ＫＤＡ培地）
を培地に用い、１０4 個／ｍｌの菌（Ｃａｎｄｉｄａ
ａｌｂｉｃａｎｓ、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉ
ｇａｔｕｓ及びＴｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｍｅｎｔａ
ｇｒｏｐｈｙｔｅｓ）を含む平板寒天培地を作製した。
培地）、ｓａｂｏｕｒａｕｄ ｄｅｘｔｒｏｓｅ ａｇ
ｅｒ（ＳＤ培地）及び感性デイ スク培地（ＫＤＡ培地）
を培地に用い、１０4 個／ｍｌの菌（Ｃａｎｄｉｄａ
ａｌｂｉｃａｎｓ、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉ
ｇａｔｕｓ及びＴｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｍｅｎｔａ
ｇｒｏｐｈｙｔｅｓ）を含む平板寒天培地を作製した。
【００５０】次いで、濃度１００μｇ／ｍｌの被検物質
を含むサンプルを、上記培地で作製した平板寒天培地に
のせ、２７℃、２４時間静置した後、生育阻止円の有無
を判定した。得られた結果について、脚注の抗真菌活性
標記に従って、C.albicansに対する試験管内抗真菌活性
を表１に、A.fumigatus に対する試験管内抗真菌活性を
表２に、T.mentagrophytesに対する試験管内抗真菌活性
を表３に示す。
を含むサンプルを、上記培地で作製した平板寒天培地に
のせ、２７℃、２４時間静置した後、生育阻止円の有無
を判定した。得られた結果について、脚注の抗真菌活性
標記に従って、C.albicansに対する試験管内抗真菌活性
を表１に、A.fumigatus に対する試験管内抗真菌活性を
表２に、T.mentagrophytesに対する試験管内抗真菌活性
を表３に示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】
【表２】
【００５３】
【表３】
【００５４】
【発明の効果】本発明の化合物は、遊離状またはその塩
の形で静注あるいは経口投与した場合、安全性に優れた
新規な抗真菌剤としての作用が期待される。
の形で静注あるいは経口投与した場合、安全性に優れた
新規な抗真菌剤としての作用が期待される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 265/30 403/12 ２３３ 8829−4Ｃ
Claims (9)
- 【請求項１】一般式（１） 【化１】 で示されるナフタレン誘導体及びその塩
- 【請求項２】一般式（１）において−Ｙが−ＣＨ2 −Ｎ
ＲＲ1 である、請求項１記載の化合物 - 【請求項３】一般式（１）において−Ｙが一般式（１−
１）で示される、請求項１記載の化合物 【化２】 - 【請求項４】一般式（１）において−Ｙが一般式（１−
２）で示される、請求項１記載の化合物 【化３】 - 【請求項５】一般式（１）の−Ｙが−ＣＨ2 −ＮＲＲ1
である時、そのＲ1 が２ ,６−ジメチルモルホリン−１
−イル基である、請求項２記載の化合物 - 【請求項６】一般式（１）の−Ｙが−ＣＨ2 −ＮＲＲ1
である時、そのＲ1 がイミダゾール−１−イル基であ
る、請求項２記載の化合物 - 【請求項７】一般式（１−１）において−ＮＲ2 Ｒ3 が
２, ６−ジメチルモルホリン−１−イル基である請求項
３記載の化合物 - 【請求項８】一般式（１−１）において−ＮＲ2 Ｒ3 が
１, ２, ４−１Ｈ−トリアゾール−１−イル基である請
求項３記載の化合物 - 【請求項９】一般式（１−１）において−ＮＲ2 Ｒ3 が
イミダゾール−１−イル基である請求項３記載の化合物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4275808A JPH05201990A (ja) | 1991-10-16 | 1992-10-14 | 新規なナフタレン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-267532 | 1991-10-16 | ||
| JP26753291 | 1991-10-16 | ||
| JP4275808A JPH05201990A (ja) | 1991-10-16 | 1992-10-14 | 新規なナフタレン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05201990A true JPH05201990A (ja) | 1993-08-10 |
Family
ID=26547916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4275808A Withdrawn JPH05201990A (ja) | 1991-10-16 | 1992-10-14 | 新規なナフタレン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05201990A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003514804A (ja) * | 1999-11-15 | 2003-04-22 | ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ファルネシルトランスフェラーゼ阻害剤としてのトリアゾール類 |
-
1992
- 1992-10-14 JP JP4275808A patent/JPH05201990A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003514804A (ja) * | 1999-11-15 | 2003-04-22 | ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ファルネシルトランスフェラーゼ阻害剤としてのトリアゾール類 |
| JP4883862B2 (ja) * | 1999-11-15 | 2012-02-22 | ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ファルネシルトランスフェラーゼ阻害剤としてのトリアゾール類 |
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