JPH0520300U - 高周波加速空洞 - Google Patents
高周波加速空洞Info
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- JPH0520300U JPH0520300U JP7633891U JP7633891U JPH0520300U JP H0520300 U JPH0520300 U JP H0520300U JP 7633891 U JP7633891 U JP 7633891U JP 7633891 U JP7633891 U JP 7633891U JP H0520300 U JPH0520300 U JP H0520300U
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- cavity
- gas
- frequency acceleration
- wall surface
- acceleration cavity
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Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高周波加速空洞の内壁面からのガスの発生を
抑えて、粒子加速器真空チャンバー内の超高真空を保持
する。 【構成】 高周波加速空洞21の空洞胴体31に冷却流
路36,38を構成し、液体N2 や液体He等の低温流
体を流す。これにより、空洞胴体31の内壁面はガスの
ゲッター面として作用し、この内壁面に付着しているガ
スを付着したままに保持し、また空洞内に浮游している
ガスを吸着する。これにより、空洞21内さらには真空
チャンバー22全体を超高真空に保持できる。
抑えて、粒子加速器真空チャンバー内の超高真空を保持
する。 【構成】 高周波加速空洞21の空洞胴体31に冷却流
路36,38を構成し、液体N2 や液体He等の低温流
体を流す。これにより、空洞胴体31の内壁面はガスの
ゲッター面として作用し、この内壁面に付着しているガ
スを付着したままに保持し、また空洞内に浮游している
ガスを吸着する。これにより、空洞21内さらには真空
チャンバー22全体を超高真空に保持できる。
Description
【0001】
この考案は、シンクロトロン等の粒子加速器で使用される高周波加速空洞に関 し、高周波加速空洞の内壁面からのガスの発生を抑えて、粒子加速器真空チャン バー内の超高真空を保持できるようにしたものである。
【0002】
近年、シンクロトロンは、シンクロトロン放射光(SOR)装置として、超々 LSI回路の作成、医療分野における診断、分子解析、構造解析等様々な分野へ の適用が期待されている。 シンクロトロン放射光装置の概要を図2に示す。荷電粒子発生装置(電子銃等 )10で発生した電子ビームは線型加速装置(ライナック)12で光速近くに加 速され、ビーム輸送部14の偏向電磁石16で偏向されて、インフレクタ18を 介して蓄積リング22内に入射される。蓄積リング22に入射された電子ビーム は高周波加速空洞21でエネルギを与えられながら収束電磁石23(垂直方向用 )、25(水平方向用)で収束され、偏向電磁石24で偏向されて蓄積リング2 2(真空チャンバー)中を回り続ける。偏向電磁石24で偏向される時に発生す るシンクロトロン放射光はビームチャンネル26を通して例えば露光装置28に 送られて超々LSI回路作成用の光源等として利用される。
【0003】
高周波加速空洞21は容積が比較的大きく、その内壁面の面積が広いため、ガ スの発生源となり、真空チャンバー22内を超高真空に保持するのが難しかった 。 この考案は上述の点に鑑みてなされたもので、高周波加速空洞の内壁面からの ガスの発生を抑えて、粒子加速器真空チャンバー内の超高真空を保持できるよう にした高周波加速空洞を提供しようとするものである。
【0004】
この考案は、空洞胴体に形成された冷却流路と、この冷却流路に低温流体を供 給して空洞胴体内壁面をガスのゲッター面として作用させる温度に冷却する低温 流体供給系統とを具備してなるものである。
【0005】
高周波加速空洞は外部から供給される高周波エネルギにより発熱するため、通 常空洞胴体全体に冷却流路を形成し、所定の温度(20℃、40℃等)の水を流 して冷却している。そこで、この考案ではこの冷却流路を利用して、水の代りに 液体N2 や液体He等の低温流体を流すことにより、高周波加速空洞の内壁面を ガスのゲッター面の働きを持たせるようにしている。これにより、高周波加速空 洞内壁面からのガスの発生自体を抑えるとともに、真空チャンバー内に存在して いるガスを積極的に吸着排気するようにして、真空チャンバー内の超高真空を保 持するとともに、他の真空排気系の負荷を軽減できるようにしている。
【0006】
この考案の一実施例を図1に示す。真空チャンバー22内には荷電粒子ビーム が通過している。真空チャンバー22の途中には高周波加速空洞21が挿入され ている。高周波加速空洞21は外部から高周波エネルギーが供給されて、真空チ ャンバー22内の荷電粒子ビームを加速する。
【0007】 高周波加速空洞21の空洞胴体31は、外形が略々円筒形に形成されている。 その周面部30および端面部32,34内には、冷却水路36,38,39(端 面部34の冷却流路39は図示せず)がそれぞれ形成されている。周面部30の 冷却流路36は、図1では直線状の仕切板40を用いて全周を蛇行して一周する 1本の流路として形成している。流路の端部には流体の入口42と出口44が形 成されている。全周を複数の区間に分割して、個々に独立した流路を形成してそ れぞれ流体の入口と出口を設けて、各流路にそれぞれ独立に流体を流すように構 成することもできる。このようにすれぱ、全周で均一に冷却することができる。
【0008】 端面部32,34の冷却流路38,39は図1ではリング状の仕切板46を用 いて同心円状の1本の流路として形成している。流路の端部には流体の入口48 と出口50が形成されている。
【0009】 低温流体供給系統52は液体N2 や液体He等の低温流体54をポンプ56で 各面の冷却流路36,38に供給して空洞胴体31を低温に冷却する。各冷却流 路36,38,39から排出される低温流体54はタンク58に戻されて、冷却 器60で冷却されて低温流体供給系統52を循環する。
【0010】 冷却時の周面部30の断面図を図3に示す(端面部32,34も同様である。 )。周面部30内には仕切板40により仕切られた冷却流路36が形成されて低 温流体54が流されている。これにより、周面部30は冷却され、その内壁面3 1aがガスのゲッター面として作用し、空洞内60に浮游しているガス62を吸 着排気する。また、もともと内壁面31aに付着しているガス64は付着したま ま保持される。これにより、空洞内60さらには真空チャンバー22内全体を超 高真空に保持でき、他の真空排気系の負荷を軽減できる。
【0011】 なお、空洞胴体31の外周側は、全体を断熱材66で包囲して断熱するのが望 ましい。
【0012】
冷却流路36は上記実施例のように空洞胴体31に形成するほか、図4に示す ように空洞胴体31の外周面に冷却配管70を取り付けまたは接触させるように 構成することもできる。 また、この考案は、シンクロトロン以外の各種粒子加速器の高周波加速器にも 適用することができる。
【0013】
【考案の効果】 以上説明したように、この考案によれば、高周波加速空洞の冷却流路を利用し て、液体N2 や液体He等の低温流体を流すことにより、高周波加速空洞の内壁 面をガスのゲッター面の働きを持たせるようにしたので、高周波加速空洞内壁面 からのガスの発生自体を抑えるとともに、真空チャンバー内に存在しているガス を積極的に吸着排気するようにして、真空チャンバー内の超高真空を保持すると ともに、他の真空排気系の負荷を軽減できる。
【図1】この考案の一実施例を示す斜視図および低温流
体の供給系統図である。
体の供給系統図である。
【図2】SOR装置の概要を示す平面図である。
【図3】図1の周面部30の一部拡大断面図である。
【図4】冷却流路の別の構成例を示す一部拡大断面図で
ある。
ある。
21 高周波加速空洞 31 空洞胴体 31a 内壁面 36 冷却流路 52 低温流体供給系統 54 低温流体
Claims (1)
- 【請求項1】空洞胴体に形成された冷却流路と、 この冷却流路に低温流体を供給して空洞胴体内壁面をガ
スのゲッター面として作用させる温度に冷却する低温流
体供給系統とを具備してなる高周波加速空洞。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7633891U JPH0520300U (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 高周波加速空洞 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7633891U JPH0520300U (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 高周波加速空洞 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0520300U true JPH0520300U (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=13602579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7633891U Pending JPH0520300U (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 高周波加速空洞 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0520300U (ja) |
-
1991
- 1991-08-28 JP JP7633891U patent/JPH0520300U/ja active Pending
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