JPH05209144A - 隠蔽用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 酸化チタンなどの隠蔽材４０〜８０重量％
と、（メタ）アクリル酸エステル系エマルジョン、アク
リル樹脂、カルナバワックス、マイクロクリスタリンワ
ックスなどの結合材１０〜６０重量％と、デンプン−ア
クリル酸グラフト共重合体や、アクリル酸−ビニルアル
コール共重合体、アクリル酸共重合体などの吸水性高分
子０．１〜３０重量％とより少なくともなる。 【効果】 塗膜上に再筆記（特に、水性の筆記具を用い
た場合）を行なった場合、インキのはじきが発生せず、
筆跡の乾燥性も良好である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、修正シート（テープ）
に用いる隠蔽用組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、文字、図柄等の隠蔽修正を行うも
のとして修正液、修正シート（テープ）といったものが
知られている。特に、修正シート（テープ）は、修正液
に比較して隠蔽を行った後、再筆記までの待ち時間が不
要である、また短時間で修正が出来るといった長所を有
している。ここで修正シート（テープ）として、隠蔽用
組成物を溶剤を用いて液状として、または熱を加えて液
状として剥離紙（剥離テープ）上に塗布し、乾燥または
冷却後、隠蔽用組成物層の表面に粘着剤を塗布したもの
が例示できる。このような修正シート（テープ）に用い
られ、隠蔽用転写被膜（以下、単に塗膜という）となる
隠蔽用組成物は、隠蔽材と、結合材とを主成分としてい
た。

【０００３】隠蔽材は、酸化チタンのような高い隠蔽性
を示す顔料を用いていた。

【０００４】結合材は、具体的には、アクリル樹脂、ビ
ニルアルキルエーテル樹脂、環化ゴム、スチレン−ブタ
ジエン共重合体系エラストマーなどの樹脂系物質、また
はパラフィンワックス、カルナバワックスなどのワック
ス系物質を用いていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】修正シート（テープ）
は、文字、図柄を隠蔽修正を行うだけでなく、修正を行
った後の塗膜上に再筆記を行う場合が多いので、再筆跡
の文字濃度低下が少なく、再筆跡の乾燥が速いことが好
ましい。しかし、結合材に樹脂系物質、またはワックス
系物質を使用した隠蔽用組成物は、その塗膜自体が疎水
性を呈している為、油性インキの場合は問題ないが、水
性インキ使用の万年筆、サインペン等の場合はインキが
はじかれてしまい再筆記が困難である、あるいは再筆記
できたとしても筆跡の乾燥が遅いという問題を有してい
た。

【０００６】本発明は、塗膜の再筆記性、または再筆記
乾燥性を向上するためになしたものであって、隠蔽材
と、結合材と、吸水性高分子とから少なくともなる隠蔽
用組成物を要旨とするものである。

【０００７】以下、詳細に説明する。隠蔽材は、酸化チ
タン、酸化亜鉛などの隠蔽性の高い顔料を用いる。特
に、酸化チタンが良好である。酸化チタンとしては、ル
チル型、アナターゼ型などの各種の酸化チタンが使用で
きる。市販のものとしては、タイトーンＳＲ−１、同Ｒ
−６５０、同Ｒ−３Ｌ、同Ａ−１１０、同Ａ−１５０，
同Ｒ−５Ｎ（以上、堺化学工業（株）製）、タイペーク
Ｒ−５８０、同Ｒ−５５０、同Ｒ−９３０、同Ａ−１０
０、同Ａ−２２０、同ＣＲ−５８（以上、石原産業
（株）製）、クロノスＫＲ−３１０−３１０、同ＫＲ−
３８０、同ＫＲ−４８０、同ＫＡ−１０、同ＫＡ−２
０、同ＫＡ−３０（以上、チタン工業（株）製）、タイ
ピュアＲ−９００、同Ｒ−９３１（以上、デュポン・ジ
ャパン（株）製）などが挙げられる。使用量は隠蔽用組
成物全量に対して４０〜８０重量％が好ましい。

【０００８】結合材は隠蔽用組成物が良好な塗膜を形成
するために使用するものである。具体例としては、アク
リル樹脂、アルキッド樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル
樹脂、ビニルアルキルエーテル樹脂、環化ゴム、スチレ
ン−ブタジエン系エラストマーなどの樹脂系物質や、蜜
蝋、鯨蝋、虫白蝋等の動物系ワックス、キャンデリラワ
ックス、カルナバワックス、木蝋等の植物系ワックス、
モンタンワックス、オゾケライト等の鉱物系ワックス、
パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス等
の石油系ワックス等といったワックス系物質が挙げられ
る。その使用量は隠蔽用組成物全量に対して１０〜６０
重量％が好ましい。上記結合材は、製造時の条件（例え
ば、溶剤を用いて液状とする場合には、使用する溶剤に
可溶な樹脂系物質を使用するとか、加熱して液状とする
場合には、ワックス系物質を多く使用するなど）や商品
として要求される品質に基づいて適宜選択される。

【０００９】本発明の特徴点である吸水性高分子は、水
性インキでの再筆記時にインキを吸着することにより、
はじき防止、再筆跡の乾燥性を向上するために使用する
ものであり、デンプン−アクリル酸グラフト共重合体、
アクリル酸−ビニアルコール共重合体、アクリル酸共重
合体、ポリアクリル酸塩よりなるものなどがある。具体
例を以下に記載する。

【００１０】デンプン−アクリル酸グラフト共重合体と
してはサンウェットＩＭ−３００ＭＰＳ（中心粒度１０
０〜８４０μｍ）、同ＩＭ−１０００ＭＰＳ（中心粒度
２０〜５０μｍ）、同ＩＭ−１０００（中心粒度１００
〜８４０μｍ）、同ＩＭ−２３００（中心粒度１００〜
８４０μｍ）（以上、三洋化成工業（株）製）などが挙
げられる。

【００１１】アクリル酸−ビニルアルコール共重合体と
してはスミカゲルＳＰ−５１０（平均粒径１０〜２０μ
ｍ）、同ＳＰ−５２０（平均粒径２０〜４０μｍ）（以
上、住友化学工業（株）製）等が挙げられる。

【００１２】アクリル酸重合体としてはアラソーブＳ−
１００（平均粒径２００〜４００μｍ）、同７５０（平
均粒径１５０〜３００μｍ）、同７５１（平均粒径１５
０〜３００μｍ）、同８００Ｆ（平均粒径３０〜５０μ
ｍ）、同８００Ａ（平均粒径１５０〜３００μｍ）（以
上、荒川化学工業（株）製）などが挙げられる。

【００１３】ポリアクリル酸塩としてはサンウェットＩ
Ｍ−５０００（中心粒度１００〜８４０μｍ）、同ＩＭ
−５０００ＭＰＳ（中心粒度２０〜５０μｍ）（以上、
三洋化成工業（株）製）などが挙げられる。

【００１４】上記吸水性高分子は単独若しくは混合して
使用可能であり、その使用量は隠蔽用組成物全体に対し
て０．１〜３０重量％が好ましく、より好ましくは０．
５〜２０重量％である。

【００１５】また、上記吸水性高分子の粒子径は塗膜の
平滑性を考慮すると５０μｍ以下が好ましい。

【００１６】尚、隠蔽修正する紙（例えば、葉書、色紙
など）などと色調を合わせるために有色顔料を、塗膜の
艶を消すためにシリカ、炭酸カルシウム等の体質顔料
を、塗膜の硬さを調節するために可塑材、顔料分散の為
に分散剤などいった各種の添加剤を適宜添加することも
出来る。

【００１７】

【作用】本発明に係わる隠蔽用組成物は、含有する吸水
性高分子が修正塗膜表面及び表面近傍の内部に存在して
いるため、水性インキを用いて再筆記した場合、インキ
中の水分を塗膜表面及び表面近傍の内部で補足し、ゲル
化してしまう。従って、筆跡の乾燥が速やかであり、は
じきを極力抑えるものと推察される。

【００１８】

【実施例】以下、単に「部」とあるのは「重量部」を示
す。

【００１９】実施例１ クロノルＫＲ−３８０ ６５部 アクリロイドＢ−６６（米国ローム＆ハース社製、アクリル樹脂） ２５部 メチルシクロヘキサン １２０部 スミカゲルＳＰ−５１０ １８部 ホモゲノールＬ−１８（花王石鹸（株）製、分散剤） １．２部 上記各成分をボールミルにて２４時間分散後、隠蔽用組
成物（溶剤溶解型）を得た。

【００２０】実施例２ クロノスＫＲ−３８０ ６０部 アクリロイドＢ−６６ １３部 １，１，１−トリクロロエタン １００部 サンウェットＩＭ−１０００ＭＰＳ １５部 ホモゲノールＬ−１８ １．２部 上記各成分を実施例１と同様になして隠蔽用組成物（溶
剤溶解型）を得た。

【００２１】実施例３ クロノスＫＲ−３８０ ６０部 アクリロイドＢ−６６ １２部 メチルシクロヘキサン １００部 アラソーブ８００Ｆ １５部 ホモゲノールＬ−１８ １．２部 上記各成分を実施例１と同様になして隠蔽用組成物（溶
剤溶解型）を得た。

【００２２】実施例４ タイペークＣＲ−５８ ６０部 １３０°Ｆパラフィンワックス １３部 スミカゲルＳＰ−５１０ １５部 上記各成分を８０℃に加熱した二本ロールで混合分散を
行い隠蔽用組成物（加熱溶融型）を得た。

【００２３】実施例５ クロノスＫＲ−３８０ ６０部 カルナバワックス １２部 サンウェットＩＭ−５０００ＭＰＳ １５部 上記各成分を実施例４と同様になして隠蔽用組成物（加
熱溶融型）を得た。

【００２４】実施例６ クロノスＫＲ−３８０ ６０部 キャンデリラワックス １５部 アラソーブ８００Ｆ １０部 上記各成分を実施例４と同様になして隠蔽用組成物（加
熱溶融型）を得た。

【００２５】比較例１ 実施例１のスミカゲルＳＰ−５１０を除いた以外は実施
例１と同様になして隠蔽用組成物（溶剤溶解型）を得
た。

【００２６】比較例２ 実施例２のサンウェットＩＭ−１０００ＭＰＳを除いた
以外は実施例２と同様になして隠蔽用組成物（溶剤溶解
型）を得た。

【００２７】比較例３ 実施例３のアラソーブ８００Ｆを除いた以外は実施例３
と同様になして隠蔽用組成物（溶剤溶解型）を得た。

【００２８】比較例４ 実施例４のスミカゲルＳＰ−５１０を除いた以外は実施
例４と同様になして隠蔽用組成物（加熱溶融型）を得
た。

【００２９】比較例５ 実施例５のサンウェットＩＭ−５０００ＭＰＳを除いた
以外は実施例５と同様になして隠蔽用組成物（加熱溶融
型）を得た。

【００３０】比較例６ 実施例６のアラソーブ８００Ｆを除いた以外は実施例６
と同様になして隠蔽用組成物（加熱溶融型）を得た。

【００３１】実施例１〜３、比較例１〜３で得られた隠
蔽用組成物を離型紙上に７６μｍのアプリケーターで塗
布し、乾燥後、その上にＳＫダインＥ−３００８ＢＣ
（綜研化学（株）製、エマルジョン型粘着剤）を塗布
し、乾燥して修正シートを得た。実施例４〜６、比較例
４〜６で得られた隠蔽用組成物を８０℃に加熱して溶融
し、離型紙上に７６μｍのアプリケーターで塗布し、冷
却後、その上にＳＫダインＥ−３００８ＢＣを塗布し、
乾燥して修正シートを得た。

【００３２】以上で得られた修正シートを用いて再筆記
性試験、筆跡乾燥性試験を行った。実施例１〜３、比較
例１〜３による修正シートの試験結果を表１に示し、実
施例４〜６、比較例４〜６による修正シートの試験結果
を表２に示す。

【００３３】・再筆記性試験：修正箇所の塗膜上に、水
性インキ使用の筆記具（ぺんてる（株）製、ボールぺん
てるＢ−１００）で筆記し、筆跡の状態を観察した。 ○：筆跡にはじきがないものを ×：筆跡にはじきがあるもの ・筆跡乾燥性試験：修正箇所の塗膜上に上記水性インキ
使用の筆記具で筆記し、筆記後、筆記箇所を指で擦過
し、インキが指に付着しなくなるまでの時間を測定し
た。

【００３４】

【表１】

【００３５】

【表２】

【００３６】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の隠
蔽用組成物ははじきがなく、水性インキでの再筆跡乾燥
時間が短い為、固形修正具や修正シート（テープ）に用
いた場合、良好な品質を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 隠蔽材と、結合材と、吸水性高分子とか
   ら少なくともなる隠蔽用組成物。