JPH0521693A - 電子装置用部材およびその作製方法 - Google Patents
電子装置用部材およびその作製方法Info
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- JPH0521693A JPH0521693A JP3041258A JP4125891A JPH0521693A JP H0521693 A JPH0521693 A JP H0521693A JP 3041258 A JP3041258 A JP 3041258A JP 4125891 A JP4125891 A JP 4125891A JP H0521693 A JPH0521693 A JP H0521693A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、信頼性がよく、取扱いやすく、ま
た、製造歩留りの高い電子装置を作製する上で必要な電
子装置用部材ならびにそれを使用した電子装置、および
それらの作製方法を提供することを目的とする。 【構成】 電子装置において、リ−ドフレ−ムのステム
(201)、ダイ(202)の表面のうち、ワイヤボン
ドする部分(213)、あるいは電子部品(200)と
電気的に連結する部分以外が窒化珪素等の絶縁性無機材
料膜で覆われ、また、前記ステムは電子装置上に延びて
おり、電子装置と金線211によって電気的に結ばれ、
電子装置の全部およびリ−ドフレ−ムの一部はモ−ルド
材(203)中に封入されている。
た、製造歩留りの高い電子装置を作製する上で必要な電
子装置用部材ならびにそれを使用した電子装置、および
それらの作製方法を提供することを目的とする。 【構成】 電子装置において、リ−ドフレ−ムのステム
(201)、ダイ(202)の表面のうち、ワイヤボン
ドする部分(213)、あるいは電子部品(200)と
電気的に連結する部分以外が窒化珪素等の絶縁性無機材
料膜で覆われ、また、前記ステムは電子装置上に延びて
おり、電子装置と金線211によって電気的に結ばれ、
電子装置の全部およびリ−ドフレ−ムの一部はモ−ルド
材(203)中に封入されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等の電子部
品を基板またはリ−ドフレ−ム等の部材上に固着する電
子装置の高信頼性化をはかるための部材および該部材を
有する電子装置、ならびに該部材や該電子装置の作成方
法に関する。このため本発明は、基板またはリ−ドフレ
−ム上を、電子部品をダイアタッチする部分や金のワイ
ヤボンドをする部分を除き、窒化珪素等の無機材料の保
護膜で覆ってしまうことを特徴とする。そして、このよ
うにして形成された部材を用いて電子装置を形成し、有
機樹脂モ−ルドを施した際、この部材と有機樹脂の密着
性を向上させんとするものである。
品を基板またはリ−ドフレ−ム等の部材上に固着する電
子装置の高信頼性化をはかるための部材および該部材を
有する電子装置、ならびに該部材や該電子装置の作成方
法に関する。このため本発明は、基板またはリ−ドフレ
−ム上を、電子部品をダイアタッチする部分や金のワイ
ヤボンドをする部分を除き、窒化珪素等の無機材料の保
護膜で覆ってしまうことを特徴とする。そして、このよ
うにして形成された部材を用いて電子装置を形成し、有
機樹脂モ−ルドを施した際、この部材と有機樹脂の密着
性を向上させんとするものである。
【0002】さらに、上記部材とそれに密着する保護膜
との密着性を向上させることにより、上記部材と有機樹
脂材との間に生じるクラック、ふくれ(ダイの裏面側の
モ−ルド材が半田づけ等によって加熱される際に、ダイ
近傍の水の気化によって膨れてしまうこと)の発生を防
がんとするものである。
との密着性を向上させることにより、上記部材と有機樹
脂材との間に生じるクラック、ふくれ(ダイの裏面側の
モ−ルド材が半田づけ等によって加熱される際に、ダイ
近傍の水の気化によって膨れてしまうこと)の発生を防
がんとするものである。
【0003】また、リ−ドフレ−ムと電子装置との電気
的接触等による欠陥を防止せんとするものである。
的接触等による欠陥を防止せんとするものである。
【0004】
【従来の技術】従来の技術を用いて作製された集積回路
等のパッケージの様子を第1図に示す。リ−ドフレ−ム
101(105)、102、特にICチップ100がダ
イアタッチされるダイ102は銅や42アロイ等の金属
よりなり、この表面(裏面)には金等の良導電体が印刷
されている。そして、電子部品をダイアタッチさせる際
には、300〜400度Cで金−シリコン合金104を
作り、ICチップをダイ102上に固着させていた。
等のパッケージの様子を第1図に示す。リ−ドフレ−ム
101(105)、102、特にICチップ100がダ
イアタッチされるダイ102は銅や42アロイ等の金属
よりなり、この表面(裏面)には金等の良導電体が印刷
されている。そして、電子部品をダイアタッチさせる際
には、300〜400度Cで金−シリコン合金104を
作り、ICチップをダイ102上に固着させていた。
【0005】ICチップのダイ上への固着方法としては
以上の方法の他にも、100〜400度Cに加熱した有
機物またはガラス系の絶縁材または銀ペ−ストを用いる
方法も知られている。すなわち、有機物系の銀ペ−スト
を用いる場合では、ポリイミド系もしくはエポキシ系の
有機樹脂中に銀が混入した銀ペ−ストを固着材として用
い、基板または金属リ−ドフレ−ムのダイ102上にI
Cチップ等の電子部品を固定していた。この際には、液
体状態であった上記固着材104を化学反応や熱化学反
応を伴わせて固化し、よって上記電子部品を基板やリ−
ドフレ−ム上に固着させる。
以上の方法の他にも、100〜400度Cに加熱した有
機物またはガラス系の絶縁材または銀ペ−ストを用いる
方法も知られている。すなわち、有機物系の銀ペ−スト
を用いる場合では、ポリイミド系もしくはエポキシ系の
有機樹脂中に銀が混入した銀ペ−ストを固着材として用
い、基板または金属リ−ドフレ−ムのダイ102上にI
Cチップ等の電子部品を固定していた。この際には、液
体状態であった上記固着材104を化学反応や熱化学反
応を伴わせて固化し、よって上記電子部品を基板やリ−
ドフレ−ム上に固着させる。
【0006】しかし、いずれの方法においても、固着
後、有機樹脂よりなるモ−ルド103によって表面を覆
うモ−ルド処理をおこなうと、このモ−ルド材と銅また
は42アロイ等の材料の間に極めて剥がれやすい吸着物
106、および低級酸化物107が残存してしまう。
後、有機樹脂よりなるモ−ルド103によって表面を覆
うモ−ルド処理をおこなうと、このモ−ルド材と銅また
は42アロイ等の材料の間に極めて剥がれやすい吸着物
106、および低級酸化物107が残存してしまう。
【0007】このため、第1図に示したごとく、プラス
チック・モ−ルド・パッケ−ジは、高湿度雰囲気の暴露
や水中での使用といった過酷な条件での保存・使用では
もちろん、通常の保存・使用においても、信頼性低下の
原因となる水等が上記吸着物や低級酸化物等を伝って、
モ−ルド材の内部に侵入し、リ−ドフレ−ムのダイの裏
面等に集まる。この状態で、半田づけ(一般に260度
Cで3〜10秒の溶融半田中への浸漬をおこなう)をお
こなうと、上記水が急激に気化し、クラック108、1
09やボイド110が発生する。
チック・モ−ルド・パッケ−ジは、高湿度雰囲気の暴露
や水中での使用といった過酷な条件での保存・使用では
もちろん、通常の保存・使用においても、信頼性低下の
原因となる水等が上記吸着物や低級酸化物等を伝って、
モ−ルド材の内部に侵入し、リ−ドフレ−ムのダイの裏
面等に集まる。この状態で、半田づけ(一般に260度
Cで3〜10秒の溶融半田中への浸漬をおこなう)をお
こなうと、上記水が急激に気化し、クラック108、1
09やボイド110が発生する。
【0008】また、従来の有機物やその銀ペ−ストを用
いて電子部品を固着する方法においては、この方法は安
価かつ大量生産するには極めて優れたものであるが、有
機物固着材104は大気中で室温の状態、ないし加熱
(100〜300度C)の状態で、残存していた有機材
中の気化成分が基板やダイ上に吸着され、この後に形成
される保護膜やモ−ルド樹脂との密着性を悪化させる。
いて電子部品を固着する方法においては、この方法は安
価かつ大量生産するには極めて優れたものであるが、有
機物固着材104は大気中で室温の状態、ないし加熱
(100〜300度C)の状態で、残存していた有機材
中の気化成分が基板やダイ上に吸着され、この後に形成
される保護膜やモ−ルド樹脂との密着性を悪化させる。
【0009】さらに、図1に示すような、いわゆるリ−
ド・オン・チップ(LOC)構造はパッケ−ジのチップ
の大型化と高集積化が可能な構造であるが、従来のチッ
プの側面にリ−ドが存在する構造と異なり、チップの上
面にリ−ドが存在するため、リ−ドがチップ表面に接触
し、短絡等が発生する危険がある。このためLOC構造
では通常、チップとリ−ドの間に絶縁テ−プを挿入し、
チップとリ−ドが接触することを防いでいる。しかし、
そのために製造工程が複雑になる上、絶縁テ−プとチッ
プとの接触によるチップの機械的な損傷も問題となる。
絶縁テ−プのない構造が望ましいことは言うまでもな
い。
ド・オン・チップ(LOC)構造はパッケ−ジのチップ
の大型化と高集積化が可能な構造であるが、従来のチッ
プの側面にリ−ドが存在する構造と異なり、チップの上
面にリ−ドが存在するため、リ−ドがチップ表面に接触
し、短絡等が発生する危険がある。このためLOC構造
では通常、チップとリ−ドの間に絶縁テ−プを挿入し、
チップとリ−ドが接触することを防いでいる。しかし、
そのために製造工程が複雑になる上、絶縁テ−プとチッ
プとの接触によるチップの機械的な損傷も問題となる。
絶縁テ−プのない構造が望ましいことは言うまでもな
い。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来のモ−ルド封止させた1つのまたは複数の半導体集
積回路等の電子部品が基板またはリ−ドフレ−ム上に、
金−シリコン合金法、ガラス系銀ペ−スト法、有機材料
系銀ペ−スト法等の方法によって固着され、高い信頼性
が要求される電子装置において、その信頼性の低下を防
ぐための方法が講じられた電子装置およびそのために必
要な電子装置用部材を提供することを目的とする。
従来のモ−ルド封止させた1つのまたは複数の半導体集
積回路等の電子部品が基板またはリ−ドフレ−ム上に、
金−シリコン合金法、ガラス系銀ペ−スト法、有機材料
系銀ペ−スト法等の方法によって固着され、高い信頼性
が要求される電子装置において、その信頼性の低下を防
ぐための方法が講じられた電子装置およびそのために必
要な電子装置用部材を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決しようとする手段】上記目的は、電子装置
内の基板や金属リ−ドフレ−ム等の部材の上に予め無機
物からなる保護膜を、電気的な連結を必要とする部分
(導体部)を除いて設けられた構成をとることによって
達成される。すなわち、上記部材の表面に保護膜を設け
ることによって、モ−ルド樹脂と金属との間の耐湿性を
向上させ、また、密着性を向上させることが可能とな
る。さらに、リ−ドフレ−ムのうちICチップと直接も
しくは金線等によって間接的に接触することが望まれる
部分を除き、絶縁性の皮膜で覆ってしまうと、絶縁性の
テ−プを間に挿入することなく、リ−ドフレ−ムとIC
チップとの接触による短絡等を防止できる。
内の基板や金属リ−ドフレ−ム等の部材の上に予め無機
物からなる保護膜を、電気的な連結を必要とする部分
(導体部)を除いて設けられた構成をとることによって
達成される。すなわち、上記部材の表面に保護膜を設け
ることによって、モ−ルド樹脂と金属との間の耐湿性を
向上させ、また、密着性を向上させることが可能とな
る。さらに、リ−ドフレ−ムのうちICチップと直接も
しくは金線等によって間接的に接触することが望まれる
部分を除き、絶縁性の皮膜で覆ってしまうと、絶縁性の
テ−プを間に挿入することなく、リ−ドフレ−ムとIC
チップとの接触による短絡等を防止できる。
【0012】本発明は例えばリ−ドフレ−ムのごとき上
記部材それ自体およびそれを組み込んだ電子装置、なら
びに上記部材および上記電子装置の作成方法を提供す
る。
記部材それ自体およびそれを組み込んだ電子装置、なら
びに上記部材および上記電子装置の作成方法を提供す
る。
【0013】本発明の提供するリ−ドフレ−ム等の部材
は、電気的連結をおこなう部分(導体部)を除いて、絶
縁性で、該部材と密着性の良い無機材料、例えば窒化珪
素、酸化珪素、炭化珪素、DLC(ダイヤモンド状炭素
等の単層または多層膜で覆われることを特徴とするが、
その製法としては以下の様な方法を用いることが可能で
ある。すなわち、部材中の導体部のみをカバ−膜で予め
覆う。そして、これら全体にプラズマCVD法またはス
パッタ法により無機材料皮膜を形成し、この後、リフト
オフ法でカバ−膜とその上の無機材料皮膜を同時に除去
する。この工程を経ることによって、導体部のみが露出
し、他の部分が無機材料絶縁性皮膜で覆われたリ−ドフ
レ−ム等の部材が形成される。このようにして形成され
た部材はこれまでと同じ量産工程で、まったく工程を変
更することなく電子装置の作製に供せられる。また、リ
−ドフレ−ムのダイを形成する場合には、ダイ上にIC
チップ等の電子部品を従来の方法で固着したのちに、電
子部品上にあってワイヤボンディング法等によって電気
的連結をおこなう部分(電子部品上の導体部)もしくは
電子部品の全面にカバ−膜を形成し、その後、全体にプ
ラズマCVD法またはスパッタ法により無機材料皮膜を
形成し、この後、リフトオフ法でカバ−膜とその上の無
機材料皮膜を同時に除去することによっても、同様な構
造を有する部材を作製することができる。特にこの方法
は、電子部品の固着に有機材料を使用した場合に有効
で、先に説明したような有機気化成分がダイ等のリ−ド
フレ−ム上に吸着されたまま、モ−ルドで覆われること
がないため、信頼性を低下を防ぐことができる。すなわ
ち、固着後に、仮に気化成分がリ−ドフレ−ム等に吸着
されたとしても、それに続く皮膜形成の工程で、真空中
に晒されるために、一度吸着された気化成分を除去し、
かつ、その上に絶縁性の無機材料皮膜を形成することが
できる。
は、電気的連結をおこなう部分(導体部)を除いて、絶
縁性で、該部材と密着性の良い無機材料、例えば窒化珪
素、酸化珪素、炭化珪素、DLC(ダイヤモンド状炭素
等の単層または多層膜で覆われることを特徴とするが、
その製法としては以下の様な方法を用いることが可能で
ある。すなわち、部材中の導体部のみをカバ−膜で予め
覆う。そして、これら全体にプラズマCVD法またはス
パッタ法により無機材料皮膜を形成し、この後、リフト
オフ法でカバ−膜とその上の無機材料皮膜を同時に除去
する。この工程を経ることによって、導体部のみが露出
し、他の部分が無機材料絶縁性皮膜で覆われたリ−ドフ
レ−ム等の部材が形成される。このようにして形成され
た部材はこれまでと同じ量産工程で、まったく工程を変
更することなく電子装置の作製に供せられる。また、リ
−ドフレ−ムのダイを形成する場合には、ダイ上にIC
チップ等の電子部品を従来の方法で固着したのちに、電
子部品上にあってワイヤボンディング法等によって電気
的連結をおこなう部分(電子部品上の導体部)もしくは
電子部品の全面にカバ−膜を形成し、その後、全体にプ
ラズマCVD法またはスパッタ法により無機材料皮膜を
形成し、この後、リフトオフ法でカバ−膜とその上の無
機材料皮膜を同時に除去することによっても、同様な構
造を有する部材を作製することができる。特にこの方法
は、電子部品の固着に有機材料を使用した場合に有効
で、先に説明したような有機気化成分がダイ等のリ−ド
フレ−ム上に吸着されたまま、モ−ルドで覆われること
がないため、信頼性を低下を防ぐことができる。すなわ
ち、固着後に、仮に気化成分がリ−ドフレ−ム等に吸着
されたとしても、それに続く皮膜形成の工程で、真空中
に晒されるために、一度吸着された気化成分を除去し、
かつ、その上に絶縁性の無機材料皮膜を形成することが
できる。
【0014】図2は本発明構造の部材を用いたICパッ
ケ−ジの縦断面図を示す。また、図3において、本発明
構造の部材の作製工程の一例を示し、その完成した縦断
面に対応する図面を図3(E)に示す。
ケ−ジの縦断面図を示す。また、図3において、本発明
構造の部材の作製工程の一例を示し、その完成した縦断
面に対応する図面を図3(E)に示す。
【0015】図2において、リ−ドフレ−ムのダイ20
2に銀ペ−スト204等で密着させたチップ200が設
けられている。チップ200はICチップ以外にもキャ
パシター、インダクタ−等の電子部品であってもかまわ
ない。チップ200のアルミニウム・パッド212とリ
−ドフレ−ムのステム201の電気的連結をおこなう導
体部213(ここは金メッキがなされている)との間
に、金線211のワイヤボンドがなされている。
2に銀ペ−スト204等で密着させたチップ200が設
けられている。チップ200はICチップ以外にもキャ
パシター、インダクタ−等の電子部品であってもかまわ
ない。チップ200のアルミニウム・パッド212とリ
−ドフレ−ムのステム201の電気的連結をおこなう導
体部213(ここは金メッキがなされている)との間
に、金線211のワイヤボンドがなされている。
【0016】本発明は、このリ−ドフレ−ムのダイ20
2とステム201の表面に予め無機材料220をコ−ト
し、ダイ表面、ステム表面には電子部品200を密着さ
せる際に出やすい有機物または金属のナチュラル・オキ
サイドが形成されないようにしたものである。そして、
金属とは密着性の悪い有機樹脂モ−ルド材が無機材料と
密着性がよいことを積極的に利用し、結果としてリ−ド
フレ−ムとモ−ルド材の密着性を向上せしめたものであ
る。また、上記無機材料皮膜(絶縁性)によってリ−ド
フレ−ムと電子部品、あるいはリ−ドフレ−ム間の電気
的接触を防ぐこともできる。
2とステム201の表面に予め無機材料220をコ−ト
し、ダイ表面、ステム表面には電子部品200を密着さ
せる際に出やすい有機物または金属のナチュラル・オキ
サイドが形成されないようにしたものである。そして、
金属とは密着性の悪い有機樹脂モ−ルド材が無機材料と
密着性がよいことを積極的に利用し、結果としてリ−ド
フレ−ムとモ−ルド材の密着性を向上せしめたものであ
る。また、上記無機材料皮膜(絶縁性)によってリ−ド
フレ−ムと電子部品、あるいはリ−ドフレ−ム間の電気
的接触を防ぐこともできる。
【0017】図2において42アロイまたは銅からなる
リ−ドフレ−ム201、202において電子部品200
をアタッチさせる部分およびワイヤボンドする部分の金
の印刷が施されている部分には、無機材料絶縁皮膜22
0は形成されていない。また、図2には示されていない
が、ダイ202には穴を開け、半田付けの際の熱衝撃に
よる応力集中を逃す構造とすることも可能である。最終
的にはダイ202上に電子部品200が固着され、ステ
ムと電子部品の間に金線によってワイヤボンドがなされ
たのちに電子部品もリ−ドフレ−ムもモ−ルド封入さ
れ、完成する。
リ−ドフレ−ム201、202において電子部品200
をアタッチさせる部分およびワイヤボンドする部分の金
の印刷が施されている部分には、無機材料絶縁皮膜22
0は形成されていない。また、図2には示されていない
が、ダイ202には穴を開け、半田付けの際の熱衝撃に
よる応力集中を逃す構造とすることも可能である。最終
的にはダイ202上に電子部品200が固着され、ステ
ムと電子部品の間に金線によってワイヤボンドがなされ
たのちに電子部品もリ−ドフレ−ムもモ−ルド封入さ
れ、完成する。
【0018】図3にしたがって、本発明構造を作製する
方法の一例を説明する。最初に、図3(A)に示すよう
に有機樹脂もしくは機械的な方法によって、ステム30
1とダイ302を固定する。このとき、リ−ドフレ−ム
の足の部分305は図に示されるように有機樹脂等の中
に封入された状態となっていてもよい。その後、ステム
301の一部に印刷法もしくは他の方法によって選択的
に金の皮膜313を形成する。この順序は逆であっても
構わない。すなわち、先にステムに金の皮膜を形成し、
その後、リ−ドフレ−ムを固定してもよい。
方法の一例を説明する。最初に、図3(A)に示すよう
に有機樹脂もしくは機械的な方法によって、ステム30
1とダイ302を固定する。このとき、リ−ドフレ−ム
の足の部分305は図に示されるように有機樹脂等の中
に封入された状態となっていてもよい。その後、ステム
301の一部に印刷法もしくは他の方法によって選択的
に金の皮膜313を形成する。この順序は逆であっても
構わない。すなわち、先にステムに金の皮膜を形成し、
その後、リ−ドフレ−ムを固定してもよい。
【0019】さらに、図3(B)に示すように、ステム
およびダイのうち、無機材料絶縁皮膜を形成させたくな
い部分に、スクリ−ン印刷法等の方法によって有機樹脂
等の皮膜322を形成する。
およびダイのうち、無機材料絶縁皮膜を形成させたくな
い部分に、スクリ−ン印刷法等の方法によって有機樹脂
等の皮膜322を形成する。
【0020】さらにこれら全体に図3(C)に示すが如
く、無機材料の保護膜320をプラズマCVD法や光C
VD法、スパッタ法等の方法によって形成する。このと
き、特に図3に示される方法でLOC構造を作製する場
合には重要なことは、この皮膜形成が、極めて回り込み
よく、どの部分にもほぼ均等に、すなわち、ステップカ
バレ−ジ良くおこなわれる必要があるということであ
る。例えば、ダイ302の裏側にもステムの表面にも同
じだけ皮膜が形成されなければならない。したがって、
例えば真空蒸着法のごとき方法は本工程には適さない。
当然のことながら、リ−ドフレ−ムの足の部分は有機樹
脂中にあるため、その部分には無機材料皮膜は形成され
ない。
く、無機材料の保護膜320をプラズマCVD法や光C
VD法、スパッタ法等の方法によって形成する。このと
き、特に図3に示される方法でLOC構造を作製する場
合には重要なことは、この皮膜形成が、極めて回り込み
よく、どの部分にもほぼ均等に、すなわち、ステップカ
バレ−ジ良くおこなわれる必要があるということであ
る。例えば、ダイ302の裏側にもステムの表面にも同
じだけ皮膜が形成されなければならない。したがって、
例えば真空蒸着法のごとき方法は本工程には適さない。
当然のことながら、リ−ドフレ−ムの足の部分は有機樹
脂中にあるため、その部分には無機材料皮膜は形成され
ない。
【0021】この無機材料皮膜としては500度Cで大
気中に1時間放置しても変質することがなく、耐熱性を
有し、耐酸化性を有することが必要である。このために
は酸化珪素、窒化珪素、炭化珪素等を主成分とする材料
が優れている。
気中に1時間放置しても変質することがなく、耐熱性を
有し、耐酸化性を有することが必要である。このために
は酸化珪素、窒化珪素、炭化珪素等を主成分とする材料
が優れている。
【0022】次に、これら全体を有機溶剤中に浸し、超
音波を加えて、有機樹脂皮膜322を溶去し、同時にそ
の上に形成されている無機材料皮膜をも除去するとい
う、いわゆるリフトオフ法によって、後に電子部品をダ
イアタッチさせる部分とワイヤボンドする部分を露出さ
せる。さらに、ダイ302上に固着材304を塗布し、
さらに電子部品300を挿入し、その上に固着する。さ
らに、電子部品とステムとを金線311によってワイヤ
ボンドし、電子装置の内部結線が完了する。こうして、
図3(D)を得る。
音波を加えて、有機樹脂皮膜322を溶去し、同時にそ
の上に形成されている無機材料皮膜をも除去するとい
う、いわゆるリフトオフ法によって、後に電子部品をダ
イアタッチさせる部分とワイヤボンドする部分を露出さ
せる。さらに、ダイ302上に固着材304を塗布し、
さらに電子部品300を挿入し、その上に固着する。さ
らに、電子部品とステムとを金線311によってワイヤ
ボンドし、電子装置の内部結線が完了する。こうして、
図3(D)を得る。
【0023】最後に、図3(E)に示されるように、電
子部品とリ−ドフレ−ムごとエポキシ系の有機樹脂等に
よってモ−ルド封入をおこない、パッケージ303を形
成し、電子装置が完成する。本工程によれば、リ−ドフ
レ−ムのうち、モ−ルド材の内部の部分はほぼ完全に無
機材料皮膜によって覆うことができるが、外部の部分
は、無機材料皮膜の無い部分があり、該電子装置を実装
する際に従来のものと同様に扱え、便利である。図3に
示した例では、ダイ302が存在したが、ダイの存在し
ない構造のものであっても、この例に示した方法を用い
ることが可能である。
子部品とリ−ドフレ−ムごとエポキシ系の有機樹脂等に
よってモ−ルド封入をおこない、パッケージ303を形
成し、電子装置が完成する。本工程によれば、リ−ドフ
レ−ムのうち、モ−ルド材の内部の部分はほぼ完全に無
機材料皮膜によって覆うことができるが、外部の部分
は、無機材料皮膜の無い部分があり、該電子装置を実装
する際に従来のものと同様に扱え、便利である。図3に
示した例では、ダイ302が存在したが、ダイの存在し
ない構造のものであっても、この例に示した方法を用い
ることが可能である。
【0024】また、図3に示した方法ではリ−ドフレ−
ムに皮膜を形成する工程がリ−ドフレ−ムの組立後にな
されているが、各リ−ドフレ−ムに皮膜を形成したのち
に、それを組み立ててもよい。
ムに皮膜を形成する工程がリ−ドフレ−ムの組立後にな
されているが、各リ−ドフレ−ムに皮膜を形成したのち
に、それを組み立ててもよい。
【0025】また、無機材料皮膜としては、酸化珪素、
炭化珪素、窒化珪素、硬質炭素、あるいは組成比として
それらの混合物として記述されるもので、ストイキオメ
トリックなものやノンストイキオメトリックなものの単
層もしくは多層のものが適しているが、その厚さは30
〜500nmがのぞましい。
炭化珪素、窒化珪素、硬質炭素、あるいは組成比として
それらの混合物として記述されるもので、ストイキオメ
トリックなものやノンストイキオメトリックなものの単
層もしくは多層のものが適しているが、その厚さは30
〜500nmがのぞましい。
【0026】以下に実施例を示し、本発明を説明する。
【0027】
【実施例】〔実施例1〕図4に本発明の実施例を示す。
加熱し液状にしたポリエチレン中にリ−ドフレ−ム43
0を配置し、ポリエチレンを冷却して固化させ、台42
1とした。このとき、リ−ドフレ−ムは図4(G)に示
されるように、1つの平面に多数形成すると大量生産す
ることができる。さらに、リ−ドフレ−ムの導体部に金
の皮膜413および有機樹脂の皮膜422を形成した。
このようにして、図4(A)を得た。
加熱し液状にしたポリエチレン中にリ−ドフレ−ム43
0を配置し、ポリエチレンを冷却して固化させ、台42
1とした。このとき、リ−ドフレ−ムは図4(G)に示
されるように、1つの平面に多数形成すると大量生産す
ることができる。さらに、リ−ドフレ−ムの導体部に金
の皮膜413および有機樹脂の皮膜422を形成した。
このようにして、図4(A)を得た。
【0028】さらに、プラズマCVD法によって、リ−
ドフレ−ムの表面に窒化珪素の皮膜を形成した。皮膜の
形成には通常の平行平板型RFプラズマCVD装置を用
い、反応ガスとして、ジシラン(Si2H6)およびアンモニ
ア(NH3)を用いた。反応ガスの純度はいずれも99.9
9%以上とした。また、プラズマを発生させるためのガ
スとしてはアルゴン(99.9%以上)を用いた。図4
(G)に示される円盤状の基体をCVD装置の一方の電
極上に配置し、CVD装置の反応室内をタ−ボ分子ポン
プによって10の−4〜10の−8torrまで真空排
気し、この状態を5〜30分保持し、有機樹脂等から排
出される不要な、あるいは成膜反応に有害な気化成分を
充分排気した。
ドフレ−ムの表面に窒化珪素の皮膜を形成した。皮膜の
形成には通常の平行平板型RFプラズマCVD装置を用
い、反応ガスとして、ジシラン(Si2H6)およびアンモニ
ア(NH3)を用いた。反応ガスの純度はいずれも99.9
9%以上とした。また、プラズマを発生させるためのガ
スとしてはアルゴン(99.9%以上)を用いた。図4
(G)に示される円盤状の基体をCVD装置の一方の電
極上に配置し、CVD装置の反応室内をタ−ボ分子ポン
プによって10の−4〜10の−8torrまで真空排
気し、この状態を5〜30分保持し、有機樹脂等から排
出される不要な、あるいは成膜反応に有害な気化成分を
充分排気した。
【0029】その後、反応室内にアルゴンガスのみを導
入し、13.56MHzの高周波電力を電極間に加える
ことによってプラズマを生じさせた。高周波電力の電力
としては0.1〜1KWが適切であった。プラズマが安
定したことを確認してから、ジシランとアンモニアを少
量づつ反応室内に導入し、皮膜を形成した。反応ガスの
比率は、例えば、ジシラン1に対し、アンモニア5とい
うような比率にした。
入し、13.56MHzの高周波電力を電極間に加える
ことによってプラズマを生じさせた。高周波電力の電力
としては0.1〜1KWが適切であった。プラズマが安
定したことを確認してから、ジシランとアンモニアを少
量づつ反応室内に導入し、皮膜を形成した。反応ガスの
比率は、例えば、ジシラン1に対し、アンモニア5とい
うような比率にした。
【0030】成膜は室温でおこなった。このようにし
て、リ−ドフレ−ムを図4(B)で示すように、厚さ1
00〜300nmの窒化珪素皮膜420によってコ−テ
ィングした。このとき得られた窒化珪素の皮膜の物性は
別の基板上に形成したものより絶縁耐圧が8MV/cm
以上であり、赤外吸収スペクトルでは864cm−1の
Si−N結合の吸収ピ−クが明確に確認され、屈折率は
2.0で充分高抵抗であることが確認されている。
て、リ−ドフレ−ムを図4(B)で示すように、厚さ1
00〜300nmの窒化珪素皮膜420によってコ−テ
ィングした。このとき得られた窒化珪素の皮膜の物性は
別の基板上に形成したものより絶縁耐圧が8MV/cm
以上であり、赤外吸収スペクトルでは864cm−1の
Si−N結合の吸収ピ−クが明確に確認され、屈折率は
2.0で充分高抵抗であることが確認されている。
【0031】次にリ−ドフレ−ムごと超音波を加えつ
つ、トルエンを主成分とする有機溶媒中に浸し、有機樹
脂皮膜422とその上の窒化珪素皮膜420をリフトオ
フ法によって除去し、リ−ドフレ−ムの導体部413を
露出させた。このようにして、図4(C)を得た。
つ、トルエンを主成分とする有機溶媒中に浸し、有機樹
脂皮膜422とその上の窒化珪素皮膜420をリフトオ
フ法によって除去し、リ−ドフレ−ムの導体部413を
露出させた。このようにして、図4(C)を得た。
【0032】さらに、図4(D)中の425で示される
レベルまで液状のポリエチレンをつぎたし、固化させ
た。そして、このリ−ドフレ−ムの下の部分にICチッ
プ400を置き、金線411によって、リ−ドフレ−ム
とICチップをワイヤボンドした。
レベルまで液状のポリエチレンをつぎたし、固化させ
た。そして、このリ−ドフレ−ムの下の部分にICチッ
プ400を置き、金線411によって、リ−ドフレ−ム
とICチップをワイヤボンドした。
【0033】さらに、ポリエチレンの表面に出ているI
Cチップとリ−ドフレ−ムをエポキシ系の合成樹脂40
3によって固め、図4(E)を得た。
Cチップとリ−ドフレ−ムをエポキシ系の合成樹脂40
3によって固め、図4(E)を得た。
【0034】最後にポリエチレンを加熱して溶融させ、
除去し、ICチップの下面もエポキシ系の樹脂で固め、
完全にモ−ルド封入されたIC装置が作製できた。
除去し、ICチップの下面もエポキシ系の樹脂で固め、
完全にモ−ルド封入されたIC装置が作製できた。
【0035】
【発明の効果】本発明によって、リ−ドフレ−ム等の金
属材料とモ−ルド材の密着性を向上させ、よって、長期
の保存や高温多湿下での保存、また半田付け等の高温処
理等に伴う欠陥を減らすことができた。また、特にLO
C構造を有する電子装置においては先に説明したよう
に、リ−ドとチップの接触による短絡等の欠陥の発生を
低く抑えることができた。以上のことは電子装置自体の
信頼性を高める。
属材料とモ−ルド材の密着性を向上させ、よって、長期
の保存や高温多湿下での保存、また半田付け等の高温処
理等に伴う欠陥を減らすことができた。また、特にLO
C構造を有する電子装置においては先に説明したよう
に、リ−ドとチップの接触による短絡等の欠陥の発生を
低く抑えることができた。以上のことは電子装置自体の
信頼性を高める。
【0036】特に、半導体集積回路のチップ面積が大き
くなるとともに、半導体集積回路のパッケ−ジ技術はL
OCに代表されるように多層化する方向にある。しかし
ながら、従来技術の延長では、多層化は複雑な工程が必
要で、また、様々な問題によって集積回路の機能が傷つ
けられる危険性を有していた。
くなるとともに、半導体集積回路のパッケ−ジ技術はL
OCに代表されるように多層化する方向にある。しかし
ながら、従来技術の延長では、多層化は複雑な工程が必
要で、また、様々な問題によって集積回路の機能が傷つ
けられる危険性を有していた。
【0037】例えば、従来のLOC技術ではICチップ
とリ−ドフレ−ムの間には絶縁シ−トを挿入するが、こ
れは先に述べたようにICチップを機械的に破壊する危
険を有している上、モ−ルド材と絶縁シ−トの密着性が
悪いと、従来のICパッケ−ジで問題となった、クラッ
クの発生等がより大きな確率で問題となる。
とリ−ドフレ−ムの間には絶縁シ−トを挿入するが、こ
れは先に述べたようにICチップを機械的に破壊する危
険を有している上、モ−ルド材と絶縁シ−トの密着性が
悪いと、従来のICパッケ−ジで問題となった、クラッ
クの発生等がより大きな確率で問題となる。
【0038】これに対し、本発明に記述した例から明ら
かなように、LOC構造であっても、モ−ルド材の内部
にはリ−ドフレ−ムとICチップ以外にはない構造をと
れば、従来のLOC構造(絶縁シ−トを含んでいる)で
問題となることは全く解決されうる。
かなように、LOC構造であっても、モ−ルド材の内部
にはリ−ドフレ−ムとICチップ以外にはない構造をと
れば、従来のLOC構造(絶縁シ−トを含んでいる)で
問題となることは全く解決されうる。
【0039】のみならず、LOC構造であっても、ま
た、そうでなくても、リ−ドフレ−ムのモ−ルド材と外
部の境界の部分にのみ無機材料皮膜が形成されているだ
けで、電子装置の信頼性は大きく向上する。したがっ
て、LOC構造を有するもので絶縁シ−トを内部に含ん
でいても、リ−ドフレ−ムのモ−ルド材と外部との境界
部分に無機材料の皮膜が形成されて、リ−ドフレ−ムと
モ−ルド材の密着性が向上していれば、そこからクラッ
ク等が発生することも減り、したがって、欠陥品の発生
する確率は大きく減らすことが可能である。以上の議論
は、特に証明されずとも容易に理解できるであろう。
た、そうでなくても、リ−ドフレ−ムのモ−ルド材と外
部の境界の部分にのみ無機材料皮膜が形成されているだ
けで、電子装置の信頼性は大きく向上する。したがっ
て、LOC構造を有するもので絶縁シ−トを内部に含ん
でいても、リ−ドフレ−ムのモ−ルド材と外部との境界
部分に無機材料の皮膜が形成されて、リ−ドフレ−ムと
モ−ルド材の密着性が向上していれば、そこからクラッ
ク等が発生することも減り、したがって、欠陥品の発生
する確率は大きく減らすことが可能である。以上の議論
は、特に証明されずとも容易に理解できるであろう。
【0040】さらにまた、リ−ドフレ−ムが製造工程の
比較的早い段階で、無機材料皮膜によってコ−ティング
されるため、その後の工程での取扱も微妙さを要求され
ず、したがって、高い歩留りを維持できる。皮膜の形成
自体は、実施例に示したように一度に大量におこなえる
ため大きなコスト増とはならず、逆に歩留りや信頼性を
考慮すれば割安となる。
比較的早い段階で、無機材料皮膜によってコ−ティング
されるため、その後の工程での取扱も微妙さを要求され
ず、したがって、高い歩留りを維持できる。皮膜の形成
自体は、実施例に示したように一度に大量におこなえる
ため大きなコスト増とはならず、逆に歩留りや信頼性を
考慮すれば割安となる。
【0041】本発明はLOC構造を例にとって説明をし
たが、その他の構造、例えばチップ・オン・リ−ド(C
OL)構造、を有しているものにも適応することには何
ら問題がないことは明らかであろう。
たが、その他の構造、例えばチップ・オン・リ−ド(C
OL)構造、を有しているものにも適応することには何
ら問題がないことは明らかであろう。
【0042】さらに本発明において、電子部品は半導体
素子が例として示されていたが、その他、絶縁基板上に
金属導体が設けられ、これらに抵抗、コンデンサを固着
させたハイブリッドICであってもよく、ボンディング
もワイヤボンディングのみならずフリップチップ・ボン
ディング、ハンダバンプ・ボンディングでもよい。
素子が例として示されていたが、その他、絶縁基板上に
金属導体が設けられ、これらに抵抗、コンデンサを固着
させたハイブリッドICであってもよく、ボンディング
もワイヤボンディングのみならずフリップチップ・ボン
ディング、ハンダバンプ・ボンディングでもよい。
【0043】以上の記述から明らかなように本発明は工
業上極めて有益であると信ずる。
業上極めて有益であると信ずる。
【図1】従来の半導体集積回路のパッケ−ジおよびその
欠陥の例を示したもので、パッケ−ジはLOC構造を有
している。
欠陥の例を示したもので、パッケ−ジはLOC構造を有
している。
【図2】本発明の半導体集積回路のパッケ−ジの例を示
したもので、パッケ−ジはLOC構造を有している
したもので、パッケ−ジはLOC構造を有している
【図3】本発明のパッケ−ジを作製する方法例を示して
いる。
いる。
【図4】本発明のパッケ−ジを作製する方法例を示して
いる。
いる。
200・・・・電子部品
201、202、205・・・リードフレーム
203・・・モールド材
204・・・固着材
211・・・金線
212・・・アルミパッド
213・・・金接点
220・・・無機材料絶縁性被膜
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年7月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の半導体集積回路のパッケージおよびそ
の欠陥の例を示したもので、パッケージはLOC構造を
有している。
の欠陥の例を示したもので、パッケージはLOC構造を
有している。
【図2】 本発明の半導体集積回路のパッケージの例を
示したもので、パッケージはLOC構造を有している
示したもので、パッケージはLOC構造を有している
【図3】 本発明のパッケージを作製する方法例を示し
ている。
ている。
【図4】 本発明のパッケージを作製する方法例を示し
ている。
ている。
【図5】 本発明のパッケージを作製する方法例を示し
ている。
ている。
【図6】 本発明のパッケージを作製する方法例を示し
ている。
ている。
【符号の説明】
200・・・・電子部品
201、202、205・・・リードフレーム
203・・・モールド材
204・・・固着材
211・・・金線
212・・・アルミパッド
213・・・金接点
220・・・無機材料絶縁性被膜
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
Claims (11)
- 【請求項1】電子装置において、リ−ドフレ−ムのステ
ムの部分、もしくはそれと同等な機能を有する電子装置
用部材が電子部品上に重なっていることを特徴とする電
子装置において、リ−ドフレ−ムもしくはそれと同等な
機能を有する電子装置用部材のうち、モ−ルド材によっ
て封入されている部分において、ワイヤボンドする部
分、電子部品を装着する部分以外が無機絶縁性の材料に
よって覆われたことを特徴とする電子装置。 - 【請求項2】前記請求項1において、無機絶縁性の材料
は炭化珪素、酸化珪素、窒化珪素、炭素のうち、少なく
とも1つを主成分とする材料であることを特徴とする電
子装置もしくは電子装置用部材。 - 【請求項3】電子装置中のリ−ドフレ−ムもしくはそれ
と同等な機能を有する電子装置用部材において、該リ−
ドフレ−ムもしくはそれと同等な機能を有する電子装置
用部材のモ−ルド材中に存在する部分において、ワイヤ
ボンドする部分、電子部品を装着する部分以外が無機絶
縁性の材料によって覆われ、かつ、該リ−ドフレ−ムの
ステムの部分もしくはそれと同等な機能を有する電子装
置用部材が、電子装置中の電子部品上に重なっているこ
とを特徴とする電子装置用部材。 - 【請求項4】前記請求項2において、無機絶縁性の材料
は炭化珪素、酸化珪素、窒化珪素、炭素のうち、少なく
とも1つを主成分とする材料であることを特徴とする電
子装置もしくは電子装置用部材。 - 【請求項5】電子装置中のリ−ドフレ−ムもしくはそれ
と同等な機能を有する電子装置用部材において、少なく
ともモ−ルドに覆われている部分と外部との境界部分が
無機絶縁性の材料によって覆われていることを特徴とす
る電子装置用部材。 - 【請求項6】前記請求項3において、無機絶縁性の材料
は炭化珪素、酸化珪素、窒化珪素、炭素のうち、少なく
とも1つを主成分とする材料であることを特徴とする電
子装置もしくは電子装置用部材。 - 【請求項7】リ−ドフレ−ムもしくはそれと同等な機能
を有する電子装置用部材のうち、少なくともワイヤボン
ドをする部分と電子部品と電気的な連結をおこなう部分
とに有機樹脂等の皮膜を形成する工程と、該電子装置用
部材全体を無機絶縁性の材料よりなる皮膜によって覆う
工程と、前記有機樹脂等の皮膜を除去するとともに、そ
の上に存在する前記無機絶縁性皮膜をも除去して、該電
子装置用部材の表面を露出させる工程と、該電子装置用
部材と電子部品とを電気的に連結する工程と、該電子装
置用部材の一部および前記電子部品の全部をモ−ルド材
中に封入する工程とを有することを特徴とする電子装置
の作製方法。 - 【請求項8】リ−ドフレ−ムのステムもしくはそれと同
等な機能を有する電子装置用部材のうち、少なくともワ
イヤボンドをする部分に有機樹脂等の皮膜を形成する工
程と、該電子装置用部材全体を無機絶縁性の材料よりな
る皮膜によって覆う工程と、前記有機樹脂等の皮膜を除
去するとともに、その上に存在する前記無機絶縁性皮膜
をも除去して、該電子装置用部材の表面を露出させる工
程と、該電子装置用部材の下部に電子装置を配置する工
程と、該電子装置用部材と電子部品とを電気的に連結す
る工程と、該電子装置用部材の一部および前記電子部品
の全部をモ−ルド材中に封入する工程とを有することを
特徴とする電子装置の作製方法。 - 【請求項9】リ−ドフレ−ムのステムもしくはそれと同
等な機能を有する電子装置用部材とリ−ドフレ−ムのダ
イもしくはそれと同等な機能を有する電子装置用部材と
をステムがダイ上に存在し、重なるように配置し、固定
する工程と、ステムのうちの少なくともワイヤボンドす
る部分とダイのうちの少なくとも電子部品と電気的な連
結をおこなうのに必要な部分とに有機樹脂等の皮膜を形
成する工程と、該ステムおよびダイ全体を無機絶縁性の
材料よりなる皮膜によって覆う工程と、前記有機樹脂等
の皮膜を除去するとともに、その上に存在する前記無機
絶縁性皮膜をも除去して、該ステムおよびダイの表面を
露出させる工程と、該ダイ上に電子部品を固着する工程
と、該ステムと電子部品とを電気的に連結する工程と、
該ステムの一部および該ダイと前記電子部品の全部をモ
−ルド材中に封入する工程とを有することを特徴とする
電子装置の作製方法。 - 【請求項10】リ−ドフレ−ムもしくはそれと同等な機
能を有する電子装置用部材を配置し、固定する工程と、
リ−ドフレ−ムのうちの少なくともワイヤボンドする部
分に有機樹脂等の皮膜を形成する工程と、該リ−ドフレ
−ム全体を無機絶縁性の材料よりなる皮膜によって覆う
工程と、前記有機樹脂等の皮膜を除去するとともに、そ
の上に存在する前記無機絶縁性皮膜をも除去して、該リ
−ドフレ−ムの表面を露出させる工程と、該リ−ドフレ
−ムの下部に電子部品を配置する工程と、該リ−ドフレ
−ムと電子部品とを電気的に連結する工程と、該リ−ド
フレ−ムの一部と前記電子部品の全部をモ−ルド材中に
封入する工程とを有することを特徴とする電子装置の作
製方法。 - 【請求項11】リ−ドフレ−ムもしくはそれと同等な機
能を有する電子装置用部材の足の部分を液体の有機樹脂
等の中に浸し、液状の有機樹脂を固化することによっ
て、固定する工程と、リ−ドフレ−ムのうちの少なくと
もワイヤボンドする部分に有機樹脂等の皮膜を形成する
工程と、有機樹脂中にある足の部分を除いて該リ−ドフ
レ−ム全体を無機絶縁性の材料よりなる皮膜によって覆
う工程と、前記有機樹脂等の皮膜を除去するとともに、
その上に存在する前記無機絶縁性皮膜をも除去して、該
リ−ドフレ−ムの表面を露出させる工程と、該リ−ドフ
レ−ムの下部に電子部品を配置する工程と、該リ−ドフ
レ−ムと電子部品とを電気的に連結する工程と、該リ−
ドフレ−ムの一部と前記電子部品の全部をモ−ルド材中
に封入する工程とを有することを特徴とする電子装置の
作製方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3041258A JPH0521693A (ja) | 1991-02-13 | 1991-02-13 | 電子装置用部材およびその作製方法 |
| US07/835,745 US5276351A (en) | 1988-10-17 | 1992-02-13 | Electronic device and a manufacturing method for the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3041258A JPH0521693A (ja) | 1991-02-13 | 1991-02-13 | 電子装置用部材およびその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0521693A true JPH0521693A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=12603420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3041258A Pending JPH0521693A (ja) | 1988-10-17 | 1991-02-13 | 電子装置用部材およびその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521693A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008147589A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Toyota Motor Corp | 電子部品 |
| US9018559B2 (en) | 2010-04-27 | 2015-04-28 | Sodick Co., Ltd. | Automatic wire threader for wire electric discharge machining apparatus |
-
1991
- 1991-02-13 JP JP3041258A patent/JPH0521693A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008147589A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Toyota Motor Corp | 電子部品 |
| US9018559B2 (en) | 2010-04-27 | 2015-04-28 | Sodick Co., Ltd. | Automatic wire threader for wire electric discharge machining apparatus |
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