JPH0521931A - ガラスセラミツク基板の製造方法 - Google Patents

ガラスセラミツク基板の製造方法

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JPH0521931A
JPH0521931A JP19605791A JP19605791A JPH0521931A JP H0521931 A JPH0521931 A JP H0521931A JP 19605791 A JP19605791 A JP 19605791A JP 19605791 A JP19605791 A JP 19605791A JP H0521931 A JPH0521931 A JP H0521931A
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JP
Japan
Prior art keywords
alumina
paste
glass
green sheet
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP19605791A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuto Kudo
康人 工藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Publication of JPH0521931A publication Critical patent/JPH0521931A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、市販のアルミナ基板用導体ペース
トをガラス基板に用い、しかも半田濡れ性の良好な電極
を形成し得る方法を提供することにある。 【構成】 ガラスセラミックグリーンシート上にアルミ
ナペーストを塗布し、該アルミナ膜上に導体ペーストを
塗布して一括焼成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスセラミック基板
の製造方法であって、特に市販のアルミナ基板用厚膜ペ
ーストを用いて半田濡れ性に優れた電極を形成する方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、低温焼成用のセラミック多層基板
として、ガラスセラミック基板が開発されている。この
基板は、非晶質ガラスあるいは結晶化ガラスの粉末とア
ルミナ等のセラミック粉末の混合物に有機質のバインダ
と溶剤を加えてスラリー状とし、ドクターブレード法で
グリーンシートに成形して絶縁層とし、金、銀、銅等の
粉末を有機質ビヒクルに分散させたペースト状組成物を
該絶縁層上にスクリーン印刷等の手法で塗布して内層配
線パターンを形成し、所望の各層を積層して800〜9
30℃で焼成して得られる。また、外層配線の場合は、
内層配線と同様にグリーンシートに印刷して一括して焼
成する方法と、グリーンシートを焼成した後に導体ペー
ストを印刷して別途焼成する方法が取られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】内層配線は半田濡れ性
が不要であるのに対して、外層配線は部品を半田で接続
するために半田濡れ性が重要品質であるが、ガラスセラ
ミック基板の外層配線に市販の導体ペーストを適用した
場合にはほとんど半田が付かないという問題があった。
これは、導体ペーストに含まれるガラス成分が焼成中に
ガラスセラミック基板方向へ移行せずに導体膜表面に残
留すること、およびガラスセラミック基板のガラスが焼
成中に導体膜中に移行して導体膜がガラスリッチになる
ことによる。
【0004】本発明の目的は、市販のアルミナ基板用導
体ペーストをガラスセラミック基板に適用し、しかも半
田濡れ性の良好な電極を形成し得る方法を提供するにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の方法は、ガラス粉末とセラミック粉末とから成
るグリーンシート上に電極と同一パターンでアルミナペ
ーストを印刷後乾燥して3〜15μmのアルミナ膜を形
成する工程、該アルミナ膜上に電極パターンで導体ペー
ストを印刷して乾燥する工程、導体膜とアルミナ膜とグ
リーンシートをそのままで、必要により所望の他の層上
に重ね、一括して800〜930℃で焼成する工程とを
有する点に特徴がある。
【0006】
【作用】本発明において、導体ペーストは市販の各種厚
膜導電ペースト、即ち銀ペースト、銀−パラジウムペー
スト、銀−白金ペーストが利用できる。
【0007】一方、アルミナペーストは、アルミナ粉末
と有機質ビヒクルとを混練してペースト状組成物とした
もので、この組成物は150〜400メッシュのスクリ
ーンによってグリーンシートまたは焼成基板上に塗布さ
れる。従って用いる粉末はこのスクリーンを円滑に通過
し得る粒径のものとすればよく、10ミクロン以上の粒
子が殆どない平均粒径2ミクロン以下のものが適してい
る。ビヒクルとしてターピネオール、ブチルカルビトー
ル、トルエンなどの溶剤にエチルセルロース、メタクリ
レート樹脂などを溶解したものを使用できる。スクリー
ン印刷に好適なペーストとするためには、ビヒクルは固
形分100重量部に対し10〜30重量部とするのが良
い。
【0008】本発明において、ガラスセラミック基板は
930℃以下で十分に焼結するものであれば良く、例え
ば硼珪酸ガラスをベースに酸化鉛、酸化亜鉛、アルカリ
土類金属の酸化物などを含有する軟化点600〜800
℃の非晶質ガラス粉末とアルミナ等のセラミックフィラ
ーとの混合物、あるいは600〜900℃で結晶化する
結晶化ガラスなどを原料とし、次の工程で基板に加工す
れば良い。すなわち、上述した粉末原料を有機質のバイ
ンダー、可塑剤、溶剤とともにボールミル中で混合し、
得られたスラリーを脱泡処理後、ドクターブレード法で
グリーンシートに成形し、該グリーンシートを適当な大
きさに切断して、最上部となるべき層にはアルミナペー
ストを電極と同一のパターンで印刷して乾燥し、続いて
電極パターンで導体ペーストをアルミナ層の上に印刷し
て乾燥するのである。
【0009】アルミナ層の厚さは、3〜15μmとする
必要がある。3μm以下になると電極の半田濡れ性が不
十分で、また15μm以上になるとアルミナ膜の強度が
不十分で電極の密着性に問題が発生するからである。上
記グリーンシートはそのまま焼成しても良いが、多層基
板を製造する場合は、内層導体を形成したグリーンシー
トを積み重ね、さらに最上部に上記のグリーンシートを
重ねて圧力50〜300kg/cm2 、温度60〜90
℃の条件でホットプレス機を用いて一体化すると良い。
このようにして得られた積層体を350〜600℃で予
備焼成して有機物を除去した後、800〜930℃で焼
成すればガラスセラミック多層基板が得られる。
【0010】本発明法によれば、導体ペースト中のガラ
ス成分はアルミナと親和性が強いのでアルミナ層へ移行
し、また、ガラスセラミック中のガラスもアルミナ層で
固定されて導体層へ移行しないので、半田濡れ性が良好
となる。また、アルミナ層は移行してきたガラスによっ
て強化されるので十分な強度を保持することができる。
【0011】なお、上記説明はガラスセラミックグリー
ンシート、アルミナペースト、導体ペーストを一括して
焼成する場合であるが、ガラスセラミックグリーンシー
トを先に焼成し、次いでアルミナ印刷工程以後を続けて
も同様の効果が得られる。
【0012】
【実施例】平均粒径0.54μmのアルミナ粉末100
重量部を有機質ビヒクル25重量部とともに混練してペ
ースト状組成物とした。ビヒクルにはエチルセルロース
濃度22重量%のターピネオール溶液を用いた。
【0013】一方、ガラスセラミック基板として、Pb
O3.07、SiO2 51.7、Al2 3 8.4、B
2 3 7.3、CaO1.9各重量%の組成のガラス粉
末(平均粒径2.2μm)とアルミナ粉末(平均粒径
0.54μm)を50/50の比率で混合し、この粉末
100重量部にポリビニルブチラール9重量部、フタル
酸ジイソブチル7重量部、オレイン酸1重量部、イソプ
ロピルアルコール40重量部、トリクロロエタン20重
量部を加えてボールミルで24時間混合してスラリーと
し、脱泡処理後にドクターブレード法で0.7mm厚さ
のグリーンシートを成形した。
【0014】該グリーンシートから1インチ角の小片を
切り出し、この小片上に、種々の電極パターンで先ずア
ルミナペーストをスクリーン印刷により0〜18.9μ
mの膜厚で塗布し、さらに、市販の銀−パラジウムペー
スト(C−4160、C−4910 住友金属鉱山
(株)製)をこのアルミナ膜上に印刷して乾燥した。グ
リーンシート小片は次いで520℃で3時間予備焼成し
て有機物を除去し、引き続いて900℃、1時間で焼成
し、電極膜について次の様な試験に供した。
【0015】(イ)半田濡れ性−10ミリ角の電極パタ
ーン上にフラックス(タムラ化研製、XA−100)を
塗布して、該パターンを37Pb/63Sn半田浴(2
30℃)に5秒間浸漬し、冷却後パターン上の濡れ面積
比率を求めた。結果を表1に示す。
【0016】(ロ)接着強度−2ミリ角のパターン上に
0.65mmφのメッキ銅線を37Pb/63Snの半
田を用いて半田付けし、垂直方向に引っ張って剥離し、
剥離時の引張力を求めた。
【0017】(ハ)エージング強度−上記と同様にして
錫メッキ銅線を半田付けした基板を150℃の恒温槽中
に1000時間放置した後、上記と同様の剥離試験に供
した。
【0018】
【表1】
【0019】表1において、半田濡れ80%以上、接着
強度4.0kg以上、エージング強度2.0kg以上は
合格の○印を、それ以下に×印を付けて示している。
【0020】表1の結果は、実験No.1〜7で上記の
3特性が全て合格しているが、実験No.8〜13から
アルミナ膜が薄過ぎても、又厚過ぎても何れかの特性が
不合格になることを示している。
【0021】
【発明の効果】本発明法により、市販の導体ペーストを
用いてガラスセラミック基板上に、半田濡れ性が良好で
しかも接着強度も優れた電極を形成できるようになっ
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 ガラス粉末とセラミック粉末とから成る
    グリーンシート上に電極と同一パターンでアルミナペー
    ストを印刷後乾燥して3〜15μmのアルミナ膜を形成
    する工程、該アルミナ膜上に電極パターンで導体ペース
    トを印刷して乾燥する工程、導体膜とマルミナ膜とグリ
    ーンシートをそのままで、必要により所望の他の層上に
    重ね、一括して800〜930℃で焼成する工程とを有
    するガラスセラミック基板の製造方法。
JP19605791A 1991-07-11 1991-07-11 ガラスセラミツク基板の製造方法 Pending JPH0521931A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0228220A (ja) * 1988-07-15 1990-01-30 Nok Corp 加硫ゴム成形品の表面処理方法
WO2012067253A1 (ja) * 2010-11-17 2012-05-24 パナソニック株式会社 セラミック基板およびその製造方法

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JPH0228220A (ja) * 1988-07-15 1990-01-30 Nok Corp 加硫ゴム成形品の表面処理方法
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