JPH05222067A - 有機錫化合物の製法 - Google Patents
有機錫化合物の製法Info
- Publication number
- JPH05222067A JPH05222067A JP13729991A JP13729991A JPH05222067A JP H05222067 A JPH05222067 A JP H05222067A JP 13729991 A JP13729991 A JP 13729991A JP 13729991 A JP13729991 A JP 13729991A JP H05222067 A JPH05222067 A JP H05222067A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- hydrogen
- tin
- o2cr
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract 2
- -1 tin organic acid Chemical class 0.000 claims description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 abstract description 5
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 abstract 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229940076286 cupric acetate Drugs 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- QNZRVYCYEMYQMD-UHFFFAOYSA-N copper;pentane-2,4-dione Chemical compound [Cu].CC(=O)CC(C)=O QNZRVYCYEMYQMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- MZIYQMVHASXABC-UHFFFAOYSA-N tetrakis(ethenyl)stannane Chemical compound C=C[Sn](C=C)(C=C)C=C MZIYQMVHASXABC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPBYLOWPSRZOFX-UHFFFAOYSA-J tin(iv) iodide Chemical compound I[Sn](I)(I)I QPBYLOWPSRZOFX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- PEVZEFCZINKUCG-UHFFFAOYSA-L copper;octadecanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O PEVZEFCZINKUCG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 150000005605 isobutyric acids Chemical class 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- GYEMIEGAEOIJQR-UHFFFAOYSA-M silver;2-methylpropanoate Chemical compound [Ag+].CC(C)C([O-])=O GYEMIEGAEOIJQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 工業的に用途の多い４価錫有機酸誘導体を安
価な化合物を原料として、安全な方法で製造することが
できる有機錫化合物の製造を提供することを目的とす
る。 【構成】 一般式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２（式中Ｒ′は水
素、アルキル基又はアリール基）で表わされる２価錫化
合物に一般式Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２（式中Ｒは水素、アル
キル基又はアリール基、ＲとＲ′は互いに同一又は別
異）で表わされる有機カルボン酸第二銅塩を反応させて
一般式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２（ＲとＲ′
は上記と同じ）で表わされる４価錫有機酸誘導体を製造
することを特徴とする有機錫化合物の製造法。
価な化合物を原料として、安全な方法で製造することが
できる有機錫化合物の製造を提供することを目的とす
る。 【構成】 一般式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２（式中Ｒ′は水
素、アルキル基又はアリール基）で表わされる２価錫化
合物に一般式Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２（式中Ｒは水素、アル
キル基又はアリール基、ＲとＲ′は互いに同一又は別
異）で表わされる有機カルボン酸第二銅塩を反応させて
一般式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２（ＲとＲ′
は上記と同じ）で表わされる４価錫有機酸誘導体を製造
することを特徴とする有機錫化合物の製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗料のドライヤー、樹脂
安定剤、反応触媒や、電子材料や光学材料などとに利用
される錫酸化膜形成材料などとして利用される四価錫化
合物の製造法に関するものである。
安定剤、反応触媒や、電子材料や光学材料などとに利用
される錫酸化膜形成材料などとして利用される四価錫化
合物の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術と解決しようとする課題】塗料や各種高分
子の改質や電子、光学特性を持った錫酸化膜の形成等に
広く使用されている４価錫有機酸誘導体Ｓｎ（Ｏ２Ｃ
Ｒ）４、Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２Ｘ２（式中Ｒ，Ｒ′は水
素、アルキル基、アリール基、Ｘはハロゲン、アシロキ
シ基を示す）の工業的製法は種々の方法が提案され、実
施されている事は周知の通りである。
子の改質や電子、光学特性を持った錫酸化膜の形成等に
広く使用されている４価錫有機酸誘導体Ｓｎ（Ｏ２Ｃ
Ｒ）４、Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２Ｘ２（式中Ｒ，Ｒ′は水
素、アルキル基、アリール基、Ｘはハロゲン、アシロキ
シ基を示す）の工業的製法は種々の方法が提案され、実
施されている事は周知の通りである。
【０００３】この４価錫有機酸誘導体の製造法は例えば
Ang.Chem. 59 233(1947)ではＳｎＩ４に無水酢酸をタリ
ウム触媒の下で反応させて、酢酸第二錫化合物を得る方
法が提案され、Inorg Chem, 3 912(1964）には塩化第２
錫にイソ酪酸銀を反応させて、４価イソ酪酸塩Ｓｎ〔Ｏ
２Ｃ−ＣＨ（ＣＨ３）２〕４を合成する方法が提案され
ている。更にJ.Orgmetal.Chem, 4 377(1965) ではテト
ラビニル錫（Ｓｎ（ＣＨ＝ＣＨ２）４）にカルボン酸を
反応させ、相当する４価錫カルボキシレートを得る方法
等も提案されている。
Ang.Chem. 59 233(1947)ではＳｎＩ４に無水酢酸をタリ
ウム触媒の下で反応させて、酢酸第二錫化合物を得る方
法が提案され、Inorg Chem, 3 912(1964）には塩化第２
錫にイソ酪酸銀を反応させて、４価イソ酪酸塩Ｓｎ〔Ｏ
２Ｃ−ＣＨ（ＣＨ３）２〕４を合成する方法が提案され
ている。更にJ.Orgmetal.Chem, 4 377(1965) ではテト
ラビニル錫（Ｓｎ（ＣＨ＝ＣＨ２）４）にカルボン酸を
反応させ、相当する４価錫カルボキシレートを得る方法
等も提案されている。
【０００４】これまでに一般的に知られている、これら
の方法では、沃化第２錫やテトラビニル錫と言う高価化
合物を原料に使い、又タリウムの様な毒性に対する配慮
が必要とされる触媒を用いる必要があり、工業的製造法
としては適当ではなかった。又安価な塩化第２錫を原料
にする方法では高価なカルボン酸銀を使用するので実用
性が少なく実施し難かった。
の方法では、沃化第２錫やテトラビニル錫と言う高価化
合物を原料に使い、又タリウムの様な毒性に対する配慮
が必要とされる触媒を用いる必要があり、工業的製造法
としては適当ではなかった。又安価な塩化第２錫を原料
にする方法では高価なカルボン酸銀を使用するので実用
性が少なく実施し難かった。
【０００５】本発明は工業的に用途の多い４価錫有機酸
誘導体を安価な化合物を原料にし、安全な方法で製造す
る方法を提案することを目的とする。
誘導体を安価な化合物を原料にし、安全な方法で製造す
る方法を提案することを目的とする。
【０００６】本発明者等はこれまで周期律表第４族金属
のアルコキシド、キレート等種々の化合物の製造法や反
応の研究をし、その成果を発表し又特許を得て来てい
る。たとえば第一錫キレート化合物の新しい製造法を提
案し特許を得た（特許第１４６１９８５号）。この方法
では金属錫にアセチルアセトン銅を反応させ直接第１錫
アセチルアセトネート〔Ｓｎ（Ｏ２Ｃ５Ｈ７）２〕を収
率よく製造することができる。
のアルコキシド、キレート等種々の化合物の製造法や反
応の研究をし、その成果を発表し又特許を得て来てい
る。たとえば第一錫キレート化合物の新しい製造法を提
案し特許を得た（特許第１４６１９８５号）。この方法
では金属錫にアセチルアセトン銅を反応させ直接第１錫
アセチルアセトネート〔Ｓｎ（Ｏ２Ｃ５Ｈ７）２〕を収
率よく製造することができる。
【０００７】本発明者等は、これらの方法を更に研究し
た結果アセチルアセトン銅の代りに有機カルボン酸第二
銅〔Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２〕を、第１錫有機酸塩Ｓｎ（Ｏ
２ＣＲ′）２と反応させれば４価有機酸錫誘導体〔Ｓｎ
（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２〕（ＲとＲ′は下記の
とおり）が得られ４価錫有機カルボン酸塩の製造方法と
して有効である事を見出して本発明に至った。
た結果アセチルアセトン銅の代りに有機カルボン酸第二
銅〔Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２〕を、第１錫有機酸塩Ｓｎ（Ｏ
２ＣＲ′）２と反応させれば４価有機酸錫誘導体〔Ｓｎ
（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２〕（ＲとＲ′は下記の
とおり）が得られ４価錫有機カルボン酸塩の製造方法と
して有効である事を見出して本発明に至った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かくして本発明は、一般
式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２（式中Ｒ′は水素、アルキル基
又はアリール基）で表わされる２価錫化合物に一般式Ｃ
ｕ（Ｏ２ＣＲ）２（式中Ｒは水素、アルキル基又はアリ
ール基、ＲとＲ′は互いに同一又は別異）で表わされる
有機カルボン酸第二銅塩を反応させて一般式Ｓｎ（Ｏ２
ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２（ＲとＲ′は上記と同じ）で
表わされる４価錫有機酸誘導体を製造することを特徴と
する有機錫化合物の製造法に関するものである。
式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２（式中Ｒ′は水素、アルキル基
又はアリール基）で表わされる２価錫化合物に一般式Ｃ
ｕ（Ｏ２ＣＲ）２（式中Ｒは水素、アルキル基又はアリ
ール基、ＲとＲ′は互いに同一又は別異）で表わされる
有機カルボン酸第二銅塩を反応させて一般式Ｓｎ（Ｏ２
ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２（ＲとＲ′は上記と同じ）で
表わされる４価錫有機酸誘導体を製造することを特徴と
する有機錫化合物の製造法に関するものである。
【０００９】かくて本発明は４価有機酸錫化合物を安価
で安全な原料を使って製造する方法を提供しようとする
もであり、次のような反応を含むものである。即ち Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２＋２Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２→ Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２＋２Ｃｕ の反応である。
で安全な原料を使って製造する方法を提供しようとする
もであり、次のような反応を含むものである。即ち Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２＋２Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２→ Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２＋２Ｃｕ の反応である。
【００１０】本発明方法を詳しく説明すれば、出発原料
としてＳｎ（Ｏ２ＣＲ′）２で示される錫アシロキシ化
合物を使用する事により４価錫有機酸化合物を合成する
事が出来る。
としてＳｎ（Ｏ２ＣＲ′）２で示される錫アシロキシ化
合物を使用する事により４価錫有機酸化合物を合成する
事が出来る。
【００１１】上記２価錫化合物の式中Ｒ′は水素、アル
キル基たとえばメチル基、エチル基、プロピル基等の低
級アルキル又は高級アルキル基、アリール基たとえばフ
ェニル基等を表わし、かかる２価錫化合物としては酢酸
第一錫が好んで用いられる。
キル基たとえばメチル基、エチル基、プロピル基等の低
級アルキル又は高級アルキル基、アリール基たとえばフ
ェニル基等を表わし、かかる２価錫化合物としては酢酸
第一錫が好んで用いられる。
【００１２】二価錫化合物と反応される銅の有機カルボ
ン酸塩としては一般式Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２で示される第
二銅塩が用いられる。この式中Ｒは水素、アルキル又は
アリール基を表わす。アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル基等の低級アルキル基の外に炭素数の多い
高級アルキル基も含まれ、アリール基としてはたとえば
フェニル基があげられる。上記錫化合物の式中のＲ′と
銅化合物の式中のＲとは互いに同じでもよく又別異でも
よい。
ン酸塩としては一般式Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２で示される第
二銅塩が用いられる。この式中Ｒは水素、アルキル又は
アリール基を表わす。アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル基等の低級アルキル基の外に炭素数の多い
高級アルキル基も含まれ、アリール基としてはたとえば
フェニル基があげられる。上記錫化合物の式中のＲ′と
銅化合物の式中のＲとは互いに同じでもよく又別異でも
よい。
【００１３】かくて銅化合物としては上記式中Ｒが水素
又はアルキル基であるギ酸、酢酸、酪酸、オクタン酸
（カプリル酸）、ラウリン酸、ステアリン酸等の脂肪族
カルボン酸或は式中Ｒがアリール基である安息香酸等の
芳香族カルボン酸の第二銅塩を用いることができる。こ
のカルボン酸塩には他の置換基を有するものも含まれ
る。
又はアルキル基であるギ酸、酢酸、酪酸、オクタン酸
（カプリル酸）、ラウリン酸、ステアリン酸等の脂肪族
カルボン酸或は式中Ｒがアリール基である安息香酸等の
芳香族カルボン酸の第二銅塩を用いることができる。こ
のカルボン酸塩には他の置換基を有するものも含まれ
る。
【００１４】本発明の反応は上記反応式で示される様
に、出発原料であるＳｎ（Ｏ２ＣＲ′）２１モルに対し
て互いに同じアシロキシ基を有する、即ちＲ＝Ｒ′でＲ
とＲ′が共に水素又は互いに同じアルキル基又はアリー
ル基である有機酸第二銅Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２２モルを反
応させるとテトラアシロキシ錫Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）４が得
られる。２価錫化合物のアシロキシ基と有機酸第二銅の
アシロキシ基が異なる場合即ち上記式中ＲとＲ′が互に
別異である場合には、反応生成物はＳｎ（Ｏ２ＣＲ）２
（Ｏ２ＣＲ′）２の混合アシロキシ錫化合物となる。
に、出発原料であるＳｎ（Ｏ２ＣＲ′）２１モルに対し
て互いに同じアシロキシ基を有する、即ちＲ＝Ｒ′でＲ
とＲ′が共に水素又は互いに同じアルキル基又はアリー
ル基である有機酸第二銅Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２２モルを反
応させるとテトラアシロキシ錫Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）４が得
られる。２価錫化合物のアシロキシ基と有機酸第二銅の
アシロキシ基が異なる場合即ち上記式中ＲとＲ′が互に
別異である場合には、反応生成物はＳｎ（Ｏ２ＣＲ）２
（Ｏ２ＣＲ′）２の混合アシロキシ錫化合物となる。
【００１５】これらの反応は溶剤中で行う事が一般的で
ある。２価錫化合物と有機酸第二銅塩を溶媒中に分散
し、溶媒の沸点又はそれ以下の温度で反応させ、副生す
る金属銅を濾過して除去し、濾液を蒸留して溶媒を除去
すると４価錫有機酸誘導体が得られる。生成物はそのま
ま又は再結晶、吸着、精製等の通常の方法で精製して使
用する事が出来る。
ある。２価錫化合物と有機酸第二銅塩を溶媒中に分散
し、溶媒の沸点又はそれ以下の温度で反応させ、副生す
る金属銅を濾過して除去し、濾液を蒸留して溶媒を除去
すると４価錫有機酸誘導体が得られる。生成物はそのま
ま又は再結晶、吸着、精製等の通常の方法で精製して使
用する事が出来る。
【００１６】反応溶媒としては、トルエン、キシレンの
様な芳香族炭化水素類、酢酸イソプロピル、酢酸ブチ
ル、酢酸アシル等のエステル類、エチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類が一般的であ
り、更に有機カルボン酸第二銅として酢酸第二銅を用い
る時には、無水酢酸や酢酸等を用い、同種の有機酸を溶
媒として使用する事も有効である。
様な芳香族炭化水素類、酢酸イソプロピル、酢酸ブチ
ル、酢酸アシル等のエステル類、エチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類が一般的であ
り、更に有機カルボン酸第二銅として酢酸第二銅を用い
る時には、無水酢酸や酢酸等を用い、同種の有機酸を溶
媒として使用する事も有効である。
【００１７】反応に接する時間は数時間〜数十時間でよ
い。又、反応は通常の雰囲気下でも行いうるが、酸化錫
膜の形成や酸素による副反応を防止する為、窒素、アル
ゴン等の不活性ガス雰囲気下で行う事もまた有効であ
る。
い。又、反応は通常の雰囲気下でも行いうるが、酸化錫
膜の形成や酸素による副反応を防止する為、窒素、アル
ゴン等の不活性ガス雰囲気下で行う事もまた有効であ
る。
【００１８】
【効 果】かくして、４価錫有機酸誘導体を合成するに
際して、従来の公知の方法が何れも４価錫化合物を出発
原料とするのに対し、本発明の方法では２価錫化合物を
用いる新規な方法であるだけでなく、安全で安価な原料
を用いて高品位の化合物を収率良く合成出来、原料とし
て用いる銅化合物中の銅は回収使用する事が出来るの
で、本発明の方法は公知方法に比して実用的であり経済
価値の高い有利な工業的製法である。
際して、従来の公知の方法が何れも４価錫化合物を出発
原料とするのに対し、本発明の方法では２価錫化合物を
用いる新規な方法であるだけでなく、安全で安価な原料
を用いて高品位の化合物を収率良く合成出来、原料とし
て用いる銅化合物中の銅は回収使用する事が出来るの
で、本発明の方法は公知方法に比して実用的であり経済
価値の高い有利な工業的製法である。
【００１９】
【実施例】以下に本発明の実施例を示す。 実施例１ 乾燥窒素ガスで置換した２００ml四ツ口フラスコ中で、
無水酢酸１５０mlを溶媒とし、酢酸第一錫２．４８ｇ
（１．０５×１０-2モル）と酢酸第二銅１．９６ｇ
（１．０８×１０-2モル）とを溶媒の沸点下で２時間反
応させた。生成した金属銅を熱濾過により除去後、減圧
下に溶媒を完全に留去し、残渣にベンゼン１５０mlを加
えて溶かし、不溶物を再び熱濾過により除去後、濾液を
濃縮、放置すると、３．７３ｇの白色結晶が得られた
（収率約１００％）。融点、赤外線スペクトル、Ｓｎ分
析値から、この結晶はＳｎ（ＯＣＯＣＨ３）４であるこ
とが同定された。
無水酢酸１５０mlを溶媒とし、酢酸第一錫２．４８ｇ
（１．０５×１０-2モル）と酢酸第二銅１．９６ｇ
（１．０８×１０-2モル）とを溶媒の沸点下で２時間反
応させた。生成した金属銅を熱濾過により除去後、減圧
下に溶媒を完全に留去し、残渣にベンゼン１５０mlを加
えて溶かし、不溶物を再び熱濾過により除去後、濾液を
濃縮、放置すると、３．７３ｇの白色結晶が得られた
（収率約１００％）。融点、赤外線スペクトル、Ｓｎ分
析値から、この結晶はＳｎ（ＯＣＯＣＨ３）４であるこ
とが同定された。
【００２０】実施例２ 実施例１と同様にして酢酸第二銅の代りにステアリン酸
第二銅６．４ｇ（１．０８×１０2 モル）を用い１３０
℃、２６時間反応させて同様に処理し６．７ｇ（収率９
６％）の白色結晶を得た。この物質はＳｎ分析値及び赤
外線吸収スペクトルからＳｎ（ＯＣＯＣＨ３）２（ＯＣ
ＯＣ17Ｈ35）２であると同定された。
第二銅６．４ｇ（１．０８×１０2 モル）を用い１３０
℃、２６時間反応させて同様に処理し６．７ｇ（収率９
６％）の白色結晶を得た。この物質はＳｎ分析値及び赤
外線吸収スペクトルからＳｎ（ＯＣＯＣＨ３）２（ＯＣ
ＯＣ17Ｈ35）２であると同定された。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ′）２（式中Ｒ′は
水素、アルキル基又はアリール基）で表わされる２価錫
化合物に一般式Ｃｕ（Ｏ２ＣＲ）２（式中Ｒは水素、ア
ルキル基又はアリール基、ＲとＲ′は互いに同一又は別
異）で表わされる有機カルボン酸第二銅塩を反応させて
一般式Ｓｎ（Ｏ２ＣＲ）２（Ｏ２ＣＲ′）２（ＲとＲ′
は上記と同じ）で表わされる４価錫有機酸誘導体を製造
することを特徴とする有機錫化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13729991A JPH0689007B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 有機錫化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13729991A JPH0689007B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 有機錫化合物の製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2855982A Division JPS58146589A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 有機錫化合物の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05222067A true JPH05222067A (ja) | 1993-08-31 |
| JPH0689007B2 JPH0689007B2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=15195443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13729991A Expired - Lifetime JPH0689007B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 有機錫化合物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0689007B2 (ja) |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP13729991A patent/JPH0689007B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0689007B2 (ja) | 1994-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05222067A (ja) | 有機錫化合物の製法 | |
| JPH0437837B2 (ja) | ||
| JPH01502025A (ja) | オキシモシラン類の製造法 | |
| JP2949363B2 (ja) | アリル基の脱離方法 | |
| CN1440415A (zh) | 制备salen型化合物的锰络合物的方法 | |
| JPH0733715A (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
| CN1110479C (zh) | 1－氯羰基－4－哌啶子基哌啶或其盐酸盐的生产方法 | |
| JP4691084B2 (ja) | 白金触媒 | |
| JP2894525B2 (ja) | 結晶性テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム及びその製造法 | |
| King et al. | Organometallic chemistry of the transition metals: XII. Some alkoxycarbonyl derivatives of the cyclopentadienylmetal carbonyls | |
| JP2001011021A (ja) | 立体障害性ヒドロキシフェニルカルボン酸エステル化合物、その製造法および有機錫化合物の除去方法 | |
| JP2773947B2 (ja) | テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムの製造方法 | |
| JP2662245B2 (ja) | ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートの製造方法 | |
| JP2872846B2 (ja) | ハロゲノシクロプロパンカルボン酸誘導体の製法 | |
| JPH01143878A (ja) | ケイ素アジド化合物の製造方法 | |
| JPS61218555A (ja) | トリフルオロジクロロエチル基により置換された酸類の製法および亜鉛化合物類 | |
| JP4572433B2 (ja) | Ｎ−アセチルホモピペラジン類の製造法 | |
| JP2542117B2 (ja) | シリル不飽和カルボキシレ―トの製造方法 | |
| JPH069499A (ja) | ハロゲノシクロプロパンカルボン酸誘導体の製法 | |
| JPS637191B2 (ja) | ||
| JP3849837B2 (ja) | 二塩化ジメチルスズの合成方法 | |
| JP2024081038A (ja) | スチルベン化合物の製造方法およびジアリール化合物の製造方法 | |
| WO1998016495A1 (fr) | Processus de preparation de monoesters d'acide dicarboxylique | |
| JPH03173862A (ja) | 有機金化合物 | |
| KR20140042801A (ko) | N-알킬-n-트리알킬실릴아미드의 산업적 제조 방법 |