JPH052265A - 平版印刷版の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明は、支持体上に、ジアゾ化合物および
酸価30以上250未満の親油性高分子化合物を含有す
る感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光後、pH
7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないアルカリ
水溶液で現像することを特徴とする平版印刷版の製造方
法に関する。 【効果】 本発明の方法により製造した平版印刷版は、
pH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないアルカ
リ水溶液で現像しても汚れが起こらず、また現像時にお
ける支持体からの画像部の剥離がなく、高い耐刷力及び
良好な着肉性を有する。
酸価30以上250未満の親油性高分子化合物を含有す
る感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光後、pH
7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないアルカリ
水溶液で現像することを特徴とする平版印刷版の製造方
法に関する。 【効果】 本発明の方法により製造した平版印刷版は、
pH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないアルカ
リ水溶液で現像しても汚れが起こらず、また現像時にお
ける支持体からの画像部の剥離がなく、高い耐刷力及び
良好な着肉性を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版の製造方法
に係り、特にネガ型感光性平版印刷版を使用した平版印
刷版の製造方法に関する。
に係り、特にネガ型感光性平版印刷版を使用した平版印
刷版の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】平版印刷版は、一般にアルミニウム板等
の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を通して紫
外線等の活性光線を照射し、光が照射された部分を重合
あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非照射部分
を現像液に溶出させ、光の照射部分を水を反発して油性
インキを受容する画像部、及び光の非照射部分を水を受
容して油性インキを反発する非画像部とすることにより
得られる。
の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を通して紫
外線等の活性光線を照射し、光が照射された部分を重合
あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非照射部分
を現像液に溶出させ、光の照射部分を水を反発して油性
インキを受容する画像部、及び光の非照射部分を水を受
容して油性インキを反発する非画像部とすることにより
得られる。
【0003】この場合における感光性組成物としては、
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アル
カリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44
202号に記載されている、ベンジルアルコール、アニ
オン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液から
なる現像液組成物、特開昭55−155355号に記載
されている、水に対する溶解度が常温において10重量
%以下である有機溶剤、アルカリ剤及び水を含有する現
像液組成物等が挙げられる。これらは,いずれも有機溶
剤を現像液組成物中に含有している。有機溶媒は、一般
に毒性及び臭気があり、また火災に対する危険性を持っ
ており、さらに廃液においてもBOD規制を受けるなど
の多くの欠点を有し、さらに現像液のコスト高をもたら
す。
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アル
カリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44
202号に記載されている、ベンジルアルコール、アニ
オン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液から
なる現像液組成物、特開昭55−155355号に記載
されている、水に対する溶解度が常温において10重量
%以下である有機溶剤、アルカリ剤及び水を含有する現
像液組成物等が挙げられる。これらは,いずれも有機溶
剤を現像液組成物中に含有している。有機溶媒は、一般
に毒性及び臭気があり、また火災に対する危険性を持っ
ており、さらに廃液においてもBOD規制を受けるなど
の多くの欠点を有し、さらに現像液のコスト高をもたら
す。
【0004】しかし、現像液組成物から有機溶媒を除去
すると、所望の現像は達成されない。すなわち、有機溶
剤を含有しない現像液を用いて感光性平版印刷版を現像
すると、現像により除去されるべき部分が残って、得ら
れた平版印刷版を印刷に供した場合に汚れとなってしま
う。このような汚れは許容できないものであり、特に印
刷用感光材料においては、該材料を、実用に供すること
を不可能にする。
すると、所望の現像は達成されない。すなわち、有機溶
剤を含有しない現像液を用いて感光性平版印刷版を現像
すると、現像により除去されるべき部分が残って、得ら
れた平版印刷版を印刷に供した場合に汚れとなってしま
う。このような汚れは許容できないものであり、特に印
刷用感光材料においては、該材料を、実用に供すること
を不可能にする。
【0005】また有機溶剤を除くとともに、pHを高くし
て現像の進行を高める方法が特開昭57−192952
号、特開昭58−27141号に記載されている。しか
し、これらの現像液組成物は強アルカリ性であるので操
作の安全性及び廃液処理に問題がある。さらに感光性組
成物中のジアゾ樹脂は支持体との密着力が弱いため、現
像液が強アルカリ性であると現像時に支持体から画像部
がはがれたり、印刷における耐刷力が低い等の問題があ
った。さらに、現像液が強アルカリ性であると着肉も悪
くなった。
て現像の進行を高める方法が特開昭57−192952
号、特開昭58−27141号に記載されている。しか
し、これらの現像液組成物は強アルカリ性であるので操
作の安全性及び廃液処理に問題がある。さらに感光性組
成物中のジアゾ樹脂は支持体との密着力が弱いため、現
像液が強アルカリ性であると現像時に支持体から画像部
がはがれたり、印刷における耐刷力が低い等の問題があ
った。さらに、現像液が強アルカリ性であると着肉も悪
くなった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、強アルカリ性現像液や有機溶剤を含む現像液を使
用することなく、汚れ性、耐刷性及び着肉性に優れた平
版印刷版を製造する方法を提供することである。
的は、強アルカリ性現像液や有機溶剤を含む現像液を使
用することなく、汚れ性、耐刷性及び着肉性に優れた平
版印刷版を製造する方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決すべく検討を重ねた結果、本発明を完成させる
に至った。即ち、本発明は、支持体上に、ジアゾ化合物
および酸価30以上250未満の親油性高分子化合物を
含有する感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光
後、pH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないア
ルカリ水溶液で現像することを特徴とする平版印刷版の
製造方法を提供するものである。本発明の方法により得
られた平版印刷版は、汚れが起らず耐刷性も着肉性もよ
いという従来にない利点を有する。
題を解決すべく検討を重ねた結果、本発明を完成させる
に至った。即ち、本発明は、支持体上に、ジアゾ化合物
および酸価30以上250未満の親油性高分子化合物を
含有する感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光
後、pH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないア
ルカリ水溶液で現像することを特徴とする平版印刷版の
製造方法を提供するものである。本発明の方法により得
られた平版印刷版は、汚れが起らず耐刷性も着肉性もよ
いという従来にない利点を有する。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
使用される感光性平版印刷版の感光性組成物に含まれる
ジアゾ化合物としては従来公知のものが適宜使用でき
る。その例としては、芳香族ジアゾニウム塩と例えば活
性カルボニル含有化合物、特にホルムアルデヒドとの縮
合物で代表されるジアゾ樹脂が挙げられ、その中で有機
溶媒可溶性のジアゾ樹脂が好ましい。
使用される感光性平版印刷版の感光性組成物に含まれる
ジアゾ化合物としては従来公知のものが適宜使用でき
る。その例としては、芳香族ジアゾニウム塩と例えば活
性カルボニル含有化合物、特にホルムアルデヒドとの縮
合物で代表されるジアゾ樹脂が挙げられ、その中で有機
溶媒可溶性のジアゾ樹脂が好ましい。
【0009】上記のジアゾ樹脂としては、例えばp−ジ
アゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセト
アルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸塩、テト
ラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生成物であ
るジアゾ樹脂無機塩、または米国特許第3,300,309
号明細書に記載されているような、前記縮合物とスルホ
ン酸類例えばパラトルエンスルホン酸またはその塩、ホ
スフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸またはその
塩、ヒドロキシル基含有化合物例えば、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン−5−スルホン酸またはその塩等の反応
生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙
げられる。
アゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセト
アルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸塩、テト
ラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生成物であ
るジアゾ樹脂無機塩、または米国特許第3,300,309
号明細書に記載されているような、前記縮合物とスルホ
ン酸類例えばパラトルエンスルホン酸またはその塩、ホ
スフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸またはその
塩、ヒドロキシル基含有化合物例えば、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン−5−スルホン酸またはその塩等の反応
生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙
げられる。
【0010】本発明において、好適に用いることができ
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物
と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウ
ム化合物とを構造単位として含む共縮合体である。前記
カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リン
の酸素酸基、及びヒドロキシル基(以下、これらの基を
「酸基」ともいう)のうち少なくとも一つを有する芳香
族化合物は、少なくとも一つの酸基で置換した芳香族環
を分子中に含むものであって、この場合、上記酸基のう
ち二つ以上が同一の芳香族環に置換されていてもよい。
上記の芳香族環としては、好ましくはフェニル基、ナフ
チル基をあげることができる。また前記の酸基は芳香族
環に直接結合していてもよく、連結基を介して結合して
いてもよい。連結基としては例えばエーテル結合を含む
炭素数1以上の基を挙げることができる。
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物
と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウ
ム化合物とを構造単位として含む共縮合体である。前記
カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リン
の酸素酸基、及びヒドロキシル基(以下、これらの基を
「酸基」ともいう)のうち少なくとも一つを有する芳香
族化合物は、少なくとも一つの酸基で置換した芳香族環
を分子中に含むものであって、この場合、上記酸基のう
ち二つ以上が同一の芳香族環に置換されていてもよい。
上記の芳香族環としては、好ましくはフェニル基、ナフ
チル基をあげることができる。また前記の酸基は芳香族
環に直接結合していてもよく、連結基を介して結合して
いてもよい。連結基としては例えばエーテル結合を含む
炭素数1以上の基を挙げることができる。
【0011】前述のカルボキシル基、スルホン酸基、ス
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物の具体例と
しては、安息香酸、o−クロロ安息香酸、m−クロロ安
息香酸、p−クロロ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフ
ェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキ
シ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキ
シアニリノ)、4−(p−メトキシベンゾイル)安息香
酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香酸、4−フェニ
ルスルホニル安息香酸、フェノール、(o,m,p)−
クレゾール、キシレノール、レゾルシン、2−メチルレ
ゾルシン、(o,m,p)−メトキシフェノール、m−
エトキシフェノール、カテコール、フロログルシン、p
−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトール、ピロガロ
ール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシベンジルアルコー
ル、4−クロロレゾルシン、ビフェニル4,4′−ジオ
ール、1,2,4−ベンゼントリオール、ビスフェノー
ルA、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3,
4−トリヒドロキシベンゾフェノン、p−ヒドロキシア
セトフェノン、4,4−ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、4,4′−ジヒドロキシジフェニルアミン、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィドクミルフェノ
ール、(o,m,p)−クロロフェノール、(o,m,
p)−ブロモフェノール、サリチル酸、4−メチルサリ
チル酸、6−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル
酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル
酸、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジメチルサリ
チル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒ
ドロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香
酸、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,
4−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6
−メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ−4−メチル安息香酸、4−クロ
ロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−
2,6−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログルシン
カルボン酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、m
−ガロイル没食子酸、タンニン酸、m−ベンゾイル没食
子酸、m−(p−トルイル)没食子酸、プロトカテクオ
イル−没食子酸、4,6−ジヒドロキシフタル酸、
(2,4−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(2,6−ジ
ヒドロキシフェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒドロ
キシフェニル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香酸、
p−ヒドロキシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロキシ
フェニル)メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシベン
ゾイル)安息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベンゾ
イル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキシ)安
息香酸4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸、ビス
(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)アミン、
4−(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)安息香酸、
4−(p−ヒドロキシフェニルチオ)安息香酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスル
フィン酸、p−トルエンスルフィン酸、アニリン−2−
スルホン酸、4−アミノ−m−トルエンスルホン酸、
2,5−ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナフタレン
スルホン酸、1−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、
5−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−アミノ−
1,3−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ−1,5
−ナフタレンジスルホン酸、2−スルホ安息香酸、(こ
れらのスルホン酸またはスルフィン酸は、遊離のスルホ
ン酸またはスルフィン酸であってもよいし、ナトリウ
ム、カリウム、リチウム、セシウム、カルシウム、バリ
ウム、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛などの金属塩
または、無置換もしくは置換アンモニウム塩であっても
よい)、フェニルリン酸、フェニル亜リン酸、フェニル
ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、フェニルホスフィ
ン酸、フェニル亜ホスフィン酸、ベンジルリン酸、ベン
ジル亜リン酸、ベンジルホスホン酸、ベンジル亜ホスホ
ン酸、ベンジルホスフィン酸、ベンジル亜ホスフィン
酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェニルエチル亜
リン酸、1−ナフチルリン酸、1−ナフチル亜リン酸、
1−ナフチルホスホン酸、1−ナフチル亜ホスホン酸、
1−ナフチルホスフィン酸、1−ナフチル亜ホスフィン
酸、2−ナフチルリン酸、等が挙げられる。
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物の具体例と
しては、安息香酸、o−クロロ安息香酸、m−クロロ安
息香酸、p−クロロ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−メトキシフ
ェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p−フェノキ
シ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキ
シアニリノ)、4−(p−メトキシベンゾイル)安息香
酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香酸、4−フェニ
ルスルホニル安息香酸、フェノール、(o,m,p)−
クレゾール、キシレノール、レゾルシン、2−メチルレ
ゾルシン、(o,m,p)−メトキシフェノール、m−
エトキシフェノール、カテコール、フロログルシン、p
−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトール、ピロガロ
ール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシベンジルアルコー
ル、4−クロロレゾルシン、ビフェニル4,4′−ジオ
ール、1,2,4−ベンゼントリオール、ビスフェノー
ルA、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3,
4−トリヒドロキシベンゾフェノン、p−ヒドロキシア
セトフェノン、4,4−ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、4,4′−ジヒドロキシジフェニルアミン、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィドクミルフェノ
ール、(o,m,p)−クロロフェノール、(o,m,
p)−ブロモフェノール、サリチル酸、4−メチルサリ
チル酸、6−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル
酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル
酸、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジメチルサリ
チル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒ
ドロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香
酸、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,
4−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6
−メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ−4−メチル安息香酸、4−クロ
ロ−2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−
2,6−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログルシン
カルボン酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、m
−ガロイル没食子酸、タンニン酸、m−ベンゾイル没食
子酸、m−(p−トルイル)没食子酸、プロトカテクオ
イル−没食子酸、4,6−ジヒドロキシフタル酸、
(2,4−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(2,6−ジ
ヒドロキシフェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒドロ
キシフェニル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香酸、
p−ヒドロキシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロキシ
フェニル)メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシベン
ゾイル)安息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベンゾ
イル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキシ)安
息香酸4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸、ビス
(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)アミン、
4−(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)安息香酸、
4−(p−ヒドロキシフェニルチオ)安息香酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスル
フィン酸、p−トルエンスルフィン酸、アニリン−2−
スルホン酸、4−アミノ−m−トルエンスルホン酸、
2,5−ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナフタレン
スルホン酸、1−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、
5−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−アミノ−
1,3−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ−1,5
−ナフタレンジスルホン酸、2−スルホ安息香酸、(こ
れらのスルホン酸またはスルフィン酸は、遊離のスルホ
ン酸またはスルフィン酸であってもよいし、ナトリウ
ム、カリウム、リチウム、セシウム、カルシウム、バリ
ウム、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛などの金属塩
または、無置換もしくは置換アンモニウム塩であっても
よい)、フェニルリン酸、フェニル亜リン酸、フェニル
ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、フェニルホスフィ
ン酸、フェニル亜ホスフィン酸、ベンジルリン酸、ベン
ジル亜リン酸、ベンジルホスホン酸、ベンジル亜ホスホ
ン酸、ベンジルホスフィン酸、ベンジル亜ホスフィン
酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェニルエチル亜
リン酸、1−ナフチルリン酸、1−ナフチル亜リン酸、
1−ナフチルホスホン酸、1−ナフチル亜ホスホン酸、
1−ナフチルホスフィン酸、1−ナフチル亜ホスフィン
酸、2−ナフチルリン酸、等が挙げられる。
【0012】これらのうち特に好ましいのは、4−メト
キシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安
息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、フェニルリン酸及びフェニルホスホン酸
が挙げられる。
キシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安
息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、フェニルリン酸及びフェニルホスホン酸
が挙げられる。
【0013】前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号に挙げられているようなジアゾニウム塩を用
いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジ
アゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4−ジ
アゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン類か
ら誘導されるが、このような4−アミノ−ジフェニルア
ミン類の例としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、
4−アミノ−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−ア
ミノ−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ
−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4
−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチ
ルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシエトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−
2−スルホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−
カルボン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−カ
ルボン酸等が挙げられ、特に好ましくは、3−メトキシ
−4−アミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジ
フェニルアミンである。
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号に挙げられているようなジアゾニウム塩を用
いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジ
アゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4−ジ
アゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン類か
ら誘導されるが、このような4−アミノ−ジフェニルア
ミン類の例としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、
4−アミノ−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−ア
ミノ−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ
−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4
−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチ
ルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシエトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−
2−スルホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−
カルボン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−カ
ルボン酸等が挙げられ、特に好ましくは、3−メトキシ
−4−アミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジ
フェニルアミンである。
【0014】上記共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631号、同第2,6
79,498号各明細書記載の方法に従い硫酸やリン酸あ
るいは塩酸中でジアゾニウム塩を酸基を有する芳香族化
合物及びアルデヒド類、例えばパラホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケトン
類、例えばアセトン、アセトフェノンと重縮合させるこ
とによって得られる。
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631号、同第2,6
79,498号各明細書記載の方法に従い硫酸やリン酸あ
るいは塩酸中でジアゾニウム塩を酸基を有する芳香族化
合物及びアルデヒド類、例えばパラホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケトン
類、例えばアセトン、アセトフェノンと重縮合させるこ
とによって得られる。
【0015】酸基のうち少なくとも一つを有する芳香族
化合物と芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.
1〜0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より好
ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場合酸基の
うち少なくとも一つを有する芳香族化合物及び芳香族ジ
アゾ化合物の合計とアルデヒド類またはケトン類とをモ
ル比で通常1:0.5〜2.0、好ましくは1:0.7〜1.5
で仕込み、低温で短時間、例えば3時間程度反応させる
ことにより共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
化合物と芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.
1〜0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より好
ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場合酸基の
うち少なくとも一つを有する芳香族化合物及び芳香族ジ
アゾ化合物の合計とアルデヒド類またはケトン類とをモ
ル比で通常1:0.5〜2.0、好ましくは1:0.7〜1.5
で仕込み、低温で短時間、例えば3時間程度反応させる
ことにより共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
【0016】また、以上の酸基を有する芳香族化合物と
の共縮合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特願平1
−130493号、特願平1−303705号、及び特
願平2−53101号に記載された酸基を含有するアル
デヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹
脂も好ましく用いることができる。ジアゾ樹脂の対アニ
オンは、該ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂
を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これらは、デ
カン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニルリン
酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的な例と
しては、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルスル
ホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘキシル
スルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキシ
−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プ
ロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスル
ホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ジアミルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチル
フェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキ
シ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベ
ンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン
酸、スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ
−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベン
ゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスル
ホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼン
スルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシ
ルオキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イソプロピル
ナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、
ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンス
ルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドテシルオ
キシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホ
ン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、ナフタリン
−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、1,
8−ジニトロ−ナフタレン−3,6−ジスルホン酸、ジ
メチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳
香族スルホン酸、2,2′,4,4′−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、2,2′,4−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン
酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、CI
O4,IO4 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限
られるものではない。これらの中で、特に好ましいもの
は、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレン
スルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸及びドデ
シルベンゼンスルホン酸である。
の共縮合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特願平1
−130493号、特願平1−303705号、及び特
願平2−53101号に記載された酸基を含有するアル
デヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹
脂も好ましく用いることができる。ジアゾ樹脂の対アニ
オンは、該ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂
を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これらは、デ
カン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニルリン
酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的な例と
しては、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルスル
ホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘキシル
スルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキシ
−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プ
ロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスル
ホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ジアミルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチル
フェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキ
シ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベ
ンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン
酸、スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ
−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベン
ゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスル
ホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼン
スルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシ
ルオキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イソプロピル
ナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、
ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンス
ルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドテシルオ
キシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホ
ン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、ナフタリン
−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、1,
8−ジニトロ−ナフタレン−3,6−ジスルホン酸、ジ
メチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳
香族スルホン酸、2,2′,4,4′−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、2,2′,4−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン
酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、CI
O4,IO4 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限
られるものではない。これらの中で、特に好ましいもの
は、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレン
スルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸及びドデ
シルベンゼンスルホン酸である。
【0017】本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
〜100,000のもの、好ましくは、約800〜8,00
0のものが適当である。ジアゾ化合物は感光層の全組成
物の重量を基準として1〜70重量%特に3〜60重量
%含有されるのが望ましい。
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
〜100,000のもの、好ましくは、約800〜8,00
0のものが適当である。ジアゾ化合物は感光層の全組成
物の重量を基準として1〜70重量%特に3〜60重量
%含有されるのが望ましい。
【0018】次に、本発明に使用される感光性平版印刷
版の感光性組成物に含有される親油性高分子化合物につ
いて説明する。この親油性高分子化合物は、感光性組成
物を構成する際のバインダーとして機能できるものであ
る。本発明において、感光性層には、酸価30以上25
0未満の親油性高分子化合物が含有される。
版の感光性組成物に含有される親油性高分子化合物につ
いて説明する。この親油性高分子化合物は、感光性組成
物を構成する際のバインダーとして機能できるものであ
る。本発明において、感光性層には、酸価30以上25
0未満の親油性高分子化合物が含有される。
【0019】本発明において親油性高分子化合物の酸価
とは、その高分子化合物1gを中和するのに必要な水酸
化カリウムのmg数である。酸価は次のように測定するこ
とができる。試料をメチルセロソルブで50倍に希釈
し、0.1規定の水酸化カリウム水溶液で滴定する。この
時、中和点はpHメーターを用いて求めたpH曲線の変曲点
とする。この中和点に至るまでに要する水酸化カリウム
水溶液の量から、上記酸価を算出する。
とは、その高分子化合物1gを中和するのに必要な水酸
化カリウムのmg数である。酸価は次のように測定するこ
とができる。試料をメチルセロソルブで50倍に希釈
し、0.1規定の水酸化カリウム水溶液で滴定する。この
時、中和点はpHメーターを用いて求めたpH曲線の変曲点
とする。この中和点に至るまでに要する水酸化カリウム
水溶液の量から、上記酸価を算出する。
【0020】酸価が30未満では、得られた平版印刷版
を印刷機にかけた時に汚れを生ずる。これは、この親油
性高分子化合物をバインダーとして含有する感光性組成
物を有機溶剤を含まずpH7以上12未満の現像液で現像
した時、非画像部が完全に溶出せず、感光層の一部が支
持体上に残存することに起因する。酸価が250以上で
は、得られた平版印刷版の耐刷性及び着肉性が悪くな
る。
を印刷機にかけた時に汚れを生ずる。これは、この親油
性高分子化合物をバインダーとして含有する感光性組成
物を有機溶剤を含まずpH7以上12未満の現像液で現像
した時、非画像部が完全に溶出せず、感光層の一部が支
持体上に残存することに起因する。酸価が250以上で
は、得られた平版印刷版の耐刷性及び着肉性が悪くな
る。
【0021】本発明において使用される親油性高分子化
合物としては、酸価30以上250未満で、下記(1) 〜
(15)に示す群より選ばれたモノマーをその構造単位とす
る共重合体が挙げられる。(1) 芳香族水酸基を有するア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エス
テル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレ
ン類、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o
−,m−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレート及び
メタクリレート、(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸
エステル類及びメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート及び4−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、(3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸、(4) アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、ア
クリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシ
ジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレ
ート等の(置換)アルキルアクリレート、(5) メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート等の(置換)アルキルメタクリ
レート、(6) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタ
クリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド及びN
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルア
ミド及びメタクリルアミド類、(7) エチルビニルエーテ
ル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニ
ルエーテル等のビニルエーテル類、(8) ビニルアセテー
ト、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息
香酸ビニル等のビニルエステル類、(9) スチレン、α−
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン
類、(10) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類、(11) エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、(12)
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−
ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル等(13) マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド、(14) N−(o−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−アミノ)スルホニルフェニルメタクリルアミド、
N−(1−(3−アミノスルホニル)ナフチル)メタク
リルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタ
クリルアミド等のメタクリル酸アミド類、上記と同様の
置換基を有するアクリルアミド類、o−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、1−(3−アミノスルホニルナフチル)
メタクリレート等のメタクリル酸エステル類、上記と同
様の置換基を有するアクリル類エステル類等の不飽和ス
ルホンアミド、(15) N−(2−(メタクリロイルオキ
シ)−エチル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニル
シンナメート等の、側鎖に架橋性基を有する不飽和モノ
マー。
合物としては、酸価30以上250未満で、下記(1) 〜
(15)に示す群より選ばれたモノマーをその構造単位とす
る共重合体が挙げられる。(1) 芳香族水酸基を有するア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エス
テル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレ
ン類、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o
−,m−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレート及び
メタクリレート、(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸
エステル類及びメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート及び4−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、(3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸、(4) アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、ア
クリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシ
ジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレ
ート等の(置換)アルキルアクリレート、(5) メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート等の(置換)アルキルメタクリ
レート、(6) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタ
クリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド及びN
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルア
ミド及びメタクリルアミド類、(7) エチルビニルエーテ
ル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニ
ルエーテル等のビニルエーテル類、(8) ビニルアセテー
ト、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息
香酸ビニル等のビニルエステル類、(9) スチレン、α−
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン
類、(10) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類、(11) エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、(12)
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−
ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル等(13) マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド、(14) N−(o−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−アミノ)スルホニルフェニルメタクリルアミド、
N−(1−(3−アミノスルホニル)ナフチル)メタク
リルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタ
クリルアミド等のメタクリル酸アミド類、上記と同様の
置換基を有するアクリルアミド類、o−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、1−(3−アミノスルホニルナフチル)
メタクリレート等のメタクリル酸エステル類、上記と同
様の置換基を有するアクリル類エステル類等の不飽和ス
ルホンアミド、(15) N−(2−(メタクリロイルオキ
シ)−エチル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニル
シンナメート等の、側鎖に架橋性基を有する不飽和モノ
マー。
【0022】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合体させてもよい。上記モノマーの共重合によ
って得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレ
ート、グリシジルアクリレート等によって修飾したもの
も含まれるがこれらに限られるものではない。親油性高
分子化合物としては、(3) に掲げた不飽和カルボン酸を
含有する共重合体が好ましい。不飽和カルボン酸の含有
率は、親油性高分子化合物の酸価が30以上250未満
となるように決められる。
ーを共重合体させてもよい。上記モノマーの共重合によ
って得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレ
ート、グリシジルアクリレート等によって修飾したもの
も含まれるがこれらに限られるものではない。親油性高
分子化合物としては、(3) に掲げた不飽和カルボン酸を
含有する共重合体が好ましい。不飽和カルボン酸の含有
率は、親油性高分子化合物の酸価が30以上250未満
となるように決められる。
【0023】また、親油性高分子化合物としては、上記
(2) に掲げたモノマー等を含有する共重合体が更に好ま
しい。上記共重合体の好ましい分子量は1〜20万であ
る。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エ
ポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加しても
よい。
(2) に掲げたモノマー等を含有する共重合体が更に好ま
しい。上記共重合体の好ましい分子量は1〜20万であ
る。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エ
ポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加しても
よい。
【0024】本発明に用いられる親油性高分子化合物は
感光性組成物の全固形分に対し通常40〜99重量%、
好ましくは50〜95重量%含有させる。本発明の感光
性組成物に、さらに色素を添加してもよい。該色素は、
露光による可視画像(露光可視画像)と現像後の可視画
像を得ることを目的として使用される。
感光性組成物の全固形分に対し通常40〜99重量%、
好ましくは50〜95重量%含有させる。本発明の感光
性組成物に、さらに色素を添加してもよい。該色素は、
露光による可視画像(露光可視画像)と現像後の可視画
像を得ることを目的として使用される。
【0025】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して「色調を変化する」ものが好ましく使用でき
る。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色
調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調へ
の変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を
形成して色調を変化するものである。例えば、ビクトリ
アピュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブル
ー#603(オリエント化学工業社製)、パテントピュ
アブルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレッ
ト、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチ
ルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ベ
イシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッ
ド、m−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミ
ン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノ
ン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリ
ド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメ
タン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキ
ノン系、アゾメチン系及びアントラキノン系の色素が有
色から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する色素の
例として挙げられる。
と反応して「色調を変化する」ものが好ましく使用でき
る。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色
調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調へ
の変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を
形成して色調を変化するものである。例えば、ビクトリ
アピュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブル
ー#603(オリエント化学工業社製)、パテントピュ
アブルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレッ
ト、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチ
ルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ベ
イシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッ
ド、m−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミ
ン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノ
ン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリ
ド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメ
タン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキ
ノン系、アゾメチン系及びアントラキノン系の色素が有
色から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する色素の
例として挙げられる。
【0026】一方、無色から有色に変化する色素として
は、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジフ
ェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−トリ
フェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン及びp,p′,p″−
トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級また
は第2級アリールアミン系色素が挙げられる。好ましく
は、トリフェニルメタン系、ジフェニルメチル系色素が
用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタン系色
素、特にビクトリアピュアブル−BOHが用いられる。
は、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジフ
ェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−トリ
フェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン及びp,p′,p″−
トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級また
は第2級アリールアミン系色素が挙げられる。好ましく
は、トリフェニルメタン系、ジフェニルメチル系色素が
用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタン系色
素、特にビクトリアピュアブル−BOHが用いられる。
【0027】上記色素は、好ましくは感光性組成物中に
約0.5〜約10重量%、より好ましくは約1〜5重量%
添加される。本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物が加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース及
びメチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニ
オン系界面活性剤(好ましくは、フッ素系界面活性
剤)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、好ましく
は、リン酸トリクレジル)、画像部の感脂性を向上させ
るための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報
記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコール
によるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、p−ヒ
ドロキシスチレンの50%脂肪酸エステル等)、安定剤
(例えば、リン酸;亜リン酸及びクエン酸、シュウ酸、
ジピコリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、スルホサリチル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸、酒石酸等の有機
酸)、現像促進剤(例えば高級アルコール、酸無水物
等)等が用いられる。これらの添加剤の添加量はその使
用対象、目的によって異なるが、一般に感光性組成物の
全固形分に対して、0.01〜30重量%である。
約0.5〜約10重量%、より好ましくは約1〜5重量%
添加される。本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物が加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース及
びメチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニ
オン系界面活性剤(好ましくは、フッ素系界面活性
剤)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、好ましく
は、リン酸トリクレジル)、画像部の感脂性を向上させ
るための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報
記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコール
によるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、p−ヒ
ドロキシスチレンの50%脂肪酸エステル等)、安定剤
(例えば、リン酸;亜リン酸及びクエン酸、シュウ酸、
ジピコリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、スルホサリチル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸、酒石酸等の有機
酸)、現像促進剤(例えば高級アルコール、酸無水物
等)等が用いられる。これらの添加剤の添加量はその使
用対象、目的によって異なるが、一般に感光性組成物の
全固形分に対して、0.01〜30重量%である。
【0028】感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、
及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒中
に溶解させ感光性組成物の塗布液を調整し、これを支持
体上に塗布、乾燥することにより感光性平版印刷版が製
造される。上記の溶媒の例としては、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、
メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエチル
ケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジク
ロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混
合物等が挙げられる。上記溶媒は単独でも使用できる
が、メチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、乳酸メチルのような高沸点溶媒と、メタノール、メ
チルエチルケトンのような低沸点溶媒との混合物として
使用するとさらに好ましい。塗布する際の感光性組成物
の固形分濃度は1〜50重量%の範囲とすることが望ま
しい。この場合、感光性組成物の塗布量は、一般に0.2
〜10g/m2(乾燥重量)程度とすればよく、さらに好
ましくは、0.5〜3g/m2とする。塗布液は、公知の塗
布技術により支持体上に塗布される。上記の塗布技術の
例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディッ
プ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレー
ド塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布法を挙げる
ことができる。
及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒中
に溶解させ感光性組成物の塗布液を調整し、これを支持
体上に塗布、乾燥することにより感光性平版印刷版が製
造される。上記の溶媒の例としては、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、
メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエチル
ケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジク
ロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混
合物等が挙げられる。上記溶媒は単独でも使用できる
が、メチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、乳酸メチルのような高沸点溶媒と、メタノール、メ
チルエチルケトンのような低沸点溶媒との混合物として
使用するとさらに好ましい。塗布する際の感光性組成物
の固形分濃度は1〜50重量%の範囲とすることが望ま
しい。この場合、感光性組成物の塗布量は、一般に0.2
〜10g/m2(乾燥重量)程度とすればよく、さらに好
ましくは、0.5〜3g/m2とする。塗布液は、公知の塗
布技術により支持体上に塗布される。上記の塗布技術の
例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディッ
プ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレー
ド塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布法を挙げる
ことができる。
【0029】支持体としては、紙、プラスチック(例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)
ラミネート紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含
む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン−ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネー
トもしくは蒸発された紙もしくはプラスチックフィル
ム、アルミニウムもしくはクロームメッキが施された銅
版等が挙げられ、これらのうち特に、アルミニウム及び
アルミニウム被覆された複合支持体が好ましい。
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)
ラミネート紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含
む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン−ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネー
トもしくは蒸発された紙もしくはプラスチックフィル
ム、アルミニウムもしくはクロームメッキが施された銅
版等が挙げられ、これらのうち特に、アルミニウム及び
アルミニウム被覆された複合支持体が好ましい。
【0030】また、アルミニウム材の表面は、保水性を
高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理さ
れていることが望ましい。例えば、粗面化方法として、
一般に公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチ
ング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラ
スト等の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好まし
くはブラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング
及び液体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特に
電解エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さ
らに、特開昭54−63902号に記載されているよう
にブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好まし
い。
高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理さ
れていることが望ましい。例えば、粗面化方法として、
一般に公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチ
ング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラ
スト等の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好まし
くはブラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング
及び液体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特に
電解エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さ
らに、特開昭54−63902号に記載されているよう
にブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好まし
い。
【0031】また、電解エッチングの際に用いられる電
解浴としては、酸、アルカリまたはこれらの塩を含む水
酸液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。こうして得られたアルミニウ
ム板は、陽極酸化処理されることが望ましく、特に好ま
しくは、硫酸またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙
げられる。また、更に必要に応じて米国特許第2,714,
066号明細書や米国特許第3,181,461号明細書に
記載されている珪酸塩(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナト
リウム)処理、米国特許第2,946,638号明細書に記
載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特
許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモ
リブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載さ
れているアルキルチタネート処理独国特許第1,091,4
33号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独
国特許第1,134,093号明細書や英国特許第1,230,
447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸
処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホ
スホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記
載されているフイチン酸処理、特開昭58−16893
号や特開昭58−18291号の各公報に記載されてい
る親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処
理、特開昭59−101651号公報に記載されている
スルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗りによって親
水化処理を行ったもの、特開昭60−64352号公報
に記載されている酸性染料による着色を行ったものは特
に好ましい。その他の親水化処理方法としては米国特許
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をも挙げることが出来る。
解浴としては、酸、アルカリまたはこれらの塩を含む水
酸液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。こうして得られたアルミニウ
ム板は、陽極酸化処理されることが望ましく、特に好ま
しくは、硫酸またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙
げられる。また、更に必要に応じて米国特許第2,714,
066号明細書や米国特許第3,181,461号明細書に
記載されている珪酸塩(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナト
リウム)処理、米国特許第2,946,638号明細書に記
載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特
許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモ
リブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載さ
れているアルキルチタネート処理独国特許第1,091,4
33号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独
国特許第1,134,093号明細書や英国特許第1,230,
447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸
処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホ
スホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記
載されているフイチン酸処理、特開昭58−16893
号や特開昭58−18291号の各公報に記載されてい
る親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処
理、特開昭59−101651号公報に記載されている
スルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗りによって親
水化処理を行ったもの、特開昭60−64352号公報
に記載されている酸性染料による着色を行ったものは特
に好ましい。その他の親水化処理方法としては米国特許
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をも挙げることが出来る。
【0032】また、砂目立て処理及び陽極酸化後、封孔
処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及
び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに
水蒸気浴などによって行われる。本発明に用いられるの
に、適した支持体についてさらに詳しくいうと鉄を0.1
〜0.5%、ケイ素を0.03〜0.3%、銅を0.003〜0.
03%、更にチタンを0.01〜0.1%含有する1Sアル
ミ板を、アルカリ好ましくは、1〜30%の水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリ
ウム等の水溶液に、20〜80℃の温度で5秒〜250
秒環浸漬してエッチングする。エッチング浴には、アル
ミをアルカリの5分の1程度加えても良い。ついで、1
0〜30%硝酸または硫酸水溶液に20〜70℃の温度
5秒〜250秒間浸漬して、アルカリエッチング後の中
和及びスマット除去を行う。
処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及
び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに
水蒸気浴などによって行われる。本発明に用いられるの
に、適した支持体についてさらに詳しくいうと鉄を0.1
〜0.5%、ケイ素を0.03〜0.3%、銅を0.003〜0.
03%、更にチタンを0.01〜0.1%含有する1Sアル
ミ板を、アルカリ好ましくは、1〜30%の水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリ
ウム等の水溶液に、20〜80℃の温度で5秒〜250
秒環浸漬してエッチングする。エッチング浴には、アル
ミをアルカリの5分の1程度加えても良い。ついで、1
0〜30%硝酸または硫酸水溶液に20〜70℃の温度
5秒〜250秒間浸漬して、アルカリエッチング後の中
和及びスマット除去を行う。
【0033】このアルミニウム合金板の表面清浄化後、
粗面化処理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ研
磨または/および電解エッチング処理が適している。ブ
ラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロンブラシとを
用い、平均表面粗さを0.25〜0.9μとすることが好ま
しい。電解エッチング処理に使用される電解液は塩酸、
または硝酸の水溶液であり、濃度は0.01〜3重量%の
範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.5重量%で
あれば更に好ましい。
粗面化処理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ研
磨または/および電解エッチング処理が適している。ブ
ラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロンブラシとを
用い、平均表面粗さを0.25〜0.9μとすることが好ま
しい。電解エッチング処理に使用される電解液は塩酸、
または硝酸の水溶液であり、濃度は0.01〜3重量%の
範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.5重量%で
あれば更に好ましい。
【0034】また、この電解液には必要に応じて硝酸
塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド
類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸アンモニウム
塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目の均一化剤
などを加えることが出来る。また電解液中には、適当量
(1〜10g/リットル)のアルミニウムイオンを含ん
でいてもよい。
塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド
類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸アンモニウム
塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目の均一化剤
などを加えることが出来る。また電解液中には、適当量
(1〜10g/リットル)のアルミニウムイオンを含ん
でいてもよい。
【0035】電解エッチング処理は、通常10〜60℃
の電解液の温度で行なわれる。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相及び三相交流電流を用いるこ
とができる。また電流密度は、5〜100 A/dm2 で、
10〜300秒間処理することが望ましい。
の電解液の温度で行なわれる。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相及び三相交流電流を用いるこ
とができる。また電流密度は、5〜100 A/dm2 で、
10〜300秒間処理することが望ましい。
【0036】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μm と
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したスマッ
トが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した場合
は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬
して中和する。
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μm と
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したスマッ
トが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した場合
は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬
して中和する。
【0037】表面のスマット除去を行った後、陽極酸化
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それについで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸法もまた有用
である。
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それについで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸法もまた有用
である。
【0038】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度5〜3
0%で、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒間電解
処理されて、表面に1〜10g/m2の酸化皮膜が設けら
れる。この電解液には、アルミニウムイオンが含まれて
いることが好ましい。さらにこのときの電流密度は1〜
20 A/dm2 が好ましい。リン酸法の場合には、5〜5
0%のリン酸濃度、30〜60℃の温度で、10〜30
0秒間、1〜15 A/dm2 の電流密度で処理される。
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度5〜3
0%で、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒間電解
処理されて、表面に1〜10g/m2の酸化皮膜が設けら
れる。この電解液には、アルミニウムイオンが含まれて
いることが好ましい。さらにこのときの電流密度は1〜
20 A/dm2 が好ましい。リン酸法の場合には、5〜5
0%のリン酸濃度、30〜60℃の温度で、10〜30
0秒間、1〜15 A/dm2 の電流密度で処理される。
【0039】このようにして処理されたアルミニウム支
持体には、さらに米国特許第2,714,066号明細書に
記載されたようなシリケート類による表面処理を行うの
が望ましい。さらに、アルミニウム支持体には下塗りを
施してもよい。下塗りに用いられる化合物としては例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸
グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチ
レンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有し
てもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリ
ン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン
酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやグリシンやβ−
アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミ
ンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸
塩、特開昭59−101651号公報に記載されている
スルホン酸基を有する水溶性重合体、及び特開昭60−
64352号公報に記載されている酸性染料等が好まし
く用いられる。
持体には、さらに米国特許第2,714,066号明細書に
記載されたようなシリケート類による表面処理を行うの
が望ましい。さらに、アルミニウム支持体には下塗りを
施してもよい。下塗りに用いられる化合物としては例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸
グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチ
レンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有し
てもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリ
ン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン
酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやグリシンやβ−
アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミ
ンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸
塩、特開昭59−101651号公報に記載されている
スルホン酸基を有する水溶性重合体、及び特開昭60−
64352号公報に記載されている酸性染料等が好まし
く用いられる。
【0040】この下塗層は、水、メタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤
に上記の化合物を溶解させ、支持体上の塗布、乾燥して
設けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再
現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下
塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当
であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。
ル、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤
に上記の化合物を溶解させ、支持体上の塗布、乾燥して
設けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再
現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下
塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当
であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。
【0041】感光層上には相互に独立して設けられた突
起物により構成されるマット層を設けることが好まし
い。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィル
ムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良することに
より、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露
光時の微小網点のつぶれを防止することである。マット
層の塗布方法としては、特開昭55−12974号に記
載されているパウダリングされた固体粉末を熱融着する
方法、特開昭58−182636号に記載されているポ
リマー含有水をスプレーし乾燥させる方法などがあり、
いずれの方法をも用いうる。マット層は実質的に有機溶
剤を含まない水性現像液に溶解するか、あるいはこれに
より除去可能な物質から構成されることが望ましい。
起物により構成されるマット層を設けることが好まし
い。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィル
ムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良することに
より、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露
光時の微小網点のつぶれを防止することである。マット
層の塗布方法としては、特開昭55−12974号に記
載されているパウダリングされた固体粉末を熱融着する
方法、特開昭58−182636号に記載されているポ
リマー含有水をスプレーし乾燥させる方法などがあり、
いずれの方法をも用いうる。マット層は実質的に有機溶
剤を含まない水性現像液に溶解するか、あるいはこれに
より除去可能な物質から構成されることが望ましい。
【0042】支持体上に塗布された感光性組成物は線画
像、網点画像等を有する透明原画を通して露光し、つい
でpH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないアル
カリ水溶液で現像することにより、原画に対してネガの
レリーフ像が得られる。ここで「実質的に有機溶媒を含
まない」とは、環境衛生、安全性、作業性等の点からみ
て不都合を生じる程度までは有機溶媒を含有しないの意
であり、本発明においては、有機溶媒がアルカリ水溶液
中に占める割合が2重量%以下である事をいい、好まし
くは、1重量%以下であることをいう。本発明に使用さ
れる現像液は少なくとも1種のアルカリ剤と、水とを必
須成分として含有する。現像液中に必須成分として含有
されるアルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、第二または第三リン酸のナトリウム、カリウムま
たはアンモニウム塩、メタ珪酸ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア
等の無酸アルカリ剤、モノ、ジ、またはトリメチルアミ
ン、モノ、ジまたはトリエチルアミン、モノまたはジイ
ソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ、ジまたは
トリエタノールアミン、モノ、ジまたはトリイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の
有機アミン化合物等があげられる。これらのうち第二リ
ン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、モノエタノールアミン、トリエタノ
ールアミンが好ましい。アルカリ剤は単独で用いてもよ
いし2種以上混合してもよい。
像、網点画像等を有する透明原画を通して露光し、つい
でpH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含まないアル
カリ水溶液で現像することにより、原画に対してネガの
レリーフ像が得られる。ここで「実質的に有機溶媒を含
まない」とは、環境衛生、安全性、作業性等の点からみ
て不都合を生じる程度までは有機溶媒を含有しないの意
であり、本発明においては、有機溶媒がアルカリ水溶液
中に占める割合が2重量%以下である事をいい、好まし
くは、1重量%以下であることをいう。本発明に使用さ
れる現像液は少なくとも1種のアルカリ剤と、水とを必
須成分として含有する。現像液中に必須成分として含有
されるアルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、第二または第三リン酸のナトリウム、カリウムま
たはアンモニウム塩、メタ珪酸ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア
等の無酸アルカリ剤、モノ、ジ、またはトリメチルアミ
ン、モノ、ジまたはトリエチルアミン、モノまたはジイ
ソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ、ジまたは
トリエタノールアミン、モノ、ジまたはトリイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の
有機アミン化合物等があげられる。これらのうち第二リ
ン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、モノエタノールアミン、トリエタノ
ールアミンが好ましい。アルカリ剤は単独で用いてもよ
いし2種以上混合してもよい。
【0043】上記アルカリ剤を用いて現像液のpHを7以
上12未満に設定する。pH7未満の場合には、現像液の
現像能力が低いため、非画像部が完全に溶け出さず印刷
工程で汚れとなる。pH12以上の場合には、印刷におけ
る耐刷不良、着肉不良及び画像部の支持体からの剥離が
起る。さらに上記必須成分以外に該現像液中に特開昭5
0−51324号公報に記載されているような、アニオ
ン性界面活性剤、および両性界面活性剤、特開昭59−
75255号公報、同60−111246号公報に記載
されているような非イオン性界面活性剤のうち少なくと
も1種を含有させることにより、または特開昭55−9
5946号公報、同56−142528号公報に記載さ
れているような高分子電解質を含有させることにより、
感光性組成物への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高
めることができる。
上12未満に設定する。pH7未満の場合には、現像液の
現像能力が低いため、非画像部が完全に溶け出さず印刷
工程で汚れとなる。pH12以上の場合には、印刷におけ
る耐刷不良、着肉不良及び画像部の支持体からの剥離が
起る。さらに上記必須成分以外に該現像液中に特開昭5
0−51324号公報に記載されているような、アニオ
ン性界面活性剤、および両性界面活性剤、特開昭59−
75255号公報、同60−111246号公報に記載
されているような非イオン性界面活性剤のうち少なくと
も1種を含有させることにより、または特開昭55−9
5946号公報、同56−142528号公報に記載さ
れているような高分子電解質を含有させることにより、
感光性組成物への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高
めることができる。
【0044】上記の中でもアニオン性界面活性剤が好ま
しく、さらに芳香族スルホン酸塩、ジアルキルスルホコ
ハク酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、
しく、さらに芳香族スルホン酸塩、ジアルキルスルホコ
ハク酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、
【0045】
【化1】
【0046】(式中、nは1〜10の整数、RはH又は
CH3を示す)、
CH3を示す)、
【0047】
【化2】
【0048】(式中、mは1〜10の整数、RはH又は
CH3を示す)、及び分枝アルキル硫酸エステル類が特に
好ましい。かかる界面活性剤又は高分子電解質の添加量
は特に制限はないが、現像液組成物の全重量を基準とし
て、0.003〜5重量%が好ましく、特に0.006〜1
重量%の濃度が好ましい。
CH3を示す)、及び分枝アルキル硫酸エステル類が特に
好ましい。かかる界面活性剤又は高分子電解質の添加量
は特に制限はないが、現像液組成物の全重量を基準とし
て、0.003〜5重量%が好ましく、特に0.006〜1
重量%の濃度が好ましい。
【0049】また、本発明に使用される現像液は、必要
に応じて水溶性亜硫酸塩を含有していてもよい。このよ
うな水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたは
アルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシ
ウムなどが挙げられる。これらの亜硫酸塩の現像液組成
物における含有量は0〜4重量%で、好ましくは0.1〜
1重量%である。また、上記水溶性亜硫酸塩の代わりに
アルカリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオ
ール化合物、またはメチルレゾルシン等のようなヒドロ
キシ芳香族化合物を含有させてもよい。まだ、これらの
化合物の水溶性亜硫酸塩を併用することもできる。
に応じて水溶性亜硫酸塩を含有していてもよい。このよ
うな水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたは
アルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシ
ウムなどが挙げられる。これらの亜硫酸塩の現像液組成
物における含有量は0〜4重量%で、好ましくは0.1〜
1重量%である。また、上記水溶性亜硫酸塩の代わりに
アルカリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオ
ール化合物、またはメチルレゾルシン等のようなヒドロ
キシ芳香族化合物を含有させてもよい。まだ、これらの
化合物の水溶性亜硫酸塩を併用することもできる。
【0050】また、更に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟
化剤のような添加剤を含有させることもできる。消泡剤
としてはシリコン系の物が好ましく、硬水軟化剤として
は例えば、ポリ燐酸塩やアミノポリカルボン酸類を挙げ
ることが出来る。このような硬水軟化剤は使用される硬
水の硬度およびその使用量に応じて最適量が変化する
が、一般には、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、
より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有され
る。
化剤のような添加剤を含有させることもできる。消泡剤
としてはシリコン系の物が好ましく、硬水軟化剤として
は例えば、ポリ燐酸塩やアミノポリカルボン酸類を挙げ
ることが出来る。このような硬水軟化剤は使用される硬
水の硬度およびその使用量に応じて最適量が変化する
が、一般には、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、
より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有され
る。
【0051】上記の感光性組成物を用いた感光性平版印
刷版は、特開昭54−8002号、同55−11504
5号、特開昭59−58431号の各公報に記載されて
いる方法で製版処理しても良い。即ち、現像処理後、水
洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処
理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水
溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよい。さらに、
この種の感光性平版印刷版の現像工程では処理量に応じ
てアルカリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少した
り、あるいは、自動現像液の長時間運転により空気によ
ってアルカリ濃度が減少するため処理能力が低下する
が、その際、特開昭54−62004号に記載のように
補充液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場
合、米国特許第4,882,246号に記載されている方法
で補充することが好ましい。
刷版は、特開昭54−8002号、同55−11504
5号、特開昭59−58431号の各公報に記載されて
いる方法で製版処理しても良い。即ち、現像処理後、水
洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処
理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水
溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよい。さらに、
この種の感光性平版印刷版の現像工程では処理量に応じ
てアルカリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少した
り、あるいは、自動現像液の長時間運転により空気によ
ってアルカリ濃度が減少するため処理能力が低下する
が、その際、特開昭54−62004号に記載のように
補充液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場
合、米国特許第4,882,246号に記載されている方法
で補充することが好ましい。
【0052】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
【0053】なお現像処理後、必要であれば画像部の不
要部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りと
ることもできる。
要部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りと
ることもできる。
【0054】
【発明の効果】本発明の方法により製造した感光性平版
印刷版は、pH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含ま
ないアルカリ水溶液で現像しても汚れが起こらない。し
たがって安全・衛生上および公害対策上問題のない現像
液が使用できる。また本発明の方法により製造した平版
印刷版は、現像時における支持体からの画像部の剥離が
なく、高い耐刷力及び良好な着肉性等を有する。
印刷版は、pH7以上12未満の実質的に有機溶剤を含ま
ないアルカリ水溶液で現像しても汚れが起こらない。し
たがって安全・衛生上および公害対策上問題のない現像
液が使用できる。また本発明の方法により製造した平版
印刷版は、現像時における支持体からの画像部の剥離が
なく、高い耐刷力及び良好な着肉性等を有する。
【0055】
ジアゾ樹脂−1の合成 フェノキシ酢酸6.1g(0.040モル)および4−ジア
ゾジフェニルアミン硫酸塩11.3g(0.040モル)を
水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後に3.0
gのパラホルムアルデヒド(0.10モル)をゆっくり添
加した。この際、反応温度が10℃を超えないように添
加していった。その後、2時間氷冷下かくはんを続け
た。この反応混合物を氷冷下、1リットルのエタノール
に注入し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで洗浄
後、この沈澱物を200mlの純水に溶解し、この液に1
0.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生
じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを30
0mlの純水に溶解した。この液にジブチルナフタレンス
ルホン酸ソーダ41gを溶解した冷濃厚水溶液を加え
た。生じた沈澱を濾別し水洗した後、30℃、1昼夜乾
燥してジアゾ樹脂−1を28.8g得た。このジアゾ共縮
合樹脂−1をGPCにより分子量を測定したところ、重
量平均分子量(ポリスチレン標準)で約2300であっ
た。 〔合成例2〕 ジアゾ樹脂−2の合成 p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(0.025モル)および
4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩7.1g(0.025モ
ル)を氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後
に2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09モル)をゆっ
くり添加した。この際、反応温度が10℃を超えないよ
うに添加していった。その後、2時間氷冷下かくはんを
続けた。この反応混合物を氷冷下、1リットルのエタノ
ールに注入し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで洗
浄後、この沈澱物を200mlの純水に溶解し、この液に
10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。
生じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを3
00mlの純水に溶解した。この液にジブチルナフタレン
スルホン酸ソーダー28.7gを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈澱を濾別し水洗した後、30℃、1昼
夜乾燥してジアゾ樹脂−2を17.5g得た。
ゾジフェニルアミン硫酸塩11.3g(0.040モル)を
水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後に3.0
gのパラホルムアルデヒド(0.10モル)をゆっくり添
加した。この際、反応温度が10℃を超えないように添
加していった。その後、2時間氷冷下かくはんを続け
た。この反応混合物を氷冷下、1リットルのエタノール
に注入し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで洗浄
後、この沈澱物を200mlの純水に溶解し、この液に1
0.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生
じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを30
0mlの純水に溶解した。この液にジブチルナフタレンス
ルホン酸ソーダ41gを溶解した冷濃厚水溶液を加え
た。生じた沈澱を濾別し水洗した後、30℃、1昼夜乾
燥してジアゾ樹脂−1を28.8g得た。このジアゾ共縮
合樹脂−1をGPCにより分子量を測定したところ、重
量平均分子量(ポリスチレン標準)で約2300であっ
た。 〔合成例2〕 ジアゾ樹脂−2の合成 p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(0.025モル)および
4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩7.1g(0.025モ
ル)を氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後
に2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09モル)をゆっ
くり添加した。この際、反応温度が10℃を超えないよ
うに添加していった。その後、2時間氷冷下かくはんを
続けた。この反応混合物を氷冷下、1リットルのエタノ
ールに注入し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで洗
浄後、この沈澱物を200mlの純水に溶解し、この液に
10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。
生じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを3
00mlの純水に溶解した。この液にジブチルナフタレン
スルホン酸ソーダー28.7gを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈澱を濾別し水洗した後、30℃、1昼
夜乾燥してジアゾ樹脂−2を17.5g得た。
【0056】このジアゾ樹脂−2をGPCにより分子量
を測定したところ、重量平均分子量で約1600であっ
た。 〔合成例3〕 ジアゾ樹脂−3の合成 4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素塩29.3g(0.1
00 mol)を85%リン酸70mlに溶解した。これにグ
リオキシル酸・1水和物(97%)4.74g(0.050
0 mol)を添加し、40℃にて20時間撹拌した。次
に、この反応混合物に、パラホルムアルデヒド(95
%)1.58g(0.0500 mol)を添加し、40℃に
て、更に20時間撹拌した。その後、反応溶液をイソプ
ロピルアルコール800mlに撹拌しながら投入して、黄
色の沈殿物を析出させた。この黄色沈殿を濾別し、イソ
プロピルアルコールで洗浄することにより、4−ジアゾ
ジフェニルアミンとグリオキシル酸・ホルムアルデヒド
との縮合物のリン酸二水素塩を得た。
を測定したところ、重量平均分子量で約1600であっ
た。 〔合成例3〕 ジアゾ樹脂−3の合成 4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素塩29.3g(0.1
00 mol)を85%リン酸70mlに溶解した。これにグ
リオキシル酸・1水和物(97%)4.74g(0.050
0 mol)を添加し、40℃にて20時間撹拌した。次
に、この反応混合物に、パラホルムアルデヒド(95
%)1.58g(0.0500 mol)を添加し、40℃に
て、更に20時間撹拌した。その後、反応溶液をイソプ
ロピルアルコール800mlに撹拌しながら投入して、黄
色の沈殿物を析出させた。この黄色沈殿を濾別し、イソ
プロピルアルコールで洗浄することにより、4−ジアゾ
ジフェニルアミンとグリオキシル酸・ホルムアルデヒド
との縮合物のリン酸二水素塩を得た。
【0057】上記縮合物を水400mlに溶解し、これに
n−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム41.8g
(0.120 mol)の水600ml溶液を撹拌しながら添加
した。生成した黄色沈殿を濾取、乾燥し、4−ジアゾジ
フェニルアミンとグリオキシル酸・ホルムアルデヒドと
の縮合物のn−ドデシルベンゼンスルホン酸塩(ジアゾ
樹脂−3)44g得た。このジアゾ樹脂−3をGPCに
より重量平均分子量を測定したところ1950であっ
た。 〔合成例4〕 ジアゾ樹脂−4の合成 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミリ
モル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反
応後に1.5g(50ミリモル)のパラホルムアルデヒド
をゆっくり滴下した。この際、反応温度が10℃を超え
ないように添加していった。その後、2時間氷冷下かく
はんを続けた。
n−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム41.8g
(0.120 mol)の水600ml溶液を撹拌しながら添加
した。生成した黄色沈殿を濾取、乾燥し、4−ジアゾジ
フェニルアミンとグリオキシル酸・ホルムアルデヒドと
の縮合物のn−ドデシルベンゼンスルホン酸塩(ジアゾ
樹脂−3)44g得た。このジアゾ樹脂−3をGPCに
より重量平均分子量を測定したところ1950であっ
た。 〔合成例4〕 ジアゾ樹脂−4の合成 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミリ
モル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反
応後に1.5g(50ミリモル)のパラホルムアルデヒド
をゆっくり滴下した。この際、反応温度が10℃を超え
ないように添加していった。その後、2時間氷冷下かく
はんを続けた。
【0058】この反応混合物を氷冷下、500mlのエタ
ノールに滴下し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで
洗浄後、この沈澱物を100mlの純水に溶解し、この液
に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。
生じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを1
50mlの純水に溶解した。この液に16.8gのジブチル
ナフタレンスルホン酸ソーダを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈澱を濾取し水洗した後、30℃、1昼
夜乾燥してジアゾ樹脂−4を13.5g得た。
ノールに滴下し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで
洗浄後、この沈澱物を100mlの純水に溶解し、この液
に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。
生じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを1
50mlの純水に溶解した。この液に16.8gのジブチル
ナフタレンスルホン酸ソーダを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈澱を濾取し水洗した後、30℃、1昼
夜乾燥してジアゾ樹脂−4を13.5g得た。
【0059】このジアゾ樹脂−4をGPCにより分子量
を測定したところ、重量平均分子量は1,970であり、
5量体以上が約50モル%含まれていた。 〔合成例5〕 親油性高分子化合物−1の合成 N−(4−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド
5.45g(0.0240mol)、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート6.25g(0.0480 mol)、メタクリル
酸2.06g(0.0240 mol)エチルアクリレート10.
4g(0.104mol)、α,α′−アゾビスイソブチロ
ニトリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド2
9gを、撹拌機と冷却管を備えた100ml三ツ口フラス
コに入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反
応混合物を水2リットルに撹拌下投入し、30分間撹拌
後濾過、乾燥することにより、19gの親油性高分子化
合物1が得られた。
を測定したところ、重量平均分子量は1,970であり、
5量体以上が約50モル%含まれていた。 〔合成例5〕 親油性高分子化合物−1の合成 N−(4−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド
5.45g(0.0240mol)、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート6.25g(0.0480 mol)、メタクリル
酸2.06g(0.0240 mol)エチルアクリレート10.
4g(0.104mol)、α,α′−アゾビスイソブチロ
ニトリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド2
9gを、撹拌機と冷却管を備えた100ml三ツ口フラス
コに入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反
応混合物を水2リットルに撹拌下投入し、30分間撹拌
後濾過、乾燥することにより、19gの親油性高分子化
合物1が得られた。
【0060】この親油性高分子化合物−1の酸価は11
1でありGPCにより測定された重量平均分子量は27,
000であった。 〔合成例6〕 親油性高分子化合物−2の合成 次に、N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド8.47g(0.0350 mol)、アクリロニトリ
ル2.55g(0.0480 mol)、メタクリル酸3.01g
(0.0350 mol)、ベンジルアクリレート13.28g
(0.0820 mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド25
gを、撹拌機と冷却管を備えた100ml三ツ口フラスコ
に入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反応
混合物を水2リットルに撹拌下投入し、30分間撹拌後
濾過、乾燥することにより、22gの親油性高分子化合
物−2が得られた。
1でありGPCにより測定された重量平均分子量は27,
000であった。 〔合成例6〕 親油性高分子化合物−2の合成 次に、N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド8.47g(0.0350 mol)、アクリロニトリ
ル2.55g(0.0480 mol)、メタクリル酸3.01g
(0.0350 mol)、ベンジルアクリレート13.28g
(0.0820 mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド25
gを、撹拌機と冷却管を備えた100ml三ツ口フラスコ
に入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反応
混合物を水2リットルに撹拌下投入し、30分間撹拌後
濾過、乾燥することにより、22gの親油性高分子化合
物−2が得られた。
【0061】この親油性高分子化合物2の酸価は14
3、GPCにより測定された重量平均分子量は32,00
0であった。 〔合成例7〕 親油性高分子化合物−3の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド39
g、アクリロニトリル13g、ベンジルアクリレート5
1.8g、メタクリル酸18.9gおよびアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642gをアセトン−メタノール1:1混
合溶液112mlに溶解し、窒素置換した後60℃で8時
間加熱した。
3、GPCにより測定された重量平均分子量は32,00
0であった。 〔合成例7〕 親油性高分子化合物−3の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド39
g、アクリロニトリル13g、ベンジルアクリレート5
1.8g、メタクリル酸18.9gおよびアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642gをアセトン−メタノール1:1混
合溶液112mlに溶解し、窒素置換した後60℃で8時
間加熱した。
【0062】反応終了後、反応液を水5リットルに撹拌
下注ぎ、生じた白色沈澱を濾取乾燥して親油性高分子化
合物3を99g得た。この親油性高分子化合物−3の酸
価は175、GPCにより測定された重量平均分子量は
65,000であった。 〔合成例8〕 親油性高分子化合物−4の合成 2−ヒドロキシエチルメタノール18.58g(0.135
mol)、メタクリル酸1.00g(0.0116 mol)、ベ
ンジルメタクリレート9.5g(0.0531 mol)、α,
α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41g及びN,N
−ジメチルホルムアミド29gを、撹拌機と冷却管を備
えた100ml三ツ口フラスコに入れ、64℃に暖めなが
ら5時間撹拌した。この反応混合物を水2リットルに撹
拌下投入し、30分間撹拌後濾過、乾燥することによ
り、19gの親油性高分子化合物−4が得られた。
下注ぎ、生じた白色沈澱を濾取乾燥して親油性高分子化
合物3を99g得た。この親油性高分子化合物−3の酸
価は175、GPCにより測定された重量平均分子量は
65,000であった。 〔合成例8〕 親油性高分子化合物−4の合成 2−ヒドロキシエチルメタノール18.58g(0.135
mol)、メタクリル酸1.00g(0.0116 mol)、ベ
ンジルメタクリレート9.5g(0.0531 mol)、α,
α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41g及びN,N
−ジメチルホルムアミド29gを、撹拌機と冷却管を備
えた100ml三ツ口フラスコに入れ、64℃に暖めなが
ら5時間撹拌した。この反応混合物を水2リットルに撹
拌下投入し、30分間撹拌後濾過、乾燥することによ
り、19gの親油性高分子化合物−4が得られた。
【0063】この親油性高分子化合物−4の酸価は32
でありGPCにより測定された重量平均分子量は33,0
00であった。 〔合成例9〕 親油性高分子化合物−5の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド2.0
0g(0.0113 mol)、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート4.00g(0.0307 mol)、メタクリル酸2.
00g(0.0230 mol)、メチルメタクリレート7.0
0g(0.0699 mol)、アクリロニトリル5.00g
(0.0942 mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド29
gを、撹拌機と冷却管を備えた100ml三ツ口フラスコ
に入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反応
混合物を水2リットルに撹拌下投入し、30分間撹拌後
濾過、乾燥することにより、18gの親油性高分子化合
物5が得られた。
でありGPCにより測定された重量平均分子量は33,0
00であった。 〔合成例9〕 親油性高分子化合物−5の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド2.0
0g(0.0113 mol)、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート4.00g(0.0307 mol)、メタクリル酸2.
00g(0.0230 mol)、メチルメタクリレート7.0
0g(0.0699 mol)、アクリロニトリル5.00g
(0.0942 mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニ
トリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド29
gを、撹拌機と冷却管を備えた100ml三ツ口フラスコ
に入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反応
混合物を水2リットルに撹拌下投入し、30分間撹拌後
濾過、乾燥することにより、18gの親油性高分子化合
物5が得られた。
【0064】この親油性高分子化合物−5の酸価は65
でありGPCにより測定された重量平均分子量は48,0
00であった。比較のために、親油性高分子化合物6及
び7を以下のように合成した。 〔合成例10〕 親油性高分子化合物−6の合成 モノマー成分の仕込量をアクリロニトリル2.12g(0.
040 mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート1
3.00g(0.100 mol)、エチルメタクリレート6.6
1g(0.058 mol)、メタクリル酸0.17g(0.00
2 mol)とした以外は合成例8の手順を繰返して、17.
6gの親油性高分子化合物−6を得た。
でありGPCにより測定された重量平均分子量は48,0
00であった。比較のために、親油性高分子化合物6及
び7を以下のように合成した。 〔合成例10〕 親油性高分子化合物−6の合成 モノマー成分の仕込量をアクリロニトリル2.12g(0.
040 mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート1
3.00g(0.100 mol)、エチルメタクリレート6.6
1g(0.058 mol)、メタクリル酸0.17g(0.00
2 mol)とした以外は合成例8の手順を繰返して、17.
6gの親油性高分子化合物−6を得た。
【0065】この親油性高分子化合物の酸価は6.5であ
りGPCで測定した重量平均分子量は35,000であっ
た。 〔合成例11〕 親油性高分子化合物−7の合成 モノマー成分の仕込量をN−(4−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド14.4g(0.060 mol)、
アクリロニトリル1.86g(0.035 mol)、メタクリ
ル酸6.02g(0.070 mol)、ベンジルアクリレート
5.67g(0.035 mol)とした以外は合成例5の手順
を繰返して、24.2gの親油性高分子化合物−7を得
た。
りGPCで測定した重量平均分子量は35,000であっ
た。 〔合成例11〕 親油性高分子化合物−7の合成 モノマー成分の仕込量をN−(4−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド14.4g(0.060 mol)、
アクリロニトリル1.86g(0.035 mol)、メタクリ
ル酸6.02g(0.070 mol)、ベンジルアクリレート
5.67g(0.035 mol)とした以外は合成例5の手順
を繰返して、24.2gの親油性高分子化合物−7を得
た。
【0066】この親油性高分子化合物の酸価は260で
ありGPCで測定した重量平均分子量は27,000であ
った。 〔実施例1〕アルミニウム99.5%、銅0.01%、チタ
ン0.03%、鉄0.3%、ケイ素0.1%を含有するJIS
A1050アルミニウム材の厚み0.24mmの圧延板を、
400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20重量
%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロ
ン)とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗
浄した。
ありGPCで測定した重量平均分子量は27,000であ
った。 〔実施例1〕アルミニウム99.5%、銅0.01%、チタ
ン0.03%、鉄0.3%、ケイ素0.1%を含有するJIS
A1050アルミニウム材の厚み0.24mmの圧延板を、
400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20重量
%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロ
ン)とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗
浄した。
【0067】これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で、中和し次に0.
7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含有)
中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルト
の矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58
−5796号公報実施例に記載されている電流波形)を
用いて160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。水洗後40℃の10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g
/m2になるようにエッチングした後、水洗した。次に、
得られたアルミニウム板を50℃30%の硫酸水溶液中
に浸漬し、デスマットした後水洗した。
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で、中和し次に0.
7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含有)
中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルト
の矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58
−5796号公報実施例に記載されている電流波形)を
用いて160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。水洗後40℃の10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g
/m2になるようにエッチングした後、水洗した。次に、
得られたアルミニウム板を50℃30%の硫酸水溶液中
に浸漬し、デスマットした後水洗した。
【0068】その後、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用いて
多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密
度13A/dm2 で電解を行い、電解時間の調節により陽
極酸化皮膜重量2.0g/m2とした。アルミニウム板を水
洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に30秒
間浸漬処理し、水洗乾燥した。
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用いて
多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密
度13A/dm2 で電解を行い、電解時間の調節により陽
極酸化皮膜重量2.0g/m2とした。アルミニウム板を水
洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に30秒
間浸漬処理し、水洗乾燥した。
【0069】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃縮計で測定した反射
濃縮0.28で、中心線平均粗さ0.54μm であった。上
記アルミニウム支持体に特開昭59−101651号公
報実施例1に記載の方法と同様にして下塗りを施した。
次に上記の下塗りを施したアルミニウム支持体上に下記
感光液−1をバーコーターを用いて塗布し、120℃で
30秒間乾燥した。乾燥塗布量は、1.7g/m2であっ
た。 (感光液−1) ジアゾ樹脂−1 1.2g 親油性高分子化合物−1 5.0g 油溶性染料 0.15g (ビクトリアピュアブルー BOH) フッ素系界面活性剤 0.02g (メガファックF-177 大日本インキ化学工業(株)製) リン酸トリクレジル 0.2g 亜リン酸 0.03g リンゴ酸 0.03g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50g メタノール 20g メチルエチルケトン 20g 乳酸メチル 10g 感光層塗布後表面に特公平3−21902号公報実施例
1に記載の組成Bの液を静電スプレーにて塗布し、60
℃の雰囲気中に5秒間露して乾燥させることにより表面
にマット加工を施した。
持体は、マクベスRD920反射濃縮計で測定した反射
濃縮0.28で、中心線平均粗さ0.54μm であった。上
記アルミニウム支持体に特開昭59−101651号公
報実施例1に記載の方法と同様にして下塗りを施した。
次に上記の下塗りを施したアルミニウム支持体上に下記
感光液−1をバーコーターを用いて塗布し、120℃で
30秒間乾燥した。乾燥塗布量は、1.7g/m2であっ
た。 (感光液−1) ジアゾ樹脂−1 1.2g 親油性高分子化合物−1 5.0g 油溶性染料 0.15g (ビクトリアピュアブルー BOH) フッ素系界面活性剤 0.02g (メガファックF-177 大日本インキ化学工業(株)製) リン酸トリクレジル 0.2g 亜リン酸 0.03g リンゴ酸 0.03g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50g メタノール 20g メチルエチルケトン 20g 乳酸メチル 10g 感光層塗布後表面に特公平3−21902号公報実施例
1に記載の組成Bの液を静電スプレーにて塗布し、60
℃の雰囲気中に5秒間露して乾燥させることにより表面
にマット加工を施した。
【0070】なお以上の支持体処理工程や塗布工程は連
続した一貫製造ラインで行った。さらに感光性平版印刷
版は表面保護のために合紙でカバーした。合紙としては
表面がポリエチレン加工されている紙を用いた。上記の
ようにして得られたネガ型感光性平版印刷版(ネガ型P
S版)を富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの
距離から1分間画像露光した。
続した一貫製造ラインで行った。さらに感光性平版印刷
版は表面保護のために合紙でカバーした。合紙としては
表面がポリエチレン加工されている紙を用いた。上記の
ようにして得られたネガ型感光性平版印刷版(ネガ型P
S版)を富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの
距離から1分間画像露光した。
【0071】その後次に示す条件で現像処理を行った。
まず富士写真フィルム(株)製自現機スタブロン900
Dの第1浴に下記現像液−1を第2浴に水を第3浴に富
士写真フィルム(株)製フィニッシャーFP−2をそれ
ぞれ仕込み、現像液温30℃、現像時間20秒の現像処
理条件にした。 (現像液−1) 炭酸ナトリウム・1水和物 6g 炭酸水素ナトリウム 3g キレート剤(EDTA) 0.5g アニオン界面活性剤 ペレックス NBL(花王アトラス製) 15g ニューコール B4SN (日本乳化剤製) 2g 水 300g 現像液−1のpHは10.1であった。
まず富士写真フィルム(株)製自現機スタブロン900
Dの第1浴に下記現像液−1を第2浴に水を第3浴に富
士写真フィルム(株)製フィニッシャーFP−2をそれ
ぞれ仕込み、現像液温30℃、現像時間20秒の現像処
理条件にした。 (現像液−1) 炭酸ナトリウム・1水和物 6g 炭酸水素ナトリウム 3g キレート剤(EDTA) 0.5g アニオン界面活性剤 ペレックス NBL(花王アトラス製) 15g ニューコール B4SN (日本乳化剤製) 2g 水 300g 現像液−1のpHは10.1であった。
【0072】なお、現像液−1がこれらの処理または経
時で疲労し、現像能力が落ちた場合は下記補充液−1を
補充することにより現像能力を回復させた。 (補充液−1) 炭酸ナトリウム・1水和物 8g 炭酸水素ナトリウム 1.0g キレート剤(EDTA) 0.5g ペレックス NBL 24g ニューコール B4SN 2g 水 240g 上記ネガ型PS版を上記のようにして露光現像処理する
ことにより得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印
刷機SOR−Mにかけた。インキには大日本インキ
(株)製グラフGを用い湿し水にはイソプロパノール1
0%を含有する水道水に富士写真フィルム(株)製EU
−3を1%添加した液を用いコート紙に印刷した。
時で疲労し、現像能力が落ちた場合は下記補充液−1を
補充することにより現像能力を回復させた。 (補充液−1) 炭酸ナトリウム・1水和物 8g 炭酸水素ナトリウム 1.0g キレート剤(EDTA) 0.5g ペレックス NBL 24g ニューコール B4SN 2g 水 240g 上記ネガ型PS版を上記のようにして露光現像処理する
ことにより得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印
刷機SOR−Mにかけた。インキには大日本インキ
(株)製グラフGを用い湿し水にはイソプロパノール1
0%を含有する水道水に富士写真フィルム(株)製EU
−3を1%添加した液を用いコート紙に印刷した。
【0073】得られた結果を表1に示す。 〔実施例2〕実施例1と同様の表面処理と下塗りをした
支持体上に下記感光液−2をバーコーターを用いて塗布
し、120℃で25秒間乾燥した。乾燥塗布量は、1.6
g/m2であった。 (感光液−2) ジアゾ樹脂−1 1.2g 親油性高分子化合物−2 5.0g ビクトリアピュアブルー BOH 0.15g メガファックF-177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2g フェニルホスホン酸 0.03g ジピコリン酸 0.03g 亜リン酸 0.03g p−ヒドロキシスチレンのビバリン酸エステル 0.1g (エステル化率50%) 2−メトキシプロパノール 50g メタノール 18g メチルエチルケトン 20g 乳酸メチル 10g 水 2g 感光層塗布後表面に実施例1と同様マット加工を施し
た。上記のようにして得られたネガ型感光性平版印刷版
を実施例1と同様に画像露光後、次に示す条件で現像処
理を行った。すなわちまず富士写真フィルム(株)製自
現機800EIIBの第1浴に実施例1と同じ現像液−1
を、第2浴に特願平2−30474号明細書実施例1に
記載のフイニッシャーをそれぞれ仕込み、現像液温25
℃、現像時間30秒の現像処理条件にした。
支持体上に下記感光液−2をバーコーターを用いて塗布
し、120℃で25秒間乾燥した。乾燥塗布量は、1.6
g/m2であった。 (感光液−2) ジアゾ樹脂−1 1.2g 親油性高分子化合物−2 5.0g ビクトリアピュアブルー BOH 0.15g メガファックF-177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2g フェニルホスホン酸 0.03g ジピコリン酸 0.03g 亜リン酸 0.03g p−ヒドロキシスチレンのビバリン酸エステル 0.1g (エステル化率50%) 2−メトキシプロパノール 50g メタノール 18g メチルエチルケトン 20g 乳酸メチル 10g 水 2g 感光層塗布後表面に実施例1と同様マット加工を施し
た。上記のようにして得られたネガ型感光性平版印刷版
を実施例1と同様に画像露光後、次に示す条件で現像処
理を行った。すなわちまず富士写真フィルム(株)製自
現機800EIIBの第1浴に実施例1と同じ現像液−1
を、第2浴に特願平2−30474号明細書実施例1に
記載のフイニッシャーをそれぞれ仕込み、現像液温25
℃、現像時間30秒の現像処理条件にした。
【0074】上記のように露光・現像処理をして得られ
た平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。得られた結果を表1に示す。 〔実施例3〕厚さ0.3mmのJISA1050アルミニウ
ム板を5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で、65℃で
1分間アルカリエッチングを行ったのち水洗し、10重
量%硝酸水溶液中で、25℃、1分間浸漬し中和したの
ち、水洗した。このアルミニウム板を1重量%の硝酸水
溶液中、30℃で、交流で電流密度50 A/dm2 で30
秒間電解粗面化を行ったのち、水洗槽中で10秒間水洗
処理を行い、次に10重量%水酸化ナトリウム水溶液中
に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるよう
にエッチングした。
た平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。得られた結果を表1に示す。 〔実施例3〕厚さ0.3mmのJISA1050アルミニウ
ム板を5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で、65℃で
1分間アルカリエッチングを行ったのち水洗し、10重
量%硝酸水溶液中で、25℃、1分間浸漬し中和したの
ち、水洗した。このアルミニウム板を1重量%の硝酸水
溶液中、30℃で、交流で電流密度50 A/dm2 で30
秒間電解粗面化を行ったのち、水洗槽中で10秒間水洗
処理を行い、次に10重量%水酸化ナトリウム水溶液中
に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるよう
にエッチングした。
【0075】次に得られたアルミニウム板を20%硫酸
水溶液中で25℃、6A/dm2 の条件で電解時間を調節
して酸化皮膜重量1.2g/m2となるように陽極酸化処理
を行なった。次に湿度100%温度98℃の水蒸気に2
0秒さらして封孔処理を行った。更に70℃のケイ酸ソ
ーダ2.5重量%水溶液に1分間浸漬処理し水洗・乾燥さ
せた。以上のようにして得られたアルミニウム支持体
は、反射濃度0.23で、中心線平均粗さ0.42μm であ
った。
水溶液中で25℃、6A/dm2 の条件で電解時間を調節
して酸化皮膜重量1.2g/m2となるように陽極酸化処理
を行なった。次に湿度100%温度98℃の水蒸気に2
0秒さらして封孔処理を行った。更に70℃のケイ酸ソ
ーダ2.5重量%水溶液に1分間浸漬処理し水洗・乾燥さ
せた。以上のようにして得られたアルミニウム支持体
は、反射濃度0.23で、中心線平均粗さ0.42μm であ
った。
【0076】この支持体上に、実施例1と同様にして下
塗りを行った。さらに下記感光液−3をバーコーターを
用いて塗布し100℃で1分間乾燥した。乾燥塗布量は
1.8g/m2であった。 (感光液−3) ジアゾ樹脂−2 1.2g 親油性高分子化合物−3 5.0g ビクトリアピュアブルー BOH 0.15g メガファックF-177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2g リンゴ酸 0.03g アニオン界面活性剤(ペレックス NBL) 0.1g ポリアクリル酸(ジュリマー AC-10L) 0.3g スチレン−無水マレイン酸共重合体の 0.05g n−ヘキシルアルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50g メタノール 20g メチルエチルケトン 20g 乳酸メチル 10g 感光層塗布後表面に実施例1と同様のマット加工を施し
た。
塗りを行った。さらに下記感光液−3をバーコーターを
用いて塗布し100℃で1分間乾燥した。乾燥塗布量は
1.8g/m2であった。 (感光液−3) ジアゾ樹脂−2 1.2g 親油性高分子化合物−3 5.0g ビクトリアピュアブルー BOH 0.15g メガファックF-177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2g リンゴ酸 0.03g アニオン界面活性剤(ペレックス NBL) 0.1g ポリアクリル酸(ジュリマー AC-10L) 0.3g スチレン−無水マレイン酸共重合体の 0.05g n−ヘキシルアルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50g メタノール 20g メチルエチルケトン 20g 乳酸メチル 10g 感光層塗布後表面に実施例1と同様のマット加工を施し
た。
【0077】上記のようにして得られたネガ型感光性平
版印刷版を実施例1と同様に画像露光を行った。次いで
特開昭62−59958号公報に記載された水平搬送型
の現像液使い捨て型自動現像機を準備し、第1浴には実
施例1と同じ現像液を仕込み、第2浴には下記処方のリ
ンス液を水で8倍に希釈して8リットル仕込んだ。
版印刷版を実施例1と同様に画像露光を行った。次いで
特開昭62−59958号公報に記載された水平搬送型
の現像液使い捨て型自動現像機を準備し、第1浴には実
施例1と同じ現像液を仕込み、第2浴には下記処方のリ
ンス液を水で8倍に希釈して8リットル仕込んだ。
【0078】 リンス液処方 リン酸(85重量%水溶液) 48g 水酸化ナトリウム 19.2g ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム 24g ドデシルフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム 24g シリコーン消泡剤TSA−731 0.08g 水 875g この自動現像機にて、上記露光済平版印刷版を現像し
た。さらに不要部分を富士写真フィルム(株)製消去液
RN−2で消去した。消去した部分に残存膜はなかっ
た。水洗を行った後、ガムGU−7による不感脂化処理
を行った。
た。さらに不要部分を富士写真フィルム(株)製消去液
RN−2で消去した。消去した部分に残存膜はなかっ
た。水洗を行った後、ガムGU−7による不感脂化処理
を行った。
【0079】得られた平版印刷版を用い、実施例1と同
様の方法で印刷を行った。得られた結果を表1に示す。 〔実施例4〕実施例1における感光液において、親油性
高分子化合物−1を親油性高分子化合物−4に替えた以
外は実施例1の手順を繰り返して感光性平版印刷版を製
造した。さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を
行い得られた平版印刷版を用い、実施例1と同様の方法
で印刷を行った。
様の方法で印刷を行った。得られた結果を表1に示す。 〔実施例4〕実施例1における感光液において、親油性
高分子化合物−1を親油性高分子化合物−4に替えた以
外は実施例1の手順を繰り返して感光性平版印刷版を製
造した。さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を
行い得られた平版印刷版を用い、実施例1と同様の方法
で印刷を行った。
【0080】得られた結果を表1に示す。 〔実施例5〕実施例1における感光液において、親油性
高分子化合物−1を親油性高分子化合物−5に替えた以
外は実施例1の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造
した。さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行
い得られた平版印刷版を用い、実施例1と同様の方法で
印刷を行った。
高分子化合物−1を親油性高分子化合物−5に替えた以
外は実施例1の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造
した。さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行
い得られた平版印刷版を用い、実施例1と同様の方法で
印刷を行った。
【0081】得られた結果を表1に示す。 〔実施例6〕実施例1における感光液において、ジアゾ
樹脂−1をジアゾ樹脂−3に替えた以外は実施例1の手
順を繰返して感光性平版印刷版を製造した。さらに実施
例1と同様の画像露光・現像処理を行い得られた平版印
刷版を用い、実施例1と同様の方法で印刷を行った。
樹脂−1をジアゾ樹脂−3に替えた以外は実施例1の手
順を繰返して感光性平版印刷版を製造した。さらに実施
例1と同様の画像露光・現像処理を行い得られた平版印
刷版を用い、実施例1と同様の方法で印刷を行った。
【0082】得られた結果を表1に示す。 〔実施例7〕実施例1における感光液においてジアゾ樹
脂−1 1.29をジアゾ樹脂−40.6gに替えた以外は
実施例1の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造し
た。さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い
得られた平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷
を行った。
脂−1 1.29をジアゾ樹脂−40.6gに替えた以外は
実施例1の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造し
た。さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い
得られた平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷
を行った。
【0083】得られた結果を表1に示す。 〔実施例8〕現像液液−1を下記現像液2に替えた以外
は実施例−1の手順を繰返して実施例1で製造したネガ
型PS版を現像した。得られた平版印刷版を用い、実施
例1と同様の方法で印刷を行った。 (現像液−2) 炭酸水素ナトリウム 6g EDTA 0.5g ペレックスNBL 15g 水 300g 現像液−2のpHは8.6であった。
は実施例−1の手順を繰返して実施例1で製造したネガ
型PS版を現像した。得られた平版印刷版を用い、実施
例1と同様の方法で印刷を行った。 (現像液−2) 炭酸水素ナトリウム 6g EDTA 0.5g ペレックスNBL 15g 水 300g 現像液−2のpHは8.6であった。
【0084】得られた結果を表1に示す。 〔実施例9〕現像液液−1を下記現像液−3に替えた以
外は実施例5の手順を繰返して平版印刷版を得た。これ
を用い、実施例1と同様の方法で印刷を行った。 (現像液−3) 炭酸ナトリウム・1水和物 9g EDTA 0.5g 水 300g 現像液−3のpHは11.3であった。
外は実施例5の手順を繰返して平版印刷版を得た。これ
を用い、実施例1と同様の方法で印刷を行った。 (現像液−3) 炭酸ナトリウム・1水和物 9g EDTA 0.5g 水 300g 現像液−3のpHは11.3であった。
【0085】得られた結果を表1に示す。 〔比較例1〕実施例1における感光液において、親油性
高分子−1を親油性高分子−6に替えた以外は実施例1
の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造した。さらに
実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い、得られた
平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。
高分子−1を親油性高分子−6に替えた以外は実施例1
の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造した。さらに
実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い、得られた
平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。
【0086】得られた結果を表1に示す。 〔比較例2〕実施例1における感光液において、親油性
高分子−1を親油性高分子−7に替えた以外は実施例1
の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造した。さらに
実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い、得られた
平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。
高分子−1を親油性高分子−7に替えた以外は実施例1
の手順を繰返して感光性平版印刷版を製造した。さらに
実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い、得られた
平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。
【0087】得られた結果を表1に示す。 〔比較例3〕現像液−1を下記現像液4に替えた以外は
実施例4の手順を繰返して平版印刷版を得た。これを用
い実施例1と同様の方法で印刷を行った。 (現像液−4) 1K珪酸カリウム 60g 水酸化カリウム 12g ホウ素系界面活性剤(エマルボンT−20) 0.1g キレート剤(EDTA) 0.1g シリコン系消泡剤(東芝シリコーン(株)製 0.01g TSA−731) 酢酸コバルト 0.04g 水 1200g 現像液−4のpHは、13.1であった。
実施例4の手順を繰返して平版印刷版を得た。これを用
い実施例1と同様の方法で印刷を行った。 (現像液−4) 1K珪酸カリウム 60g 水酸化カリウム 12g ホウ素系界面活性剤(エマルボンT−20) 0.1g キレート剤(EDTA) 0.1g シリコン系消泡剤(東芝シリコーン(株)製 0.01g TSA−731) 酢酸コバルト 0.04g 水 1200g 現像液−4のpHは、13.1であった。
【0088】得られた結果を表1に示す。 表 1 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 親油性高分子 ジアゾ 現像液 印刷評価 化合物 樹 脂 No 酸価 No No pH 汚れ 耐 刷 実施例1 1 111 1 1 10.1 A 5 万枚 実施例2 2 143 1 1 10.1 A 4.5 万 実施例3 3 175 2 1 10.1 A 4 万 実施例4 4 32 1 1 10.1 C 5.5 万 実施例5 5 65 1 1 10.1 B 5 万 実施例6 1 111 3 1 10.1 A 4 万 実施例7 1 111 4 1 10.1 C 5 万 実施例8 1 111 1 2 8.6 B 5 万 実施例9 5 65 1 3 11.3 B 4 万 比較例1 6 6.5 1 1 10.1 E 5 万 比較例2 7 260 1 1 10.1 A 2 万 比較例3 4 32 1 4 13.1 D 0.5 万 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 汚れ程度 A:全くなし B:ほとんどなし C:やや汚れあり D:汚れあり E:
汚れ大 表1からわかるように本発明の方法により製造された実
施例1〜9の平版印刷版は、比較例1〜3の平版印刷版
と比較して印刷汚れがなくしかも耐刷性に優れた、非常
に優れたものであった。
汚れ大 表1からわかるように本発明の方法により製造された実
施例1〜9の平版印刷版は、比較例1〜3の平版印刷版
と比較して印刷汚れがなくしかも耐刷性に優れた、非常
に優れたものであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体上に、ジアゾ化合物および酸価3
0以上250未満の親油性高分子化合物を含有する感光
層を有する感光性平版印刷版を、画像露光後、pH7以上
12未満の実質的に有機溶剤を含まないアルカリ水溶液
で現像することを特徴とする平版印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14732191A JPH052265A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 平版印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14732191A JPH052265A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 平版印刷版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH052265A true JPH052265A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=15427543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14732191A Pending JPH052265A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 平版印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH052265A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009236971A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04217256A (ja) * | 1990-12-19 | 1992-08-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法 |
| JPH04217255A (ja) * | 1990-12-19 | 1992-08-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法 |
-
1991
- 1991-06-19 JP JP14732191A patent/JPH052265A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04217256A (ja) * | 1990-12-19 | 1992-08-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法 |
| JPH04217255A (ja) * | 1990-12-19 | 1992-08-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009236971A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
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