JPH05230219A - α,ω−ジヒドロポリシラン類の製造方法 - Google Patents
α,ω−ジヒドロポリシラン類の製造方法Info
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- JPH05230219A JPH05230219A JP6974992A JP6974992A JPH05230219A JP H05230219 A JPH05230219 A JP H05230219A JP 6974992 A JP6974992 A JP 6974992A JP 6974992 A JP6974992 A JP 6974992A JP H05230219 A JPH05230219 A JP H05230219A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【構成】小員環ポリシランを溶媒中、重合触媒存在下開
環重合させることからなる、一般式[I] 【化1】 (式中R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7およびR8は
各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシル基、シリル基また
はハロゲン原子を表す。R1とR2,R3とR4,R5とR6
またはR7とR8は結合しているケイ素と一体となって環
を形成しうる。mは0または1を表す。nは2以上の整
数を表す)で表されるα、ωージヒドロポリシラン類の
製造方法。 【効果】非線形光学材料や導伝性高分子などの機能性高
分子として有用なポリシラン類を種々合成できる
環重合させることからなる、一般式[I] 【化1】 (式中R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7およびR8は
各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシル基、シリル基また
はハロゲン原子を表す。R1とR2,R3とR4,R5とR6
またはR7とR8は結合しているケイ素と一体となって環
を形成しうる。mは0または1を表す。nは2以上の整
数を表す)で表されるα、ωージヒドロポリシラン類の
製造方法。 【効果】非線形光学材料や導伝性高分子などの機能性高
分子として有用なポリシラン類を種々合成できる
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は下記一般式[I]
【化3】 (式中R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7およびR8は
各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシル基、シリル基また
はハロゲン原子を表す。R1とR2,R3とR4,R5とR6
またはR7とR8は結合しているケイ素と一体となって環
を形成しうる。mは0または1を表す。nは2以上の整
数を表す。)で表されるα,ω−ジヒドロポリシラン類
の製造方法に関する。
各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシル基、シリル基また
はハロゲン原子を表す。R1とR2,R3とR4,R5とR6
またはR7とR8は結合しているケイ素と一体となって環
を形成しうる。mは0または1を表す。nは2以上の整
数を表す。)で表されるα,ω−ジヒドロポリシラン類
の製造方法に関する。
【0002】本発明で得られるα,ω−ジヒドロポリシ
ラン類はさらに高分子量のポリシラン類の合成中間体と
して有用である[US Pat.US500310
0]。また本発明によれば、非線形光学材料や導伝性高
分子などの機能性高分子として有用なポリシラン類を種
々合成できる[”有機ケイ素ポリマーの合成と応用”シ
ーエムシー(1989);化学技術研究所報告、8、5
69(1989)]。
ラン類はさらに高分子量のポリシラン類の合成中間体と
して有用である[US Pat.US500310
0]。また本発明によれば、非線形光学材料や導伝性高
分子などの機能性高分子として有用なポリシラン類を種
々合成できる[”有機ケイ素ポリマーの合成と応用”シ
ーエムシー(1989);化学技術研究所報告、8、5
69(1989)]。
【0003】
【従来の技術】一般式[I]で表されるポリシラン類の
合成法としては、(1)ジクロロシラン類をナトリウム
などアルカリ金属存在下、還元縮合する方法[”有機ケ
イ素ポリマーの合成と応用”シーエムシー(1989)
p99]。
合成法としては、(1)ジクロロシラン類をナトリウム
などアルカリ金属存在下、還元縮合する方法[”有機ケ
イ素ポリマーの合成と応用”シーエムシー(1989)
p99]。
【0004】(2)遷移金属触媒存在下、ポリヒドロシ
ラン類を脱水素縮合する方法[Can.J.Che
m.,65,1804(1987);J.Organo
met.Chem.,27,C31(1971)]。
ラン類を脱水素縮合する方法[Can.J.Che
m.,65,1804(1987);J.Organo
met.Chem.,27,C31(1971)]。
【0005】(3)ジシレンの等価体であるジシラビシ
クロオクタジエンのアニオン重合による方法[J.A
m.Chem.Soc.,111,7641(198
9)]。
クロオクタジエンのアニオン重合による方法[J.A
m.Chem.Soc.,111,7641(198
9)]。
【0006】(4)ジクロロシラン類の電解還元による
方法[J.Chem.Soc.,Chem.Commu
n.,1160(1990)]。
方法[J.Chem.Soc.,Chem.Commu
n.,1160(1990)]。
【0007】(5)シクロテトラシラン類と触媒量のブ
チルリチウムを反応させる方法[J.Am.Chem.
Soc.,113,1046(1991)]などがあ
る。
チルリチウムを反応させる方法[J.Am.Chem.
Soc.,113,1046(1991)]などがあ
る。
【0008】これらの方法のうち(1)および(4)の
方法では側鎖に導入できる官能基が限られるうえ、分子
量分布が一様でないなどの欠点がある。
方法では側鎖に導入できる官能基が限られるうえ、分子
量分布が一様でないなどの欠点がある。
【0009】(2)の方法では用いることができる基質
がモノ置換シランに限られるうえ、分子量分布が一様で
ないなどの欠点をもつ。
がモノ置換シランに限られるうえ、分子量分布が一様で
ないなどの欠点をもつ。
【0010】(3)の方法では反応開始剤として活性な
アルキルリチウムを用いるため、側鎖に導入できる官能
基が限られているという欠点がある。
アルキルリチウムを用いるため、側鎖に導入できる官能
基が限られているという欠点がある。
【0011】(5)の方法では用いることができる基質
が著しく限定される。
が著しく限定される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは工業化の
可能かつ高選択的なポリシラン合成法につき検討を加え
た結果、重合触媒存在下、オクタエチルシランをはじめ
とする小員環ポリシラン類を開環重合させることによ
り、前記一般式[I]で表されるα,ω−ジヒドロポリ
シラン類が得られることを見いだし本発明を完成した。
可能かつ高選択的なポリシラン合成法につき検討を加え
た結果、重合触媒存在下、オクタエチルシランをはじめ
とする小員環ポリシラン類を開環重合させることによ
り、前記一般式[I]で表されるα,ω−ジヒドロポリ
シラン類が得られることを見いだし本発明を完成した。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は重合触媒存在
下、下記一般式[II]
下、下記一般式[II]
【0014】
【化4】 (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8 お
よびmは前記と同様の意味を表す。)で表される小員環
ポリシランを開環重合させることにより、前記一般式
[I]で表されるα,ω−ジヒドロポリシラン類を製造
する方法である。
よびmは前記と同様の意味を表す。)で表される小員環
ポリシランを開環重合させることにより、前記一般式
[I]で表されるα,ω−ジヒドロポリシラン類を製造
する方法である。
【0015】本発明に用いる前記一般式[II]で表さ
れる小員環ポリシランはリチウムまたはナトリウムによ
りジクロロシラン類を縮合させる方法[J.Chem.
Soc.,Chem.Commun.,781(198
3);Organometallics,3,141
(1984);Chem.Lett.,1711(19
83);J.Organomet.Chem.,21
2,155(1981);Polym.Prepr.3
1,46(1990);Organometallic
s,2,1771(1983)]により容易に得られ
る。
れる小員環ポリシランはリチウムまたはナトリウムによ
りジクロロシラン類を縮合させる方法[J.Chem.
Soc.,Chem.Commun.,781(198
3);Organometallics,3,141
(1984);Chem.Lett.,1711(19
83);J.Organomet.Chem.,21
2,155(1981);Polym.Prepr.3
1,46(1990);Organometallic
s,2,1771(1983)]により容易に得られ
る。
【0016】前記一般式[II]で表される小員環ポリ
シランとしてはたとえば、ヘキサプロピルシクロトリシ
ラン、ヘキサ(2,2−ジメチルプロピル)シクロトリ
シラン、ヘキサ(1,1−ジメチルエチル)シクロトリ
シラン、ヘキサメシチルシクロトリシラン、オクタ(ト
リメチルシリル)シクロテトラシラン、オクタエチルシ
クロテトラシラン、オクタ(イソプロピル)シクロテト
ラシラン、オクタフェニルシクロテトラシラン、1,
2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−テトラフ
ェニルシラン、1,2,3,4−テトラブロモー1,
2,3,4−テトラフェニルシクロテトラシラン、1,
2,3,4−テトラメトキシ−1、2、3、4−テトラ
フェニルシクロテトラシラン、1,2,3,4−テトラ
フェニルシクロテトラシラン、1,2,3,4−テトラ
ビニル−1,2,3,4−テトラエチルシクロテトラシ
ラン、1,2,3,4−テトラエチニル−1,2,3,
4−テトラフェニルシクロテトラシランなどをあげるこ
とができる。
シランとしてはたとえば、ヘキサプロピルシクロトリシ
ラン、ヘキサ(2,2−ジメチルプロピル)シクロトリ
シラン、ヘキサ(1,1−ジメチルエチル)シクロトリ
シラン、ヘキサメシチルシクロトリシラン、オクタ(ト
リメチルシリル)シクロテトラシラン、オクタエチルシ
クロテトラシラン、オクタ(イソプロピル)シクロテト
ラシラン、オクタフェニルシクロテトラシラン、1,
2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−テトラフ
ェニルシラン、1,2,3,4−テトラブロモー1,
2,3,4−テトラフェニルシクロテトラシラン、1,
2,3,4−テトラメトキシ−1、2、3、4−テトラ
フェニルシクロテトラシラン、1,2,3,4−テトラ
フェニルシクロテトラシラン、1,2,3,4−テトラ
ビニル−1,2,3,4−テトラエチルシクロテトラシ
ラン、1,2,3,4−テトラエチニル−1,2,3,
4−テトラフェニルシクロテトラシランなどをあげるこ
とができる。
【0017】本発明は重合触媒共存下で反応を行うこと
が必須の条件である。重合触媒としては、ヨードトリメ
チルシラン、ヨードトリエチルシラン、トリフルオロメ
タンスルホン酸トリメチルシリル、トリフルオロメタン
スルホン酸トリエチルシリル、シアン化トリメチルシリ
ル、ブロモトリメチルシラン、過塩素酸トリメチルシリ
ル、ヨウ素、シュウ素、トリフルオロメタンスルホン
酸、四塩化チタン、四塩化スズ、トリフルオロボランジ
エチルエーテル錯体などのルイス酸を用いることができ
る。また、アゾビス(イソブチロニトリル)、トリエチ
ルボラン等のラジカル開始剤を単独またはトリブチルス
ズヒドリド、ジフェニルメチルシラン、トリス(トリメ
チルシリル)シランなどと組み合わせて、用いることが
できる。また、フッ化テトラブチルアンモニウム、トリ
ス(ジエチルアミノ)スルホニウムジフルオロトリメチ
ルシリカート等の求核反応剤も用いることができる。使
用量はいわゆる触媒量でよい。
が必須の条件である。重合触媒としては、ヨードトリメ
チルシラン、ヨードトリエチルシラン、トリフルオロメ
タンスルホン酸トリメチルシリル、トリフルオロメタン
スルホン酸トリエチルシリル、シアン化トリメチルシリ
ル、ブロモトリメチルシラン、過塩素酸トリメチルシリ
ル、ヨウ素、シュウ素、トリフルオロメタンスルホン
酸、四塩化チタン、四塩化スズ、トリフルオロボランジ
エチルエーテル錯体などのルイス酸を用いることができ
る。また、アゾビス(イソブチロニトリル)、トリエチ
ルボラン等のラジカル開始剤を単独またはトリブチルス
ズヒドリド、ジフェニルメチルシラン、トリス(トリメ
チルシリル)シランなどと組み合わせて、用いることが
できる。また、フッ化テトラブチルアンモニウム、トリ
ス(ジエチルアミノ)スルホニウムジフルオロトリメチ
ルシリカート等の求核反応剤も用いることができる。使
用量はいわゆる触媒量でよい。
【0018】本発明は溶媒を用いるものであり、溶媒と
してはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,
1,1−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素を単独
または混合して用いることができる。さらに、これらの
溶媒をハロゲン化炭化水素溶媒以外の溶媒と混合して用
いることもできる。反応は−78−200℃の範囲で行
うことができるが反応の効率の点で室温から100℃で
行うことが望ましい。また収率を向上させる上で超音波
照射下で反応を行うことが望ましい。
してはジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,
1,1−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素を単独
または混合して用いることができる。さらに、これらの
溶媒をハロゲン化炭化水素溶媒以外の溶媒と混合して用
いることもできる。反応は−78−200℃の範囲で行
うことができるが反応の効率の点で室温から100℃で
行うことが望ましい。また収率を向上させる上で超音波
照射下で反応を行うことが望ましい。
【0019】以下実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。
明する。
【0020】
実施例1
【0021】
【化5】
【0022】アルゴン雰囲気下、液体窒素を用いて凍結
−脱気した1,2−ジクロロエタン(1ml)にオクタ
エチルシクロテトラシラン103mg(0.030mm
ol)を加え、さらに凍結−脱気を三回繰り返した。ヨ
ードトリメチルシランの1,2−ジクロロエタン溶液
(1.0M)を30μl(0.030mmol)加え、
反応容器を溶封した後、室温下、超音波照射を10時間
行った。反応容器を液体窒素で凍結し、溶封部をアルゴ
ン雰囲気下で開口し、反応容器を室温に戻した後、減圧
下、溶媒を留去した。ヘキサン(2ml)および飽和重
曹水(2ml)を加え、かくはんした後、ヘキサン層を
分離し、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた粗生成
物をシリカゲルカラム(EtOAc:Hexane=
1:20)により精製し変換率46%で1,1,2,
2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8
−ヘキサデカエチルオクタシラン(選択率53%)およ
び1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,1
2,12−テトラコサエチルドデカシラン(選択率47
%)を得た。
−脱気した1,2−ジクロロエタン(1ml)にオクタ
エチルシクロテトラシラン103mg(0.030mm
ol)を加え、さらに凍結−脱気を三回繰り返した。ヨ
ードトリメチルシランの1,2−ジクロロエタン溶液
(1.0M)を30μl(0.030mmol)加え、
反応容器を溶封した後、室温下、超音波照射を10時間
行った。反応容器を液体窒素で凍結し、溶封部をアルゴ
ン雰囲気下で開口し、反応容器を室温に戻した後、減圧
下、溶媒を留去した。ヘキサン(2ml)および飽和重
曹水(2ml)を加え、かくはんした後、ヘキサン層を
分離し、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた粗生成
物をシリカゲルカラム(EtOAc:Hexane=
1:20)により精製し変換率46%で1,1,2,
2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8
−ヘキサデカエチルオクタシラン(選択率53%)およ
び1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,1
2,12−テトラコサエチルドデカシラン(選択率47
%)を得た。
【0023】1,1,2,2,3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8−ヘキサデカエチルオクタ
シラン1 H NMR(CDCl3):δ0.30−1.60
(m,80H),3.63(quintet,J=3.
2Hz,2H)
5,6,6,7,7,8,8−ヘキサデカエチルオクタ
シラン1 H NMR(CDCl3):δ0.30−1.60
(m,80H),3.63(quintet,J=3.
2Hz,2H)
【0024】IR(neat):2980,2070,
1460,1005,790,700cm-1 Anal. Calcd.for C32H82Si8:C,55.5
7;H,11.95 Found:C,55.58;H,12.03
1460,1005,790,700cm-1 Anal. Calcd.for C32H82Si8:C,55.5
7;H,11.95 Found:C,55.58;H,12.03
【0025】1,1,2,2,3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,1
1,11,12,12−テトラコサエチルドデカシラン1 H NMR(CDCl3):δ0.30−1.60
(m,120H),3.70(quintet,J=
3.2Hz,2H)
5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,1
1,11,12,12−テトラコサエチルドデカシラン1 H NMR(CDCl3):δ0.30−1.60
(m,120H),3.70(quintet,J=
3.2Hz,2H)
【0026】IR(neat):2980,2070,
1460,1005,790,700cm-1
1460,1005,790,700cm-1
【0027】Anal. Calcd.for C48H122Si12:C,55.6
2;H,11.86 Found:C,55.55;H,12.16
2;H,11.86 Found:C,55.55;H,12.16
【0028】実施例2
【0029】
【化6】
【0030】実施例1同様な実験手順で溶媒として1,
2−ジクロロエタンのかわりにジクロロメタンを用いて
オクタエチルテトラシクロシラン103mg(0.30
mmol)と触媒量のヨードトリメチルシラン(0.0
30mmol)の反応を行い、変換率34%で1,1,
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8−ヘキサデカエチルオクタシラン(選択率80
%)および1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,
11,12,12−テトラコサエチルドデカシラン(選
択率20%)を得た。生成物のスペクトルは実施例1で
得たものと一致した。
2−ジクロロエタンのかわりにジクロロメタンを用いて
オクタエチルテトラシクロシラン103mg(0.30
mmol)と触媒量のヨードトリメチルシラン(0.0
30mmol)の反応を行い、変換率34%で1,1,
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8−ヘキサデカエチルオクタシラン(選択率80
%)および1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,
11,12,12−テトラコサエチルドデカシラン(選
択率20%)を得た。生成物のスペクトルは実施例1で
得たものと一致した。
【0031】実施例3
【0032】
【化7】
【0033】実施例1同様な実験手順で溶媒として1,
2−ジクロロエタンのかわりにジクロロメタンを用いて
オクタエチルテトラシクロシラン103mg(0.30
mmol)と触媒量のトリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリル(0.030mmol)の反応を行い、
変換率33%で1,1,2,2,3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8−ヘキサデカエチルオクタ
シラン(選択率100%)を得た。生成物のスペクトル
は実施例1で得たものと一致した。
2−ジクロロエタンのかわりにジクロロメタンを用いて
オクタエチルテトラシクロシラン103mg(0.30
mmol)と触媒量のトリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリル(0.030mmol)の反応を行い、
変換率33%で1,1,2,2,3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8−ヘキサデカエチルオクタ
シラン(選択率100%)を得た。生成物のスペクトル
は実施例1で得たものと一致した。
【0034】実施例4
【0035】
【化8】
【0036】実施例1同様な実験手順で溶媒として1,
2−ジクロロエタンのかわりにジクロロメタンを用いて
オクタエチルテトラシクロシラン103mg(0.30
mmol)と触媒量のヨウ素(0.015mmol)の
反応を行い変換率40%で1,1,2,2,3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8−ヘキサデカ
エチルオクタシラン(選択率69%)および1,1,
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,10,10,11,11,12,12
−テトラコサエチルドデカシラン(選択率31%)を得
た。生成物のスペクトルは実施例1で得たものと一致し
た。
2−ジクロロエタンのかわりにジクロロメタンを用いて
オクタエチルテトラシクロシラン103mg(0.30
mmol)と触媒量のヨウ素(0.015mmol)の
反応を行い変換率40%で1,1,2,2,3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8−ヘキサデカ
エチルオクタシラン(選択率69%)および1,1,
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,10,10,11,11,12,12
−テトラコサエチルドデカシラン(選択率31%)を得
た。生成物のスペクトルは実施例1で得たものと一致し
た。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式 【化1】 で表される小員環ポリシランを溶媒中、重合触媒存在下
において、開環重合させることからなる下記一般式 【化2】 で表されるα,ω−ジヒドロポリシラン類の製造方法
(式中R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7およびR8は
各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシル基、シリル基また
はハロゲン原子を表す。R1とR2,R3とR4,R5とR6
またはR7とR8は結合しているケイ素と一体となって環
を形成しうる。mは0または1を表す。nは2以上の整
数を表す)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6974992A JPH05230219A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | α,ω−ジヒドロポリシラン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6974992A JPH05230219A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | α,ω−ジヒドロポリシラン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05230219A true JPH05230219A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=13411764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6974992A Pending JPH05230219A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | α,ω−ジヒドロポリシラン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05230219A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0649219A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 両末端ヒドロポリシラン及びその製造方法 |
| US7485691B1 (en) | 2004-10-08 | 2009-02-03 | Kovio, Inc | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| US7943721B2 (en) | 2005-10-05 | 2011-05-17 | Kovio, Inc. | Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions |
| US8092867B2 (en) | 2006-10-06 | 2012-01-10 | Kovio, Inc. | Silicon polymers, methods of polymerizing silicon compounds, and methods of forming thin films from such silicon polymers |
-
1992
- 1992-02-19 JP JP6974992A patent/JPH05230219A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0649219A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 両末端ヒドロポリシラン及びその製造方法 |
| US8057865B1 (en) | 2004-10-08 | 2011-11-15 | Kovio, Inc. | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| US8236916B1 (en) | 2004-10-08 | 2012-08-07 | Kovio, Inc. | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| US7723457B1 (en) | 2004-10-08 | 2010-05-25 | Kovio, Inc. | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| US8455604B1 (en) | 2004-10-08 | 2013-06-04 | Kovio, Inc. | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| US7951892B1 (en) | 2004-10-08 | 2011-05-31 | Kovio, Inc. | Doped polysilanes, compositions containing the same, methods for making the same, and films formed therefrom |
| US7485691B1 (en) | 2004-10-08 | 2009-02-03 | Kovio, Inc | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| US8242227B2 (en) | 2004-10-08 | 2012-08-14 | Kovio, Inc. | Doped polysilanes, compositions containing the same, methods for making the same, and films formed therefrom |
| US7491782B1 (en) | 2004-10-08 | 2009-02-17 | Kovio, Inc. | Polysilane compositions, methods for their synthesis and films formed therefrom |
| EP1943669A4 (en) * | 2005-10-05 | 2012-06-13 | Kovio Inc | LINEAR AND NETWORKED HIGHLY MOLECULAR POLYSILANES, POLYGERMANES AND COPOLYMERS THEREOF, COMPOSITIONS CONTAINING THEM AND METHOD FOR THE PREPARATION AND USE OF SUCH COMPOUNDS AND COMPOSITIONS |
| US8378050B2 (en) | 2005-10-05 | 2013-02-19 | Kovio, Inc. | Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions |
| US7943721B2 (en) | 2005-10-05 | 2011-05-17 | Kovio, Inc. | Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions |
| US8092867B2 (en) | 2006-10-06 | 2012-01-10 | Kovio, Inc. | Silicon polymers, methods of polymerizing silicon compounds, and methods of forming thin films from such silicon polymers |
| US8461284B2 (en) | 2006-10-06 | 2013-06-11 | Kovio, Inc. | Silicon polymers, methods of polymerizing silicon compounds, and methods of forming thin films from such silicon polymers |
| US8846507B2 (en) | 2006-10-06 | 2014-09-30 | Thin Film Electronics Asa | Silicon polymers, methods of polymerizing silicon compounds, and methods of forming thin films from such silicon polymers |
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