JPH05230228A - 電子ビーム照射によるポリマー組成物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 耐摩耗性とロスフレックス性能とが改善さ
れ、また他の特性をそれほど損なわないエラストマー組
成物、及びこれらの組成物からの履物の製造方法を提供
する。 （ａ） ポリ（ビニル芳香族化合物）を主成分とする少
なくとも１個のブロックと、ポリ（共役ジエン）を主成
分とする少なくとも１個のブロックとを含む３０〜６０
重量％の量の線状ブロックコポリマーと、（ｂ） 前述
した如きブロックコポリマーと混和性がある１０〜５０
重量％の量の熱可塑性ポリマーと、（ｃ） ２０〜４０
重量％の量の非芳香族油とからなる組成物に対して１．
０〜４．５ＭｅＶのエネルギー強さで、５０〜４００ｋ
Ｇｙの範囲の線量で電子ビーム照射を実施する電子ビー
ム照射によるゴム状組成物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、熱可塑性エラストマ
ー、及び特にポリ（ビニル芳香族化合物）を主成分とす
る少なくとも１個のブロックと、ポリ（共役ジエン）を
主成分とする少なくとも１個のブロックとを含むブロッ
クコポリマー、中でも特に少なくとも１個のポリ（スチ
レン）ブロックと、ブタジエン、イソプレン又はこれら
の混合物から得られる少なくとも１個のコ（ポリマー）
ブロックとを含むブロックコポリマーからなるポリマー
組成物の電子ビーム照射による製造方法に関する。

【０００２】“主成分とする”という用語は、明記した
ブロックが、少量の他方の型のモノマーと任意に混合さ
れた１種以上のビニル芳香族化合物又は共役ジエン（例
えば多量の共役ジエンと少量のビニル芳香族化合物とか
らなるブロック又は少量の共役ジエンと多量のビニル芳
香族化合物とからなるブロック）から得られ得ることを
意味する。

【０００３】

【従来の技術】１種以上のビニル芳香族化合物を主成分
とするブロックと、１種以上の共役ジエンを主成分とす
るブロックとから得られるブロックコポリマーを含む組
成物への高エネルギー照射は、例えば日本国特許出願公
開第５９０５９７６１号、米国特許第４，１３３，７３
１号、米国特許第４，１５２，２３１号、米国特許第
４，１５１，０５７号、米国特許第４，３１１，７５９
号、米国特許第４，４３２，８４８号、米国特許第４，
５５６，４６４号で知られており、これらの明細書は、
ＳＢ，ＳＢＳ，ＳＩ，ＳＩＳ型及び対応する水素化生成
物、ラジアルＳＩ、ラジアルポリイソプレン並びに他の
より高度に複雑な型の熱可塑性エラストマー（Ｓはポリ
スチレンブロックを意味し、Ｂはポリブタジエンブロッ
クを意味し、Ｉはポリイソプレンブロックを意味する）
と、少なくとも１種の粘着付与性樹脂と、場合によって
アクリレートエステルと／又は光開始剤と、からなる一
般的な接着剤配合物を開示している。

【０００４】高エネルギー照射（例えば紫外線、β線又
はγ線照射）に暴露した後に、耐有機溶媒性を提供し、
高温で良好な性能を示す接着剤組成物を得た。

【０００５】非弾性熱可塑性ポリマー（例えばポリスチ
レン）、少なくとも１種のビニル芳香族化合物と少なく
とも１種の共役ジエン（ＳＢ，ＳＩ，ＳＢＳ，ＳＩＳ）
又はこれら共役ジエンの水素化生成物（上記と共通の成
分から得られるエラストマーランダムコポリマーと任意
に混合する）とから得られるブロックコポリマー、及び
場合によって過酸化物を含む耐衝撃性熱可塑性ポリマー
混合物の製造に照射が適用されることも知られている。
この製造方法は例えばヨーロッパ特許第０１４６１７２
号及び米国特許第４，０７６，７６８号で知られてい
た。

【０００６】１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３
−ブタジエン及び１，３−ペンタジエンからなる群の中
から選択した共役ジエンから形成される中心ブロック
と、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジ
エン、１，３−ペンタジエン、ビニル置換芳香族炭化水
素、ビニルピリジン、ビニルハライド、ビニリデンハラ
イド及びアクリロニトリルからなる群の中から選択した
モノマーから形成される末端ブロックとを有するブロッ
クコポリマーを含み、着色剤を実質的に含まない組成物
に高エネルギー照射を行って高い強度を示す無色加硫ゴ
ムを製造することも米国特許第３，１１３，９１２号で
知られていた。但し、中心ブロックを形成するモノマー
は末端ブロックを形成するモノマーとは異なっていた。

【０００７】このブロックコポリマーは２ｘ１０⁶〜５
ｘ１０⁷レプ単位（ｒｅｐ． ｕｎｉｔｓ）の総線量の
Ｘ線に少なくとも等価なポテンシャルを有する高エネル
ギー電離照射を受けた。

【０００８】高エネルギー照射を受けたこのような組成
物では、耐摩耗性と屈曲中の耐亀裂生長性（“ロスフレ
ックス（Ｒｏｓｓｆｌｅｘ）”性能）とが共に、本発明
の目的であるゴム製履物に求められる程度に改善される
ことがなく、更には目的とされるこれらの特性が共に損
なわれたことがわかる。

【０００９】米国特許第４，７１６，１８３号では、Ｓ
ＢＳ，ＳＩＳ又はＳＥＢＳブロックコポリマーと、（７
０％までの）多量のエキステンダー油と、カップリング
剤としてのアクリレートとのコンパウンドに照射する
と、架橋が生じ、高温での保形性（ｓｈａｐｅ ｒｅｔ
ｅｎｔｉｏｎ）が良くなった。これはシーリング材料に
適した組成物を製造するために必要であった。

【００１０】日本国特許出願公開第５６０２４１４５号
では、スチレン単位を含むゴム、例えば他のゴム（例え
ば天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム及びエチ
レン／プロピレンゴム）と任意にブレンドした熱可塑性
ブロック又はグラフトコポリマー（スチレン／ブタジエ
ン、スチレン／イソプレン、スチレン／エチレン／プロ
ピレン及びジメチルシロキサン／スチレン）からなる成
形物の製造が知られていた。

【００１１】場合によってはハロゲン化炭化水素１モル
当たり０．００１〜０．１モル％濃度の光増感剤（例え
ばβ−ナフタレン、スルホニルクロライド、トリエタノ
ールアミン、アゾビスイソブチロニトリル、トリクロロ
ブロモメタン−４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−ベ
ンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及び
シクロヘキシルエーテル）の存在下で、ハロゲン化炭化
水素（例えばメチルクロライド、エチルクロライド、プ
ロピルクロライド、イソプロピルクロライド、メチレン
クロライド、エチレンクロライド、メチルブロマイド、
エチルブロマイド、プロピルブロマイド、イソプロピル
ブロマイド、メチレンブロマイド、エチレンブロマイ
ド、クロロホルム、ブロモホルム、テトラクロロメタ
ン、テトラブロモメタン、テトラクロロエタン、テトラ
ブロモエタン、ヘキサクロロエタン、トリメチレンブロ
マイド、ジクロロエチレン及びトリクロロエチレン）を
気体状で５〜８０℃で２秒〜６０分間、又は液状で１秒
〜１０分間成形物に透過させた。

【００１２】その後成形物に紫外線を照射すると、組成
物の耐油性が改善された。

【００１３】更には、米国特許第４，４４７，４８８号
は、熱及び／又は溶剤又は膨張剤により溶接され得、ま
た高エネルギー照射により架橋し得る少なくとも１種の
ポリマー成分を３〜９５重量％含んでいる合成樹脂又は
天然ゴムのシートからなり、充填剤及び加硫促進剤以外
の添加剤を備えた合成樹脂又は天然ゴムのシートを開示
している。このポリマー成分はシート内に均質に分布
し、高エネルギー照射を受けたこのシートの厚みの選択
された部分上で少なくとも部分的に架橋し、シート内部
に広がっている。選択された部分でのポリマー成分は十
分に架橋して、この部分により大きな耐候性と引裂強さ
とを提供し、また溶接適性を損なっている。シートのこ
の部分でのポリマー成分は高エネルギー照射により架橋
が生じなかった他の暴露側面を含んでいる。このポリマ
ー成分はシートのこの他の暴露側面に溶接適性を与える
ために熱及び／又は溶剤又は膨張剤により溶接され得る
状態にある。

【００１４】同特許明細書は、水及び風雨（ｗｅａｔｈ
ｅｒｉｎｇ）の作用に対して耐性のあるシートとして構
造形成された造形品、及びポリマー材料から耐候性のあ
るシート材料の製造方法も開示している。提供された例
は例えばＥＰＤＭ又はクロロスルホン化ポリエチエンか
ら製造する防水膜に関するものであり、天然ゴム、スチ
レン−ブタジエンエラストマー、ポリブタジエンエラス
トマー、ポリイソプレンエラストマー、スチレン−ブタ
ジエン−エラストマーブロックコポリマー及びスチレン
−イソプレン−エラストマーブロックコポリマー等から
得られる他のポリマーの組み合わせが記載されていた。

【００１５】実施例では、４００〜９００ｋｅＶの加速
電圧、２５〜１００ｍＡのビーム電流及び１０〜１６Ｍ
ｒａｄの表面線量の電子照射装置を適用し、３．５〜５
ｍ／分のシート移動速度で、シートの厚みの一部分のみ
が表面の一方の側から架橋したシートの製造を行った。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】ビニル芳香族化合物と
共役ジエンとから得られるブロックコポリマーをベース
とした、カップリング剤も増感剤も使用しない履物、特
にインドアスポーツシューズでの耐摩耗性と屈曲中の耐
亀裂生長性（“ロスフレックス”性能として従来技術で
知られている試験。この特徴を示すために本明細書中で
はこの用語を使用する。）とを改善するために、当業者
がこれらの前述した刊行物から何等教えを得ることがで
きなかったことがわかる。

【００１７】他方では、手頃な価格の出発材料から製造
したインドアスポーツシューズ、特にスカッシュシュー
ズに課された要件に適うために、特に高温での耐摩耗性
及び／又は“ロスフレックス”性能が改善された高品質
の履物、特にスポーツシューズへの必要性がますます高
まっていた。

【００１８】ビニル芳香族化合物と共役ジエンとから得
られるブロックコポリマーは配合に柔軟性があるために
多数の履物用に何年間も使用されてきたが、このブロッ
クコポリマーの適用は今のところ分野によってはまだ成
功をみていない。

【００１９】特にインドアスポーツシューズの靴底の場
合、これらの熱可塑性ゴムは適切な材料でないように思
えた。何故ならば、摩擦により生じた熱がコンパウンド
を部分的に溶かしたからである。たとえ摩耗がひどくな
くとも、シューズは容認できない跡（ｍａｒｋｓ）を床
に残した。

【００２０】米国特許第４，３１３，８６７号明細書に
より、特に履物用組成物の耐摩耗性とロスフレックス性
能との改善に携わる当業者が、遥かに高価な成分を含む
代替組成物に専心していたことが知られていた。

【００２１】従って、本発明の主要目的は、例えば特に
Ｉｎｔ． Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏｎｆ．， Ｍｏｓｃｏ
ｗ， ３−８ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ １９８４の７，８
ページ及び最終ページでわかるように、耐摩耗性とロス
フレックス性能とがこのように十分に改善され、出発材
料としてのポリマーの価格が手頃であり、また他の特性
をそれほど損なわないエラストマー組成物、及びこれら
の組成物からの履物の製造方法を提供することであっ
た。

【００２２】

【課題を解決するための手段】広範な実験研究の結果、
驚くべきことに、求められる２つの特性を兼ね備えた組
成物を含むエラストマーを提供する方法が判明した。

【００２３】従って、本発明は、（ａ） ポリ（ビニル
芳香族化合物）を主成分とする少なくとも１個のブロッ
クと、ポリ（共役ジエン）を主成分とする少なくとも１
個のブロックとを含み、更に好ましくは少量の共役ジエ
ンを含んでもよい少なくとも１個のポリ（スチレン）ブ
ロックと、少量のスチレンを含んでもよい少なくとも１
個のポリブタジエン又はポリ（イソプレン）ブロックと
を含む、組成物全体の重量に対して３０〜６０重量％、
好ましくは３５〜５５重量％の量の線状ブロックコポリ
マーと、（ｂ） 前述した如きブロックコポリマーと混
和性があり、好ましくはポリ（ビニル芳香族）、ポリ
（アルキレン）又はポリ（アルキレン／ビニルエステ
ル）型からなる群の中から選択する、組成物全体の重量
に対して１０〜５０重量％の、好ましくは１０〜４０重
量％の量の熱可塑性ポリマーと、（ｃ） 組成物全体の
重量に対して２０〜４０重量％の、好ましくは２０〜３
０重量％の量の非芳香族油、特にパラフィン油及び／又
はナフテン油と、を含む組成物への電子ビーム照射を特
徴とする高品質のポリマー組成物の製造方法を提供す
る。１．０〜４．５ＭｅＶの、好ましくは１．２〜２．
０ＭｅＶのエネルギー強さで、５０〜４００ｋＧｙ、好
ましくは１００〜２００ｋＧｙの範囲の線量で電子ビー
ム照射を実施する。

【００２４】本発明方法の好ましい実施態様により、数
平均分子量がそれぞれ５，０００〜４０，０００及び１
０，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは１
０，０００〜３５，０００及び３０，０００〜３５０，
０００の２個の（純粋な）ポリスチレン末端ブロックと
ポリブタジエン中心ブロックとからなる線状トリブロッ
クコポリマー（例えばＣａｒｉｆｌｅｘ ＴＲ−４１１
３（Ｓｈｅｌｌの登録商標））を成分（ａ）として使用
する。

【００２５】ポリフェニレンエーテルと任意に混合した
ポリスチレン（ＰＰＥ）、ポリ（スチレン／アクリロニ
トリル）、ポリエチレン及びポリプロピレンからなる群
の中から選択した熱可塑性ポリマーを成分（ｂ）として
使用するのが好ましい。このポリマーは場合によって通
常量のゴムを混入して強化する。大半の好ましい実施態
様により、強化ポリスチレン又はポリスチレン／ＰＰＥ
ブレンドを使用する。

【００２６】成分（ｃ）としてはナフテン油又はパラフ
ィン油を使用するのが好ましく、最も好ましい実施例で
はＳｈｅｌｌｆｌｅｘ ４５１０を、更に好ましくはＳ
ｈｅｌｌｆｌｅｘ ４５１０ナフテン油（Ｓｈｅｌｌの
登録商標）を２０〜３０重量％使用する。出発組成物の
各成分を特定の重量比で使用し、また特定線量の照射を
使用して得られた最終生成物の耐摩耗性とロスフレック
ス性能とが前述した従来技術に関係する刊行物の場合よ
りも改善された一方で、他の特性がそれほど損なわれな
かったことが、前述した従来技術に係る当業者には単に
大きな驚きとみなされ得ることがわかる。

【００２７】本発明の他の特徴は、前述した如き被照射
ポリマー組成物からなる造形品、例えば履物要素、特に
インドアスポーツシューズ用ソール（ｓｏｌｅｓ）に関
する。

【００２８】

【実施例】以下の実施例により本発明を更に詳しく例示
する。しかしながら本発明はその範囲をこれらの好まし
い特定実施例に限定するものではない。

【００２９】実施例 同様の分子量で、線状構造（ＳＢＳ）を有するＣａｒｉ
ｆｌｅｘ ＴＲ−１１０１（スチレン含量３１％、ショ
アーＡ硬度７２、２００℃／５ｋｇでのメルトフローレ
ートは１ｇ／１０分より低い）及びＣａｒｉｆｌｅｘ
ＴＲ−４１１３（透明ポリマー中に４５ｐｈｒのパラフ
ィン油と３５％のスチレンとを含み、ショアー硬度４
９、２００℃／５ｋｇでのメルトフローレートは通常２
２ｇ／１０分）を出発時の熱可塑性ゴム成分として使用
した。

【００３０】ゴムを異なる量の強化ポリスチレン（ＴＰ
Ｓ）（２００℃／５ｋｇでのメルトフローレートは通常
５ｇ／１０分、１ｇ当たり約１００個のニップ（ｎｉｐ
ｓ））及び／又はナフテン油（Ｓｈｅｌｌｆｌｅｘ ４
５１０）と配合した。

【００３１】製造したコンパウンド中でのＳＢＳ含量は
２５〜１００重量％であった。履物用配合物に典型的な
あるゴム濃度では、ＴＰＳ及び油を更に異なる比率で使
用した。

【００３２】ヒンダードフェノール及びベンゾトリアゾ
ールを安定剤として使用した。各配合物は０．１ｐｈｒ
のＩｒｇａｎｏｘ ５６５（登録商標）と０．３ｐｈｒ
のＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ（登録商標）とを含んでいた。

【００３３】異なる線量の照射前及び照射後の組成物の
特性を測定し、後記表に示す如く比較した。

【００３４】Ｐｏｍｉｎｉ Ｆａｒｒｅｌ ＰＬ ４．
３（登録商標）密閉式ミキサー（２．８ｋｇの組成物に
対する有効チャンバー容積：２．９リットル、ローター
スピード：８０〜１００ｒｐｍ、温度設定：ニーダー８
０℃、バレル９０℃、ラム圧：６バール、混合時間：１
０〜１５分）で大半の組成物を混合し、次いでＳｃｈｗ
ａｂｅｎｔａｎ Ｐｏｌｙｍｉｘ ３００ Ｌミル（登
録商標）（直径３００ｍｍｘ幅７００ｍｍのロール、摩
擦係数：１．４、温度設定：前８５℃、後ろ７５℃）上
でシートにし、空気中で冷却し、次いでＳａｇｉｔｔａ
ＧＲ Ｍｏｄ２５０／ＳＬダイサー（登録商標）で粒
状化した。Ｐａｐｅｎｍｅｉｅｒ ＴＥＨ Ｋ２０（登
録商標）ドライブレンダー（チャンバー容積：２０リッ
トル、容量：５リットル、温度：７５〜８０℃）でＴＲ
−１１０１に油を増量して、ＥＢ７により識別される組
成物を製造した。次いで試験用プレートを成形する前に
組成物を２４時間コンディショニングした。

【００３５】試験用プレート（長さ１５０ｍｍ、幅１５
０ｍｍ、厚さ２ｍｍ）を高圧Ｄｅｍａｇ Ｄ １５０−
４５２（登録商標）往復スクリュー式射出成形機上で射
出成形した。他の２組の試験用プレート（長さ２５０ｍ
ｍ、幅１１０ｍｍ、厚さ９ｍｍ又は３ｍｍ）を低圧トラ
ンスファー射出成形機Ｌｏｒｅｎｚｅｎ Ｓｉｎｔ５５
ＴＲ（登録商標）上で射出成形し、メルトフローレー
トが非常に低いためにＥＢ６及びＥＢ７により識別され
る組成物は、Ｓｃｈｗａｂｅｎｔａｎ Ｐｏｌｙｓｔａ
ｔ ２００５（登録商標）プレスで試験用プレート（長
さ１５０ｍｍ、幅１５０ｍｍ、厚さ６．３ｍｍ）に圧縮
成形した。

【００３６】エネルギーが１．５ＭｅＶの電子ビームを
組成物に照射すると、電子ビームは約６ｍｍ透過した。
異なる線量（５０ｋＧｙ、１００ｋＧｙ、２００ｋＧｙ
及び４００ｋＧｙ）を適用した。

【００３７】試験は以下の特性を照射前及び照射後に測
定することからなっていた。

【００３８】−粒状化コンパウンドと厚さ９ｍｍの被照
射プレートとの１９０℃／２．１６ｋｇ及び１９０℃／
５．００ｋｇでのメルトフローレート（ＭＦＲ）； −厚さ９ｍｍ又は６．３ｍｍの試験用プレートの硬度
（ショアーＡ）、密度、流れすじから０°でのＤＩＮ摩
耗（２３℃、４０℃、６０℃、８０℃）、Ｄｕｎｌｏｐ
トリプソメーターによるレジリエンス及び黄色度指数； −厚さ３ｍｍの試験用プレートの耐亀裂生長性（ロスフ
レックス性能）； −厚さ２ｍｍの試験用プレートの１００％、３００％及
び５００％歪での応力、引張強さ、破断点伸び、ズボン
引裂強さ並びに直角形引裂強さ。これらの特性を成形方
向（ＭＤ）及び成形方向とは垂直な方向（ＰＭＤ）で測
定した。

【００３９】試験方法を以下の表に示す。

【００４０】

【表１】

【００４１】

【表２】

【００４２】

【表３】

【００４３】

【表４】

【００４４】

【表５】

【００４５】

【表６】

【００４６】

【表７】

【００４７】

【表８】

【００４８】

【表９】

【００４９】

【表１０】

【００５０】

【表１１】

【００５１】

【表１２】

【００５２】

【表１３】

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ） ポリ（ビニル芳香族化合物）を
   主成分とする少なくとも１個のブロックと、ポリ（共役
   ジエン）を主成分とする少なくとも１個のブロックとを
   含む、組成物全体の重量に対して３０〜６０重量％の量
   の線状ブロックコポリマーと、（ｂ） 前述した如きブ
   ロックコポリマーと混和性がある、組成物全体の重量に
   対して１０〜５０重量％の量の熱可塑性ポリマーと、
   （ｃ） 組成物全体の重量に対して２０〜４０重量％の
   量の非芳香族油と、を含む組成物に対して１．０〜４．
   ５ＭｅＶのエネルギー強さで、５０〜４００ｋＧｙの範
   囲の線量で電子ビーム照射を実施することを特徴とす
   る、電子ビーム照射によるポリマー組成物の製造方法。
2. 【請求項２】 少量の共役ジエンを含んでもよい少なく
   とも１個のポリ（スチレン）ブロックと、少量のスチレ
   ンを含んでもよい少なくとも１個のポリブタジエン又は
   ポリ（イソプレン）ブロックとからなるブロックコポリ
   マーを使用することを特徴とする請求項１に記載の方
   法。
3. 【請求項３】 ブロックコポリマーの量が３５〜５５重
   量％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 熱可塑性ポリマーの量が１０〜４０重量
   ％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 【請求項５】 非芳香族油が２０〜３０重量％の量のパ
   ラフィン油及び／又はナフテン油からなっていることを
   特徴とする請求項１に記載の方法。
6. 【請求項６】 成分（ａ）が、数平均分子量がそれぞれ
   ５，０００〜４０，０００及び１０，０００〜１，００
   ０，０００の範囲にある２個のポリスチレン末端ブロッ
   クとポリブタジエン中心ブロックとからなる線状トリブ
   ロックコポリマーであることを特徴とする請求項２に記
   載の方法。
7. 【請求項７】 ポリスチレンブロックの数平均分子量が
   １０，０００〜３５，０００であり、ポリブタジエンブ
   ロックの数平均分子量が３０，０００〜３５０，０００
   であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
8. 【請求項８】 Ｃａｒｉｆｌｅｘ ＴＲ−４１１３を含
   んでいることを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 【請求項９】 ポリ（ビニル芳香族）、ポリアルキレン
   及びポリ（アルキレン／ビニルエステル）型のコンパウ
   ンドからなる群の中から選択した熱可塑性（コ）ポリマ
   ーを含んでいることを特徴とする請求項４に記載の方
   法。
10. 【請求項１０】 ポリフェニレンエーテルと任意に混合
    したポリスチレン、ポリ（スチレン／アクリロニトリ
    ル）、ポリエチレン及びポリプロピレンからなる群の中
    から熱可塑性（コ）ポリマーを選択し、場合によって通
    常量のゴムを混入してポリマーを強化することを特徴と
    する請求項９に記載の方法。
11. 【請求項１１】 強化ポリスチレン又はポリスチレン／
    ＰＰＥブレンドを使用することを特徴とする請求項１０
    に記載の方法。
12. 【請求項１２】 成分（ｃ）としてナフテン油を含んで
    いることを特徴とする請求項５に記載の方法。
13. 【請求項１３】 成分（ｃ）として２０〜３０重量％の
    Ｓｈｅｌｌｆｌｅｘ４５１０ナフテン油を含んでいるこ
    とを特徴とする請求項１２に記載の方法。
14. 【請求項１４】 １．２〜２．０ＭｅＶのエネルギー強
    さで電子ビーム照射を実施することを特徴とする請求項
    １から１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 【請求項１５】 １００〜２００ｋＧｙの範囲の線量で
    電子ビーム照射を実施することを特徴とする請求項１か
    ら１３のいずれか一項に記載の方法。
16. 【請求項１６】 請求項１から１５のいずれか一項に記
    載の方法により得られる被照射ポリマー組成物からなる
    履物要素形態の造形品、特にインドアスポーツシューズ
    用ソール。