JPH05230242A - プリプレグの製造法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式
【化1】
のビスイミド(A)と一般式H2 N−R3 −NH2 のジ
アミン(B)とを、沸点が100〜170℃の有機溶剤
中で170℃以下で加熱反応させた後、反応溶液中に、
エポキシ化合物(C)を加え、更に140℃以下で反応
させて得られるイミド系プレポリマーを含む反応溶液中
に、硬化剤、低沸点有機溶媒の希釈溶剤を室温で加えワ
ニスとし、このワニスをガラス基材に含浸、乾燥してプ
リプレグを得る。 【効果】 特定の調節された条件でビスイミドとジアミ
ンとエポキシ化合物を反応させて得たイミド系プレポリ
マーを用いてプリプレグを製造しているので、含浸作業
性が向上し、得られた積層板中の残存溶剤を激減させ
る。
アミン(B)とを、沸点が100〜170℃の有機溶剤
中で170℃以下で加熱反応させた後、反応溶液中に、
エポキシ化合物(C)を加え、更に140℃以下で反応
させて得られるイミド系プレポリマーを含む反応溶液中
に、硬化剤、低沸点有機溶媒の希釈溶剤を室温で加えワ
ニスとし、このワニスをガラス基材に含浸、乾燥してプ
リプレグを得る。 【効果】 特定の調節された条件でビスイミドとジアミ
ンとエポキシ化合物を反応させて得たイミド系プレポリ
マーを用いてプリプレグを製造しているので、含浸作業
性が向上し、得られた積層板中の残存溶剤を激減させ
る。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、低沸点有機溶剤に可溶
で、作業性に優れた積層板用プリプレグの製造法に関す
る。 【0002】 【従来の技術】従来、厳しい耐熱性、耐環境性を要求さ
れる分野のプリント回路板および多層プリント回路板に
はポリイミド系樹脂が使用されてきた。しかし、ポリイ
ミド系樹脂は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−
ジメチルホルムアミドのような高沸点の特殊溶剤にしか
溶解しないため、極めて作業性が悪く、プリプレグおよ
び銅張り積層板中に溶剤が残存するため、煮沸吸水率、
耐ミーズリング、難燃性等の特性に悪影響を及ぼしてい
た。 【0003】また、特公昭47−42160号公報に
は、N,N’−ビスイミドとジアミンとを加熱反応して
得られたプレポリマーをエポキシ樹脂と混合、加熱して
硬化したエポキシ樹脂を製造することが開示されてい
る。 【0004】しかし、この場合、エポキシ樹脂とプレポ
リマーとの反応はその実施例などの記載によると無溶媒
下での溶融反応を基本としている。また、そのエポキシ
樹脂とプレポリマーとを加熱硬化する前に、両者を50
〜200℃で加熱混合して均一混合物を得ることの記載
もあるが、これはあくまでも硬化エポキシ樹脂を得る一
過程にすぎず、この均一(反応)な加熱混合物を1つの
有用な反応生成物と認識しているわけでない。 【0005】しかも、この時に溶媒を積極的に存在させ
て加熱反応させるものでなく、また実施例の温度条件で
得られた加熱混合物は無溶媒下でのものであって、全て
アセトンなどの低沸点有機溶媒には不溶又は難溶な或い
は非相溶性のものであり、本発明の特定の低沸点有機溶
媒に可溶なイミド系プレポリマーは得られていない。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
点に鑑みてなされたもので、低沸点有機溶剤に溶解する
ために作業性に優れ、しかも、成形後、残存溶媒による
悪影響がない耐熱性の優れた銅張り積層板の製造を可能
とするイミド系プレポリマーを用いるプリプレグの製造
法に関する。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明のイミド系プレポ
リマーを用いるプリプレグの製造法は、(A)一般式; 【化2】 【0008】(式中、R1 は炭素−炭素二重結合を有す
る2価の有機基を表し、R2 は少なくとも2ケの炭素数
を有する2価の有機基を表す。)のビスイミドと 【0009】(B)一般式 H2 N−R3 −NH2 (式中、R3 は少なくとも2ケの炭素数を有する2価の
有機基を表す。)のジアミンとを、沸点(760mmH
g)が100℃〜170℃の有機溶剤中で170℃以下
で加熱反応させた後、反応溶液中に、 【0010】(C)少なくとも2ケのエポキシ基を有す
るエポキシ化合物を加え、更に140℃以下で反応させ
て得られるイミド系プレポリマーを含む反応溶液中に、
硬化剤、低沸点有機溶媒の希釈溶剤を加え室温でワニス
とし、このワニスをガラス基材に含浸、乾燥することを
特徴とするものである。 【0011】本発明においては、まず、2−メトキシエ
タノールのような低沸点の有機溶剤中でビスイミド
(A)とジアミン(B)を110℃から170℃の範囲
で5〜120分反応させた後、エポキシ化合物(C)を
加えてさらに70℃から140℃の範囲で5〜120分
間反応させてビスイミド〜ジアミン〜エポキシ化合物か
らなるプレポリマーを含む赤かっ色透明のワニスを作成
する。 【0012】ビスイミド(A)とジアミン(B)との反
応は、平均分子量400〜800となるまで進められ
る。平均分子量が400以下では未反応のビスマレイミ
ド(A)が多く残存するため、また、800以上では
(A)と(B)の反応物が高分子になりすぎるため、エ
ポキシ樹脂と反応させた後にメチルエチルケトン、アセ
トン等に溶解しにくくなるためである。 【0013】ビスイミド(A)とジアミン(B)との反
応溶液中にエポキシ化合物(C)を加え、エポキシ化合
物の少なくとも20重量%が反応するまで、更に加熱反
応を行う。得られるビスイミド(A)−ジアミン(B)
−エポキシ化合物(C)よりなるイミド系プレポリマー
は、基材への含浸用ワニスとして用いられるために、1
60℃でのゲル時間が120秒以上であることが必要で
ある。 【0014】本発明では、ビスイミド(A)、ジアミン
(B)、エポキシ化合物(C)を沸点(760mmH
g)が100℃〜170℃の有機溶剤中で加熱反応させ
ることを特徴の1つとする。該有機溶剤としては、2−
アルコキシエタノール、例えば、2−メトキシエタノー
ル、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキ
シ)エタノール、2−イソプロキシエタノールが効果が
ある。 【0015】ビスイミド(A)とジアミン(B)との配
合割合はモル比で1:0.1〜1:1の範囲が効果があ
る。ビスマレイミド(A)1モルに対してジアミン
(B)の配合量が0.1モル以下になると、本発明の特
徴である溶解性が悪くなりがちとなり、逆に(A)1モ
ルに対して(B)が1モル以上になると、反応が速すぎ
て、目的のプレポリマーを得ることが困難になる傾向に
ある。 【0016】また、エポキシ化合物(C)の量は、
(A)、(B)、(C)の和に対して15〜70重量%
が好ましい。エポキシ化合物(C)が15重量%以下に
なると、本発明の特徴である溶解性が悪くなりがちとな
り、また(C)が70重量%以上になると、耐熱性が悪
く、難燃性もV−1を出すのが困難になる傾向にある。 【0017】本発明でいうビスイミド(A)は、一般式 【化3】 で表される。式中、R1 は炭素−炭素二重結合を有する
2価の有機基を表し、R2 は少なくとも2ケの炭素数を
有する2価の有機基を表し、式 【0018】 【化4】 で示されるエチレン性ジカルボン酸無水物から誘導され
る。 【0019】このような不飽和ビスイミドとしては、例
えばN,N’−エチレンビスマレイミド、N,N’−ヘ
キサメチレンビスマレイミド、N,N’−m−フェニレ
ンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレ
イミド、N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマ
レイミド、N,N’−4,4’−ジフェニルエーテルビ
スマレイミド、N,N’−メチレンビス(3−クロロ−
p−フェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4’
−ジフェニルスルフォンビスマレイミド、N,N’−
4,4’−ジシクロヘキシルメタンビスマレイミド、
N,N’−α,α’−4,4’−ジメチレンシクロヘキ
サンビスマレイミド、N,N’−m−メタキシレンビス
マレイミド、N,N’−4,4’−ジフェニルシクロヘ
キサンビスマレイミドなどがある。 【0020】また、ジアミン(B)とは一般式 H2 N−R3 −NH2 で表され、式中、R3 は少なくとも2ケの炭素数を有す
る2価の有機基を表わし、例えば、直鎖または分岐した
アルキレン基、5〜6個の炭素原子からなる環式アルキ
レン基、酸素、窒素、硫黄原子の少なくとも1種を含む
複素環基、フェニレン基、多環芳香族基を骨格とするも
の、あるいは−COO−、−SO2 −、−O−、−N=
N−の少なくとも1つの基によって結ばれた複数個のア
リーレン基を骨格とするものなどが用いられる。 【0021】具体例を挙げると、4,4’−ジアミノジ
シクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、2,6−ジアミノビリジン、m−フェニレンジアミ
ン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフ
ニルメタン、2,2’−ビス(4−アミノフェニル)プ
ロパン、ペンジジン、4,4’−ジアミノフェニルオキ
シド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス
(4−アミノフェニル)メチルホスフィンオキシド、ビ
ス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシ
ド、ビス(4−アミノフェニル)メチルアミン、1,5
−ジアミノナフタレン、m−キシリレンジアミン、 【0022】1,1−ビス(p−アミノフェニル)フラ
タン、p−キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、6,6’−ジアミン−2,2’−ジピリジル、4,
4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノア
ゾベンゼン、ビス(4−アミノフェニル)フェニルメタ
ン、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)
シクロヘキサン、2,5−ビス(m−アミノフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(p−
アミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、
2,5−ビス(m−アミノフェニル)チアゾロ(4,5
−d)チアゾール、 【0023】5,5’−ジ(m−アミノフェニル)−
(2,2’)−ビス(1,3,4−オキサジアゾル)、
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ビ
ス(p−アミノフェニル)−2,2’−ジチアゾール、
m−ビス(4−p−アミノフェニル−2−チアゾリル)
ベンゼン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,
4’−ジアミノフェニルベンゾエート、N,N’−ビス
(4−アミノベンジル)−p−フェニレンジアミン、
4,4’−メチレンビス(2−クロロアニリン)などが
あり、これらの少なくとも1種又は混合物が用いられ
る。 【0024】本発明でいう少なくとも2個のエポキシ基
をもつエポキシ化合物(C)とは、例えばビスフェノー
ルAのジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、4,4’−(1,2−エポキシエチル)
ビフェニル、4,4’−ジ(1,2−エポキシエチル)
ビフェニル、4,4’−ジ(1,2−エポキシエチル)
ジフェニルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテ
ル、ビス(2,3−エポキシシクロベンチル)エーテ
ル、 【0025】N,N’−m−フェニレンビス(4,5’
−エポキシ−1,2−シクロヘキサンジカルボキシイミ
ド)などの2官能エポキシ化合物;p−アミノフェノー
ルのトリグリシジル化合物、1,3,5−トリ(1,2
−エポキシエチル)ベンゼン、テトラグリシドキシテト
ラフェニルエタン、フェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂のポリグリシジルエーテルなどの3官能以上の
エポキシ化合物が用いられる。この他、ヒダントイン骨
格を有するエポキシ化合物、ハロゲンを含むエポキシ化
合物等も含まれる。 【0026】本発明で製造されるイミド系プレポリマー
は、希釈溶剤としてメチルエチルケトン、アセトン等の
低沸点有機溶媒を用いるとよく溶解するため作業性が向
上し、一般のエポキシ系プリプレグおよび銅張り積層板
を製造するのと殆ど同じ作業で出来る。従って、N−メ
チル−2−ピロリドン等の高沸点の特殊溶剤を使用して
いた場合の、塗工中のワニスだれ等が全くなくなり、製
造されたプリプレグおよび銅張り積層板中に残存する揮
発分も本発明方法により激減させることができる。 【0027】なお、希釈剤として用いるメチルエチルケ
トン、アセトン等は、ワニス製造中に加える方法も考え
られるが、プレポリマーの生成を損なう場合があり、出
来るならプレポリマー冷却後か塗工作業直前に添加する
のが好ましい。 【0028】また、本発明のイミド系プレポリマーを使
用した含浸用ワニスにビスイミドおよびエポキシ化合物
の共通の硬化剤としてジジアンジアミドなどを用いる
と、極めて硬化性が良くなり、成形性を向上することが
できる。本発明を下記の実施例により具体的に説明する
が、これらは本発明の範囲を制限しない。 【0029】 【実施例1】 N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド
50重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 10重量部 を60重量部の2−メトキシエタノール中にて、120
〜130℃で30分間加熱反応を行った。この後、日本
化薬(株)製のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂E
OCN−102S(エポキシ当量222)を40重量部
加え、さらに90〜100℃で30分間反応させた後、
室温まで冷却し、1.2重量部のジシアンジアミドおよ
び40重量部のメチルエチルケトンを加え、固形分50
重量%のワニスを作成した。 【0030】このワニスを厚さ0.18mmのアミノシ
ランを施したガラスクロスに含浸させ、130〜150
℃で10分間乾燥させ、樹脂分41%のプリプレグを作
成した。上記プリプレグを8枚用い、上下に35μ厚の
TAI処理銅箔(古河サーキットフォイル社製)をお
き、40kg/cm2 の加圧下、170℃で80分間積
層接着し、厚さ1.6mmの銅張り積層板を得た。 【0031】 【比較例1】N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビ
スマレイミドと、4,4’−ジアミノジフェニルメタン
とを原料とするアミノビスマレイミド系プレポリマーで
あるローヌ・プーラン社のkerimid601 60
重量部、EOCN−102S 40重量部、ジジアンジ
アミド1.2重量部をN−メチル−2−ピロリンドン1
00重量部に溶かし、ワニスを作成した。 【0032】次に、上記ワニスを実施例1と同じガラス
クロスに含浸させ、140〜160℃で乾燥し、固形分
41%のプリプレグを作成した。次に、実施例1と同様
にして厚さ1.6mmの銅張り積層板を作成した。 【0033】 【実施例2】 N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド
47重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 13重量部 を60重量部の2−エトキシエタノール中にて、120
〜130℃で30分間反応させた後、シェル化学社製ビ
スフェノールA型エポキシエピコート828(エポキシ
当量188)を40重量部加え、さらに85〜95℃で
30分間反応させた。 【0034】次に、室温まで冷却した後、1.5重量部
のジシアンジアミドと、40重量部のメチルエチルケト
ンを加え、固形分50重量%のワニスを作成した。以
下、実施例1と同様にして、プリプレグおよび銅張り積
層板を作成した。 【0035】 【比較例2】 kerimid601 60重量部 エピコート 40重量部 ジシアンジアミド 1.5重量部 を、N,N’−ジメチルホルムアミド100重量部に溶
かし、固形分50重量%のワニスを作成した。以下、比
較例1と同様にして、プリプレグおよび銅張り積層板を
作成した。 【0036】 【実施例3】 N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド
55重量部 4,4’−メチレンビス(2−クロロアニリン) 10
重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 10重量部 を60重量部の2−メトキシエタノール中にて、110
〜120℃で30分間反応させた後、チバガイギー社製
のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量
約210)を35重量部加えて、さらに85〜95℃で
30分間反応させた。この後、室温まで冷却し、50重
量部のメチルエチルケトンを加えて、固形分50重量%
のワニスを作成した。次に、実施例1と全く同様にし
て、プリプレグおよび銅張り積層板を作成した。 【0037】 【比較例3】溶媒としてN−メチル−2−ピロリンドン
を用いた以外は実施例3と全く同様にして、ワニスを作
成した後、比較例1と全く同様にして、プリプレグおよ
び銅張り積層板を作成した。 【0038】 【実施例4】 N,N’−メチレンビス(3−クロロ−p−フェニレ
ン)ビスマレイミド 50重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 10重量部 を60重量部の2−メトキシエタノール中にて、120
〜130℃で40分間反応させた後、ダウケミカル社製
フェノールノボラック型エポキシ樹脂DEN−438
(エポキシ当量約180)を40重量部加えて、さらに
85〜95℃で30分間反応させた。この後、1.0重
量部のジシアンジアミドを加えた後、室温まで冷却し、
40重量部のメチルエチルケトンを加えて、固形分50
重量%のワニスを作成した。以下、実施例1と全く同様
にして、プリプレグおよび銅張り積層板を作成した。 【0039】 【比較例4】溶剤としてN,N−ジメチルホルムアミド
を使用した以外は実施例4と全く同様にしてワニスを作
成した。次に、このワニスを用いて、比較例1と同様に
して、プリプレグおよび銅張り積層板を作成した。ま
ず、実施例と比較例のプリプレグの特性を表1に示す。
本発明のプリプレグは揮発分が極めて少なく通常のエポ
キシ系プリプレグとほぼ同じである。 【0040】 【表1】 【0041】 【数1】【0042】次に、1.6mm厚の銅張り積層板につい
て、300℃、320℃、340℃のはんだ耐熱性およ
び消炎性試験の測定結果を表2に示す。この他、曲げ強
度の温度特性、熱劣化特性を検討したが、実施例、比較
例ともに全く差がなく耐熱グレードH種を満足するもの
であった。 【0043】 【表2】 【0044】はんだ耐熱性:300℃、320℃、34
0℃のはんだ浴に60秒間浮かべ、ふくれ及び異常の有
無を観察し、両方ないものを○、その他を×と評価し
た。 消炎性:UL−94垂直法にて測定した。 【0045】 【発明の効果】本発明においては、特定の調節された条
件でビスイミドとジアミンとエポキシ化合物を反応させ
て得たイミド系プレポリマーを用いてプリプレグを製造
しているので、含浸作業性が向上し、積層板中の残存溶
剤を激減させることができる。
で、作業性に優れた積層板用プリプレグの製造法に関す
る。 【0002】 【従来の技術】従来、厳しい耐熱性、耐環境性を要求さ
れる分野のプリント回路板および多層プリント回路板に
はポリイミド系樹脂が使用されてきた。しかし、ポリイ
ミド系樹脂は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−
ジメチルホルムアミドのような高沸点の特殊溶剤にしか
溶解しないため、極めて作業性が悪く、プリプレグおよ
び銅張り積層板中に溶剤が残存するため、煮沸吸水率、
耐ミーズリング、難燃性等の特性に悪影響を及ぼしてい
た。 【0003】また、特公昭47−42160号公報に
は、N,N’−ビスイミドとジアミンとを加熱反応して
得られたプレポリマーをエポキシ樹脂と混合、加熱して
硬化したエポキシ樹脂を製造することが開示されてい
る。 【0004】しかし、この場合、エポキシ樹脂とプレポ
リマーとの反応はその実施例などの記載によると無溶媒
下での溶融反応を基本としている。また、そのエポキシ
樹脂とプレポリマーとを加熱硬化する前に、両者を50
〜200℃で加熱混合して均一混合物を得ることの記載
もあるが、これはあくまでも硬化エポキシ樹脂を得る一
過程にすぎず、この均一(反応)な加熱混合物を1つの
有用な反応生成物と認識しているわけでない。 【0005】しかも、この時に溶媒を積極的に存在させ
て加熱反応させるものでなく、また実施例の温度条件で
得られた加熱混合物は無溶媒下でのものであって、全て
アセトンなどの低沸点有機溶媒には不溶又は難溶な或い
は非相溶性のものであり、本発明の特定の低沸点有機溶
媒に可溶なイミド系プレポリマーは得られていない。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
点に鑑みてなされたもので、低沸点有機溶剤に溶解する
ために作業性に優れ、しかも、成形後、残存溶媒による
悪影響がない耐熱性の優れた銅張り積層板の製造を可能
とするイミド系プレポリマーを用いるプリプレグの製造
法に関する。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明のイミド系プレポ
リマーを用いるプリプレグの製造法は、(A)一般式; 【化2】 【0008】(式中、R1 は炭素−炭素二重結合を有す
る2価の有機基を表し、R2 は少なくとも2ケの炭素数
を有する2価の有機基を表す。)のビスイミドと 【0009】(B)一般式 H2 N−R3 −NH2 (式中、R3 は少なくとも2ケの炭素数を有する2価の
有機基を表す。)のジアミンとを、沸点(760mmH
g)が100℃〜170℃の有機溶剤中で170℃以下
で加熱反応させた後、反応溶液中に、 【0010】(C)少なくとも2ケのエポキシ基を有す
るエポキシ化合物を加え、更に140℃以下で反応させ
て得られるイミド系プレポリマーを含む反応溶液中に、
硬化剤、低沸点有機溶媒の希釈溶剤を加え室温でワニス
とし、このワニスをガラス基材に含浸、乾燥することを
特徴とするものである。 【0011】本発明においては、まず、2−メトキシエ
タノールのような低沸点の有機溶剤中でビスイミド
(A)とジアミン(B)を110℃から170℃の範囲
で5〜120分反応させた後、エポキシ化合物(C)を
加えてさらに70℃から140℃の範囲で5〜120分
間反応させてビスイミド〜ジアミン〜エポキシ化合物か
らなるプレポリマーを含む赤かっ色透明のワニスを作成
する。 【0012】ビスイミド(A)とジアミン(B)との反
応は、平均分子量400〜800となるまで進められ
る。平均分子量が400以下では未反応のビスマレイミ
ド(A)が多く残存するため、また、800以上では
(A)と(B)の反応物が高分子になりすぎるため、エ
ポキシ樹脂と反応させた後にメチルエチルケトン、アセ
トン等に溶解しにくくなるためである。 【0013】ビスイミド(A)とジアミン(B)との反
応溶液中にエポキシ化合物(C)を加え、エポキシ化合
物の少なくとも20重量%が反応するまで、更に加熱反
応を行う。得られるビスイミド(A)−ジアミン(B)
−エポキシ化合物(C)よりなるイミド系プレポリマー
は、基材への含浸用ワニスとして用いられるために、1
60℃でのゲル時間が120秒以上であることが必要で
ある。 【0014】本発明では、ビスイミド(A)、ジアミン
(B)、エポキシ化合物(C)を沸点(760mmH
g)が100℃〜170℃の有機溶剤中で加熱反応させ
ることを特徴の1つとする。該有機溶剤としては、2−
アルコキシエタノール、例えば、2−メトキシエタノー
ル、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキ
シ)エタノール、2−イソプロキシエタノールが効果が
ある。 【0015】ビスイミド(A)とジアミン(B)との配
合割合はモル比で1:0.1〜1:1の範囲が効果があ
る。ビスマレイミド(A)1モルに対してジアミン
(B)の配合量が0.1モル以下になると、本発明の特
徴である溶解性が悪くなりがちとなり、逆に(A)1モ
ルに対して(B)が1モル以上になると、反応が速すぎ
て、目的のプレポリマーを得ることが困難になる傾向に
ある。 【0016】また、エポキシ化合物(C)の量は、
(A)、(B)、(C)の和に対して15〜70重量%
が好ましい。エポキシ化合物(C)が15重量%以下に
なると、本発明の特徴である溶解性が悪くなりがちとな
り、また(C)が70重量%以上になると、耐熱性が悪
く、難燃性もV−1を出すのが困難になる傾向にある。 【0017】本発明でいうビスイミド(A)は、一般式 【化3】 で表される。式中、R1 は炭素−炭素二重結合を有する
2価の有機基を表し、R2 は少なくとも2ケの炭素数を
有する2価の有機基を表し、式 【0018】 【化4】 で示されるエチレン性ジカルボン酸無水物から誘導され
る。 【0019】このような不飽和ビスイミドとしては、例
えばN,N’−エチレンビスマレイミド、N,N’−ヘ
キサメチレンビスマレイミド、N,N’−m−フェニレ
ンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレ
イミド、N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマ
レイミド、N,N’−4,4’−ジフェニルエーテルビ
スマレイミド、N,N’−メチレンビス(3−クロロ−
p−フェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4’
−ジフェニルスルフォンビスマレイミド、N,N’−
4,4’−ジシクロヘキシルメタンビスマレイミド、
N,N’−α,α’−4,4’−ジメチレンシクロヘキ
サンビスマレイミド、N,N’−m−メタキシレンビス
マレイミド、N,N’−4,4’−ジフェニルシクロヘ
キサンビスマレイミドなどがある。 【0020】また、ジアミン(B)とは一般式 H2 N−R3 −NH2 で表され、式中、R3 は少なくとも2ケの炭素数を有す
る2価の有機基を表わし、例えば、直鎖または分岐した
アルキレン基、5〜6個の炭素原子からなる環式アルキ
レン基、酸素、窒素、硫黄原子の少なくとも1種を含む
複素環基、フェニレン基、多環芳香族基を骨格とするも
の、あるいは−COO−、−SO2 −、−O−、−N=
N−の少なくとも1つの基によって結ばれた複数個のア
リーレン基を骨格とするものなどが用いられる。 【0021】具体例を挙げると、4,4’−ジアミノジ
シクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、2,6−ジアミノビリジン、m−フェニレンジアミ
ン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフ
ニルメタン、2,2’−ビス(4−アミノフェニル)プ
ロパン、ペンジジン、4,4’−ジアミノフェニルオキ
シド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス
(4−アミノフェニル)メチルホスフィンオキシド、ビ
ス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシ
ド、ビス(4−アミノフェニル)メチルアミン、1,5
−ジアミノナフタレン、m−キシリレンジアミン、 【0022】1,1−ビス(p−アミノフェニル)フラ
タン、p−キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、6,6’−ジアミン−2,2’−ジピリジル、4,
4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノア
ゾベンゼン、ビス(4−アミノフェニル)フェニルメタ
ン、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)
シクロヘキサン、2,5−ビス(m−アミノフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(p−
アミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、
2,5−ビス(m−アミノフェニル)チアゾロ(4,5
−d)チアゾール、 【0023】5,5’−ジ(m−アミノフェニル)−
(2,2’)−ビス(1,3,4−オキサジアゾル)、
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ビ
ス(p−アミノフェニル)−2,2’−ジチアゾール、
m−ビス(4−p−アミノフェニル−2−チアゾリル)
ベンゼン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,
4’−ジアミノフェニルベンゾエート、N,N’−ビス
(4−アミノベンジル)−p−フェニレンジアミン、
4,4’−メチレンビス(2−クロロアニリン)などが
あり、これらの少なくとも1種又は混合物が用いられ
る。 【0024】本発明でいう少なくとも2個のエポキシ基
をもつエポキシ化合物(C)とは、例えばビスフェノー
ルAのジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、4,4’−(1,2−エポキシエチル)
ビフェニル、4,4’−ジ(1,2−エポキシエチル)
ビフェニル、4,4’−ジ(1,2−エポキシエチル)
ジフェニルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテ
ル、ビス(2,3−エポキシシクロベンチル)エーテ
ル、 【0025】N,N’−m−フェニレンビス(4,5’
−エポキシ−1,2−シクロヘキサンジカルボキシイミ
ド)などの2官能エポキシ化合物;p−アミノフェノー
ルのトリグリシジル化合物、1,3,5−トリ(1,2
−エポキシエチル)ベンゼン、テトラグリシドキシテト
ラフェニルエタン、フェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂のポリグリシジルエーテルなどの3官能以上の
エポキシ化合物が用いられる。この他、ヒダントイン骨
格を有するエポキシ化合物、ハロゲンを含むエポキシ化
合物等も含まれる。 【0026】本発明で製造されるイミド系プレポリマー
は、希釈溶剤としてメチルエチルケトン、アセトン等の
低沸点有機溶媒を用いるとよく溶解するため作業性が向
上し、一般のエポキシ系プリプレグおよび銅張り積層板
を製造するのと殆ど同じ作業で出来る。従って、N−メ
チル−2−ピロリドン等の高沸点の特殊溶剤を使用して
いた場合の、塗工中のワニスだれ等が全くなくなり、製
造されたプリプレグおよび銅張り積層板中に残存する揮
発分も本発明方法により激減させることができる。 【0027】なお、希釈剤として用いるメチルエチルケ
トン、アセトン等は、ワニス製造中に加える方法も考え
られるが、プレポリマーの生成を損なう場合があり、出
来るならプレポリマー冷却後か塗工作業直前に添加する
のが好ましい。 【0028】また、本発明のイミド系プレポリマーを使
用した含浸用ワニスにビスイミドおよびエポキシ化合物
の共通の硬化剤としてジジアンジアミドなどを用いる
と、極めて硬化性が良くなり、成形性を向上することが
できる。本発明を下記の実施例により具体的に説明する
が、これらは本発明の範囲を制限しない。 【0029】 【実施例1】 N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド
50重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 10重量部 を60重量部の2−メトキシエタノール中にて、120
〜130℃で30分間加熱反応を行った。この後、日本
化薬(株)製のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂E
OCN−102S(エポキシ当量222)を40重量部
加え、さらに90〜100℃で30分間反応させた後、
室温まで冷却し、1.2重量部のジシアンジアミドおよ
び40重量部のメチルエチルケトンを加え、固形分50
重量%のワニスを作成した。 【0030】このワニスを厚さ0.18mmのアミノシ
ランを施したガラスクロスに含浸させ、130〜150
℃で10分間乾燥させ、樹脂分41%のプリプレグを作
成した。上記プリプレグを8枚用い、上下に35μ厚の
TAI処理銅箔(古河サーキットフォイル社製)をお
き、40kg/cm2 の加圧下、170℃で80分間積
層接着し、厚さ1.6mmの銅張り積層板を得た。 【0031】 【比較例1】N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビ
スマレイミドと、4,4’−ジアミノジフェニルメタン
とを原料とするアミノビスマレイミド系プレポリマーで
あるローヌ・プーラン社のkerimid601 60
重量部、EOCN−102S 40重量部、ジジアンジ
アミド1.2重量部をN−メチル−2−ピロリンドン1
00重量部に溶かし、ワニスを作成した。 【0032】次に、上記ワニスを実施例1と同じガラス
クロスに含浸させ、140〜160℃で乾燥し、固形分
41%のプリプレグを作成した。次に、実施例1と同様
にして厚さ1.6mmの銅張り積層板を作成した。 【0033】 【実施例2】 N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド
47重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 13重量部 を60重量部の2−エトキシエタノール中にて、120
〜130℃で30分間反応させた後、シェル化学社製ビ
スフェノールA型エポキシエピコート828(エポキシ
当量188)を40重量部加え、さらに85〜95℃で
30分間反応させた。 【0034】次に、室温まで冷却した後、1.5重量部
のジシアンジアミドと、40重量部のメチルエチルケト
ンを加え、固形分50重量%のワニスを作成した。以
下、実施例1と同様にして、プリプレグおよび銅張り積
層板を作成した。 【0035】 【比較例2】 kerimid601 60重量部 エピコート 40重量部 ジシアンジアミド 1.5重量部 を、N,N’−ジメチルホルムアミド100重量部に溶
かし、固形分50重量%のワニスを作成した。以下、比
較例1と同様にして、プリプレグおよび銅張り積層板を
作成した。 【0036】 【実施例3】 N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド
55重量部 4,4’−メチレンビス(2−クロロアニリン) 10
重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 10重量部 を60重量部の2−メトキシエタノール中にて、110
〜120℃で30分間反応させた後、チバガイギー社製
のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量
約210)を35重量部加えて、さらに85〜95℃で
30分間反応させた。この後、室温まで冷却し、50重
量部のメチルエチルケトンを加えて、固形分50重量%
のワニスを作成した。次に、実施例1と全く同様にし
て、プリプレグおよび銅張り積層板を作成した。 【0037】 【比較例3】溶媒としてN−メチル−2−ピロリンドン
を用いた以外は実施例3と全く同様にして、ワニスを作
成した後、比較例1と全く同様にして、プリプレグおよ
び銅張り積層板を作成した。 【0038】 【実施例4】 N,N’−メチレンビス(3−クロロ−p−フェニレ
ン)ビスマレイミド 50重量部 4,4’−ジアミノジフェニルメタン 10重量部 を60重量部の2−メトキシエタノール中にて、120
〜130℃で40分間反応させた後、ダウケミカル社製
フェノールノボラック型エポキシ樹脂DEN−438
(エポキシ当量約180)を40重量部加えて、さらに
85〜95℃で30分間反応させた。この後、1.0重
量部のジシアンジアミドを加えた後、室温まで冷却し、
40重量部のメチルエチルケトンを加えて、固形分50
重量%のワニスを作成した。以下、実施例1と全く同様
にして、プリプレグおよび銅張り積層板を作成した。 【0039】 【比較例4】溶剤としてN,N−ジメチルホルムアミド
を使用した以外は実施例4と全く同様にしてワニスを作
成した。次に、このワニスを用いて、比較例1と同様に
して、プリプレグおよび銅張り積層板を作成した。ま
ず、実施例と比較例のプリプレグの特性を表1に示す。
本発明のプリプレグは揮発分が極めて少なく通常のエポ
キシ系プリプレグとほぼ同じである。 【0040】 【表1】 【0041】 【数1】【0042】次に、1.6mm厚の銅張り積層板につい
て、300℃、320℃、340℃のはんだ耐熱性およ
び消炎性試験の測定結果を表2に示す。この他、曲げ強
度の温度特性、熱劣化特性を検討したが、実施例、比較
例ともに全く差がなく耐熱グレードH種を満足するもの
であった。 【0043】 【表2】 【0044】はんだ耐熱性:300℃、320℃、34
0℃のはんだ浴に60秒間浮かべ、ふくれ及び異常の有
無を観察し、両方ないものを○、その他を×と評価し
た。 消炎性:UL−94垂直法にて測定した。 【0045】 【発明の効果】本発明においては、特定の調節された条
件でビスイミドとジアミンとエポキシ化合物を反応させ
て得たイミド系プレポリマーを用いてプリプレグを製造
しているので、含浸作業性が向上し、積層板中の残存溶
剤を激減させることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 和嶋 元世
茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会
社日立製作所日立研究所内
(72)発明者 森下 泰定
茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会
社日立製作所日立研究所内
(72)発明者 水野 裕
茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成
工業株式会社下館工場内
(72)発明者 横沢 舜哉
茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成
工業株式会社下館工場内
(72)発明者 塚西 憲次
茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成
工業株式会社下館工場内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)(A) 一般式: 【化1】 (式中、R1 は炭素−炭素二重結合を有する2価の有機
基を表し、R2 は少なくとも2ケの炭素数を有する2価
の有機基を表す。)のビスイミドと (B)一般式: H2 N−R3 −NH2 (式中、R3 は少なくとも2ケの炭素数を有する2価の
有機基を表す。)のジアミンとを、 沸点(760mmHg)が100〜170℃の有機溶剤
中で170℃以下で加熱反応させた後、反応溶液中に、 (C)少なくとも2ケのエポキシ基を有するエポキシ化
合物を加え、更に140℃以下で反応させて得られるイ
ミド系プレポリマーを含む反応溶液中に、硬化剤、低沸
点有機溶媒の希釈溶剤を室温で加えワニスとし、このワ
ニスをガラス基材に含浸、乾燥することを特徴とする、
プリプレグの製造法。 (2) ビスイミド(A)とジアミン(B)とを平均分
子量が400〜800となるまで反応させた後、反応溶
液中にエポキシ化合物(C)を加え、エポキシ化合物
(C)の少なくとも20重量%を反応させることを特徴
とする、特許請求の範囲1項記載のプリプレグの製造
法。 (3) エポキシ化合物(C)の量が、ビスイミド
(A)、ジアミン(B)、エポキシ化合物(C)の和に
対して15〜70重量%であることを特徴とする、特許
請求の範囲1又は2項記載のプリプレグの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29958191A JPH05230242A (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | プリプレグの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29958191A JPH05230242A (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | プリプレグの製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21018484A Division JPS60210640A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 積層板の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05230242A true JPH05230242A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=17874492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29958191A Pending JPH05230242A (ja) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | プリプレグの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05230242A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018181514A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 日立化成株式会社 | コアレス基板用プリプレグ、コアレス基板及び半導体パッケージ |
-
1991
- 1991-10-21 JP JP29958191A patent/JPH05230242A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018181514A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 日立化成株式会社 | コアレス基板用プリプレグ、コアレス基板及び半導体パッケージ |
| JPWO2018181514A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2020-02-13 | 日立化成株式会社 | コアレス基板用プリプレグ、コアレス基板及び半導体パッケージ |
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