JPH05234017A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH05234017A JPH05234017A JP3515492A JP3515492A JPH05234017A JP H05234017 A JPH05234017 A JP H05234017A JP 3515492 A JP3515492 A JP 3515492A JP 3515492 A JP3515492 A JP 3515492A JP H05234017 A JPH05234017 A JP H05234017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating film
- melting point
- film
- magnetic
- magnetic head
- Prior art date
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 絶縁膜の厚さ寸法を小さく形成して実効トラ
ック幅を大きく形成した場合でも、ピンホールの発生に
よる金属磁性膜のショートの発生を防止し、周波数特性
および磁気効率を高めることのできる磁気ヘッドを提供
する。 【構成】 非磁性材料からなる一対の基板１の間に金属
磁性膜２と絶縁膜３とを交互に積層してなる積層膜４を
形成し、前記絶縁膜３を一対の高融点材料からなる高融
点絶縁膜９の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜１０
を介装するように形成したことを特徴とする。
ック幅を大きく形成した場合でも、ピンホールの発生に
よる金属磁性膜のショートの発生を防止し、周波数特性
および磁気効率を高めることのできる磁気ヘッドを提供
する。 【構成】 非磁性材料からなる一対の基板１の間に金属
磁性膜２と絶縁膜３とを交互に積層してなる積層膜４を
形成し、前記絶縁膜３を一対の高融点材料からなる高融
点絶縁膜９の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜１０
を介装するように形成したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドに係り、特に
ビデオテープデッキ等の記録、再生等に好適な積層膜型
の磁気ヘッドに関する。
ビデオテープデッキ等の記録、再生等に好適な積層膜型
の磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ビデオテープデッキにおいて
は、磁気テープへの記録、再生あるいは消去を行なうた
めの磁気ヘッドが搭載されている。
は、磁気テープへの記録、再生あるいは消去を行なうた
めの磁気ヘッドが搭載されている。
【０００３】図２はこのような従来の一般的な磁気ヘッ
ドを示したもので、非磁性材料からなる一対の基板１，
１の間には、金属磁性膜２および絶縁膜３からなる積層
膜４がスパッタリング等の手段により交互に複数層積層
形成されており、このように形成された２つのコアブロ
ック５の端面を前記金属磁性膜２および絶縁膜３が互い
に接続されるように接合することにより、磁気ヘッドの
コア６を形成するようになされている。
ドを示したもので、非磁性材料からなる一対の基板１，
１の間には、金属磁性膜２および絶縁膜３からなる積層
膜４がスパッタリング等の手段により交互に複数層積層
形成されており、このように形成された２つのコアブロ
ック５の端面を前記金属磁性膜２および絶縁膜３が互い
に接続されるように接合することにより、磁気ヘッドの
コア６を形成するようになされている。
【０００４】このように金属磁性膜２を積層して磁気ト
ラックを形成するのは、前記金属磁性膜２の厚さ寸法
は、少ない方が高周波特性が向上することが知られてお
り、例えば、厚さ寸法が５μｍ程度で極めて良好な周波
数特性を得ることができることがわかっているが、前記
磁気ヘッドのトラック幅は、ビデオテープデッキの規格
により約２０μｍ程度必要であるので、この５μｍの金
属磁性膜２を絶縁膜３を介して４層に積層することによ
り、金属磁性膜１の厚さ寸法が５μｍの場合の特性を保
持してトラック幅が２０μｍの磁気ヘッドを得るように
するためである。この場合に、前記絶縁膜３の厚さ寸法
を約０．１μｍとすると、前記積層膜４によるトラック
幅を２０μｍとした場合に、前記金属磁性膜２からなる
実効トラック幅は、１９．７μｍとなる。
ラックを形成するのは、前記金属磁性膜２の厚さ寸法
は、少ない方が高周波特性が向上することが知られてお
り、例えば、厚さ寸法が５μｍ程度で極めて良好な周波
数特性を得ることができることがわかっているが、前記
磁気ヘッドのトラック幅は、ビデオテープデッキの規格
により約２０μｍ程度必要であるので、この５μｍの金
属磁性膜２を絶縁膜３を介して４層に積層することによ
り、金属磁性膜１の厚さ寸法が５μｍの場合の特性を保
持してトラック幅が２０μｍの磁気ヘッドを得るように
するためである。この場合に、前記絶縁膜３の厚さ寸法
を約０．１μｍとすると、前記積層膜４によるトラック
幅を２０μｍとした場合に、前記金属磁性膜２からなる
実効トラック幅は、１９．７μｍとなる。
【０００５】また、前記コア６の磁気テープの摺動面側
であって前記各コアブロック５の境界部分には、ギャッ
プ７が形成されており、前記各コアブロック５の接合面
側には、前記コア６に図示しないコイルを巻回するため
の巻き線溝８が形成されている。
であって前記各コアブロック５の境界部分には、ギャッ
プ７が形成されており、前記各コアブロック５の接合面
側には、前記コア６に図示しないコイルを巻回するため
の巻き線溝８が形成されている。
【０００６】このような従来の磁気ヘッドにおいては、
図示しない磁気テープを磁気ヘッドのコア６のギャップ
７部分に所定速度で摺動させることにより、このギャッ
プ７部分を通過する磁気テープに磁界を付与して記録を
行なったり、磁気テープの通過により生じる磁界を取出
して再生を行なうようになっている。
図示しない磁気テープを磁気ヘッドのコア６のギャップ
７部分に所定速度で摺動させることにより、このギャッ
プ７部分を通過する磁気テープに磁界を付与して記録を
行なったり、磁気テープの通過により生じる磁界を取出
して再生を行なうようになっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の磁
気ヘッドにおいては、前記絶縁膜３を０．１μｍという
極めて薄い膜厚で形成しているので、この絶縁膜３の形
成時に絶縁膜３の一部にピンホールが生じてしまうとい
う問題があり、このピンホールにより、前記各金属磁性
膜２がショートしてしまい、金属磁性膜２の厚さ寸法が
実質的に増加してしまい、良好な周波数特性を得ること
ができなくなってしまうという問題を有している。
気ヘッドにおいては、前記絶縁膜３を０．１μｍという
極めて薄い膜厚で形成しているので、この絶縁膜３の形
成時に絶縁膜３の一部にピンホールが生じてしまうとい
う問題があり、このピンホールにより、前記各金属磁性
膜２がショートしてしまい、金属磁性膜２の厚さ寸法が
実質的に増加してしまい、良好な周波数特性を得ること
ができなくなってしまうという問題を有している。
【０００８】図３は本発明者らが金属磁性膜２の間にＳ
ｉＯ2 からなる絶縁膜３を積層し、この絶縁膜３の厚さ
寸法を変化させながら、前記各金属磁性膜２の間の電気
抵抗値を測定した実験結果を示したものである。
ｉＯ2 からなる絶縁膜３を積層し、この絶縁膜３の厚さ
寸法を変化させながら、前記各金属磁性膜２の間の電気
抵抗値を測定した実験結果を示したものである。
【０００９】この実験結果によれば、絶縁膜３の厚さ寸
法が０．１μｍ以下の場合は、電気抵抗値は０となり、
ピンホールの発生により完全に各金属磁性膜２がショー
トしていることがわかり、前記絶縁膜３の厚さ寸法が大
きくなるにしたがって電気抵抗値は増加し、絶縁膜３の
厚さ寸法が約１μｍ以上であれば、電気抵抗値は無限大
となり、各金属磁性膜２間のショートは発生しなくなる
ことがわかる。したがって、このような絶縁膜３のピン
ホールの発生を防止して金属磁性膜２同士のショートを
防止するためには、絶縁膜３の厚さ寸法を１μｍ以上に
形成すればよいことがわかる。
法が０．１μｍ以下の場合は、電気抵抗値は０となり、
ピンホールの発生により完全に各金属磁性膜２がショー
トしていることがわかり、前記絶縁膜３の厚さ寸法が大
きくなるにしたがって電気抵抗値は増加し、絶縁膜３の
厚さ寸法が約１μｍ以上であれば、電気抵抗値は無限大
となり、各金属磁性膜２間のショートは発生しなくなる
ことがわかる。したがって、このような絶縁膜３のピン
ホールの発生を防止して金属磁性膜２同士のショートを
防止するためには、絶縁膜３の厚さ寸法を１μｍ以上に
形成すればよいことがわかる。
【００１０】しかし、前記絶縁膜３の厚さ寸法を１μｍ
に形成してしまうと、積層膜のうち絶縁膜３の占める割
合が増大してしまうため、金属磁性膜２からなる実効ト
ラック幅が１７μｍと低下してしまい、磁気ヘッドの磁
気効率が著しく低下してしまうという問題を有してい
る。
に形成してしまうと、積層膜のうち絶縁膜３の占める割
合が増大してしまうため、金属磁性膜２からなる実効ト
ラック幅が１７μｍと低下してしまい、磁気ヘッドの磁
気効率が著しく低下してしまうという問題を有してい
る。
【００１１】本発明は前記した点に鑑みてなされたもの
で、絶縁膜の厚さ寸法を小さく形成して実効トラック幅
を大きく形成した場合でも、ピンホールの発生による金
属磁性膜のショートの発生を防止し、周波数特性および
磁気効率を高めることのできる磁気ヘッドを提供するこ
とを目的とするものである。
で、絶縁膜の厚さ寸法を小さく形成して実効トラック幅
を大きく形成した場合でも、ピンホールの発生による金
属磁性膜のショートの発生を防止し、周波数特性および
磁気効率を高めることのできる磁気ヘッドを提供するこ
とを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明に係る磁気ヘッドは、非磁性材料からなる一対の
基板を接合してなるコアの磁気テープ摺動面にギャップ
を形成し、前記コアの前記各基板の間に金属磁性膜と絶
縁膜とを交互に積層してなる積層膜を形成してなる磁気
ヘッドにおいて、前記絶縁膜を一対の高融点材料からな
る高融点絶縁膜の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜
を介装するように形成したことを特徴とするものであ
る。
本発明に係る磁気ヘッドは、非磁性材料からなる一対の
基板を接合してなるコアの磁気テープ摺動面にギャップ
を形成し、前記コアの前記各基板の間に金属磁性膜と絶
縁膜とを交互に積層してなる積層膜を形成してなる磁気
ヘッドにおいて、前記絶縁膜を一対の高融点材料からな
る高融点絶縁膜の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜
を介装するように形成したことを特徴とするものであ
る。
【００１３】
【作用】本発明によれば、絶縁膜を高融点材料からなる
高融点絶縁膜の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜を
介装するように形成しているので、高融点絶縁膜にピン
ホールが発生した場合に、前記低融点材料の低融点絶縁
膜が製造工程中で軟化され、前記高融点材料膜に生じた
ピンホールを塞ぐことができるようになっており、これ
により、約０．１μｍ程度の薄い膜厚の絶縁膜であって
も完全な絶縁を行なうことができ、各金属磁性膜のショ
ートを確実に防止することができるものである。
高融点絶縁膜の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜を
介装するように形成しているので、高融点絶縁膜にピン
ホールが発生した場合に、前記低融点材料の低融点絶縁
膜が製造工程中で軟化され、前記高融点材料膜に生じた
ピンホールを塞ぐことができるようになっており、これ
により、約０．１μｍ程度の薄い膜厚の絶縁膜であって
も完全な絶縁を行なうことができ、各金属磁性膜のショ
ートを確実に防止することができるものである。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１を参照して説明
する。
する。
【００１５】図１は本発明に係る磁気ヘッドの積層膜部
分の一実施例を示したもので、非磁性材料からなる一対
の基板１の間には、金属磁性膜２および絶縁膜３からな
る積層膜４が交互に複数層積層形成されており、本実施
例においては、前記各金属磁性膜２の間に介装される絶
縁膜３は、例えば、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5
、Ｗ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 等の高融点絶縁材料からなる高
融点絶縁膜９の間に、例えば、融点が６００℃程度のガ
ラス等の低融点絶縁材料からなる低融点絶縁膜１０を介
装するようになされている。この高融点絶縁膜９は、例
えば、０．０３〜０．０４５μｍの厚さに形成されると
ともに、前記低融点絶縁膜１０は、０．０１〜０．０４
μｍの厚さに形成され、前記各高融点絶縁膜９と低融点
絶縁膜１０との合計膜厚は、０．１μｍになるように形
成されている。
分の一実施例を示したもので、非磁性材料からなる一対
の基板１の間には、金属磁性膜２および絶縁膜３からな
る積層膜４が交互に複数層積層形成されており、本実施
例においては、前記各金属磁性膜２の間に介装される絶
縁膜３は、例えば、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5
、Ｗ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 等の高融点絶縁材料からなる高
融点絶縁膜９の間に、例えば、融点が６００℃程度のガ
ラス等の低融点絶縁材料からなる低融点絶縁膜１０を介
装するようになされている。この高融点絶縁膜９は、例
えば、０．０３〜０．０４５μｍの厚さに形成されると
ともに、前記低融点絶縁膜１０は、０．０１〜０．０４
μｍの厚さに形成され、前記各高融点絶縁膜９と低融点
絶縁膜１０との合計膜厚は、０．１μｍになるように形
成されている。
【００１６】次に、本実施例の作用について説明する。
【００１７】本実施例においては、前記基板１の間に金
属磁性膜２、高融点絶縁膜９、低融点絶縁膜１０、高融
点絶縁膜９、金属磁性膜２という順序で順次積層形成
し、このように積層膜が形成された基板を所定の加工工
程により磁気ヘッドを製造するようになされている。こ
の場合に、前記高融点絶縁膜９は、極めて薄い膜厚で形
成されるため、ピンホールが発生することがあるが、前
記磁気ヘッドの製造工程において、約６００℃に加熱さ
れる工程があり、この加熱により、前記低融点材料の低
融点絶縁膜１０が軟化されるため、前記高融点材料膜に
生じたピンホールを塞ぐようになっている。
属磁性膜２、高融点絶縁膜９、低融点絶縁膜１０、高融
点絶縁膜９、金属磁性膜２という順序で順次積層形成
し、このように積層膜が形成された基板を所定の加工工
程により磁気ヘッドを製造するようになされている。こ
の場合に、前記高融点絶縁膜９は、極めて薄い膜厚で形
成されるため、ピンホールが発生することがあるが、前
記磁気ヘッドの製造工程において、約６００℃に加熱さ
れる工程があり、この加熱により、前記低融点材料の低
融点絶縁膜１０が軟化されるため、前記高融点材料膜に
生じたピンホールを塞ぐようになっている。
【００１８】したがって、本実施例においては、高融点
絶縁膜９にピンホールが発生した場合でも、低融点絶縁
膜１０によりこのピンホールを適正に塞ぐことができる
ので、約０．１μｍ程度の薄い膜厚の絶縁膜３であって
も完全な絶縁を行なうことができ、各金属磁性膜２のシ
ョートを確実に防止することができ、周波数特性の極め
て良好な磁気ヘッドを得ることができる。しかも、絶縁
膜３の厚さ寸法を大きく形成するものではないので、金
属磁性膜２からなる実効トラック幅がを大きく確保する
ことができ、磁気効率を著しく向上させることができ
る。
絶縁膜９にピンホールが発生した場合でも、低融点絶縁
膜１０によりこのピンホールを適正に塞ぐことができる
ので、約０．１μｍ程度の薄い膜厚の絶縁膜３であって
も完全な絶縁を行なうことができ、各金属磁性膜２のシ
ョートを確実に防止することができ、周波数特性の極め
て良好な磁気ヘッドを得ることができる。しかも、絶縁
膜３の厚さ寸法を大きく形成するものではないので、金
属磁性膜２からなる実効トラック幅がを大きく確保する
ことができ、磁気効率を著しく向上させることができ
る。
【００１９】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、必要に応じて種々変更することができるも
のである。
のではなく、必要に応じて種々変更することができるも
のである。
【００２０】
【発明の効果】以上述べたように本発明に係る磁気ヘッ
ドは、高融点絶縁膜にピンホールが発生した場合でも、
低融点絶縁膜によりこのピンホールを適正に塞ぐことが
できるので、約０．１μｍ程度の薄い膜厚の絶縁膜であ
っても完全な絶縁を行なうことができ、各金属磁性膜の
ショートを確実に防止することができ、周波数特性の極
めて良好な磁気ヘッドを得ることができる。しかも、絶
縁膜の厚さ寸法を大きく形成するものではないので、金
属磁性膜からなる実効トラック幅がを大きく確保するこ
とができ、磁気効率を著しく向上させることができる等
の効果を奏する。
ドは、高融点絶縁膜にピンホールが発生した場合でも、
低融点絶縁膜によりこのピンホールを適正に塞ぐことが
できるので、約０．１μｍ程度の薄い膜厚の絶縁膜であ
っても完全な絶縁を行なうことができ、各金属磁性膜の
ショートを確実に防止することができ、周波数特性の極
めて良好な磁気ヘッドを得ることができる。しかも、絶
縁膜の厚さ寸法を大きく形成するものではないので、金
属磁性膜からなる実効トラック幅がを大きく確保するこ
とができ、磁気効率を著しく向上させることができる等
の効果を奏する。
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの積層膜部分の一実施
例を示す断面図
例を示す断面図
【図２】従来の磁気ヘッドを示す斜視図
【図３】従来の磁気ヘッドによる絶縁膜の厚さ寸法に対
する金属磁性膜の電気抵抗値を測定した実験結果を示す
線図
する金属磁性膜の電気抵抗値を測定した実験結果を示す
線図
１ 基板 ２ 金属磁性膜 ３ 絶縁膜 ４ 積層膜 ９ 高融点絶縁膜 １０ 低融点絶縁膜
Claims (1)
- 【請求項１】 非磁性材料からなる一対の基板を接合し
てなるコアの磁気テープ摺動面にギャップを形成し、前
記コアの前記各基板の間に金属磁性膜と絶縁膜とを交互
に積層してなる積層膜を形成してなる磁気ヘッドにおい
て、前記絶縁膜を一対の高融点材料からなる高融点絶縁
膜の間に低融点材料からなる低融点絶縁膜を介装するよ
うに形成したことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3515492A JPH05234017A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3515492A JPH05234017A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05234017A true JPH05234017A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=12433976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3515492A Withdrawn JPH05234017A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05234017A (ja) |
-
1992
- 1992-02-21 JP JP3515492A patent/JPH05234017A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |