JPH05234074A

JPH05234074A - 磁気ディスクの製造方法および磁気ディスク

Info

Publication number: JPH05234074A
Application number: JP4072584A
Authority: JP
Inventors: Junichi Sato; 純一佐藤; Keiji Koga; 啓治古賀; Akinori Nishizawa; 明憲西沢
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-02-21
Filing date: 1992-02-21
Publication date: 1993-09-10
Also published as: US5393584A

Abstract

(57)【要約】（修正有）【構成】剛性基板１０２上に磁性微粒子とバインダー
とを含有する磁性塗料１０４にて塗膜を形成し、配向、
硬化して磁気ディスクを製造する際に、塗膜の形成時
に、磁界を印加し、基板の内周側における印加磁界強度
を外周側の磁界強度よりも大きくする。【効果】膜厚が均一、もしくは内周側で厚く外周側で
薄い磁性層１０３が形成できる。このため、従来と比較
して、内周部と外周部で再生出力およびオーバーライト
特性の差が少ない塗布型磁気ディスクが提供できるよう
になる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスクタイプ
の磁気ディスクの製造方法と磁気ディスクとに関する。

【０００２】

【従来の技術】計算機等に用いられる磁気ディスク駆動
装置には、剛性基板上に磁性層を設置したハードタイプ
の磁気ディスクが用いられており、近年、これらの磁気
ディスクでは大容量化、小型化が急速に進展している。
これらのディスクは、通常磁性塗料をスピンコートした
後、配向、硬化等を行なって製造される。

【０００３】このようにスピンコート法により作製され
た塗布型磁気ディスクの場合、遠心力により塗膜が内周
側で薄く、外周側で厚くなる。

【０００４】他方、磁気ディスクに磁気記録を行う際、
同一周波数にて記録再生を行なうため、ディスクの内周
部と外周部では磁気ヘッドとの相対速度の差により、内
周部の方が外周部よりも記録波長が短くなり高密度記録
となる。このため磁性膜の厚さが均一な磁気ディスクの
場合でも、再生出力が内周部で小さく、外周部で大きく
なるという問題を生じる。

【０００５】従って、従来の塗布型磁気ディスクのよう
に内周部が薄く外周部が厚いディスクの場合には、さら
に再生出力の差は大きくなってしまう。

【０００６】また、相対速度が速いほど浮上型磁気ヘッ
ドの浮上量（ヘッドとディスクとの距離）は大きくなる
ため、ディスク外周部ほど浮上量が大きい。このためオ
ーバライト特性は外周部ほど不利になる。そして、オー
バライト特性は膜厚が厚いほど悪化するため、外周部ほ
ど記録層の厚い従来の塗布型磁気ディスクでは、外周部
のオーバーライト特性の点でさらに不利になる。

【０００７】このように従来の塗布型磁気ディスクは内
周部と外周部との再生出力、オーバーライト特性の差が
大きという問題が存在している。

【０００８】そして、１４インチ、８インチ等から、５
インチ、３．５インチ、２．５インチへと磁気ディスク
の小型化が進むと、内径が相対的に大きくなり、外径と
内径の比が大きくなるため、スピンコート時のディスク
外周部と内周部の遠心力の差が大きくなり、塗膜厚の差
は大きくなる。また、記録再生時におけるヘッドとディ
スクの相対速度の比も大きくなるため、内外周の再生出
力およびオーバーライト特性の差はさらに大きなる。

【０００９】このような問題を解決する方法として、例
えば特公昭６１−３５４５号公報には、ガスの吹き付け
により塗料の粘性を塗膜の位置により制御し、次いでス
ピンアウトする塗布方法が開示されている。この塗布方
法を用いれば、あらかじめ内周部の粘度を上げることに
より内周側で膜厚を厚くすることは可能であるが、０．
５μm 以下の塗膜厚では膜厚制御は困難となり、塗膜内
周部の角形比が低下する。

【００１０】またこのような問題の解決には、厚い磁性
層を一度形成し、その後外周部をより研磨して外周部の
膜厚を小さくすることもできる。しかし、この場合に
は、膜厚が０．３μm 以下になると、研磨による膜厚の
不均一性がや研磨傷などにより、記録・再生時のモジュ
レーションが大きくなってしまい、エラーが多発してし
まう。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、内周部と外周部で膜厚が均一であるか、あるいはよ
り好ましくは、内周部の膜厚が厚く外周部の膜厚が薄い
磁性層を有する磁気ディスクの製造方法と、磁気ディス
クとを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（４）の本発明により達成される。（１）剛性基板上に磁性微粒子とバインダーとを含有
する磁性塗料にて塗膜を形成し、配向、硬化する磁気デ
ィスクの製造方法において、塗膜の形成時に、磁界を印
加し、前記剛性基板の内周側における印加磁界強度を外
周側の磁界強度よりも大きくする磁気ディスクの製造方
法。

【００１３】（２）前記硬化後に研磨を行う上記
（１）の磁気ディスクの製造方法。

【００１４】（３）前記磁気ディスクの磁性層の厚さ
は、内周側の方が外周側よりも厚い上記（１）または
（２）の磁気ディスクの製造方法。

【００１５】（４）剛性基板上に磁性層を有し、この
磁性層の内周側の厚さは、外周側の厚さより厚い磁気デ
ィスク。

【００１６】

【作用】本発明の磁気ディスクの製造方法では、ディス
クを回転させ磁性塗料を塗布し塗膜を形成しながら、磁
界を印加する。このとき、ディスク内周部の磁界強度が
外周部よりも大きい磁界を印加することによって、塗膜
に対して内周方向への磁気力を加え、磁性塗料を内周方
向へ移動させる。この結果、ディスクの内周部が厚く外
周部が薄い磁性層が形成できる。

【００１７】このような磁気ディスクは内周部と外周部
との再生出力やオーバライト特性の差が小さい。

【００１８】また、印加磁界により表面の平滑性に優れ
た磁性塗膜を形成でき、しかも配向の直前まで磁性塗料
の乾燥を防止できるため、磁性微粒子を充分に配向でき
高い角形比が得られる。このためエラーが少なく、磁気
ヘッドの低浮上化が可能な磁気ディスクをえることがで
きる。

【００１９】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。図１に、本発明の磁気ディスクの好適例を
示す。

【００２０】図１において、磁気ディスク１０１は、剛
性基板１０２上に塗布型の磁性層１０３を有する。本発
明は、剛性基板１０２の片面だけに磁性層１０３を有す
る片面記録型の磁気ディスクおよび剛性基板１０２の両
面に磁性層１０３を有する両面記録型の磁気ディスクの
いずれであってもよい。

【００２１】本発明に使用されるディスク状の剛性基板
１０２は、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金等
の金属、ガラス、セラミックス、エンジニアリングプラ
スチックス等の各種非磁性材料により構成すればよい。
これらの中では、機械的剛性、加工性等が良好なアル
ミニウム、アルミニウム合金等を用いることが好まし
い。剛性基板の寸法は目的に応じて選定すればよいが、
通常、厚さ０．５〜１．９mm程度、直径４０〜１３０mm
程度である。また、基板のＲmax は０．００５〜０．０
７０μm 程度とする。

【００２２】磁性層１０３は、磁性微粒子を含有する磁
性塗料を塗布して形成される。磁性層に用いる磁性微粒
子には特に制限はなく、各種酸化物磁性粉等も使用可能
であるが、強磁性金属微粒子または六方晶系酸化物微粒
子が好ましい。強磁性金属微粒子や六方晶系酸化物微粒
子を用いれば高い記録密度と、高い記録・再生感度が得
られる。用いる強磁性金属微粒子や六方晶系酸化物微粒
子には特に制限はないが、前記のような磁気特性が得ら
れるように選択することが好ましい。

【００２３】強磁性金属微粒子としては、Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉの単体、これらの合金、またはこれらの単体および
合金に、Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，さらにはＺｎ，Ｃ
ｕ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｂｉ，Ａｇ，Ｐｔ等を添加した
強磁性金属微粒子が使用できる。また、これらの金属に
Ｂ，Ｃ，Ｓｉ，Ｐ，Ｎなどの非金属元素を少量添加した
ものであってもよく、Ｆｅ₄ Ｎ等、一部窒化されたもの
であってもよい。

【００２４】さらに、強磁性金属微粒子は、耐食性、耐
候性の向上のために、表面に酸化物の被膜を有するもの
であってもよい。このような酸化物としては、強磁性
金属微粒子を構成する金属の酸化物、Ａｌ₂ Ｏ₃ 等の各
種セラミックスが好ましい。

【００２５】強磁性微粒子の形状に特に制限はないが、
形状磁気異方性を利用できることから針状形態のものを
用いることが好ましい。また、強磁性金属微粒子の寸法
は目的とする磁性層の構成に応じて選定すればよいが、
通常、長径０．１５〜０．３０μm 程度、針状比６〜１
０程度のものを用いることが好ましい。なお、強磁性金
属微粒子を用いる場合は、α−ＦｅＯＯＨ(Goethite)を
還元する方法など、公知の各種方法により製造すればよ
く、また、市販のものを用いてもよい。

【００２６】六方晶系酸化物微粒子としては、バリウム
フェライト、ストロンチウムフェライト等の磁性微粒子
がある。この場合、六方晶系酸化物微粒子の寸法は、目
的とする磁性層の構成に応じて選定すればよいが、電磁
変換特性上、平均粒径が０．１５μm 以下、特に０．０
２〜０．１０μm 程度、板状比は２以上、特に３〜１０
程度であるものが好ましい。ここで平均粒子とは、電子
顕微鏡写真によって、例えば六方晶系のバリウムフェラ
イト粒子５０個程度を観察し、粒径についての測定値を
平均にしたものである。板状比とは、平均粒径／平均厚
みの値である。

【００２７】バリウムフェライトとしては、ＢａＦｅ₁₂
Ｏ₁₉等の六方晶系バリウムフェライトやバリウムフェラ
イトの一部をＣａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎ
その他の金属から選ばれる１種以上で置換したもの等が
挙げられる。また、ストロンチウムフェライトとして
は、六方晶系ストロンチウムフェライトＳｒＦｅ
₁₂Ｏ₁₉、あるいはこれを上記に準じて置換したものであ
ってもよい。この場合、磁化量増大や温度特性改善のた
め、六方晶系フェライトの表面をスピネルフェライトで
変性した物でもよい。さらに、耐候性・分散性向上のた
めに、これらの粒子の表面に酸化物や有機化合物の被覆
を有するものであってもよい。

【００２８】バリウムフェライト等の製法としては、セ
ラミック法、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェッ
ト法等があり、本発明ではいずれの方法を用いてもよ
い。

【００２９】磁性層形成に用いる磁性塗料は、上記した
磁性微粒子とバインダと溶剤とを混練して調製される。
用いるバインダに特に制限はなく、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、放射線硬化性樹脂等から目的に応じて選択すれ
ばよいが、薄層で十分な膜強度を確保し、高い耐久性を
得る必要があることから熱硬化性樹脂あるいは放射線硬
化性樹脂を用いることが好ましい。

【００３０】熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマー
ル樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹
脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−
ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジオ
ール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物など
の架橋剤との混合物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との
混合物、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジエン−
アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、
さらにはこれらの混合物が好適である。

【００３１】そして、特に、エポキシ樹脂とフェノール
樹脂との混合物、米国特許第３，０５８，８４４号に記
載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロ
ールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４９−
１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル重
合体との混合物等が好ましい。

【００３２】放射線硬化性化合物の具体例としては、ラ
ジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合す
る基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂
である。その他放射線照射により架橋重合する不飽和
二重結合を有する化合物であれば用いることができる。

【００３３】放射線硬化性バインダーとして用いられる
樹脂としては、上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や
末端、側鎖に含有する飽和、不飽和ポリエステル樹脂、
ポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアル
コール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ
樹脂、フェノキシ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン等が好適であ
る。

【００３４】さらに、オリゴマー、モノマーとして本発
明で用いられる放射線硬化性化合物としては、単官能ま
た多官能のトリアジン系アクリレート、多価アルコール
系アクリレート、ペンタエリスリトール系アクリレー
ト、エステル系アクリレート、ウレタン系アクリレート
および上記系の単官能または多官能のメタクリレート化
合物等が好適である。

【００３５】磁性塗料中のバインダの含有量に特に制限
はないが、磁性微粒子１００重量部に対し、１０〜５０
重量部程度とすることが好ましい。

【００３６】用いる溶剤に特に制限はなく、シクロヘキ
サノン、イソホロン等のケトン系、イソプロピルアルコ
ール、ブチルアルコール等のアルコール系、エチルセロ
ソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソルブ系、トルエン等
の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じて選択すればよ
い。

【００３７】磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制限はな
いが、磁性微粒子１００重量部に対し、４００〜７００
重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、必要
に応じα−Ａｌ₂ Ｏ₃ 等の研磨剤、シリコーンオイル等
の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。

【００３８】このような磁性塗料は、ポリッシングによ
り表面平滑化された剛性基板表面に塗布される。この場
合、剛性基板の表面は、アルマイト等の陽極酸化膜、ク
ロム酸等の酸化膜、Ｎｉ−Ｐ−Ｃｕ等の無電解メッキ
膜、カップリング剤、硬化性樹脂などで処理されていて
もよい。

【００３９】磁性塗料の塗布方法に特に制限はないが、
均一な塗布が容易にでき、本発明の効果が有効に実現で
きることから、スピンコート法を用いることが好まし
い。このスピンコートにより、磁性塗料にて塗膜を形成
しながら、基板を回転させたまま、内周側の方がより強
い磁界を印加する。この磁界により、塗膜に対し内周方
向へ磁気力が作用し、塗膜は内周側へ移動する。

【００４０】本発明では、用いる磁界印加装置に特に制
限はないが、好適例を図２に示し、以下図示例に従って
説明する。

【００４１】磁性塗料を塗布した基板１０２には、磁界
が印加される。印加磁界の方向は通常基板１０２に垂直
であるが、多少の傾斜があってもよい。

【００４２】また、この際の磁界強度は、最内周部の磁
性塗料１０４中にて１００〜３０００Ｇ、特に２００〜
３０００Ｇであることが好ましい。強度が小さすぎると
塗膜を動かすのに十分な力が生じないため、レベリング
効果が不十分となる。大きすぎると塗膜の表面性が悪
化する。

【００４３】この場合、印加磁界の強度は、基板１０２
の最内径部の磁性塗料中にて最大であり、外径部から内
径部にかけて連続的あるいは段階的に増加するものであ
る。このような磁界を印加するには図示例のように、主
面に着磁した１対の棒状の磁石２０３、２０４を用い、
これらを基板１０２を挟んで互いの異極同士を対向させ
て配置する。

【００４４】内周側の磁界強度を外周側よりも強くする
ためには、図２に示されるように、均一な磁束を有する
一対の磁石２０２、２０３を用い、内周側で対向間隙を
挟めるように１対の磁石２０３、２０４を近づけて、内
周側の磁化量を大きくしてもよい。あるいは、例えば磁
界強度の異なるセグメント磁石を連結して棒状の磁石と
し、この磁石を等間隔で平行に配置し、その内周側の磁
化量を大きくしてもよい。この他、軟磁性材料を磁石表
面に配置することによって磁束を調整することもでき
る。さらには、これらを組み合わせて用いてもよい。

【００４５】用いる磁石は、永久磁石でも電磁石でもよ
く、また、用いる磁石の最大エネルギー積(BH)max やサ
イズ等は、基板の大きさ、印加磁界強度、基板と磁石間
の距離等に応じて適宜選択すればよい。通常、磁石の(B
H)max は１６〜３０MGOe程度、磁石と基板間の距離は５
〜２０mm程度、磁極のサイズは１０×６５mm程度であ
る。なお、外周側の磁界強度を内周側の磁界強度で除し
た値は１．１以上、好ましくは１．５以上、より好まし
くは２以上とすることが好ましい。なお、最外周では磁
界強度０でもよい。

【００４６】また、これら対向磁石２０３、２０４は１
対のみでなく、２対〜６対程度設けてもよい。なお、磁
界印加方法は、前記の方法に限定されるものではなく、
例えば基板の片側にのみ磁極を配置して、垂直方向の磁
界を印加するなど種々の方法が可能である。

【００４７】このような印加磁界により表面の平滑性に
優れた磁性塗膜を形成でき、しかも配向の直前まで磁性
塗料の乾燥を防止できるため、磁性微粒子を充分に配向
でき高い角形比が得られる。

【００４８】塗膜の形成は、基本的には比較的低回転数
での塗布（２０００rpm 以下、特に２００〜２０００rp
m 程度で１秒〜１分程度）、高回転数での振り切り（１
０００rpm 以上、特に１０００〜１００００rpm 程度で
１秒〜３分程度）で構成され、その後配向処理を行う。
その際、塗膜形成後、配向前に、必要に応じて塗膜の平
滑化のための低回転数（２００〜３０００rpm 程度で１
秒〜５分程度）のレベリング工程等を導入してもよい。
塗膜形成に際しては、印加磁界を塗膜の形成の間常に一
定とする必要はなく、塗膜の形成の一部のみで行なわれ
てもよいし、途中で磁界分布を変化させてもよい。レベ
リング工程では、上記の磁界印加を継続して遠心力の影
響を軽減することが好ましいが、場合によっては均一磁
界を印加したり、無磁場中で行ってもよい。

【００４９】本発明では、空気中に溶剤蒸気を溶存させ
た雰囲気中にて、塗膜形成中あるいはレベリング中の塗
膜に磁界を印加することもできる。用いる溶剤は、前記
磁性塗料を調整する際に使用可能な溶剤であれば、特に
制限はなく、そのいずれであってもよく、また、２種以
上を用いてもよい。この場合、雰囲気の温度は２０〜５
０℃であってもよい。このようにすれば配向の直前まで
磁性塗膜の乾燥を防止できるため、磁性微粒子を十分に
配向させることができ、高い保磁力角形比Ｓを有する磁
性層を形成できる。

【００５０】磁性塗料を塗布し、塗膜形成およびレベリ
ングを行った後、磁性微粒子の配向を行なう。磁性塗料
は、その磁化容易軸がディスク周方向に向くように配向
されることが好ましい。このような配向を行なうために
は、磁性層を挟んで同極同士が対向するように一対の磁
石を設け、これらの磁石で磁気ディスクを回転させるこ
とが好ましい。

【００５１】配向磁石の磁界は、塗膜中にて１０００〜
１００００Ｇ程度とし、配向磁石は、１対〜６対程度設
けてもよい。この際、回転数は１００〜５００rpm 程
度、時間は１０秒〜１０分程度とする。配向雰囲気には
溶剤蒸気を存在させても、させなくてもよい。

【００５２】配向後、必要に応じ、塗料を乾燥させ、そ
の後磁性塗料硬化のために硬化処理を行なう。乾燥を行
うときには、１００℃程度以下の温度とする。

【００５３】バインダが熱硬化性樹脂の場合、熱処理温
度、熱処理時間等の各種条件はバインダの種類に応じて
適宜設定すればよいが、通常１５０〜３００℃程度にて
１〜５時間程度である。また、放射線硬化性樹脂の場合
には、常温において、３〜１０Mradの線量に設定すれば
よい。硬化処理時の雰囲気は不活性ガス雰囲気中、特に
窒素雰囲気中であることが好ましい。このようにして、
膜厚が薄く、かつ均一であり、表面粗さが小さい磁性層
を形成できる。例えば、磁性塗膜硬化後の磁性層の膜厚
は、０．６μm 以下、特に０．３μm 以下とすることが
好ましい。この場合、再生出力やオーバーライト特性等
の点で内周部を外周部より厚くすることが好ましい。外
周部と内周部との膜厚差は４０％以下とすることが好ま
しい。また、表面粗さはＲmax が０．１μm 以下のもの
とすることができる。これらの結果、研磨工程は短縮さ
れ、量産性、生産性はより一層向上する。

【００５４】磁性塗料の硬化後、磁性層表面のポリッシ
ングを行なうことが好ましい。ポリッシングは研磨テ
ープ等の各種研磨材により行なえばよい。このポリッ
シングにより磁性層の表面粗さを所望の値とすることが
でき、また、これにより磁性層の厚さを調整することも
もちろん可能である。なお、本発明では、硬化後のＲma
x を前記のとおり小さくできるため、ポリッシングによ
る磁性層のＲmax を０．１μm 程度以下、特に０．０２
μm 以下、最低１nm程度とすることができる。

【００５５】磁性層を研磨後、磁性層表面に液体潤滑剤
を塗布し、磁性層中に含浸させることが好ましい。用い
る液体潤滑剤に特に制限はないが、潤滑性が良好である
ことから、フッ素を含む有機化合物を含有する液体潤滑
剤を用いることが好ましい。液体潤滑剤の塗布方法に制
限はなく、例えば、ディップ法、スピンコート法等を用
いればよい。

【００５６】液体潤滑剤の含浸後、バニッシングを行な
うことにより、磁気ディスク表面の平滑性をさらに向上
させることが好ましい。なお、このような液体潤滑剤
は、磁性塗料に含有させてもよい。

【００５７】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。実施例１下記のとおり磁性塗料を調整した。磁性粉１００重量部組成：α−Ｆｅ保磁力：１１９０長径：０．２５μm 針状比：８ α−Ａｌ₂ Ｏ₃ １０重量部エポキシ樹脂２８重量部（エピコート1004、シェル化学社製）フェノール樹脂１２重量部（スミラックPC25、住友ベークライト社製）シリコーンオイル０．４重量部シクロヘキサノン／イソホロン（１／１混合溶剤）５
７０重量部上記組成物をボールミル中にて１４０時間混合、分散さ
せた。塗料の粘度は６６０cps であった。

【００５８】次に、空気中にシクロヘキサノン蒸気を存
在させた雰囲気中にて、図２に示される棒状のＮＳ対向
磁石を斜めに配したレベリング装置を用いてディスクを
回転させ、室温２３℃にて塗膜形成と磁界処理を行っ
た。

【００５９】塗膜の形成は得られた磁性塗料を３．５イ
ンチ系のディスク状アルミ基板の両面に塗布、回転数４
０００rpm 、時間５秒にて振り切り、続いて回転数１０
００rpm 、時間２０秒でレベリング処理を行なった。磁
界の印加は塗膜の形成およびレベリングを通じて行なっ
た。塗膜中での磁界強度は表１に示されるとおりであ
る。

【００６０】次に、対向磁石を配した配向装置によりデ
ィスク円周方向に配向処理を行なった後、塗料を乾燥さ
せた。配向磁界は、塗料中にて３０００Ｇで全体に均一
とし、回転数２００rpm 、配向時間は４５秒とした。

【００６１】次に窒素気流中、２００℃で３時間硬化処
理を行なった後、テープ研磨装置により研磨テープWA10
000 （日本ミクロコーティング社製）を用いて研磨量が
約０．０１μm となるように研磨を行ない、磁性層の平
滑化処理を行った。

【００６２】次いで、ディスクを洗浄し、濃度０．１％
のフルオロカーボン（KRITOX 143CZ：デュポン社製）の
フロン溶液をディップ法により塗布し、含浸させ、磁気
ディスクサンプルNo. １を作製した。磁性層表面のＲma
x は１０nmであった。

【００６３】次に、塗膜形成およびレベリング時の磁界
処理を、対向磁石として、図３の磁界強度の異なる磁石
を用いた磁界印加装置にて行った以外は実施例と同様の
方法で比較サンプルNo. ２を作製した。塗膜中の磁界強
度は表１に示されるとおりである。

【００６４】次に、塗膜形成およびレベリング時の磁界
処理を行なわない以外は実施例と同様の方法で比較サン
プルNo. ３を作製した。

【００６５】これらの磁界印加装置における塗膜位置で
も磁界強度と各サンプルNo. １〜３における塗膜厚さ、
再生出力、オーバーライトを、ディスクの内周部（ディ
スク中心より２５mm）、中央（同３２mm）、外周部（同
３９mm）にて測定した。結果は表１に示されるとおりで
ある。

【００６６】

【表１】

【００６７】磁性層の厚さは、あらかじめ被測定ディス
クに磁性層の内領域を設け、触針式表面粗さ径（タリス
テップ）を用いてその場所の段差から求めた。再生出力
およびオーバーライト特性は、浮上型磁気ヘッドを磁気
ディスクサーティファイアを用いて測定した。測定に使
用した磁気ヘッドは、ギャップ長０．６μm のモノリシ
ックタイプのＭＩＧ型ヘッドで、記録・再生時のヘッド
浮上量は０．１４μmとした。再生出力は記録周波数
３．３MHz とした際のＰ−Ｐ値である。なお、測定時の
ディスク回転数は３６００rpm とした。

【００６８】また、オーバーライト特性（Ｏ／Ｗ）は、
１Ｆ信号（１．６５MHz ）に２Ｆ信号（３．３MHz ）を
重ね書きしたときの１Ｆ信号の減衰量で評価し、このれ
はスペクトラムアナライザ（ヒューレットパッカード社
製）で測定した。表１から本発明の効果は明らかであ
る。

【００６９】

【発明の効果】本発明の磁気ディスクの製造方法によれ
ば、膜厚が均一、もしくは内周側で厚く外周側で薄い磁
性層が形成できる。このため、従来と比較して、内周部
と外周部で再生出力およびオーバーライト特性の差が少
ない塗布型磁気ディスクが提供できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ディスクの好適例を示す部分断面
図である。

【図２】本発明の磁気ディスクの製造方法緒を説明する
ための正面図である。

【図３】本発明の磁気ディスクの製造方法の比較用の方
法を示す正面図である。

【符号の説明】

１０１磁気ディスク１０２剛性基板１０３磁性層１０４磁性塗料２０１、３０１容器２０２、２０３、３０２、３０３磁石２０４、３０４溶剤２０５、３０５回転軸

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】剛性基板上に磁性微粒子とバインダーと
を含有する磁性塗料にて塗膜を形成し、配向、硬化する
磁気ディスクの製造方法において、塗膜の形成時に、磁界を印加し、前記剛性基板の内周側
における印加磁界強度を外周側の磁界強度よりも大きく
する磁気ディスクの製造方法。
【請求項２】前記硬化後に研磨を行う請求項１の磁気
ディスクの製造方法。
【請求項３】前記磁気ディスクの磁性層の厚さは、内
周側の方が外周側よりも厚い請求項１または２の磁気デ
ィスクの製造方法。
【請求項４】剛性基板上に磁性層を有し、この磁性層
の内周側の厚さは、外周側の厚さより厚い磁気ディス
ク。