JPS6286531A - 磁気シ−ト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

Ｉ　発明の背景 技術分野 本発明は、特に、磁気シート上に磁気記録を行う電子カ
メラ（磁気カメラ）等の磁気シート装置に装填する磁気
シートに関する。 先行技術とその問題点 従来から、取り扱いや保管等に便利なように１例えば静
止画像等を環状トラックとして磁気記録する磁気シート
をジャケット内部に収納したものが提案されている。 このような磁気シートジャケットの内部に収納された磁
気シートは、可どう性基板の両面に磁性層を塗設して、
ソリが生じないようにしている。 そして、７ｔＳ１図に示されるように、磁気シート１は
、磁気シート装置のチャック４に装填され、３６００　
ｒｐｍの高速回転を行い、凹部５１を安定面とする安定
部材５にて互いの接・触を規制しながら、磁気シート１
に磁気ヘッド３を押圧して、記録再生を行う。 このように、電子カメラ用の磁気シートでは、シートが
高速回転し、しかもシートの変形を伴う押圧を受けて記
録再生が行われるものであり、高い耐久性を要求される
。 また、このような磁気シートでは、ヘッド位置とシート
変形量によって再生出力は変化するものであり、ヘッド
およびシートの接触状態によって出力変動が生じる。　
従って、磁気シートは適度な剛性を持ったものでなけれ
ばならない。　この様にして使用される磁気シートでは
、磁性層は高速度の摺動と屈曲による変形を同時に受け
るため、従来のディスクやテープとは大きく異なった機
械的疲労を受ける。 そのため、媒体の耐久性や出力の安定性の問題、さらに
は静電気による磁性層上へのゴミの付着によるドロップ
アウトやエラーの発生等の種々の問題がある。 ■　発明の目的 本発明の目的は、磁気シートを回転させて記録再生を行
う磁気シート装置に用いられる磁気シートにおいて、耐
久性および帯電防止効果がすぐれた磁気シートを提供す
ることにある。 ■　発明の開示 このような目的は以下の本発明によって達成される。 すなわち、本発明は、磁気シートを回転させて記録再生
を行い、しかも磁気シートとヘッドとの接触を規制する
ための安定部材を設けた磁気シート装置に用いられ、デ
ィスク状の基板両面上に、磁性粒子とバインダーとを含
有する磁性層を塗設した磁気シートにおいて、 少なくとも表面が炭化鉄である粒子を磁性粒子として含
有することを特徴とする磁気シートである。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成を図面を参照しつつ詳細に説
明する。 ７ｊＦＪ２図は、本発明の磁気シート１およびそのジャ
ケットを示したものである。 第２図に示すように、ジャケット筐体２内には円盤状の
磁気シートｌが回転自在に収納されており、このシート
上には、例えば静止画像情報等の映像信号が複数の環状
トラックを形成するように磁気記録されるようになって
いる。 このジャケット筺体２の一部には、窓部２５が開口され
ており、上記磁気シート１の一部が外部に露呈するよう
になっている。 この窓部２５内には、第１図に示すように、ヘッド３が
挿入され、この磁気ヘッドにより磁気シート１上に複数
の映像信号が磁気記録されるようになっている。　なお
、第１図では、筺体２は省略している。 窓部２５内に挿入されたその磁気ヘッドが磁気シート１
の半径方向に磁気シート１の１回転ごとに移動し、その
磁気シート１上に所定間隔を置いて環状に映像信号を磁
気記録するようになっている。 なお、磁気シート１の回転中心部には、磁気シート装置
側のチャック４回転駆動軸が挿入される駆動孔２７を有
する。 本発明の磁気シート１は、ディスク状をなし、通常、基
板１０の両面に磁性層１１．１５を有し、ソリが生じな
いようにされている。 そして、磁性層１１．１５は、可どう性の基板１０の両
面上に形成される。 可どう性基板１０の材質について、特に制限はないが、
ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレン
２．６−ナフタレート、ボリアリレート、ポリサルホン
、ポリカーボネート、アラミド樹脂等の樹脂製のもので
あることが好ましく、通常は２軸延伸したポリエチレン
テレフタレートが用いられる。 この基板１０の厚みは通常３０〜３６μ０であり、より
好ましくは３２〜３４μｍである。 また、この基板１０の外径は通常４．６８〜４．７１ｃ
ｍである。 このような基板ｌＯの両面には磁性層１１゜１５が設層
されるが、磁性層１１．１５は、磁性粒子をバインダー
中に分散させた磁性塗料を基板１０上に塗布して形成さ
れる。 本発明で磁性層中に含有される磁性粒子全体の５重量％
以上１００ｆｉ量％未満、好ましくは５〜９５重量％、
特に５〜９０重量％は少なくとも表面が炭化鉄である粒
子（以丁、単に炭化鉄粒子という）で占められている。 このような磁性粒子中の炭化鉄粒子が５重量％未満とな
ると本発明の効果が実現せず、耐久性の向上や帯電防止
の効果が期待できないからである。　また、炭化鉄粒子
が全体の１００重量％を占めると、分散性や耐久性が低
下する。 このような炭化鉄粒子は、基板両面に設けられた一対の
磁性層それぞれに５重量％以上１００重ｐｔ％未満含有
されることが好ましい。 この場合、両磁性層の炭化鉄含存量は通常は同一とされ
るが、必要に応じ異なるものとしてもよい。 このような炭化鉄粒子は、通常鉄シアン化合物を硫酸塩
、亜硫酸塩あるいは硫化物と混合し、鉄製反応器中に入
れＣＯを導入しつつ加熱還元後冷却することによって得
られる。 また、　　ａ　−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ｇｏｅｔｈｉｔｅ）
　、β−ＦｅＯＯＨ−（八ｋａｇａｎｉＬｅ）　　、　
　ｙ　　−Ｆ　　ｅ　　ＯＯＨ（Ｌｅｐ　１ｄｏｃｒｏ
ｃ　ｉ　Ｌｅ）等のオキシ水酸化鉄やａ−Ｆｅ２０３　
、　ｙ−Ｆｅ２０：ｓ　。 Ｆｅ３０４　、ｙ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４　　（固溶
体）等の酸化鉄と、水系コロイド状カーボンブラック粒
子サスペンションのスラリー状混合物を水素還元、−酸
化炭素還元、または水素と一酸化炭素との混合ガス還元
によって６００℃、１０時間程度加熱して、調製しても
よい。 これ以外にも鉄シアン化合物としてターンブルー青、ベ
ルリンホワイト等のへキサシアノ鉄塩、貧血カリ、貧血
ソーダ、赤血カリ、赤血ソーダ等のフェロまたはフェリ
シアン化合物等を用い、添加物として硫酸カリ、硫酸ソ
ーダ、硫酸アンモニウム、硫酸鉄、硫酸水素ソーダ、硫
酸水素カリ等の硫酸塩、亜硫酸カリ、亜硫酸ソーダ、亜
硫酸アンモニウム、亜硫酸水素カリ等の亜硫酸塩、ある
いはチオ硫酸ソーダ、チオ硫酸カリ、硫化ソーダ、硫化
カリ、硫化鉄、ロダンソーダ、ロダンカリ、イソチオシ
アン酸ソーダ、イソチオシアン酸カリ等の硫化物を用い
ることができる。 これら加熱還元雰囲気に用いる気体はＣＯに限らず、Ｃ
Ｈ４、水性ガス、プロパン等の炭素含有還元性気体を用
いてもよい。 さらには、純鉄粒子を形成後、上記各種加熱還元処理を
行ってもよい。 なお・還元に際しては、加熱温度３００〜７００℃、加
熱時間３０分〜１０時間程度とすればよい。 生成すれる炭化鉄粒子としては、ＦｅＨＣにおいて、ｎ
≧２、特に２〜３のものである。 この場合、ｎは整数であって、化学量論組成となる必要
はないが、Ｆｅ２　Ｃ，Ｆｅ５　Ｃ２。 Ｆｅ５Ｃが主として生成される。 そして、本発明においては針状形態あるいは粒状形態の
いずれの形態の炭化鉄粒子を用いてもよいが、通常は針
状形態のものが好ましく、長径０．２〜２μＩ、針状比
３〜２０のものが好ましい。 このような炭化鉄は、通常、磁性粒子中にて均一な組成
をもつが１本発明においては少なくとも表面が炭化鉄で
ある粒子を用いればよく、場合によっては粒径方向に炭
素組成比が濃度勾配をもっている粒子であってもよい。 磁性層中に含有される磁性粒子として、上述したような
炭化鉄粒子の他に、金属磁性粒子あるいはコバルト被着
酸化鉄粒子さらにはγ−Ｆｅ２０３粒子、バリウムフェ
ライト粒子が含まれていてもよい。 本発明に用いる金属磁性粒子は、 １　　）ａ　−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ｇｏｅｔｈｉｔｅ）。 β−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ａｋａｇａｎｉｔｅ）、ｙ　−Ｆ
　ｅ　ＯＯＨ（ＬｅｐｉｄｏｃｒｏｃｉＬｅ）等のオキ
シ水酸化鉄や；ａ−Ｆｅ２０３　、　γ−Ｆｅ２　ｏ３
゜Ｆｅ３０４　、ｙ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４　　（固
溶体）等の酸化鉄や： Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｂｏ、Ａｇ等の金属の
１つまたは２つ以上がドープされ、その表面にアルミニ
ウム化合物またはケイ素化合物を吸着、被着したものを
、還元性ガス気流中で加熱還元して、鉄または鉄を主成
分とする磁性粉末を製造する方法、 ２）金属塩水溶液よりＮａＢＨ４により液相還元して作
製する方法。 ３）あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。 金属磁性粒子の組成としては、Ｆｅ、Ｃｏ。 Ｎｉの単体および、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ。 Ｎｉ、さらにはＺｎ、Ｃｕ、Ｚｒ、ＡＩ。 Ｔｉ、Ｂｉ、Ａｇ、Ｐｔ等を添加した金属が使用できる
。 また、これらの金属にＢ、Ｃ，Ｓｉ、Ｐ、Ｎなどの非金
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。 あるいは、Ｆｅ４Ｎ等、一部室化された金属磁性粒子で
あってもよい。 さらに、金属磁性粒子は、粒子表面に酸化被膜を有する
ものであってもよい。 このような酸化被膜をもつ金属磁性粒子を用いた磁気シ
ートは、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低下、
磁性層のサビの発生による特性劣化に有利であるが、磁
性層の電気抵抗が上昇し、使用時の帯電によるトラブル
を生じやすい。 金属磁性粒子は針状形態あるいは粒状形態のものが使用
されるが、磁気シートに使用する場合は針状形態のもの
が好ましい。 また、γ−Ｆｅ２０３粒子としては、α−Ｆ　ｅ　ＯＯ
Ｈ（ｇｏｅｔｈｉＬｅ）を４００℃以上で脱水してａ−
Ｆｅ２０３とし、Ｈ２ガス中で３５０℃以上で還元して
Ｆｅ３Ｏ４とし、さらに２５０℃以下で酸化して作製し
たものを用いればよい。 コバルト被着酸化鉄粒子としては、γ−Ｆ８２０３粒子
の表面から数１０λ以内のごく薄い層にＣｏ２＋を拡散
させたものを用いればよい。　バリウムフェライトの製
法としては、セラミック性、共沈−焼成法、水熱合成法
、フラックス法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プ
ラズマジェット法等があり１本発明ではいずれの方法を
用いてもよい。　これらの方法の詳細については小池Ｈ
康、久保修共著“セラミックス１８　（１９８３）　Ｎ
ｏ、　１０”などを参照することができる。 バリウムフェライトとしては、Ｂａ　Ｆ　ｅ　１２０１
９等の六方晶バリウムフェライトやバリウムフェライト
のＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｔｉ、Ｃｒ％Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ％Ｚ
ｒその他の金属で置換したもの等が揚げられる。 そして、磁性粒子と後述するバインダーとの混合比は重
量比で６／１〜１／１程度とする。 このような磁性粒子と後述するバインダーとを含有する
磁性層１１．１５の組成は１通常、同一組成のものが基
板ｌＯの両面に塗設されるが、必要に応じて、これら磁
性層１１と磁性層１５との組成を異なるものにしてもよ
い。 磁性層１１．１５に含有されるバインダーは、各種熱硬
化性バインダー、各種放射線硬化型バインダーが用いら
れる。 熱硬化性バインダーとして用いる熱硬化性樹脂または反
応型樹脂としては、塗布、乾燥後に加熱することにより
、縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとな
り、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化または溶融しないものが好ましい。 具体的には例えばフェノール樹脂、エボキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン
樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルム
アルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジオ
ール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物など
の架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビ
ニル−ビニルアルコール−酢酸ビニル、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３．０５８，８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物が好ましい。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で５０〜８０℃にて６〜１００時間加熱すれ
ばよい。 放射線硬化性バインダーの具体例としては、ラジカル重
合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を
熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である
。　その低放射線照射により架橋重合する不飽和二重結
合を有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上
にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水ある
いは脱アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温
し、０．５〜ｌｍｍＨｇの減圧下、縮合反応により得る
ことができる。　マレイン酸やフマル酸等の含有量は、
製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モ
ル％、好ましくは１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、例えばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ。 ＶＹＥＧＸ、　　ＶＥＲＲ％　ＶＹＥＳ、　　ＶＭＣＡ
。 ＶＡＧＨ等が挙げられ、このものにアクリル系二重結合
、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して
放射線感応変性を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１，２プロピレングリコール、
１２３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１゜
４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、１，４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をＳ
Ｏ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系ＦＭ　ｎＢポリビニルア
ルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホルマー
ル樹脂およびこれらの成分の共重合体で、これら樹脂中
に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート＋５２．１５４　、８２８　、１００＋、１００
４．１００７）　、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１　、
ＤＥＲ７３２、ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３：３１）、大日
本インキ製（エピクロン４００　、８００）、さらに上
記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ
樹脂（ＰＫＨＡ、ＰにＨＣ，ＰにＨＨ）、臭素化ビスフ
ェノールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本
インキ化学工業製（エピクロン１４５．１５２　、＋５
３．１１２０）等′があり、またこれらにカルボン酸基
を含有するものも含まれる。　これら樹脂中に含まれる
エポキシ基を利用して放射線感応変性を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐｖｐ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−
）ルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシ
アネート、１，４−キシレンジイソシアネート、１．５
−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．３
′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、
４．４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート
、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジ
ュールし、デスモジュールＮ等の丼８多価イソシアネー
トと、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、１．４−ブタンジオール、１．６−ヘキサンジオ
ール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチ
ルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツールの
様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽
和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエー
テル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタ
ム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ
ル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の
縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレポ
リマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結りまたはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射Ｉｌｌ感応性に変性することは非常に効果的である
。　また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有
するものも含む。 さらに、不飽和二重結合を打Ｔる長３ｎ脂肪酸のモノあ
るいはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活
性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結
合を有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋および重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水Ｗ＆基を有するプレポリ
マーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。 　Ｒ−１５ルボリマーにおいては分子末端が水酸基とな
っている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物１日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＃３００）等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート
、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴニスデルアクリレー
ト（アロニックスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５０
０，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマーに
ッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはεカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物。 式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ＝１．ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１．ａ＝６、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃ
という）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および下記
式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる
。 １）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２
０Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３　　ＣＣＨ
２ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝Ｃ）ＩＣＯ（ＯＣ３Ｈａ　）ｎ　
−０ＣＨ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ
） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） （特殊アクリレ−）Ｆ） （ｎ中１６）　　　　　　（特殊アクリレートＧ）８）
　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−ＣＯ
ＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル唆、　　　ｘ：多価アルコールＹ：多塩基
酸　　　　　（特殊アクリレートに）次に、放射線感応
性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、
８０’ｅ昇温後トリレンジイソシアネートの２−とドロ
キシエチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え
、さらにオクチル酸スズ０４０１２部、ハイドロキノン
０．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応
率が９０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０分を加
え希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤ　Ｉ　）の２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクト
の製法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つ目フラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し、
反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−Ｓ１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１．４分と共に５１
の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さらに
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％
以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃昇温後、ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸スズ
０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８
０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるまで
反応せしめる。 ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エホキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸１市５以下とな
るまで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹ｆｆ） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰにＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００ｉを３１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２とドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＣＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤ　Ｉ　）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウ
レタン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３
２．５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ
０．００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、Ｔ
ＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となる
ように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応
率９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＨＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
７部、オクチル酸スズ０゜００９部を反応缶にいれ、８
０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアベトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
イットレンジンＲ−１５２５０部、２ＨＥＭＡ３２．５
部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．０
０９部を反応缶にいれ％８０℃に加熱溶解後、ＴＤ１４
３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように
冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５
％以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ビリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。　このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま放射線架橋用樹脂として使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。 この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。　
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量％
の範囲が望ましい。 紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧１００〜７５０にＶ、好ましくはｔＳＯ〜３０
０にＶの放射線加速器を用い、吸収線量を０．５〜２０
メガラツドになるように照射するのが好都合である。 特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。 バインダーは、１種ないし２種以上の成分を硬化させた
ものであるが、硬化後のバインダーは、２０℃、１０Ｈ
ｚでの力学的損失係数ｔａｎδが０．０５以下のものが
好ましい。 この場合、力学的損失係数ｔａｎδは以下のようにして
測定される。 まず測定試料を作製する。 すなわち、バインダー組成どおりの成分を溶剤、例えば
メチルエチルケトン／トルエンで希釈したラッカー液を
調整する。　このラッカー液を、例えば離型紙上にバー
コータ等を用い、乾燥厚み３０〜４０μｍとなるように
塗布し乾燥する。 これを、用いる硬化法に従い、放射線や熱で硬化する。 得られたフィルムを粘弾性測定装置を用い、強制振動法
により加振周波数１０Ｈｚ（正弦波）、初期荷重０　、
２５　ｋｇ／　ｍｍ２にて、２０℃で測定する。 このようにして測定されたｔａｎδが０．０５をこえる
と、耐久性は臨界的に減少してしまう。 ｔａｎδは、０．０５以下において小さいほど耐久性は
向上する。 さらに、硬化後のバインダーは、４０℃、１０Ｈｚでの
貯蔵弾性率Ｅ′が１００　ｋｇ／　ｍｍ２以上であるこ
とが好ましい。 この場合、貯蔵弾性率Ｅ′は、　ｔａｎδと同様にして
以下のようにして測定される。 すなわち、前記と同様にして得られたフィルムを粘弾性
測定装置を用い１強制振動法により、加振周波数１０Ｈ
ｚ（正弦波）、初期荷重０　、２５　ｋ）（／　ｍｍ２
にて、４０℃で測定する。 このようにして測定されたＥ′が１００　ｋｇ／ｖＲｏ
！２以上となると、耐久性が臨界的に向上する。 このようなｔａ口δおよびＥ′を存するバインダー材質
は、熱硬化性バインダー、放射線硬化性バインダーであ
る。 磁性層１１．１５には、その多に必要に応じて各種研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、分散剤等を用途に合わせて使
用することが有効である。 研磨剤等の無機顔料としては、カーボンブラック、グラ
ファイト、５ｉ０２、ＴｉＯ２、Ａ１２０３１　Ｃｒ２
０３　、Ｓ　ｉ　０％　ＣａＯ１ＣａＣＯ３，酸化亜鉛
、ゲーサイト、ａＦｅ２０３、タルク、カオリン、Ｃａ
ＳＯ４、窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、Ｚ
ｎＳ等があり、中でもＣａＣＯ３やカオリンＺｎＯ。 ゲーサイト、ＺｎＳやカーボンが使用される。 このような研磨剤の使用量はバインダー１００重量部に
対して１０〜２００ｆｆｉ量部が適当である。　研磨剤
があまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえってドロ
ップアウトが多くなるという欠点がある。 潤滑剤としては（分散剤をも含めて）、カプリル酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミルスチン酸、バルミチン酸、
ステアリン酸、べへン酸、オレイン酸、エライジン酸、
リノール酸、リルン酸、ステアロール酸等の脂肪酸：　
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に等）またはアル
カリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）からなる金属石鹸
：　レシチン等が使用される。 この他に高級アルコール、およびこれらの硫酸エステル
、界面活性剤、チタンカップリング剤、シランカップリ
ング剤等も使用可能である。　これらの潤滑剤（分散剤
）はバインダー１００重量部に対して１〜２０ｆｆｉ量
部の範囲で添加される。 潤滑剤としては、上記の他にシリ、コンオイル、グラフ
ァイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、−塩
基性脂肪酸と一価のアルコールからなる脂肪酸エステル
類等が使用される。 これらのうちでは、融点が３０℃未満で、かつ一般式Ｒ
Ｉ　ＣＯＯＲ２で表される脂肪酸エステルであることが
好ましい。　そして、この単独ないし２種以上を必要に
応じ他の潤滑剤と組み合わせて用いる。 ここでＲ１は炭素数１０〜２２、より好ましくは１２〜
１８のアルキル基である。 またＲ２は炭素数３〜１８、より好ましくは４〜１６の
アルキル基である。 このような化合物としては、例えばラウリン酸ブチル、
ラウリン酸ドデシル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン
酸オクチル、ミリスチン酸イソオクチル、ミリスチン酸
イソセチル、バルミチン酸ブチル、バルミチン酸オクチ
ル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ス
テアリン酸イソセチル等がある。 このＲ１の炭素数が１０以上の時またはＲ２の炭素数が
３以上の時はシートが高速で回転する際の潤滑剤の飛散
が防止され、長時間の潤滑効果を維持する。 融点が３０℃以上、あるいはＲ１の炭素数が２２または
、Ｒ２の炭素数が１８以下となると潤滑剤がヘッドや安
定部材に付着し、潤滑効果が急速に低下するという不都
合が防止される。 そして、このような潤滑剤を磁気シート１の表面に存在
させるには以下の方法等がある。 すなわち、通常は、前記バインダー中に磁性粉と潤滑剤
を分散混合したものを基板に塗布すればよい。 また、あらかじめ基板上に塗布されたバインダーと磁性
粉とを含有する磁性層上に、潤滑剤のみを塗布または蒸
着などによってトップコートとして被着させてもよい。 この場合、潤滑剤は必要に応じて、磁性層上の全面にあ
るいは部分的に点在させるように被着させてもよい。 さらには、磁性層中に添加するとともに、トップコート
として設けてもよい。 このような場合、潤滑剤の添加量は、バインダー１００
重量部あたり０．２〜ｚｏｒｉ量部程度である。 また、その他の添加剤としては、この種の磁性層に用い
るものは何でも用いることができるが、例えば、帯電防
止剤としてサポニンなどの天然界面活性剤；　アルキレ
ンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系などの
ノニオン界面活性剤；　高級アルキルアミン類、第４級
アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、ホスホ
ニルまたはスルホニル類などのカチオン界面活性剤：　
カルボン酸、スルホン酸、リン酸、硫酸エステル基、リ
ン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤：
　アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコール
の硫酸またはリン酸エステル類等の両性活性剤などが使
用される。 このような磁性層１１．１５の厚さは１〜５μｍ、より
好ましくは２〜４μｍ程度とされる。 また、このような磁気シート１の厚さは、良好なヘッド
当りを得るために、３８μｍ〜４２μｍの範囲内が好ま
しいとされている。 ■　発明の具体的作用 本発明の磁気シート１は、第１図に示されるように、磁
気シート装置のチャック４に装着され、３０００〜３６
ｏｏｒｐｆｆｉにて回転サセラレながら、記録再生され
る。 この際、磁気ヘッド３が突出し、磁気シート１を押圧し
、他方、磁気シート１の他面側には安定部材５が設置さ
れ、磁気シート１と磁気ヘッド３の接触を規制する。 こめ場合、磁気ヘッド３の位置は基準面に対しＯ−０２
〜０．２０ｍｍ程度とされる。 また、安定部材５は、磁気シートから−０゜１〜＋０．
１ｍｍ程度の位置に配置される。 また、安定面としての凹部５１の曲率生形は５〜２０■
程度、凹部５１の幅は５〜２０ａｍ程度とする。 ■　発明の具体的効果 本発明によれば、ジャケット筐体内に収納されている回
転可能な磁気シートは、その両面にそれぞれ塗設された
磁性層中に、少なくとも表面が炭化鉄である磁性粒子を
含有している。 そのため、耐久性および帯電防止効果が格段と優れ、し
かも磁気特性の良好な磁気シートが得られる。 ■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 ［実施例１］ まず、磁性塗料を調整した。 組成は下記のとおりである。 磁性粉（表１）　　　　　　　３００重量部アクリル二
重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体（マレイン酸含有：ＭＷ＝４００００） １８０重量部 アクリル二重結合導入ポリエステルウレタンエラストマ
ー（ＭＷ＝３００００） ６０重量部 アクリル二重結合導入ポリエステルウレタンエラストマ
ー（ＭＷ＝５０００） １５重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート４５ｊ！量部 α−Ａｉ２ｏ３　　　　　　　　　６重量部溶剤（ＭＥ
に／トルエン＝５０１５０）７００重量部 ステアリンｍ　　　　　　　　　４重量部ステアリン酸
イソセチル　　　　２重、皿部を混合し、ボールミル中
にこれら混合物を投入し、４５時間混合分散させた。 ただし、上記磁性粒子は、下記表１に示されるように、
少なくとも表面がＦｅＨＣである粒子（以下Ｆｅ１Ｃ粒
子とする）とＦｅ合金強磁性針状磁性粒子（長軸０．３
μｍ、短軸０．０４μｔｍ、Ｈｃ＝１５００　０ｅ）あ
るいはＣ０被着酸化鉄粒子（以下Ｃｏ−ｙＦｅ２０３粒
子、長袖０．３μｔｎ、短軸０．０４．ｕｓ％Ｈｃ＝６
００　０ｅ）との混合割合をかえた混合物である。 なお、この場合、磁性粒子１００重量部として表示して
いる。 ここで、針状Ｆｅ３０粒子は、針状α−Ｆｅ００Ｈ９０
重量部と、平均粒子径３０１１μのカーボンブラック水
系サスペンション（カーボン固形分１０重量部）をスラ
リー状に混練し、親水乾燥後、粉砕し、これを電気炉に
て、ＣＯとＨ２の混合ガス（混合比率１：１）雰囲気中
で、６００℃、５時間加熱して得られたものである。 得られたものは長軸０．２μｍ、短軸０．０２５μｍで
あり、Ｘ線回折によりＦｅ５ＣとＦｅの混晶であること
が確認された。　このものは、保磁力Ｈｃ＝９００〜９
１０　０ｅ、飽和磁化ａｓ＝８２　ｅ、ｒｘｕ／ｇの粒
子である。 このようにして得られた磁性塗料を、厚み３４μｍのポ
リエステルベースフィルム上の両面にグラビアコートを
行い、熱風により溶剤を乾燥させた。　しかるのち、カ
レンダーロールにより表面平滑化処理を行い、電子線（
５Ｍｒａｄ）による硬化を行った。 このようにして得られたシートを、直径４７ｍｏｌの円
形に打抜き、ディスクを作成したくサンプルＮｏ、１０
１〜１０７）。 なお、乾燥後の磁性層の厚さは、それぞれ３μ麿とした
。 ［実施例２］ 実施例１で用いた放射線硬化型のバインダー組成を 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
ＭＷ＝３５０００） １２０重量部 ポリエステルウレタンエラストマー （ＭＷ＝３００００） １２０重１部 ポリイソシアネート（ＭＷ＝７００） ６０重量部 にかえて、さらに溶剤を２００ｆｉ量部とし、塗設後の
塗膜を電子線を用いず６０”Ｃ２４時間で硬化させた以
外は実施例１の場合と同様にした。 このようにして得られたシートを、直径４７Ｉ！Ｉ１１
の円形に打抜き、ディスクを作製した（サンプルＮｏ、
２０１〜２０５）。 これら各ディスクについて下記の特性を評価した。 （１）耐久性 耐久性評価は、５０トラツク中の２５トラツクにおける
最適当り状態での７　ＭＨｚ再生出力変動を測定し、出
力が一３ｄＢとなった時間を耐久時間とした。 ヘッドは幅２ｍｍ、厚さ１２０μｍ１ギヤツプ０．３μ
ｍのフェライト製とし、再生時に基準面から０．０２〜
０．１ｍｍの範囲で突出させた。 シート回転数は３６００　ｒｐｍ　、安定部材はシート
から０．０１１１１＋１Ｌ／て配置し、凹部曲率半径１
０＋＋＋ｍ、凹部幅１０ｍｍとした。 （２）表面電気抵抗（Ω） サンプル巾１００ｍｍ、長さ１００１の大きさに切断し
、超絶線抵抗器により、主電極外径５０ｍｍ、ガード電
極外径８０　ａｍ、内径７０ｍｍの測定部に、温度２０
±２℃、相対湿度６５±５％の大気中で直流５ｏｏｖの
印加電圧により測定した。 表面電気抵抗Ｒ（Ω）は次式により算出する。 〔Ｅ：電圧（Ｖ）　　Ｉ：電流（Ａ））表２に示す結果
から本発明の効果があきらかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いる磁気シート装置を説明するた
めの一部を断面にて示す正面図である。 第２図は、本発明の磁気シートを示す正面図である。 符号の説明 １・−磁気シート、１〇一基板、 １１．１５−磁性層、 ３−磁気ヘッド、 ５−安定部材 出願人　　ティーディーケイ株式会社 ＦＩ０．１ ＦＩＧ、２

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気シートを回転させて記録再生を行い、しかも
   磁気シートとヘッドとの接触を規制するための安定部材
   を設けた磁気シート装置に用いられ、ディスク状の基板
   両面上に、磁性粒子とバインダーとを含有する磁性層を
   塗設した磁気シートにおいて、 少なくとも表面が炭化鉄である粒子を磁性粒子として含
   有することを特徴とする磁気シート。
2. （２）磁性層中に含有される磁性粒子全体の５重量％以
   上が少なくとも表面が炭化鉄である粒子である特許請求
   の範囲第１項に記載の磁気シート。