JPH05234871A - フォトレジストの塗布装置 - Google Patents
フォトレジストの塗布装置Info
- Publication number
- JPH05234871A JPH05234871A JP4033572A JP3357292A JPH05234871A JP H05234871 A JPH05234871 A JP H05234871A JP 4033572 A JP4033572 A JP 4033572A JP 3357292 A JP3357292 A JP 3357292A JP H05234871 A JPH05234871 A JP H05234871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- substrate
- roll coater
- solvent
- roll
- Prior art date
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- Granted
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ロールコータで基板にフォトレジストを塗布
したときに発生する気泡が、はじけてクレータ状になり
膜厚の不均一な面が作られるのを防ぐ。 【構成】 ロールコータ（６）で塗布された基板を、フ
ォトレジストの溶剤を気化した雰囲気を作る装置を通過
させることで、塗布したときに発生する気泡が、はじけ
てクレータ状になり膜厚の不均一な面がつくられるのを
防ぐ。
したときに発生する気泡が、はじけてクレータ状になり
膜厚の不均一な面が作られるのを防ぐ。 【構成】 ロールコータ（６）で塗布された基板を、フ
ォトレジストの溶剤を気化した雰囲気を作る装置を通過
させることで、塗布したときに発生する気泡が、はじけ
てクレータ状になり膜厚の不均一な面がつくられるのを
防ぐ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板にフォトレジスト
を塗布する装置に関し、特に基板面のフォトレジスト表
面を均一化するための装置に関する。
を塗布する装置に関し、特に基板面のフォトレジスト表
面を均一化するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の塗布装置は、図５に示すように，
ロールコータ６と乾燥炉１２を有する。ロールコータ６
はフォトレジスト滴下ノズル７、コーティングロール
９、バックアップロール１０及びドクターロール８から
構成され、ロールコータに使用するコーティングロール
９は、その表面に適量のフォトレジストを保持させる目
的で、ロール表面に多数の周方向の細溝を刻んだものが
適用されている。このロールコータ６でフォトレジスト
を塗布された基板１は、大気中を通過し、乾燥炉１２に
入り、定められた温度に保持されたオーブンプレート１
３上に定められた時間放置され乾燥する。
ロールコータ６と乾燥炉１２を有する。ロールコータ６
はフォトレジスト滴下ノズル７、コーティングロール
９、バックアップロール１０及びドクターロール８から
構成され、ロールコータに使用するコーティングロール
９は、その表面に適量のフォトレジストを保持させる目
的で、ロール表面に多数の周方向の細溝を刻んだものが
適用されている。このロールコータ６でフォトレジスト
を塗布された基板１は、大気中を通過し、乾燥炉１２に
入り、定められた温度に保持されたオーブンプレート１
３上に定められた時間放置され乾燥する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の塗布装置では、ロールコータのコーティングロール
にフォトレジストを保持させる際、コーティングロール
に刻んである細溝に、フォトレジスト粉や装置より発生
する塵などがはさまると、そのフォトレジスト粉や、装
置より発生する塵の周辺は、フォトレジストをはじいて
しまう。図３に示すように、その状態で基板に塗布する
と、塗布された基板表面の塗布面に気泡１９が発生す
る。この気泡１９は、塗布後フォトレジスト内の溶剤の
気化によりはじけて、周囲のフォトレジストとなじみ均
一にレベリングされるものと、図４に示すように、クレ
ータ状になったまま乾燥されるものとがある。このクレ
ータ状になったフォトレジスト２０は、周囲とはフォト
レジスト膜厚が薄くなり、所要のパターンを焼付け、エ
ッチング処理しても、そのクレータ状のフォトレジスト
２０の部分のみ所要のパターンを形成されないという問
題点があった。
来の塗布装置では、ロールコータのコーティングロール
にフォトレジストを保持させる際、コーティングロール
に刻んである細溝に、フォトレジスト粉や装置より発生
する塵などがはさまると、そのフォトレジスト粉や、装
置より発生する塵の周辺は、フォトレジストをはじいて
しまう。図３に示すように、その状態で基板に塗布する
と、塗布された基板表面の塗布面に気泡１９が発生す
る。この気泡１９は、塗布後フォトレジスト内の溶剤の
気化によりはじけて、周囲のフォトレジストとなじみ均
一にレベリングされるものと、図４に示すように、クレ
ータ状になったまま乾燥されるものとがある。このクレ
ータ状になったフォトレジスト２０は、周囲とはフォト
レジスト膜厚が薄くなり、所要のパターンを焼付け、エ
ッチング処理しても、そのクレータ状のフォトレジスト
２０の部分のみ所要のパターンを形成されないという問
題点があった。
【０００４】そこで、本発明の技術的課題は、上記欠点
に鑑み、膜厚の均一なフォトレジストを塗布する装置を
提供することである。
に鑑み、膜厚の均一なフォトレジストを塗布する装置を
提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の塗布装置は、ロ
ールコータでフォトレジストを塗布した基板を乾燥炉に
入る前に、フォトレジストの溶剤が気化した雰囲気中を
通過するように、ロールコータと乾燥炉の間に、フォト
レジストの溶剤を気化した雰囲気を作る装置を備えてい
る。
ールコータでフォトレジストを塗布した基板を乾燥炉に
入る前に、フォトレジストの溶剤が気化した雰囲気中を
通過するように、ロールコータと乾燥炉の間に、フォト
レジストの溶剤を気化した雰囲気を作る装置を備えてい
る。
【０００６】
【作用】ロールコータで塗布された基板表面に発生した
気泡は、このフォトレジストの溶剤を気化した雰囲気を
作る装置を通過することで、表面の乾燥が遅れることに
より、クレータ状になったまま乾燥炉に入ることなく、
周囲のフォトレジストと均一にレベリングされ均一な塗
布表面となる。
気泡は、このフォトレジストの溶剤を気化した雰囲気を
作る装置を通過することで、表面の乾燥が遅れることに
より、クレータ状になったまま乾燥炉に入ることなく、
周囲のフォトレジストと均一にレベリングされ均一な塗
布表面となる。
【０００７】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
【０００８】図１は、本発明を実施するための塗布装置
の実施例を示す正面断面図である。
の実施例を示す正面断面図である。
【０００９】ロールコータ６でフォトレジストを塗布さ
れた基板１は、フォトレジストの溶剤２の入ったビンよ
りポンプ３で適量をノズル５から受皿４に滴下し、滴下
したフォトレジストの溶剤２が気化したフォトレジスト
溶剤１４となった雰囲気の装置内を搬送アーム１１上を
移動し、乾燥炉１２に入り乾燥する。
れた基板１は、フォトレジストの溶剤２の入ったビンよ
りポンプ３で適量をノズル５から受皿４に滴下し、滴下
したフォトレジストの溶剤２が気化したフォトレジスト
溶剤１４となった雰囲気の装置内を搬送アーム１１上を
移動し、乾燥炉１２に入り乾燥する。
【００１０】図２は、本発明を実施するための第２の塗
布装置の実施例のうちフォトレジストの溶剤を気化した
雰囲気を作る機構を備えた装置のみを示した正面図であ
る。メインＮ2 配管１５よりＮ2 ガス１６をフォトレジ
ストの溶剤の入った槽に送り込み、Ｎ2 ガス１６で気化
したフォトレジストの溶剤１４を移送し、フォトレジス
トを塗布された基板１の上に噴霧する。
布装置の実施例のうちフォトレジストの溶剤を気化した
雰囲気を作る機構を備えた装置のみを示した正面図であ
る。メインＮ2 配管１５よりＮ2 ガス１６をフォトレジ
ストの溶剤の入った槽に送り込み、Ｎ2 ガス１６で気化
したフォトレジストの溶剤１４を移送し、フォトレジス
トを塗布された基板１の上に噴霧する。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ロールコ
ータでフォトレジストを基板に塗布した際発生する気泡
を、フォトレジストの溶剤を気化した雰囲気の装置内を
通過させることで表面の乾燥が遅れる。従ってクレータ
状に残る気泡が基板の１cm2 当りの発生数が平均１個か
ら０個へ低減することで、周囲のフォトレジストと均一
にレベリングされ均一な塗布表面となる。従って、所要
のパターンをその基板に焼付け、エッチング処理しても
パターンの欠けることなく所要のパターンを得ることが
できる。
ータでフォトレジストを基板に塗布した際発生する気泡
を、フォトレジストの溶剤を気化した雰囲気の装置内を
通過させることで表面の乾燥が遅れる。従ってクレータ
状に残る気泡が基板の１cm2 当りの発生数が平均１個か
ら０個へ低減することで、周囲のフォトレジストと均一
にレベリングされ均一な塗布表面となる。従って、所要
のパターンをその基板に焼付け、エッチング処理しても
パターンの欠けることなく所要のパターンを得ることが
できる。
【図１】本発明による塗布装置の正面断面図。
【図２】本発明による塗布装置の第２の実施例の正面断
面図。
面図。
【図３】フォトレジスト塗布直後の模式図。
【図４】従来の塗布装置でフォトレジスト塗布し乾燥し
た結果を示す模式図。
た結果を示す模式図。
【図５】従来の塗布装置の正面断面図。
１ 基板 ２ フォトレジストの溶剤 ３ ポンプ ４ 受皿 ５ ノズル ６ ロールコータ ７ レジスト滴下ノズル ８ ドクターロール ９ コーティングロール １０ バックアップロール １１ 搬送アーム １２ 乾燥炉 １３ オーブンプレート １４ 気化したフォトレジスト溶剤 １５ メインＮ2 配管 １６ Ｎ2 ガス １７ 噴霧用ノズル １８ フォトレジスト １９ 気泡 ２０ クレータ状になったフォトレジスト
Claims (1)
- 【請求項１】 基板の表面にフォトレジストを塗布する
ロールコータと、該ロールコータにより塗布された前記
基板を乾燥する乾燥炉と、前記ロールコータと前記乾燥
炉との間に設けられたフォトレジストの溶剤の気化した
雰囲気を作る手段とを備えたことを特徴とするフォトレ
ジストの塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4033572A JP2793412B2 (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | フォトレジストの塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4033572A JP2793412B2 (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | フォトレジストの塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05234871A true JPH05234871A (ja) | 1993-09-10 |
| JP2793412B2 JP2793412B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=12390258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4033572A Expired - Fee Related JP2793412B2 (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | フォトレジストの塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2793412B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960035769A (ko) * | 1995-03-30 | 1996-10-24 | 김광호 | 포토레지스터 및 포토레지스터 도포장치 |
| CN114985155A (zh) * | 2022-06-02 | 2022-09-02 | 绍兴市嘉诚感光材料有限公司 | 一种pcb光刻胶喷涂设备及光刻胶喷涂方法 |
-
1992
- 1992-02-20 JP JP4033572A patent/JP2793412B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960035769A (ko) * | 1995-03-30 | 1996-10-24 | 김광호 | 포토레지스터 및 포토레지스터 도포장치 |
| CN114985155A (zh) * | 2022-06-02 | 2022-09-02 | 绍兴市嘉诚感光材料有限公司 | 一种pcb光刻胶喷涂设备及光刻胶喷涂方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2793412B2 (ja) | 1998-09-03 |
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