JPH05239213A - ポリ(アルキル−p−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物 - Google Patents
ポリ(アルキル−p−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶媒に可溶な高分子量の前駆体であり、かつ
温和な条件下で、諸特性に優れたポリアリーレンチオエ
ーテルに変換することができるポリ(アルキル−P−チ
オフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物を提供す
る。 【構成】 下記一般式(1) (但し、R1 〜R8 は同一ま
たは異なる水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基を
表わす。R9 はアルキル基を表わす。Xは求核性の弱い
アニオンを表わす。nは重合度をわす。)で表わされる
ポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホニ
ウム塩)化合物。 【化1】
温和な条件下で、諸特性に優れたポリアリーレンチオエ
ーテルに変換することができるポリ(アルキル−P−チ
オフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物を提供す
る。 【構成】 下記一般式(1) (但し、R1 〜R8 は同一ま
たは異なる水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基を
表わす。R9 はアルキル基を表わす。Xは求核性の弱い
アニオンを表わす。nは重合度をわす。)で表わされる
ポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホニ
ウム塩)化合物。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリ(アルキル−P−
チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物に関す
る。更に詳しくは、本発明は直鎖状で高分子量のポリア
リーレンチオエーテルの合成において、溶媒に可溶性の
有用な高分子前駆体となる新規なポリ(アルキル−P−
チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物に関す
るものである。
チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物に関す
る。更に詳しくは、本発明は直鎖状で高分子量のポリア
リーレンチオエーテルの合成において、溶媒に可溶性の
有用な高分子前駆体となる新規なポリ(アルキル−P−
チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ポリフェニレンチオエーテル等の
ポリアリーレンチオエーテルは、ジハロゲン芳香族化合
物をアルカリ金属硫化物と極性溶媒中で高温高圧下で縮
重合反応させることにより製造されている。しかしなが
ら、この方法は、重合中、アルカリ硫化物の求核反応
によりチオエーテル結合の分解が生起し、生成重合体の
分子量が低くなること、アルカリ金属イオンがポリア
リーレンチオエーテル中に取り込まれて重合体の電気特
性を悪化させること、縮重合反応を高温高圧下で行な
う必要があり、消費エネルギーが大きくコスト高になる
こと、等の問題を有するものである。
ポリアリーレンチオエーテルは、ジハロゲン芳香族化合
物をアルカリ金属硫化物と極性溶媒中で高温高圧下で縮
重合反応させることにより製造されている。しかしなが
ら、この方法は、重合中、アルカリ硫化物の求核反応
によりチオエーテル結合の分解が生起し、生成重合体の
分子量が低くなること、アルカリ金属イオンがポリア
リーレンチオエーテル中に取り込まれて重合体の電気特
性を悪化させること、縮重合反応を高温高圧下で行な
う必要があり、消費エネルギーが大きくコスト高になる
こと、等の問題を有するものである。
【0003】また、ポリアリーレンチオエーテルの合成
法として、硫酸を重合触媒とする方法が知られている
が、副生物が多く、かつ架橋したポリマーも大量に生成
するなどの欠点を有する。
法として、硫酸を重合触媒とする方法が知られている
が、副生物が多く、かつ架橋したポリマーも大量に生成
するなどの欠点を有する。
【0004】更に、ポリアリーレンチオエーテルの合成
法として、フリーデルクラフツ反応を応用した方法も報
告されているが、温和な条件で反応を行なうことができ
る反面、重合生成物が溶媒中に析出して重合反応が停止
する。このため、生成するポリアリーレンチオエーテル
は低重合度体(低分子量体)に留まるという欠点を有す
る。
法として、フリーデルクラフツ反応を応用した方法も報
告されているが、温和な条件で反応を行なうことができ
る反面、重合生成物が溶媒中に析出して重合反応が停止
する。このため、生成するポリアリーレンチオエーテル
は低重合度体(低分子量体)に留まるという欠点を有す
る。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は、前記した
従来技術の欠点を解消するべく案出されたものである。
特に、本発明は、分子量が高いため電気的特性、機械的
特性、化学的特性などに優れるとともに、架橋成分が少
なく実質的に直鎖状のポリアリーレンチオエーテルを製
造するために、溶媒に可溶性の高分子量体の前駆体(プ
レカーサー)を経由して製造するという新しいアプロー
チを採用するものである。そして、本発明は、該前駆体
(プレカーサー)として新規なポリ(アルキル−P−チ
オフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物を提供す
ることを目的とするものである。
従来技術の欠点を解消するべく案出されたものである。
特に、本発明は、分子量が高いため電気的特性、機械的
特性、化学的特性などに優れるとともに、架橋成分が少
なく実質的に直鎖状のポリアリーレンチオエーテルを製
造するために、溶媒に可溶性の高分子量体の前駆体(プ
レカーサー)を経由して製造するという新しいアプロー
チを採用するものである。そして、本発明は、該前駆体
(プレカーサー)として新規なポリ(アルキル−P−チ
オフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物を提供す
ることを目的とするものである。
【0006】
【問題点を解決するための手段】本発明を概説すれば、
本発明は、電気的特性などに優れるとともに実質的に直
鎖状で高分子量のポリアリーレンチオエーテルを製造す
るための前駆体として有用な下記一般式(1)で表わさ
れるポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスル
ホニウム塩)化合物に関するものである。 一般式(1)
本発明は、電気的特性などに優れるとともに実質的に直
鎖状で高分子量のポリアリーレンチオエーテルを製造す
るための前駆体として有用な下記一般式(1)で表わさ
れるポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスル
ホニウム塩)化合物に関するものである。 一般式(1)
【0007】
【化2】
【0008】前記一般式(1)において、R1 〜R
8 は、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基を表わ
し、これらは互いに同じ種類であっても異なった種類の
ものであってもよい。R9 は、アルキル基を表わす。X
は、ClO4 -1、BF4 -1などの求核性の弱いアニオン
を表わす。nは、重合度を表わす。
8 は、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基を表わ
し、これらは互いに同じ種類であっても異なった種類の
ものであってもよい。R9 は、アルキル基を表わす。X
は、ClO4 -1、BF4 -1などの求核性の弱いアニオン
を表わす。nは、重合度を表わす。
【0009】以下、本発明の技術的構成を詳しく説明す
る。本発明は、出発物質として同一分子内に電子供与性
のアルキル置換基とスルホキシド基をもつ芳香族化合物
が、酸の存在下で前記一般式(1)で表わされる水溶性
の高分子量前駆体を生成すること、そして該前駆体を求
核試薬や還元剤を用いて脱アルキル化を行なうことによ
り目的とする高分子量のポリアリーレンチオエーテルが
得られるという知見に基づくものであり。なお、この反
応条件は極めて温和なものであり、これにより従来には
みられない特性に優れるとともに、高分子量で直鎖状の
(架橋ポリマーの生成が少ない)ポリアリーレンチオエ
ーテルが容易に製造することができる。
る。本発明は、出発物質として同一分子内に電子供与性
のアルキル置換基とスルホキシド基をもつ芳香族化合物
が、酸の存在下で前記一般式(1)で表わされる水溶性
の高分子量前駆体を生成すること、そして該前駆体を求
核試薬や還元剤を用いて脱アルキル化を行なうことによ
り目的とする高分子量のポリアリーレンチオエーテルが
得られるという知見に基づくものであり。なお、この反
応条件は極めて温和なものであり、これにより従来には
みられない特性に優れるとともに、高分子量で直鎖状の
(架橋ポリマーの生成が少ない)ポリアリーレンチオエ
ーテルが容易に製造することができる。
【0010】本発明において、前記一般式(1)で示さ
れるポリアリーレンスルホニウム塩化合物は下記一般式
(2)で示される芳香族炭化水素化合物を酸の存在下に
反応させることにより容易に合成される。 一般式(2)
れるポリアリーレンスルホニウム塩化合物は下記一般式
(2)で示される芳香族炭化水素化合物を酸の存在下に
反応させることにより容易に合成される。 一般式(2)
【0011】
【化3】
【0012】前記一般式(2)において、R1 〜R8 ,
R9 は一般式(1)と同じである。前記一般式(1)〜
(2)中のR1 〜R9 について、更に詳しく説明すると
以下の通りである。すなわち、前記R1 〜R8 のそれぞ
れの具体例を例示すると、例えば、水素原子;メチル
基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、ブチ
ル基、1−メチルプロピル基、2−メチルプロピル基、
1,1−ジメチルエチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基などの低級アルキル基;フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキト基、
エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert−ブトキ
シ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、などのア
ルコキシ基を挙げることができる。これらの中でも、メ
チル基、エチル基などの低級なアルキル基、メトキシ
基、エトキシ基などの低級アルコキシキ基が好ましく、
特に水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基などが
好ましい。また前記R9 はメチル、エチル、プロピル基
などのアルキル基であり、メチル基、エチル基などが好
ましい。
R9 は一般式(1)と同じである。前記一般式(1)〜
(2)中のR1 〜R9 について、更に詳しく説明すると
以下の通りである。すなわち、前記R1 〜R8 のそれぞ
れの具体例を例示すると、例えば、水素原子;メチル
基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、ブチ
ル基、1−メチルプロピル基、2−メチルプロピル基、
1,1−ジメチルエチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基などの低級アルキル基;フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキト基、
エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert−ブトキ
シ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、などのア
ルコキシ基を挙げることができる。これらの中でも、メ
チル基、エチル基などの低級なアルキル基、メトキシ
基、エトキシ基などの低級アルコキシキ基が好ましく、
特に水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基などが
好ましい。また前記R9 はメチル、エチル、プロピル基
などのアルキル基であり、メチル基、エチル基などが好
ましい。
【0013】前記一般式(2)で表わされる芳香族炭化
水素化合物、即ちアリールスルフィニル化合物の具体例
を示すと、以下の通りである。2-メチル-4- メチルスル
フィニルチオフェノキシベンゼン、3-メチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3-ジメチル-4
- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,5-ジ
メチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,6-ジメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、3,5-ジメチル-4- メチルスルフィニルチオ
フェノキシベンゼン、2,2'- ジメチル-4- メチルスルフ
ィニルチオフェノキシベンゼン、2,3'- ジメチル-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジメ
チル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、
2,3,5-トリメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、2,3,6-トリメチル-4- メチルスルフィニル
チオフェノキシベンゼン、2,2'3-トリメチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'5-トリメチ
ル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,
2',6- トリメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、2,3',3- トリメチル-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,3',5- トリメチル-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3',6- ト
リメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,3',5- トリメチル-4- メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン、2,3,5,6-テトラメチル-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',3,3'-テトラ
メチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,2',3,5'-テトラメチル-4- メチルスルフィニルチ
オフェノキシベンゼン、2,3,3',5'-テトラメチル-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',5,5'-
テトラメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベ
ンゼン、2,2',5,6'-テトラメチル-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,3',5,5'-テトラメチル-4
- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3',5
',6-テトラメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、2,2',3,5- テトラメチル-4-メチルスルフ
ィニルチオフェノキシベンゼン、2,3,3',5- テトラメチ
ル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,
2',3,6- テトラメチル-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,3,3',6- テトラメチル-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',3,3'5- ペン
タメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,2',3,5,5'-ペンタメチル-4- メチルスルフィニル
チオフェノキシベンゼン、2,2',3,5,6'-ペンタメチル-4
- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3,3
',5,5'-ペンタメチル-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,2',3,3',6-ペンタメチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',3,5',6'-
ペンタメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベ
ンゼン、2,2',3,6,6'-ペンタメチル-4- メチルスルフィ
ニルチオフェノキシベンゼン、2,3,3',5',6-ペンタメチ
ル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,
2',3,3',5,5'- ヘキサメチル-4- メチルスルフィニルチ
オフェノキシベンゼン、2,2',3,3',5,6'- ヘキサメチル
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'
3,3',5,5',6-ヘプタメチル-4- メチルスルフィニルチオ
フェノキシベンゼン、2,2',3,3',5,6,6'- ヘプタメチル
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',3,3',5,5'6,6'- オクタメチル-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,2'- ジエチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジエチル
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',5,5'-テトラエチル-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラエチル-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'- ジフルオロ
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'
- ジクロロ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベン
ゼン、2,2'- ジブロモ-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,2'- ジヨード-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,2',5,5'-テトラフルオロ
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',5,5'-テトラクロロ-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,2',5,5'-テトラブロモ-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジメトキシ
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',5,5'-テトラメトキシ-4- メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラメトキシ-4- メチ
ルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジエト
キシ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、
2,2',5,5'-テトラエトキシ-4- メチルスルフィニルチオ
フェノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラエトキシ-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジプ
ロポキシ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,2',5,5'-テトラプロポキシ-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラプロポキ
シ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,
3'- ジブトキシ-4-メチルスルフィニルチオフェノキシ
ベンゼンなどのアリールスルフィニル類が例示される。
水素化合物、即ちアリールスルフィニル化合物の具体例
を示すと、以下の通りである。2-メチル-4- メチルスル
フィニルチオフェノキシベンゼン、3-メチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3-ジメチル-4
- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,5-ジ
メチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,6-ジメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、3,5-ジメチル-4- メチルスルフィニルチオ
フェノキシベンゼン、2,2'- ジメチル-4- メチルスルフ
ィニルチオフェノキシベンゼン、2,3'- ジメチル-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジメ
チル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、
2,3,5-トリメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、2,3,6-トリメチル-4- メチルスルフィニル
チオフェノキシベンゼン、2,2'3-トリメチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'5-トリメチ
ル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,
2',6- トリメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、2,3',3- トリメチル-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,3',5- トリメチル-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3',6- ト
リメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,3',5- トリメチル-4- メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン、2,3,5,6-テトラメチル-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',3,3'-テトラ
メチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,2',3,5'-テトラメチル-4- メチルスルフィニルチ
オフェノキシベンゼン、2,3,3',5'-テトラメチル-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',5,5'-
テトラメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベ
ンゼン、2,2',5,6'-テトラメチル-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,3',5,5'-テトラメチル-4
- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3',5
',6-テトラメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキ
シベンゼン、2,2',3,5- テトラメチル-4-メチルスルフ
ィニルチオフェノキシベンゼン、2,3,3',5- テトラメチ
ル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,
2',3,6- テトラメチル-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,3,3',6- テトラメチル-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',3,3'5- ペン
タメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,2',3,5,5'-ペンタメチル-4- メチルスルフィニル
チオフェノキシベンゼン、2,2',3,5,6'-ペンタメチル-4
- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,3,3
',5,5'-ペンタメチル-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,2',3,3',6-ペンタメチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2',3,5',6'-
ペンタメチル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベ
ンゼン、2,2',3,6,6'-ペンタメチル-4- メチルスルフィ
ニルチオフェノキシベンゼン、2,3,3',5',6-ペンタメチ
ル-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,
2',3,3',5,5'- ヘキサメチル-4- メチルスルフィニルチ
オフェノキシベンゼン、2,2',3,3',5,6'- ヘキサメチル
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'
3,3',5,5',6-ヘプタメチル-4- メチルスルフィニルチオ
フェノキシベンゼン、2,2',3,3',5,6,6'- ヘプタメチル
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',3,3',5,5'6,6'- オクタメチル-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,2'- ジエチル-4- メチル
スルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジエチル
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',5,5'-テトラエチル-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラエチル-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'- ジフルオロ
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2'
- ジクロロ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベン
ゼン、2,2'- ジブロモ-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,2'- ジヨード-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、2,2',5,5'-テトラフルオロ
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',5,5'-テトラクロロ-4- メチルスルフィニルチオフェ
ノキシベンゼン、2,2',5,5'-テトラブロモ-4- メチルス
ルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジメトキシ
-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、2,2
',5,5'-テトラメトキシ-4- メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラメトキシ-4- メチ
ルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジエト
キシ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、
2,2',5,5'-テトラエトキシ-4- メチルスルフィニルチオ
フェノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラエトキシ-4- メ
チルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,3'- ジプ
ロポキシ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼ
ン、2,2',5,5'-テトラプロポキシ-4- メチルスルフィニ
ルチオフェノキシベンゼン、3,3',5,5'-テトラプロポキ
シ-4- メチルスルフィニルチオフェノキシベンゼン、3,
3'- ジブトキシ-4-メチルスルフィニルチオフェノキシ
ベンゼンなどのアリールスルフィニル類が例示される。
【0014】本発明において、前記一般式(1)の化合
物を調製するには、前記一般式(2)の化合物を酸の存
在下で反応させればよい。本発明において、使用する酸
をHXで表わすと、一般式(2)の化合物のX´は、酸
から由来するものである。また、本発明においては酸で
一般式(2)の化合物を重合させ、次いで塩(AX)で
処理して安定なイオン対となるX´を導入してもよい。
物を調製するには、前記一般式(2)の化合物を酸の存
在下で反応させればよい。本発明において、使用する酸
をHXで表わすと、一般式(2)の化合物のX´は、酸
から由来するものである。また、本発明においては酸で
一般式(2)の化合物を重合させ、次いで塩(AX)で
処理して安定なイオン対となるX´を導入してもよい。
【0015】本発明で使用されるこれら酸及び塩化合物
としては、次のものが例示される。 (i) 酸としては、公知の有機酸、無機酸またはこれらの
混合物もしくは複合体である。具体的には、例えば、塩
酸、臭化水素酸、青酸、テトラフルオロほう酸などの非
酸素酸、硫酸、リン酸、過塩素酸、臭素酸、硝酸、炭
酸、ホウ酸、モリブデン酸、イソポリ酸、ヘテロポリ酸
などの無機オキソ酸、硫酸水素ナトリウム、リン酸二水
素ナトリウム、プロトン残留ヘテロポリ酸塩、モノメチ
ル硫酸、トリフルオロメタン硫酸等の硫酸の部分塩もし
くは部分エステル;蟻酸、酢酸プロピオン酸、ブタン
酸、コハク酸、安息香酸、フタル酸などの1価、もしく
は多価のカルボン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、
トリクロロ酢酸、モノフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、
トリフルオロ酢酸などのハロゲン置換カルボン酸、メタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸、ベンゼンジスルホン酸などの
1価、もしくは多価のスルホン酸;ベンゼンジスルホン
酸ナトリウムなどの多価のスルホン酸の部分金属塩、五
塩化アンチモン、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化亜鉛、塩化銅、塩
化鉄などのルイス酸などを挙げることができる。
としては、次のものが例示される。 (i) 酸としては、公知の有機酸、無機酸またはこれらの
混合物もしくは複合体である。具体的には、例えば、塩
酸、臭化水素酸、青酸、テトラフルオロほう酸などの非
酸素酸、硫酸、リン酸、過塩素酸、臭素酸、硝酸、炭
酸、ホウ酸、モリブデン酸、イソポリ酸、ヘテロポリ酸
などの無機オキソ酸、硫酸水素ナトリウム、リン酸二水
素ナトリウム、プロトン残留ヘテロポリ酸塩、モノメチ
ル硫酸、トリフルオロメタン硫酸等の硫酸の部分塩もし
くは部分エステル;蟻酸、酢酸プロピオン酸、ブタン
酸、コハク酸、安息香酸、フタル酸などの1価、もしく
は多価のカルボン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、
トリクロロ酢酸、モノフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、
トリフルオロ酢酸などのハロゲン置換カルボン酸、メタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸、ベンゼンジスルホン酸などの
1価、もしくは多価のスルホン酸;ベンゼンジスルホン
酸ナトリウムなどの多価のスルホン酸の部分金属塩、五
塩化アンチモン、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化亜鉛、塩化銅、塩
化鉄などのルイス酸などを挙げることができる。
【0016】(ii) 塩(AX)としては、NaCl
O4 ,LiBF4 ,(t−Bu)4 NI,LiBr,
(Et)4 NSbCl6 ,KPF6 など、溶媒に可溶で
一般式(1)でスルホニウムカチオンに反応しないもの
であればよい。
O4 ,LiBF4 ,(t−Bu)4 NI,LiBr,
(Et)4 NSbCl6 ,KPF6 など、溶媒に可溶で
一般式(1)でスルホニウムカチオンに反応しないもの
であればよい。
【0017】本発明において、X´は、いずれにしても
求核性の弱いアニオンであるということができる。本発
明において、前記した酸としては、安定性の強酸性のプ
ロトン酸が好ましく、特に過塩素酸、テトラフルオロほ
う酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが好ましい。
これら前記酸は、1種単独で用いてもよいし2種以上を
混合もしくは複合して組み合わせてもよい。
求核性の弱いアニオンであるということができる。本発
明において、前記した酸としては、安定性の強酸性のプ
ロトン酸が好ましく、特に過塩素酸、テトラフルオロほ
う酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが好ましい。
これら前記酸は、1種単独で用いてもよいし2種以上を
混合もしくは複合して組み合わせてもよい。
【0018】本発明において、前記一般式(1)で示さ
れるポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスル
ホニウム塩)化合物を、前記一般式(2)の化合物と酸
により縮重合させて調製するに際して、以下の説明する
反応溶媒や重合条件を採用すればよい。
れるポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスル
ホニウム塩)化合物を、前記一般式(2)の化合物と酸
により縮重合させて調製するに際して、以下の説明する
反応溶媒や重合条件を採用すればよい。
【0019】本発明において使用される溶媒は、重合活
性を実質的に消失させないものであれば使用可能である
が、通常、用いる反応原料および酸を溶解できるものが
望ましい。オキシ塩化リン、蟻酸、ニトロベンゼン、ニ
トロメタンなどの極性溶媒であり、特にオキシ塩化リン
が好ましい。なお、これらの溶媒は、1種単独で用いて
も2種以上混合して用いてもよく、あるいは必要により
不活性溶媒などと適宜混合して用いてもよい。
性を実質的に消失させないものであれば使用可能である
が、通常、用いる反応原料および酸を溶解できるものが
望ましい。オキシ塩化リン、蟻酸、ニトロベンゼン、ニ
トロメタンなどの極性溶媒であり、特にオキシ塩化リン
が好ましい。なお、これらの溶媒は、1種単独で用いて
も2種以上混合して用いてもよく、あるいは必要により
不活性溶媒などと適宜混合して用いてもよい。
【0020】本発明の前記一般式(1)で示される化合
物を調製する縮重合反応は脱水反応であるために、適
宜、脱水剤が存在してもよい。前記酸と脱水剤の使用割
合は、酸の種類、脱水剤の種類、組成、反応原料や溶媒
の種類、系中の水分等の不純物の濃度、反応温度など他
の条件によって異なるので一様に規定できないが、重合
反応が開始される濃度で、かつ、分解反応等の目的とす
る重合反応以外の副反応が抑制される濃度であればよ
い。前記重合に際しての反応温度は、使用する酸や反応
原料の種類によって一様ではないが、通常、−25〜2
50℃であり、好ましくは0〜150℃である。
物を調製する縮重合反応は脱水反応であるために、適
宜、脱水剤が存在してもよい。前記酸と脱水剤の使用割
合は、酸の種類、脱水剤の種類、組成、反応原料や溶媒
の種類、系中の水分等の不純物の濃度、反応温度など他
の条件によって異なるので一様に規定できないが、重合
反応が開始される濃度で、かつ、分解反応等の目的とす
る重合反応以外の副反応が抑制される濃度であればよ
い。前記重合に際しての反応温度は、使用する酸や反応
原料の種類によって一様ではないが、通常、−25〜2
50℃であり、好ましくは0〜150℃である。
【0021】反応圧力および窒素分圧または酸素分圧と
しては、特に制限はなく、通常、常圧もしくは反応系の
自圧で好適に行うことができる。もっとも、必要によ
り、重合反応に支障にない希釈ガスなどとの混合ガスを
用いて加圧下に行うこともできる。
しては、特に制限はなく、通常、常圧もしくは反応系の
自圧で好適に行うことができる。もっとも、必要によ
り、重合反応に支障にない希釈ガスなどとの混合ガスを
用いて加圧下に行うこともできる。
【0022】反応時間は、用いる際、反応原料の種類や
その使用割合、反応温度、酸素分圧、溶媒等の条件によ
って著しく異なるが、通常、0.5〜100時間であ
り、好ましくは2〜50時間である。
その使用割合、反応温度、酸素分圧、溶媒等の条件によ
って著しく異なるが、通常、0.5〜100時間であ
り、好ましくは2〜50時間である。
【0023】前記重合反応系を構成するにあたって、前
記一般式(2)で示される芳香族化合物と前記酸および
前記溶媒の配合の順序、方法については特に制限はな
く、それぞれを同時にあるいは種々の順序、様式で段階
的に配合することも可能である。
記一般式(2)で示される芳香族化合物と前記酸および
前記溶媒の配合の順序、方法については特に制限はな
く、それぞれを同時にあるいは種々の順序、様式で段階
的に配合することも可能である。
【0024】反応方式としては、特に制限はなく、連続
式、半連続式、回分式のいずれの方法を用いてもよい。
回分式を用いる場合には、反応系を攪拌して行うことが
望ましい。
式、半連続式、回分式のいずれの方法を用いてもよい。
回分式を用いる場合には、反応系を攪拌して行うことが
望ましい。
【0025】以上のような極めて温和な重合方法によっ
て調製される前記一般式(1)で示されるポリ(アルキ
ル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合
物は、反応媒体中に溶解した高分子量のもので、例えば
一般式(1)のn値が2≦n≦1000、粘土[η]が
1.0〜0.05のものが容易に製造される。本発明の
前記一般式(1)で示されるポリ(アルキル−P−チオ
フェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物は、高分子
増感剤や高分子求電子剤(メチル基などのアルキル基導
入試薬)などの応用面も考えられるが、特に重要な用途
は前記したように諸特性に優れた高分子量、直鎖状のポ
リアリーレンチオエーテルの製造に使用される。以下、
本発明の前記一般式(1)で示されるポリ(アルキル−
P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物の
重要な応用例として、ポリアリーレンチオエーテルの製
造例について説明する。
て調製される前記一般式(1)で示されるポリ(アルキ
ル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合
物は、反応媒体中に溶解した高分子量のもので、例えば
一般式(1)のn値が2≦n≦1000、粘土[η]が
1.0〜0.05のものが容易に製造される。本発明の
前記一般式(1)で示されるポリ(アルキル−P−チオ
フェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物は、高分子
増感剤や高分子求電子剤(メチル基などのアルキル基導
入試薬)などの応用面も考えられるが、特に重要な用途
は前記したように諸特性に優れた高分子量、直鎖状のポ
リアリーレンチオエーテルの製造に使用される。以下、
本発明の前記一般式(1)で示されるポリ(アルキル−
P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物の
重要な応用例として、ポリアリーレンチオエーテルの製
造例について説明する。
【0026】本発明の前記一般式(1)で示されるポリ
(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)化合物から、下記一般式(3)で示されるポリアリ
ーレンチオエーテルを製造するには、本発明のポリ(ア
ルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)
化合物においてスルホニウムカチオンを構成しているア
ルキル基(R9 )を除去する必要がある。 一般式(3)
(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)化合物から、下記一般式(3)で示されるポリアリ
ーレンチオエーテルを製造するには、本発明のポリ(ア
ルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)
化合物においてスルホニウムカチオンを構成しているア
ルキル基(R9 )を除去する必要がある。 一般式(3)
【0027】
【化4】
【0028】前記一般式(3)のR1 〜R8 、nは一般
式(1)と同じである。前記した本発明のポリ(アルキ
ル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合
物からアルキル基を除去するには、求核性の化合物(含
窒素化合物など)あるいは還元剤を使用すればよい。前
記脱アルキル化反応に用いる求核試薬としては、ピリジ
ン、キノリン、アニリンなどの含窒素芳香族化合物、ト
リアルキルアミン、アンモニア、などであり、特にピリ
ジン、キノリンが好適である。また、前記還元剤として
は、塩化カリウム、塩化ナトリウム、ヒドラジンなどで
あり、更には電気的に還元を行ってもよい。
式(1)と同じである。前記した本発明のポリ(アルキ
ル−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合
物からアルキル基を除去するには、求核性の化合物(含
窒素化合物など)あるいは還元剤を使用すればよい。前
記脱アルキル化反応に用いる求核試薬としては、ピリジ
ン、キノリン、アニリンなどの含窒素芳香族化合物、ト
リアルキルアミン、アンモニア、などであり、特にピリ
ジン、キノリンが好適である。また、前記還元剤として
は、塩化カリウム、塩化ナトリウム、ヒドラジンなどで
あり、更には電気的に還元を行ってもよい。
【0029】前記脱アルキル化反応に際して使用する溶
媒は、目的とする反応を阻害しないものなら制限はな
く、クロロベンゼン、αクロロナフタレンなどの含ハロ
ゲン芳香族化合物が好適である。求核試薬が反応温度下
で液体であるなら溶媒を用いなくても支障はない。
媒は、目的とする反応を阻害しないものなら制限はな
く、クロロベンゼン、αクロロナフタレンなどの含ハロ
ゲン芳香族化合物が好適である。求核試薬が反応温度下
で液体であるなら溶媒を用いなくても支障はない。
【0030】前記脱アルキル化反応に際して採用される
反応温度は、使用する塩基によって一様ではないが、通
常、0〜200℃であり、好ましくは0〜150℃であ
る。
反応温度は、使用する塩基によって一様ではないが、通
常、0〜200℃であり、好ましくは0〜150℃であ
る。
【0031】前記脱アルキル化反応の反応圧力および酸
素分圧としては、特に制限はなく、通常、常圧もしくは
反応系の自圧で好適に行うことができる。
素分圧としては、特に制限はなく、通常、常圧もしくは
反応系の自圧で好適に行うことができる。
【0032】前記脱アルキル化反応の反応時間は、用い
る塩基の種類やその使用割合、反応温度、酸素分圧、希
釈溶媒等の条件によって著しく異なるが、通常0.5〜
100時間であり、好ましくは0.5〜50時間であ
る。
る塩基の種類やその使用割合、反応温度、酸素分圧、希
釈溶媒等の条件によって著しく異なるが、通常0.5〜
100時間であり、好ましくは0.5〜50時間であ
る。
【0033】前記脱アルキル化反応を構成するにあたっ
て、高分子前駆体、求核試薬、溶媒の配合の順序、方法
については特に制限はなく、それぞれを同時にあるいは
種々の順序、様式で段階的に配合することも可能であ
る。
て、高分子前駆体、求核試薬、溶媒の配合の順序、方法
については特に制限はなく、それぞれを同時にあるいは
種々の順序、様式で段階的に配合することも可能であ
る。
【0034】前記脱アルキル化反応の反応方式として
は、特に制限はなく、連続式、半連続式、回分式のいず
れの方法を用いてもよい。回分式を用いる場合には、反
応系を攪拌して行うことが望ましい。
は、特に制限はなく、連続式、半連続式、回分式のいず
れの方法を用いてもよい。回分式を用いる場合には、反
応系を攪拌して行うことが望ましい。
【0035】以上のような脱アルキル化反応によって、
反応後、溶液中に目的とする高分子量体のポリアリーレ
ンチオエーテルを得ることができる。この場合、出発物
質の一般式(1)で示される化合物のn値(重合度)が
同じポリマーが得られ、例えばn=1000などの高分
子量で直鎖状のポリアリーレンチオエーテルを製造する
ことができる。
反応後、溶液中に目的とする高分子量体のポリアリーレ
ンチオエーテルを得ることができる。この場合、出発物
質の一般式(1)で示される化合物のn値(重合度)が
同じポリマーが得られ、例えばn=1000などの高分
子量で直鎖状のポリアリーレンチオエーテルを製造する
ことができる。
【0036】次いで、反応系から精製ポリマーを回収す
るには、公知の方法に準じて後処理を行えばよい。例え
ば、その一例を挙げれば、以下の通りである。即ち、脱
アルキル化反応により反応系に沈澱するものは、単に濾
別し、メタノール等の公知の方法で精製することができ
る。また、前記脱アルキル化反応が完結もしくは必要な
程度に進行したならば、反応混合物を酸性の水溶液中に
投入し、ろ過をし、メタノールなどの低級アルコールあ
るいはこれらの混合物と接触させて、目的とする高分子
を沈澱せしめる。酸性の水溶液としては、例えば、塩
酸、臭化水素酸、青酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、酢酸
などの有機酸であり、特に塩酸が好適である。酸の濃度
は特に制限はなく、未反応の求核化合物を失活させるに
充分な濃度であればよく、通常1〜20%のものを用い
る。酸溶液中への投入時間は、用いる酸の種類やその希
釈割合、反応温度の条件によって著しく異なるが、通常
0.1〜200時間であり、好ましくは0.1〜10時
間である。
るには、公知の方法に準じて後処理を行えばよい。例え
ば、その一例を挙げれば、以下の通りである。即ち、脱
アルキル化反応により反応系に沈澱するものは、単に濾
別し、メタノール等の公知の方法で精製することができ
る。また、前記脱アルキル化反応が完結もしくは必要な
程度に進行したならば、反応混合物を酸性の水溶液中に
投入し、ろ過をし、メタノールなどの低級アルコールあ
るいはこれらの混合物と接触させて、目的とする高分子
を沈澱せしめる。酸性の水溶液としては、例えば、塩
酸、臭化水素酸、青酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、酢酸
などの有機酸であり、特に塩酸が好適である。酸の濃度
は特に制限はなく、未反応の求核化合物を失活させるに
充分な濃度であればよく、通常1〜20%のものを用い
る。酸溶液中への投入時間は、用いる酸の種類やその希
釈割合、反応温度の条件によって著しく異なるが、通常
0.1〜200時間であり、好ましくは0.1〜10時
間である。
【0037】前記操作により沈澱したポリマーは、通常
のろ過などの分離操作によって、液体から分離する。こ
の分離したポリマーは、必要に応じて、適当な溶媒と再
沈液とを用いて溶解・再沈・分離・洗浄などの操作を必
要なだけ繰り返したのち、乾燥し、種々の純度に精製し
たポリマーとして回収することができる。なお、前記溶
媒・再沈に用いる溶媒としては、ポリマーを効率よく溶
解するという点などから、例えば、N−メチルピロリド
ン、熱αクロロナフタレンなどが好適である。また、前
記再沈液、洗浄液としては、通常、例えば、水、メタノ
ール、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、これ
らの混合液などであり、特にメタノールが好適に使用で
きる。
のろ過などの分離操作によって、液体から分離する。こ
の分離したポリマーは、必要に応じて、適当な溶媒と再
沈液とを用いて溶解・再沈・分離・洗浄などの操作を必
要なだけ繰り返したのち、乾燥し、種々の純度に精製し
たポリマーとして回収することができる。なお、前記溶
媒・再沈に用いる溶媒としては、ポリマーを効率よく溶
解するという点などから、例えば、N−メチルピロリド
ン、熱αクロロナフタレンなどが好適である。また、前
記再沈液、洗浄液としては、通常、例えば、水、メタノ
ール、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、これ
らの混合液などであり、特にメタノールが好適に使用で
きる。
【0038】以上のようにして製造されるポリフェニレ
ンチオエーテルなどのポリアリーレンチオエーテルは、
耐熱性、耐薬品性に優れるとともに、剛性、強度、耐衝
撃性、耐磨性などの種々の機械的特性に優れている。ま
た、従来問題となっているアルカリ金属イオン等の絶縁
性を悪化させる物質を含まないため、耐絶縁性などの電
気的特性に優れている。更に、ポリマーの構造が実質的
に直鎖状で架橋化成分が少ないため加工性にも優れたエ
ンジニアリングプラスチックであり、電子・電気分析、
機械分析、塗料分析、自動車分析などの様々の分析にお
いて好適に使用することができる。因みに、従来のポリ
マー(例えばジハロゲン芳香族化合物をNa2 Sを用い
て統合させたもの)と比較してみると、耐熱性は従来の
ものが510℃(Td 10%,ポリマーの重量が10%減
少する温度)で前記本発明のものが520℃,分子量
(重量平均)は従来のものが7800程度で、前記本発
明のものが35000である。
ンチオエーテルなどのポリアリーレンチオエーテルは、
耐熱性、耐薬品性に優れるとともに、剛性、強度、耐衝
撃性、耐磨性などの種々の機械的特性に優れている。ま
た、従来問題となっているアルカリ金属イオン等の絶縁
性を悪化させる物質を含まないため、耐絶縁性などの電
気的特性に優れている。更に、ポリマーの構造が実質的
に直鎖状で架橋化成分が少ないため加工性にも優れたエ
ンジニアリングプラスチックであり、電子・電気分析、
機械分析、塗料分析、自動車分析などの様々の分析にお
いて好適に使用することができる。因みに、従来のポリ
マー(例えばジハロゲン芳香族化合物をNa2 Sを用い
て統合させたもの)と比較してみると、耐熱性は従来の
ものが510℃(Td 10%,ポリマーの重量が10%減
少する温度)で前記本発明のものが520℃,分子量
(重量平均)は従来のものが7800程度で、前記本発
明のものが35000である。
【0039】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳しく説明
する。なお、本発明は実施例のものに限定されないこと
はいうまでもないことである。
する。なお、本発明は実施例のものに限定されないこと
はいうまでもないことである。
【0040】(実施例1)4-メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン7gを0℃下でオキシ塩化リン16ml
に溶解し、さらに過塩素酸(70%)25mlを添加し
た。2日間攪拌した。反応溶液を水11中にゆっくり投
入すると、白色の沈澱が得られた。沈澱をろ過し、未反
応物と分離して、水洗浄、乾燥し、白色粉末9.3gを
得た(収量:100%)。次に、前記のようにして調製
した反応生成物の分析結果をいかに示す。
ェノキシベンゼン7gを0℃下でオキシ塩化リン16ml
に溶解し、さらに過塩素酸(70%)25mlを添加し
た。2日間攪拌した。反応溶液を水11中にゆっくり投
入すると、白色の沈澱が得られた。沈澱をろ過し、未反
応物と分離して、水洗浄、乾燥し、白色粉末9.3gを
得た(収量:100%)。次に、前記のようにして調製
した反応生成物の分析結果をいかに示す。
【0041】(1) 元素分析(カッコ内は計算値)(%) C: 46.9 (47.2) H: 3.34 (3.33) S: 19.3 (19.4) Cl:10.6 (10.7)
【0042】(2) IRスペクトルの分析結果 νc=c:1392,1475,1568 (cm-1) νClO4 :1120,625 δC-H :814
【0043】(3) 1H−NMRの分析結果 CH3 :3.8ppm (3H) Phenyl:7.65,8.05ppm (8H)
【0044】 (4) Tm(分解温度)の分析結果:227.7℃
【0045】 (5) 粘度[η]:0.33(蟻酸 1重量%,30℃)
【0046】以上の結果から、反応生成物がポリ(過塩
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)であると決定した。即ち、前記一般式(1) におい
て、X=ClO4 -1のものである。
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)であると決定した。即ち、前記一般式(1) におい
て、X=ClO4 -1のものである。
【0047】(実施例2)4-メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン7gを室温下でニトロベンゼン16ml
に溶解し、さらに過塩素酸(70%)25mlを添加し
た。2日間攪拌した。反応溶液を水11中にゆっくり投
入すると、白色の沈澱が得られた。沈澱をろ過し、未反
応物と分離して、水洗浄、乾燥し、白色粉末8.0gを
得た(収量:86%)。次に、前記のようにして調製し
た反応生成物の分析結果を以下に示す。
ェノキシベンゼン7gを室温下でニトロベンゼン16ml
に溶解し、さらに過塩素酸(70%)25mlを添加し
た。2日間攪拌した。反応溶液を水11中にゆっくり投
入すると、白色の沈澱が得られた。沈澱をろ過し、未反
応物と分離して、水洗浄、乾燥し、白色粉末8.0gを
得た(収量:86%)。次に、前記のようにして調製し
た反応生成物の分析結果を以下に示す。
【0048】(1) IRスペクトルの分析結果 νc=c:1392,1475,1568 (cm-1) νClO4 :1120,625 δC-H :814
【0049】(2) 1H−NMRの分析結果 CH3 :3.8ppm (3H) Phenyl:7.65,8.05ppm (8H)
【0050】 (3) Tm(分解温度)の分析結果:224.1℃
【0051】 (4) 粘度[η]:0.23(蟻酸 1重量%,30℃)
【0052】以上の結果(なお、元素分析の結果は実施
例1と同様であった。)から、反応生成物がポリ(過塩
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)であると決定した。
例1と同様であった。)から、反応生成物がポリ(過塩
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)であると決定した。
【0053】(実施例3)4-メチルスルフィニルチオフ
ェノキシベンゼン7gを0℃下で蟻酸12mlに溶解し、さ
らに過塩素酸(70%)25mlを添加した。2日間攪拌
した。反応溶液を水11中にゆっくり投入すると、白色
の沈澱が得られた。沈澱をろ過し、未反応物と分離し
て、水洗浄、乾燥し、白色粉末8.6gを得た(収量:
93%)。次に、前記のようにして調製した反応生成物
の分析結果を以下に示す。
ェノキシベンゼン7gを0℃下で蟻酸12mlに溶解し、さ
らに過塩素酸(70%)25mlを添加した。2日間攪拌
した。反応溶液を水11中にゆっくり投入すると、白色
の沈澱が得られた。沈澱をろ過し、未反応物と分離し
て、水洗浄、乾燥し、白色粉末8.6gを得た(収量:
93%)。次に、前記のようにして調製した反応生成物
の分析結果を以下に示す。
【0054】(1) IRスペクトルの分析結果 νc=c:1392,1475,1568 (cm-1) νClO4 :1120,625 δC-H :814
【0055】(2) 1H−NMRの分析結果 CH3 :3.8ppm (3H) Phenyl:7.65,8.05ppm (8H)
【0056】 (3) Tm(分解温度)の分析結果:227.0℃
【0057】 (4) 粘度[η]:0.28(蟻酸 1重量%,30℃)
【0058】以上の結果(なお、元素分析の結果は実施
例1と同様であった。)から、反応生成物がポリ(過塩
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)であると決定した。
例1と同様であった。)から、反応生成物がポリ(過塩
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)であると決定した。
【0059】(応用例)実施例1で調製したポリ(過塩
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)の縮重合を行なった。実施例1の生成物5gをピリ
ジン100mlに溶解し、沸点還流を5時間行った。反応
溶液を室温付近まで下げ、20%塩酸水11中にゆっく
り投入した。沈澱をろ過し、5%塩酸水で洗浄後、メタ
ノール、アセトン、クロロホルム洗浄をこの順番で行な
った。乾燥し、白色粉末3.1gを得た(脱メチル化率
<脱メチルによる理論収量に対する値>95%)。次
に、前記のようにして調製した重合反応生成物の分析結
果を以下に示す。
素酸メチル-4- チオフェノキシフェニルスルホニウム
塩)の縮重合を行なった。実施例1の生成物5gをピリ
ジン100mlに溶解し、沸点還流を5時間行った。反応
溶液を室温付近まで下げ、20%塩酸水11中にゆっく
り投入した。沈澱をろ過し、5%塩酸水で洗浄後、メタ
ノール、アセトン、クロロホルム洗浄をこの順番で行な
った。乾燥し、白色粉末3.1gを得た(脱メチル化率
<脱メチルによる理論収量に対する値>95%)。次
に、前記のようにして調製した重合反応生成物の分析結
果を以下に示す。
【0060】 C: 65.7 (66.7%) H: 3.6 ( 3.7%) S: 36.7 (29.7%)
【0061】(2) IRスペクトルの分析結果 νc=c:1386,1471,1574 (cm-1) δC-H :814
【0062】(3) 熱的特性の分析結果 Tm :280℃ Td 10% :520℃ Tg : 92℃
【0063】以上の結果から、重合反応による生成物が
ポリ(P−フェニレンスルフィド)であると決定した。
ポリ(P−フェニレンスルフィド)であると決定した。
【0064】
【発明の効果】本発明のポリ(アルキル−P−チオフェ
ノキシフェニルスルホニウム塩)化合物は、耐熱性や耐
薬品性に優れるとともに、機械的特性や電気的特性など
に優れるポリアリーレンチオエーテルの製造に有用なも
のである。即ち、本発明の溶媒可溶性のポリ(アルキル
−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物
を経由することにより、温和な条件下で、特に架橋度が
極めて少ない実質的に直鎖状のポリアリーレンチオエー
テルの製造が可能のとなり、諸特性に優れたエンジニア
リングプラスチックが提供される。
ノキシフェニルスルホニウム塩)化合物は、耐熱性や耐
薬品性に優れるとともに、機械的特性や電気的特性など
に優れるポリアリーレンチオエーテルの製造に有用なも
のである。即ち、本発明の溶媒可溶性のポリ(アルキル
−P−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物
を経由することにより、温和な条件下で、特に架橋度が
極めて少ない実質的に直鎖状のポリアリーレンチオエー
テルの製造が可能のとなり、諸特性に優れたエンジニア
リングプラスチックが提供される。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (但し、R1 〜R8 は水素原子、低級アルキル基、アル
コキシ基を表わし、互いに同じ種類であっても異なった
種類であってもよい。R9 はアルキル基を表わす。Xは
求核性の弱いアニオンを表わす。nは重合度を表わ
す。)で現わされるポリ(アルキル−P−チオフェノキ
シフェニルスルホニウム塩)化合物。 - 【請求項2】 R1 〜R8 が、全て水素原子である請求
項1に記載のポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェ
ニルスルホニウム塩)化合物。 - 【請求項3】 R9 が、メチル基である請求項1に記載
のポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニルスルホ
ニウム塩)の化合物。 - 【請求項4】 Xが、過塩素酸のアニオンである請求項
1に記載のポリ(アルキル−P−チオフェノキシフェニ
ルスルホニウム塩)化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04078153A JP3123724B2 (ja) | 1992-02-29 | 1992-02-29 | ポリ(アルキル−p−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04078153A JP3123724B2 (ja) | 1992-02-29 | 1992-02-29 | ポリ(アルキル−p−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239213A true JPH05239213A (ja) | 1993-09-17 |
| JP3123724B2 JP3123724B2 (ja) | 2001-01-15 |
Family
ID=13653974
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04078153A Expired - Fee Related JP3123724B2 (ja) | 1992-02-29 | 1992-02-29 | ポリ(アルキル−p−チオフェノキシフェニルスルホニウム塩)化合物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3123724B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06123973A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-05-06 | Nec Corp | 光分解性高分子化合物およびフォトレジスト組成物 |
| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
| JP2016108357A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィドフィルム及びその製造方法 |
| JP2016108356A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィドフィルム及びその製造方法 |
| JP2016108674A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィド繊維及びその製造方法 |
| CN106957430A (zh) * | 2016-01-11 | 2017-07-18 | 财团法人工业技术研究院 | 聚合物 |
| JP2017125190A (ja) * | 2016-01-11 | 2017-07-20 | 財團法人工業技術研究院Industrial Technology Research Institute | ポリアリーレンスルフィドの重合方法 |
| JP2017197712A (ja) * | 2016-01-11 | 2017-11-02 | 財團法人工業技術研究院Industrial Technology Research Institute | ポリマー |
| TWI633155B (zh) * | 2013-09-03 | 2018-08-21 | Dic股份有限公司 | 聚芳硫醚樹脂及其製造方法、成形品及其製造方法以及聚芳硫醚樹脂組成物的製造方法 |
| US10184028B2 (en) | 2016-01-11 | 2019-01-22 | Industrial Technology Research Institute | Method for preparing a polymer |
| US10377705B2 (en) | 2016-01-11 | 2019-08-13 | Industrial Technology Research Institute | Method for preparing polyarylene sulfide (PAS) monomer |
-
1992
- 1992-02-29 JP JP04078153A patent/JP3123724B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06123973A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-05-06 | Nec Corp | 光分解性高分子化合物およびフォトレジスト組成物 |
| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
| TWI633155B (zh) * | 2013-09-03 | 2018-08-21 | Dic股份有限公司 | 聚芳硫醚樹脂及其製造方法、成形品及其製造方法以及聚芳硫醚樹脂組成物的製造方法 |
| US10072124B2 (en) | 2013-09-03 | 2018-09-11 | Dic Corporation | Polyarylene sulfide resin, manufacturing method therefor, and molding |
| JP2016108357A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィドフィルム及びその製造方法 |
| JP2016108674A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィド繊維及びその製造方法 |
| JP2016108356A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィドフィルム及びその製造方法 |
| CN106957430A (zh) * | 2016-01-11 | 2017-07-18 | 财团法人工业技术研究院 | 聚合物 |
| JP2017125190A (ja) * | 2016-01-11 | 2017-07-20 | 財團法人工業技術研究院Industrial Technology Research Institute | ポリアリーレンスルフィドの重合方法 |
| JP2017197712A (ja) * | 2016-01-11 | 2017-11-02 | 財團法人工業技術研究院Industrial Technology Research Institute | ポリマー |
| US10184028B2 (en) | 2016-01-11 | 2019-01-22 | Industrial Technology Research Institute | Method for preparing a polymer |
| US10287396B2 (en) | 2016-01-11 | 2019-05-14 | Industrial Technology Research Institute | Polymer |
| CN106957430B (zh) * | 2016-01-11 | 2019-07-09 | 财团法人工业技术研究院 | 聚合物 |
| US10377705B2 (en) | 2016-01-11 | 2019-08-13 | Industrial Technology Research Institute | Method for preparing polyarylene sulfide (PAS) monomer |
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