JPH05240841A - 管電磁場シミュレーション装置 - Google Patents
管電磁場シミュレーション装置Info
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- JPH05240841A JPH05240841A JP34195692A JP34195692A JPH05240841A JP H05240841 A JPH05240841 A JP H05240841A JP 34195692 A JP34195692 A JP 34195692A JP 34195692 A JP34195692 A JP 34195692A JP H05240841 A JPH05240841 A JP H05240841A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
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- G01N27/90—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating magnetic variables for investigating the presence of flaws using eddy currents
- G01N27/9013—Arrangements for scanning
- G01N27/902—Arrangements for scanning by moving the sensors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01V—GEOPHYSICS; GRAVITATIONAL MEASUREMENTS; DETECTING MASSES OR OBJECTS; TAGS
- G01V3/00—Electric or magnetic prospecting or detecting; Measuring magnetic field characteristics of the earth, e.g. declination, deviation
- G01V3/08—Electric or magnetic prospecting or detecting; Measuring magnetic field characteristics of the earth, e.g. declination, deviation operating with magnetic or electric fields produced or modified by objects or geological structures or by detecting devices
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単に欠陥付き管の電磁場のシミュレーショ
ンが出来る装置を提供すること。 【構成】 管、送信コイル、欠陥等のデータを入力する
入力手段1と、各種データに基づき管に欠陥が無いもの
として、その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段
2と、送信コイルが最初の位置にある場合の演算では、
各種データ及び無欠陥解析結果を利用して、ボーン近似
法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源を
求め、送信コイルが2番目以降の位置にある場合の演算
では、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の大き
さに比例して、上記等価電流源を補正して、2番目以降
の位置にある場合の等価電流源を求める等価電流源演算
手段6と、その演算結果と無欠陥解析結果を利用して、
欠陥のある管の電磁場を解析する管電磁場解析手段4
と、その解析結果を利用して、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する探傷信号演算手段7とを備える。
ンが出来る装置を提供すること。 【構成】 管、送信コイル、欠陥等のデータを入力する
入力手段1と、各種データに基づき管に欠陥が無いもの
として、その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段
2と、送信コイルが最初の位置にある場合の演算では、
各種データ及び無欠陥解析結果を利用して、ボーン近似
法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源を
求め、送信コイルが2番目以降の位置にある場合の演算
では、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の大き
さに比例して、上記等価電流源を補正して、2番目以降
の位置にある場合の等価電流源を求める等価電流源演算
手段6と、その演算結果と無欠陥解析結果を利用して、
欠陥のある管の電磁場を解析する管電磁場解析手段4
と、その解析結果を利用して、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する探傷信号演算手段7とを備える。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、管に存在する傷を探傷
する場合に用いられる管電磁場シミュレーション装置に
関するものである。
する場合に用いられる管電磁場シミュレーション装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、鋼管等の管に存在する傷を探査す
る場合、磁場を発生する送信コイルを管内で移動させ、
他方、磁場を受け取る受信コイルをその送信コイルと対
にして移動させ、管にある傷を探査する方法が知られて
いる。
る場合、磁場を発生する送信コイルを管内で移動させ、
他方、磁場を受け取る受信コイルをその送信コイルと対
にして移動させ、管にある傷を探査する方法が知られて
いる。
【0003】送信コイルは、予め決められた大きさの磁
場を発生し、その磁場の影響で、管内に渦電流が流れ
る。その渦電流が流れることによって、管付近に間接磁
場が発生する。受信コイルはその間接磁場を検知するも
のである。もし、傷が管にあると、無いときと比べてそ
の受信する磁場の大きさに変化が生じる。その変化の大
きさ、種類などをとらえて、管の傷の大きさ、種類等を
検出している。
場を発生し、その磁場の影響で、管内に渦電流が流れ
る。その渦電流が流れることによって、管付近に間接磁
場が発生する。受信コイルはその間接磁場を検知するも
のである。もし、傷が管にあると、無いときと比べてそ
の受信する磁場の大きさに変化が生じる。その変化の大
きさ、種類などをとらえて、管の傷の大きさ、種類等を
検出している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな探査方法では、探査すべき管には種々の大きさがあ
り、その都度、その管の大きさにぴったりフィットする
送信コイルと受信コイルを作成し、傷との関係を知るた
め数多く実験しなければならないという課題があった。
うな探査方法では、探査すべき管には種々の大きさがあ
り、その都度、その管の大きさにぴったりフィットする
送信コイルと受信コイルを作成し、傷との関係を知るた
め数多く実験しなければならないという課題があった。
【0005】そこで、シミュレーション方法によって、
送信コイル、受信コイルなどと傷との関係を調べる方法
が考えられるが、従来の解析方法の単なる応用では次の
ような理由でうまく行かない。
送信コイル、受信コイルなどと傷との関係を調べる方法
が考えられるが、従来の解析方法の単なる応用では次の
ような理由でうまく行かない。
【0006】管は導電性物質で出来ているが、一般に電
磁界が導電性物質内に浸透する深さδは、次式で表わさ
れる。
磁界が導電性物質内に浸透する深さδは、次式で表わさ
れる。
【0007】 δ=√(2/(ωσμ))=1/√(3.95×10-6×fσμs)[m] ここで、δ:導電性物質内に入射した電磁界の大きさ
が、導電性物質表面に於ける大きさの1/e(e=2.71
8・・・)に減衰する深さ、ω=2πf、f:周波数、σ:
導電率(S/m)、μs:比誘磁率である。
が、導電性物質表面に於ける大きさの1/e(e=2.71
8・・・)に減衰する深さ、ω=2πf、f:周波数、σ:
導電率(S/m)、μs:比誘磁率である。
【0008】σ=3.30×106、μs=400の鋼管の場合、
浸透深さδ=1.95×10-3(m)となり、非常に小さい。
すなわち、鋼管は磁性が強く、そのためシールド効果が
大きく、渦電流の発生が内面に方に偏るのである。他
方、ガス管に生じる腐食傷は、管外面に生じ易い。従っ
て、腐食傷による渦電流の変化は微小である。
浸透深さδ=1.95×10-3(m)となり、非常に小さい。
すなわち、鋼管は磁性が強く、そのためシールド効果が
大きく、渦電流の発生が内面に方に偏るのである。他
方、ガス管に生じる腐食傷は、管外面に生じ易い。従っ
て、腐食傷による渦電流の変化は微小である。
【0009】このような条件のため、管の解析を、例え
ば、境界要素法を利用して行うには、一辺が約2mmの三
角形の鋼管表面を分割する必要がある。すなわち、たと
えば、直径5cm、長さ30cmの鋼管の解析を行うには、
横が50×3.14÷2で約75分割、縦が300÷2で約150
分割する必要があり、従って、4角形メッシュで約1
0,000分割、3角形メッシュで約20,000分割、
内面と外面で約40,000要素の分割が必要となる。
スーパーコンピュータで境界要素解析を行う場合、約
5,000要素が上限であるから、実際上解析は不可能
である。
ば、境界要素法を利用して行うには、一辺が約2mmの三
角形の鋼管表面を分割する必要がある。すなわち、たと
えば、直径5cm、長さ30cmの鋼管の解析を行うには、
横が50×3.14÷2で約75分割、縦が300÷2で約150
分割する必要があり、従って、4角形メッシュで約1
0,000分割、3角形メッシュで約20,000分割、
内面と外面で約40,000要素の分割が必要となる。
スーパーコンピュータで境界要素解析を行う場合、約
5,000要素が上限であるから、実際上解析は不可能
である。
【0010】本発明は、このような従来のシミュレーシ
ョン方法の課題を考慮し、簡単にシミュレーション出来
る管電磁場シミュレーション装置を提供することを目的
とするものである。
ョン方法の課題を考慮し、簡単にシミュレーション出来
る管電磁場シミュレーション装置を提供することを目的
とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】第1の本発明は、探傷対
象である管の各種データ、送信コイルの各種データ、そ
の送信コイルの励磁周波数、欠陥の各種データ等の各種
データを入力するための入力手段と、その入力手段から
の各種データの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無い
ものとして、その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析
手段と、入力手段から入力された各種データの全部又は
一部、及び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、
ボーン近似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価
な電流源を求める第1等価電流源演算手段と、その第1
等価電流源演算手段による演算結果を利用して、欠陥の
ある管の電磁場を解析する管電磁場解析手段とを備えた
管電磁場シミュレーション装置である。
象である管の各種データ、送信コイルの各種データ、そ
の送信コイルの励磁周波数、欠陥の各種データ等の各種
データを入力するための入力手段と、その入力手段から
の各種データの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無い
ものとして、その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析
手段と、入力手段から入力された各種データの全部又は
一部、及び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、
ボーン近似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価
な電流源を求める第1等価電流源演算手段と、その第1
等価電流源演算手段による演算結果を利用して、欠陥の
ある管の電磁場を解析する管電磁場解析手段とを備えた
管電磁場シミュレーション装置である。
【0012】第2の本発明は、探傷対象である管内で送
信コイルを移動させその管の欠陥を探る管電磁場シミュ
レーション装置であって、管の各種データ、送信コイル
の各種データ、その送信コイルの励磁周波数、欠陥の各
種データ等の各種データを入力するための入力手段と、
その入力手段からの各種データの全部又は一部に基づ
き、管に欠陥が無いものとして、その管の電磁場分布を
解析する無欠陥解析手段と、送信コイルが最初の位置に
ある場合の演算では、入力手段から入力された各種デー
タの全部又は一部、及び無欠陥解析手段による解析結果
を利用して、ボーン近似法による繰り返し演算によっ
て、欠陥と等価な電流源を求め、送信コイルが2番目以
降の位置にある場合の演算では、無欠陥解析手段により
得られた、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の
大きさに比例して、先に求められている等価電流源を補
正して、2番目以降の位置にある場合の等価電流源を求
める第2等価電流源演算手段と、その第2等価電流源演
算手段による演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁
場を解析する管電磁場解析手段とを備えた管電磁場シミ
ュレーション装置である。
信コイルを移動させその管の欠陥を探る管電磁場シミュ
レーション装置であって、管の各種データ、送信コイル
の各種データ、その送信コイルの励磁周波数、欠陥の各
種データ等の各種データを入力するための入力手段と、
その入力手段からの各種データの全部又は一部に基づ
き、管に欠陥が無いものとして、その管の電磁場分布を
解析する無欠陥解析手段と、送信コイルが最初の位置に
ある場合の演算では、入力手段から入力された各種デー
タの全部又は一部、及び無欠陥解析手段による解析結果
を利用して、ボーン近似法による繰り返し演算によっ
て、欠陥と等価な電流源を求め、送信コイルが2番目以
降の位置にある場合の演算では、無欠陥解析手段により
得られた、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の
大きさに比例して、先に求められている等価電流源を補
正して、2番目以降の位置にある場合の等価電流源を求
める第2等価電流源演算手段と、その第2等価電流源演
算手段による演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁
場を解析する管電磁場解析手段とを備えた管電磁場シミ
ュレーション装置である。
【0013】第3の本発明は、探傷対象である管の各種
データ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの励
磁周波数、欠陥の各種データ、受信コイルの各種デー
タ、送信コイルと受信コイルとの距離等の各種データを
入力するための入力手段と、その入力手段からの各種デ
ータの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものとし
て、その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段と、
入力手段から入力された各種データの全部又は一部、及
び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン近
似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源
を求める第1等価電流源演算手段と、その第1等価電流
源演算手段による演算結果を利用して、欠陥のある管の
電磁場を解析する管電磁場解析手段と、管電磁場解析手
段による解析結果を利用して、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する探傷信号演算手段とを備えた管電磁場シ
ミュレーション装置である。
データ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの励
磁周波数、欠陥の各種データ、受信コイルの各種デー
タ、送信コイルと受信コイルとの距離等の各種データを
入力するための入力手段と、その入力手段からの各種デ
ータの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものとし
て、その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段と、
入力手段から入力された各種データの全部又は一部、及
び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン近
似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源
を求める第1等価電流源演算手段と、その第1等価電流
源演算手段による演算結果を利用して、欠陥のある管の
電磁場を解析する管電磁場解析手段と、管電磁場解析手
段による解析結果を利用して、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する探傷信号演算手段とを備えた管電磁場シ
ミュレーション装置である。
【0014】第4の本発明は、探傷対象である管内で送
信コイル及び受信コイルを移動させその管の欠陥を探る
管電磁場シミュレーション装置であって、管の各種デー
タ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの励磁周
波数、欠陥の各種データ、受信コイルの各種データ、送
信コイルと受信コイルとの距離等の各種データを入力す
るための入力手段と、その入力手段からの各種データの
全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものとして、そ
の管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段と、送信コ
イルが最初の位置にある場合の演算では、入力手段から
入力された各種データの全部又は一部、及び無欠陥解析
手段による解析結果を利用して、ボーン近似法による繰
り返し演算によって、欠陥と等価な電流源を求め、送信
コイルが2番目以降の位置にある場合の演算では、無欠
陥解析手段で得られた、欠陥が無い場合の欠陥位置にお
ける電磁場の大きさに比例して、先に求められている等
価電流源を補正して、2番目以降の位置にある場合の等
価電流源を求める第2等価電流源演算手段と、その第2
等価電流源演算手段による演算結果と、無欠陥解析手段
の解析結果を利用して、欠陥のある管の電磁場を解析す
る管電磁場解析手段と、管電磁場解析手段による解析結
果を利用して、受信コイルに生じる探傷信号を演算する
探傷信号演算手段とを備えた管電磁場シミュレーション
装置である。
信コイル及び受信コイルを移動させその管の欠陥を探る
管電磁場シミュレーション装置であって、管の各種デー
タ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの励磁周
波数、欠陥の各種データ、受信コイルの各種データ、送
信コイルと受信コイルとの距離等の各種データを入力す
るための入力手段と、その入力手段からの各種データの
全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものとして、そ
の管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段と、送信コ
イルが最初の位置にある場合の演算では、入力手段から
入力された各種データの全部又は一部、及び無欠陥解析
手段による解析結果を利用して、ボーン近似法による繰
り返し演算によって、欠陥と等価な電流源を求め、送信
コイルが2番目以降の位置にある場合の演算では、無欠
陥解析手段で得られた、欠陥が無い場合の欠陥位置にお
ける電磁場の大きさに比例して、先に求められている等
価電流源を補正して、2番目以降の位置にある場合の等
価電流源を求める第2等価電流源演算手段と、その第2
等価電流源演算手段による演算結果と、無欠陥解析手段
の解析結果を利用して、欠陥のある管の電磁場を解析す
る管電磁場解析手段と、管電磁場解析手段による解析結
果を利用して、受信コイルに生じる探傷信号を演算する
探傷信号演算手段とを備えた管電磁場シミュレーション
装置である。
【0015】
【作用】第1の本発明では、入力手段から、探傷対象で
ある管の各種データ、送信コイルの各種データ、その送
信コイルの励磁周波数、欠陥の各種データ等の各種デー
タを入力し、無欠陥解析手段でその入力手段からの各種
データの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものと
して、その管の電磁場分布を解析する。第1等価電流源
演算手段により、入力手段から入力された各種データの
全部又は一部、及び無欠陥解析手段による解析結果を利
用して、ボーン近似法による繰り返し演算によって、欠
陥と等価な電流源を求める。管電磁場解析手段で、その
第1等価電流源演算手段による演算結果を利用して、欠
陥のある管の電磁場を解析する。
ある管の各種データ、送信コイルの各種データ、その送
信コイルの励磁周波数、欠陥の各種データ等の各種デー
タを入力し、無欠陥解析手段でその入力手段からの各種
データの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものと
して、その管の電磁場分布を解析する。第1等価電流源
演算手段により、入力手段から入力された各種データの
全部又は一部、及び無欠陥解析手段による解析結果を利
用して、ボーン近似法による繰り返し演算によって、欠
陥と等価な電流源を求める。管電磁場解析手段で、その
第1等価電流源演算手段による演算結果を利用して、欠
陥のある管の電磁場を解析する。
【0016】第2の本発明では、上述のように、管の各
種データ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの
励磁周波数、欠陥の各種データ等の各種データを入力
し、各種データの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無
いものとして、その管の電磁場分布を解析し、送信コイ
ルが最初の位置にある場合の演算では、入力された各種
データの全部又は一部、及び無欠陥解析手段による解析
結果を利用して、ボーン近似法による繰り返し演算によ
って、欠陥と等価な電流源を求め、送信コイルが2番目
以降の位置にある場合の演算では、無欠陥解析手段によ
り得られた、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場
の大きさに比例して、先に求められている等価電流源を
補正して、2番目以降の位置にある場合の等価電流源を
求め、その演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁場
を解析する。
種データ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの
励磁周波数、欠陥の各種データ等の各種データを入力
し、各種データの全部又は一部に基づき、管に欠陥が無
いものとして、その管の電磁場分布を解析し、送信コイ
ルが最初の位置にある場合の演算では、入力された各種
データの全部又は一部、及び無欠陥解析手段による解析
結果を利用して、ボーン近似法による繰り返し演算によ
って、欠陥と等価な電流源を求め、送信コイルが2番目
以降の位置にある場合の演算では、無欠陥解析手段によ
り得られた、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場
の大きさに比例して、先に求められている等価電流源を
補正して、2番目以降の位置にある場合の等価電流源を
求め、その演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁場
を解析する。
【0017】第3の本発明では、上述のように、探傷対
象である管の各種データ、送信コイルの各種データ、そ
の送信コイルの励磁周波数、欠陥の各種データ、受信コ
イルの各種データ、送信コイルと受信コイルとの距離等
の各種データを入力し、その各種データの全部又は一部
に基づき、管に欠陥が無いものとして、その管の電磁場
分布を解析す、入力された各種データの全部又は一部、
及び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン
近似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流
源を求める。さらに、その第1等価電流源演算手段によ
る演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁場を解析
し、その解析結果を利用して、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する。
象である管の各種データ、送信コイルの各種データ、そ
の送信コイルの励磁周波数、欠陥の各種データ、受信コ
イルの各種データ、送信コイルと受信コイルとの距離等
の各種データを入力し、その各種データの全部又は一部
に基づき、管に欠陥が無いものとして、その管の電磁場
分布を解析す、入力された各種データの全部又は一部、
及び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン
近似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流
源を求める。さらに、その第1等価電流源演算手段によ
る演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁場を解析
し、その解析結果を利用して、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する。
【0018】第4の本発明では、上述のように、管の各
種データ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの
励磁周波数、欠陥の各種データ、受信コイルの各種デー
タ、送信コイルと受信コイルとの距離等の各種データを
入力し、各種データの全部又は一部に基づき、管に欠陥
が無いものとして、その管の電磁場分布を解析する。そ
して、送信コイルが最初の位置にある場合の演算では、
入力手段から入力された各種データの全部又は一部、及
び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン近
似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源
を求め、送信コイルが2番目以降の位置にある場合の演
算では、無欠陥解析手段で得られた、欠陥が無い場合の
欠陥位置における電磁場の大きさに比例して、先に求め
られている等価電流源を補正して、2番目以降の位置に
ある場合の等価電流源を求める。その演算結果と、無欠
陥解析手段の解析結果を利用して、欠陥のある管の電磁
場を解析し、その解析結果を利用して、受信コイルに生
じる探傷信号を演算する。
種データ、送信コイルの各種データ、その送信コイルの
励磁周波数、欠陥の各種データ、受信コイルの各種デー
タ、送信コイルと受信コイルとの距離等の各種データを
入力し、各種データの全部又は一部に基づき、管に欠陥
が無いものとして、その管の電磁場分布を解析する。そ
して、送信コイルが最初の位置にある場合の演算では、
入力手段から入力された各種データの全部又は一部、及
び無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン近
似法による繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源
を求め、送信コイルが2番目以降の位置にある場合の演
算では、無欠陥解析手段で得られた、欠陥が無い場合の
欠陥位置における電磁場の大きさに比例して、先に求め
られている等価電流源を補正して、2番目以降の位置に
ある場合の等価電流源を求める。その演算結果と、無欠
陥解析手段の解析結果を利用して、欠陥のある管の電磁
場を解析し、その解析結果を利用して、受信コイルに生
じる探傷信号を演算する。
【0019】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【0020】図1は、本発明の管電磁場シミュレーショ
ン装置が前提とする探傷管、送信コイル、受信コイルな
どを用いて管の傷を探傷する状況を示す概念図である。
同図において、肉厚dを有する鋼管10の中に送信コイ
ル20が配設され、管10内を軸方向に移動できるよう
になっている。また、その送信コイル20から所定間隔
をおいて受信コイル30が配設されている。また、管1
0の外面には、腐食した凹み40(以後腐食凹みとい
う)が存在している。このような状態において、送信コ
イル20と受信コイル30を管10内を一緒に移動させ
る。そして、送信コイル20から直接磁場を発生し、そ
の直接磁場によって、管10に渦電流が発生し、その渦
電流の発生によって、間接磁場が発生する。その間接磁
場を受信コイル30が捉えて電圧として出力する。した
がって、腐食凹み40があるところで、受信コイル30
の発生電圧が腐食凹み40が無いところに比べて変化す
る。この変化を捉えて腐食凹み40を検出する。このよ
うな探傷方法をシミュレーション化するものである。
ン装置が前提とする探傷管、送信コイル、受信コイルな
どを用いて管の傷を探傷する状況を示す概念図である。
同図において、肉厚dを有する鋼管10の中に送信コイ
ル20が配設され、管10内を軸方向に移動できるよう
になっている。また、その送信コイル20から所定間隔
をおいて受信コイル30が配設されている。また、管1
0の外面には、腐食した凹み40(以後腐食凹みとい
う)が存在している。このような状態において、送信コ
イル20と受信コイル30を管10内を一緒に移動させ
る。そして、送信コイル20から直接磁場を発生し、そ
の直接磁場によって、管10に渦電流が発生し、その渦
電流の発生によって、間接磁場が発生する。その間接磁
場を受信コイル30が捉えて電圧として出力する。した
がって、腐食凹み40があるところで、受信コイル30
の発生電圧が腐食凹み40が無いところに比べて変化す
る。この変化を捉えて腐食凹み40を検出する。このよ
うな探傷方法をシミュレーション化するものである。
【0021】図2は、第1の本発明の管電磁場シミュレ
ーション装置を示すブロック図である。同図において、
入力手段1は、キーボード、マウス等であって、以下の
ような各種データを入力するための手段である。
ーション装置を示すブロック図である。同図において、
入力手段1は、キーボード、マウス等であって、以下の
ような各種データを入力するための手段である。
【0022】探傷対象である管の管径、管肉厚、管長さ
等の寸法データ、管の比透磁率、管の導電率、送信コイ
ルの寸法(外径、長さ)、送信コイルの巻数、励磁電流
の大きさ、励磁電流の周波数、送信コイルと受信コイル
の間隔、受信コイルの寸法(外形、長さ)、受信コイル
の巻数、受信コイルと管内面の間隔(リフトオフ)、受
信コイルの向き(管軸方向、半径方向、又は周方向)、
欠陥(腐食凹み)の形状、寸法、欠陥の位置、更に次の
ような計算条件。
等の寸法データ、管の比透磁率、管の導電率、送信コイ
ルの寸法(外径、長さ)、送信コイルの巻数、励磁電流
の大きさ、励磁電流の周波数、送信コイルと受信コイル
の間隔、受信コイルの寸法(外形、長さ)、受信コイル
の巻数、受信コイルと管内面の間隔(リフトオフ)、受
信コイルの向き(管軸方向、半径方向、又は周方向)、
欠陥(腐食凹み)の形状、寸法、欠陥の位置、更に次の
ような計算条件。
【0023】計算条件:送信コイルのスキャン長さ(管
軸方向の始点と終点)、管軸方向の計算点数、管周方向
の受信コイル数、受信コイルの周方向間隔等 無欠陥解析手段2は、その入力手段1からの各種データ
の全部又は一部を利用して、管に欠陥が無いものとし
て、その管の電磁場分布を解析する手段である。後に詳
述する。
軸方向の始点と終点)、管軸方向の計算点数、管周方向
の受信コイル数、受信コイルの周方向間隔等 無欠陥解析手段2は、その入力手段1からの各種データ
の全部又は一部を利用して、管に欠陥が無いものとし
て、その管の電磁場分布を解析する手段である。後に詳
述する。
【0024】第1等価電流源演算手段3は、入力手段1
から入力された各種データの全部又は一部、及び無欠陥
解析手段2による解析結果を利用して、ボーン近似法に
よる繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源を求め
る手段である。後に詳述する。
から入力された各種データの全部又は一部、及び無欠陥
解析手段2による解析結果を利用して、ボーン近似法に
よる繰り返し演算によって、欠陥と等価な電流源を求め
る手段である。後に詳述する。
【0025】管電磁場解析手段4は、第1等価電流源演
算手段3による演算結果を利用して、欠陥のある管の電
磁場を解析する手段である。後に詳述する。
算手段3による演算結果を利用して、欠陥のある管の電
磁場を解析する手段である。後に詳述する。
【0026】表示手段5は、この管電磁場解析手段4に
よる解析結果を表示する、ディスプレイ、プリンタなど
の手段である。
よる解析結果を表示する、ディスプレイ、プリンタなど
の手段である。
【0027】図3は、第2の本発明の管電磁場シミュレ
ーション装置を示すブロック図である。第1の本発明と
異なるところは、送信コイルを管内で移動させながら、
シミュレーションを行うことを考慮し、その場合の簡便
な演算方法を実現するため、第1等価電流源演算手段3
の代わりに、第2等価電流源演算手段6を採用したとこ
ろにある。
ーション装置を示すブロック図である。第1の本発明と
異なるところは、送信コイルを管内で移動させながら、
シミュレーションを行うことを考慮し、その場合の簡便
な演算方法を実現するため、第1等価電流源演算手段3
の代わりに、第2等価電流源演算手段6を採用したとこ
ろにある。
【0028】以下に、第1の本発明と、第2の本発明の
実施例の動作を同時に説明する。
実施例の動作を同時に説明する。
【0029】図4は、第2の本発明の実施例の動作を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【0030】入力手段1によって、シミュレーションに
必要な上記各種データを入力する(ステップS1)。そ
の中には、送信コイル及び受信コイルの移動の態様、す
なわち、スタート位置から終点位置までの測定位置など
のデータが含まれている。次に、欠陥内のメッシュ切り
と番号付けを行う(ステップS2)。管全体のメッシュ
切り出はないので、数は非常に少ない。全体についてメ
ッシュ切りを行う場合に比べて、約数10分の1に低減
できる。そこで、シミュレーションを始める(ステップ
S3)。
必要な上記各種データを入力する(ステップS1)。そ
の中には、送信コイル及び受信コイルの移動の態様、す
なわち、スタート位置から終点位置までの測定位置など
のデータが含まれている。次に、欠陥内のメッシュ切り
と番号付けを行う(ステップS2)。管全体のメッシュ
切り出はないので、数は非常に少ない。全体についてメ
ッシュ切りを行う場合に比べて、約数10分の1に低減
できる。そこで、シミュレーションを始める(ステップ
S3)。
【0031】無欠陥解析手段2によって、管に欠陥が無
いものとして、電磁場分布を計算し、欠陥が存在する位
置における電磁場の大きさを求める(ステップS4)。
いものとして、電磁場分布を計算し、欠陥が存在する位
置における電磁場の大きさを求める(ステップS4)。
【0032】その解析のための前提的理論を次に示す。
【0033】いま図5のようになっているとする。受信
コイルに発生する電圧Vは電磁誘導の法則より、
コイルに発生する電圧Vは電磁誘導の法則より、
【0034】
【数1】V=iω∫coilB1(ヘ゛クトル)・n(ヘ゛クトル)dS となる。
【0035】さらに、 B1(ヘ゛クトル)=▽×A1(ヘ゛クトル) (但し1は領域1を示
す)なので、A1(ヘ゛クトル)を求めればよいことになる。こ
のことは、次に示すマックスウェルの方程式のベクトル
ポテンシャルによる表示から分かる。
す)なので、A1(ヘ゛クトル)を求めればよいことになる。こ
のことは、次に示すマックスウェルの方程式のベクトル
ポテンシャルによる表示から分かる。
【0036】すなわち、物質(導電率:σ、透磁率:
μ)中に電流源js(ヘ゛クトル)が存在する場合の物質中の
電界E(ヘ゛クトル)及び磁界B(ヘ゛クトル)の分布は次のマックス
ウェルの方程式を満たす。
μ)中に電流源js(ヘ゛クトル)が存在する場合の物質中の
電界E(ヘ゛クトル)及び磁界B(ヘ゛クトル)の分布は次のマックス
ウェルの方程式を満たす。
【0037】
【数2】▽×E(ヘ゛クトル)=−iωμH(ヘ゛クトル)
【0038】
【数3】▽×H(ヘ゛クトル)=js(ヘ゛クトル)+σE(ヘ゛クトル) (参考文献:長岡洋介著「電磁気学II」 岩波書店
P315) (数2)の回転をとり(数3)を代入すると、
P315) (数2)の回転をとり(数3)を代入すると、
【0039】
【数4】 ▽×▽×E(ヘ゛クトル)=−iωμ▽×H(ヘ゛クトル) =−iωμjs(ヘ゛クトル)−iωμσE(ヘ゛クトル) ここで、B(ヘ゛クトル)=▽×A(ヘ゛クトル)なるベクトルポテン
シャルA(ヘ゛クトル)を導入する。
シャルA(ヘ゛クトル)を導入する。
【0040】(数2)より ▽×E(ヘ゛クトル)=−iωB
(ヘ゛クトル)=−iω▽×A(ヘ゛クトル)=▽×(−iωA)
(ヘ゛クトル)=−iω▽×A(ヘ゛クトル)=▽×(−iωA)
【0041】
【数5】∴ E(ヘ゛クトル)=−iωA(ヘ゛クトル) (数5)を(数4)に代入すれば、
【0042】
【数6】 ▽×▽×A(ヘ゛クトル)+iωμσA(ヘ゛クトル)=μjs(ヘ゛クトル) となる。
【0043】管内に送信コイルがあり、JT(ヘ゛クトル)なる
送信電流が流れている場合の管内のベクトルポテンシャ
ルをA1(ヘ゛クトル)とすればσ1=0なので、
送信電流が流れている場合の管内のベクトルポテンシャ
ルをA1(ヘ゛クトル)とすればσ1=0なので、
【0044】
【数7】▽×▽×A1(ヘ゛クトル)=μ0jT(ヘ゛クトル) 但し、μ0:空気の透磁率 となる。
【0045】管肉厚部のベクトルポテンシャルをA2(ヘ゛
クトル)とすれば、
クトル)とすれば、
【0046】
【数8】 ▽×▽×A2(ヘ゛クトル)+iωμσA2(ヘ゛クトル)=μjF(ヘ゛クトル) 但し、jF(ヘ゛クトル):欠陥と等価な電流源 管の外側のベクトルポテンシャルをA3(ヘ゛クトル)とすれ
ば、
ば、
【0047】
【数9】▽×▽×A3(ヘ゛クトル)=0 このように、このようなマックスウェルの方程式のベク
トルポテンシャルによる表示から、A1(ヘ゛クトル)を求めれ
ば良いことが分かる。
トルポテンシャルによる表示から、A1(ヘ゛クトル)を求めれ
ば良いことが分かる。
【0048】そこで、A1(ヘ゛クトル)を求めるには次の3つ
の式を解く必要がある。
の式を解く必要がある。
【0049】
【数10】▽×▽×A1(ヘ゛クトル)=μ0jT(ヘ゛クトル)
【0050】
【数11】 ▽×▽×A2(ヘ゛クトル)+iωμσA2(ヘ゛クトル)=μjF(ヘ゛クトル)
【0051】
【数12】▽×▽×A3(ヘ゛クトル)=0 ここで、jT(ヘ゛クトル)は送信コイルの電流密度、jF(ヘ゛クト
ル)は欠陥と等価な電流密度で、
ル)は欠陥と等価な電流密度で、
【0052】
【数13】 jF(ヘ゛クトル)= ((μ−μ0)/μ)(δ(χ(ヘ゛クトル)−χs(ヘ゛クトル)(χ(ヘ゛クトル)))n(ヘ゛クトル) ×H(ヘ゛クトル)−σE(ヘ゛クトル) が成立する。ただし、δは、Diracのデルタ関数であ
る。これは、次のような欠陥と等価な電流源の求め方か
ら分かる。
る。これは、次のような欠陥と等価な電流源の求め方か
ら分かる。
【0053】すなわち、物質中のマックスウェルの方程
式は
式は
【0054】
【数14】 ▽×E(ヘ゛クトル)=−iωμ(χ(ヘ゛クトル))H(ヘ゛クトル)
【0055】
【数15】▽×H(ヘ゛クトル)=σ(χ(ヘ゛クトル))E(ヘ゛クトル) 但し、μ、σは位置χ(ヘ゛クトル)の関数とする。
【0056】次に、Bs(ヘ゛クトル)、Js(ヘ゛クトル)を次式で
与える。
与える。
【0057】
【数16】 Bs(ヘ゛クトル)=[μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]H(ヘ゛クトル)
【0058】
【数17】 Js(ヘ゛クトル)=[σ(χ(ヘ゛クトル))−σ]E(ヘ゛クトル) 但し、σ、μは定数 μ(χ(ヘ゛クトル))、σ(χ(ヘ゛クトル))の分布を次のように
仮定する。
仮定する。
【0059】
【数18】μ(χ(ヘ゛クトル))=μ0 (欠陥の中)
【0060】
【数19】μ(χ(ヘ゛クトル))=μ (欠陥の外)
【0061】
【数20】σ(χ(ヘ゛クトル))=0 (欠陥の中)
【0062】
【数21】σ(χ(ヘ゛クトル))=σ (欠陥の外) 従って、上記Bs(ヘ゛クトル)、Js(ヘ゛クトル)は
【0063】
【数22】 Bs(ヘ゛クトル)=[μ0−μ]H(ヘ゛クトル) (欠陥の中)
【0064】
【数23】 Bs(ヘ゛クトル)=0 (欠陥の外)
【0065】
【数24】 Js(ヘ゛クトル)=−σE(ヘ゛クトル) (欠陥の中)
【0066】
【数25】 Js(ヘ゛クトル)=0 (欠陥の外) 即ち、Bs(ヘ゛クトル)、Js(ヘ゛クトル)は欠陥の表面で不連続
である。
である。
【0067】(数14)、(数15)に(数16)、
(数17)を代入すると、
(数17)を代入すると、
【0068】
【数26】 ▽×E(ヘ゛クトル)=−iωBs(ヘ゛クトル)−iωμH(ヘ゛クトル)
【0069】
【数27】▽×H(ヘ゛クトル)=Js(ヘ゛クトル)+σE(ヘ゛クトル) (数26)の回転をとり(数27)を代入すると、 ▽×▽×E(ヘ゛クトル)=−iω▽×Bs(ヘ゛クトル)−iωμ▽×H(ヘ゛クトル) =−iω▽×Bs(ヘ゛クトル)−iωμJs(ヘ゛クトル) −iωμσE(ヘ゛クトル) 従って、
【0070】
【数28】 ▽×▽×E(ヘ゛クトル)+iωμσE(ヘ゛クトル)=−iωμJf(ヘ゛クトル) ここで、
【0071】
【数29】 Jf(ヘ゛クトル)=(1/μ)▽×Bs(ヘ゛クトル)+Js(ヘ゛クトル) (数28)にE(ヘ゛クトル)=−iωA(ヘ゛クトル)(上記マクッ
スウェルの方程式のベクトルポテンシャルによる表示の
説明における(数5)参照)を代入すると、
スウェルの方程式のベクトルポテンシャルによる表示の
説明における(数5)参照)を代入すると、
【0072】
【数30】 ▽×▽×A(ヘ゛クトル)+iωμσA(ヘ゛クトル)=μJf(ヘ゛クトル) (数29)と上記マクッスウェルの方程式のベクトルポ
テンシャルによる表示の説明における数6を対比すれ
ば、欠陥が存在する場合のベクトルポテンシャルA(ヘ゛ク
トル)を求めるには、欠陥に等価な電流源Jf(ヘ゛クトル)が存
在する一様な物質中のA(ヘ゛クトル)を求める事に帰着す
る。
テンシャルによる表示の説明における数6を対比すれ
ば、欠陥が存在する場合のベクトルポテンシャルA(ヘ゛ク
トル)を求めるには、欠陥に等価な電流源Jf(ヘ゛クトル)が存
在する一様な物質中のA(ヘ゛クトル)を求める事に帰着す
る。
【0073】(数16)、(数17)、及び(数29)
より、
より、
【0074】
【数31】 Jf(ヘ゛クトル)=(1/μ)▽×[μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]H(ヘ゛クトル) +[σ(χ(ヘ゛クトル))−σ]E(ヘ゛クトル) =(1/μ)▽[μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]×H(ヘ゛クトル) +([μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]/μ)▽×H +[σ(χ(ヘ゛クトル))−σ]E(ヘ゛クトル) 欠陥の外では(数19)よりμ(χ(ヘ゛クトル))−μ=0
であり、欠陥の中では(数18)よりμ(χ(ヘ゛クトル))
−μ=μ0−μ=const.であるので、▽[μ(χ(ヘ゛クト
ル))−μ]は欠陥の表面以外は0である。
であり、欠陥の中では(数18)よりμ(χ(ヘ゛クトル))
−μ=μ0−μ=const.であるので、▽[μ(χ(ヘ゛クト
ル))−μ]は欠陥の表面以外は0である。
【0075】ここで欠陥表面の微小区間εでμ(χ(ヘ゛ク
トル))がμからμ0に変化すると仮定する。欠陥の表面に
垂直で表面から欠陥に向かう単位ベクトルをn(ヘ゛クトル)
とすると、 μ(χ(ヘ゛クトル))=μ−(ξ/ε)(μ−μ0) 但し、ξはn(ヘ゛クトル)方向の任意の距離である。
トル))がμからμ0に変化すると仮定する。欠陥の表面に
垂直で表面から欠陥に向かう単位ベクトルをn(ヘ゛クトル)
とすると、 μ(χ(ヘ゛クトル))=μ−(ξ/ε)(μ−μ0) 但し、ξはn(ヘ゛クトル)方向の任意の距離である。
【0076】即ち、 ▽[μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]=−((μ−μ0)/ε)▽ξ =−((μ−μ0)/ε)n(ヘ゛クトル) ここでε→0とすれば、
【0077】
【数32】 ▽[μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]=−(μ−μ0)δ(χ(ヘ゛クトル) −χs(ヘ゛クトル)(χ(ヘ゛クトル)))n(ヘ゛クトル) 但し、δはDiracのデルタ関数 即ち、(数32)は、▽[μ(χ(ヘ゛クトル))−μ]が欠
陥表面以外では0である子とを示す。
陥表面以外では0である子とを示す。
【0078】(数31)の第2項で、欠陥の中ではσ=
0なので、(数15)より、▽×H(ヘ゛クトル)=0。
0なので、(数15)より、▽×H(ヘ゛クトル)=0。
【0079】又、欠陥の外ではμ(χ(ヘ゛クトル))−μ=
0よりだい2項は0である。
0よりだい2項は0である。
【0080】また、(数31)の第3項で、σ(χ(ヘ゛ク
トル))−σは欠陥の外で0であり、欠陥の中ではσ(χ
(ヘ゛クトル))−σ=−σである。
トル))−σは欠陥の外で0であり、欠陥の中ではσ(χ
(ヘ゛クトル))−σ=−σである。
【0081】従って、(数31)は、
【0082】
【数33】 Jf(ヘ゛クトル)=((μ−μ0)/μ)δ(χ(ヘ゛クトル) −χs(ヘ゛クトル)(χ(ヘ゛クトル)))n(ヘ゛クトル)×H(ヘ゛クトル) −σE(ヘ゛クトル) このように、上記(数13)が成立する。故に、欠陥と
等価な電流Jf(ヘ゛クトル)を求めるには、欠陥表面のH(ヘ゛ク
トル)と欠陥内部のE(ヘ゛クトル)が必要となる。
等価な電流Jf(ヘ゛クトル)を求めるには、欠陥表面のH(ヘ゛ク
トル)と欠陥内部のE(ヘ゛クトル)が必要となる。
【0083】そこで、数10〜数12を解くに先立ち、
次の変換を行う。
次の変換を行う。
【0084】
【数34】A1(ヘ゛クトル)=AT(ヘ゛クトル)+ΔA1(ヘ゛クトル) ここでAT(ヘ゛クトル)は送信コイルが自由空間にある場合の
解であり、ΔA1(ヘ゛クトル)は次の斉次方程式を満たす。
解であり、ΔA1(ヘ゛クトル)は次の斉次方程式を満たす。
【0085】
【数35】▽×▽×ΔA1(ヘ゛クトル)=0 (数35)によりA1(ヘ゛クトル)は管内面における境界条件
を自動的に満たす。
を自動的に満たす。
【0086】同様に、
【0087】
【数36】A2(ヘ゛クトル)=A0(ヘ゛クトル)+AF(ヘ゛クトル) とする。但し、 ▽×▽×A0(ヘ゛クトル)+iωμσA0(ヘ゛クトル)=0 ▽×▽×AF(ヘ゛クトル)+iωμσAF(ヘ゛クトル)=μjF(ヘ゛クト
ル) (数10)〜(数12)を解くに当り、円筒座標(r,
φ,z)にこれらの数式を変換する。そしてベクトルポ
テンシャルにフーリエ変換を施すと、
ル) (数10)〜(数12)を解くに当り、円筒座標(r,
φ,z)にこれらの数式を変換する。そしてベクトルポ
テンシャルにフーリエ変換を施すと、
【0088】
【数37】
【0089】(数10)〜(数12)に変数分離法を適
用し各座標成分に分解して表すと次式が得られる。
用し各座標成分に分解して表すと次式が得られる。
【0090】
【数38】
【0091】上式で、a1は領域1の成分を示し、aTは
(数6)のAT(ヘ゛クトル)のフーリエ変換、aFは(数8)
のAF(ヘ゛クトル)のフーリエ変換を示す。また、Jnは第1
種ベッセル関数、H(1)は第1種ハンケル関数であり、
K=|k|、λ=i√(k2+2i/δ2)、また、δは
浸透深さを示す。又、α、β、γは管の内外表面の境界
条件下ら定まる定数である。
(数6)のAT(ヘ゛クトル)のフーリエ変換、aFは(数8)
のAF(ヘ゛クトル)のフーリエ変換を示す。また、Jnは第1
種ベッセル関数、H(1)は第1種ハンケル関数であり、
K=|k|、λ=i√(k2+2i/δ2)、また、δは
浸透深さを示す。又、α、β、γは管の内外表面の境界
条件下ら定まる定数である。
【0092】任意の領域におけるE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)
はa(ヘ゛クトル)と透磁率μより次式で与えられる。
はa(ヘ゛クトル)と透磁率μより次式で与えられる。
【0093】
【数39】
【0094】(数38)の定数α、β、γを求める境界
条件は、 (1)管内面及び管外面でE(ヘ゛クトル)及びH(ヘ゛クトル)の接
線成分が連続である。
条件は、 (1)管内面及び管外面でE(ヘ゛クトル)及びH(ヘ゛クトル)の接
線成分が連続である。
【0095】(2)領域1、2、3において、▽・A(ヘ
゛クトル)=0。
゛クトル)=0。
【0096】これらより、α、β、γの12個の未知数
を求める為の12個の方程式が得られる。
を求める為の12個の方程式が得られる。
【0097】以上、(数1)〜(数39)の数式を利用
して説明したように電磁場分布解析のための前提的理論
が成立する。
して説明したように電磁場分布解析のための前提的理論
が成立する。
【0098】そこで、いま欠陥が無いとすると、aF(ヘ゛
クトル)=0であり、またa(ヘ゛クトル)の成分中、aφ以外の
成分は、0となる。これによって、電磁場分布の境界値
問題を非常に簡単に計算でき、常数βを容易に求められ
る。
クトル)=0であり、またa(ヘ゛クトル)の成分中、aφ以外の
成分は、0となる。これによって、電磁場分布の境界値
問題を非常に簡単に計算でき、常数βを容易に求められ
る。
【0099】次に、送信コイル、受信コイルの位置がス
タートの位置かどうかを調べる(ステップS5)。
タートの位置かどうかを調べる(ステップS5)。
【0100】スタート位置の場合、第2等価電流源演算
手段6は、入力手段1から入力された各種データの全部
又は一部、及び無欠陥解析手段2による解析結果を利用
して、ボーン近似法による繰り返し演算によって、欠陥
と等価な電流源を求める(ステップS6〜S9)。すな
わち、上記(数10)〜(数12)を解くためには、j
F(ヘ゛クトル)が必要となり、そのためには、欠陥内のE(ヘ゛ク
トル)、H(ヘ゛クトル)を知る必要がある。しかし任意の場所の
E(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)を求めるには、(数38)、(数
39)から明らかなように、aF(ヘ゛クトル)、すなわちj
F(ヘ゛クトル)を知る必要がある。そこで、この欠陥内のE(ヘ
゛クトル)、H(ヘ゛クトル)を求めるのにボーン近似法を利用する
ものである。
手段6は、入力手段1から入力された各種データの全部
又は一部、及び無欠陥解析手段2による解析結果を利用
して、ボーン近似法による繰り返し演算によって、欠陥
と等価な電流源を求める(ステップS6〜S9)。すな
わち、上記(数10)〜(数12)を解くためには、j
F(ヘ゛クトル)が必要となり、そのためには、欠陥内のE(ヘ゛ク
トル)、H(ヘ゛クトル)を知る必要がある。しかし任意の場所の
E(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)を求めるには、(数38)、(数
39)から明らかなように、aF(ヘ゛クトル)、すなわちj
F(ヘ゛クトル)を知る必要がある。そこで、この欠陥内のE(ヘ
゛クトル)、H(ヘ゛クトル)を求めるのにボーン近似法を利用する
ものである。
【0101】まず、欠陥が無い場合のE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛
クトル)を上述のようにして求める。このE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛
クトル)を第1次近似として、(数13)に代入し、jF(ヘ゛
クトル)を求める。これにより、(数38)、(数39)に
より、新たなE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)(欠陥が存在する場
合の)を求める。次に、このE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)を第
2次近似として、(数13)に代入し、新たなjF(ヘ゛クト
ル)を求める。これにより、精度のよいE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛
クトル)(欠陥が存在する場合の)を求める(ステップS
7)。この繰り返し計算をE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)が収束
するまで、すなわち計算結果の変化が5%以内になるま
で、繰り返す(ステップS8,S9,S7)。通常4回
で収束する。
クトル)を上述のようにして求める。このE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛
クトル)を第1次近似として、(数13)に代入し、jF(ヘ゛
クトル)を求める。これにより、(数38)、(数39)に
より、新たなE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)(欠陥が存在する場
合の)を求める。次に、このE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)を第
2次近似として、(数13)に代入し、新たなjF(ヘ゛クト
ル)を求める。これにより、精度のよいE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛
クトル)(欠陥が存在する場合の)を求める(ステップS
7)。この繰り返し計算をE(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)が収束
するまで、すなわち計算結果の変化が5%以内になるま
で、繰り返す(ステップS8,S9,S7)。通常4回
で収束する。
【0102】E(ヘ゛クトル)、H(ヘ゛クトル)が収束すると、最終
のa(ヘ゛クトル)、すなわちベクトルポテンシャルA(ヘ゛クトル)
が求められる(ステップS8)。
のa(ヘ゛クトル)、すなわちベクトルポテンシャルA(ヘ゛クトル)
が求められる(ステップS8)。
【0103】次に、送信コイルの位置が最後にきている
か判断する(ステップS12)。未だ来ていない場合
は、送信コイルの位置を一歩進める(ステップS1
0)。そして、上述した、ステップS4へ戻る。この場
合、第2の本発明では、等価電流源の求め方を簡単化し
ている。すなわち、無欠陥解析手段2により得られた、
欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の大きさに比
例して、先に求められている前記等価電流源値を補正し
て、等価電流源を求める(ステップS11)。
か判断する(ステップS12)。未だ来ていない場合
は、送信コイルの位置を一歩進める(ステップS1
0)。そして、上述した、ステップS4へ戻る。この場
合、第2の本発明では、等価電流源の求め方を簡単化し
ている。すなわち、無欠陥解析手段2により得られた、
欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の大きさに比
例して、先に求められている前記等価電流源値を補正し
て、等価電流源を求める(ステップS11)。
【0104】送信コイルが最終位置にきていない場合は
(ステップS12)、更に送信コイルを一歩進めて、さ
きに求められている等価電流源値を補正して、その送信
コイルの位置に対応する等価電流源値を求める。このよ
うな簡便な方法によって、計算時間を数100分の1に
短縮できる。
(ステップS12)、更に送信コイルを一歩進めて、さ
きに求められている等価電流源値を補正して、その送信
コイルの位置に対応する等価電流源値を求める。このよ
うな簡便な方法によって、計算時間を数100分の1に
短縮できる。
【0105】なお、そのような簡便な方法によらず、2
番目以降の送信コイルの位置についても、スタート位置
の場合と同様に、ボーン近似法を利用してもよい。第1
の本発明箱の場合をも権利範囲に含む。
番目以降の送信コイルの位置についても、スタート位置
の場合と同様に、ボーン近似法を利用してもよい。第1
の本発明箱の場合をも権利範囲に含む。
【0106】このようにして、送信コイルが最終位置に
来ると(ステップS12)、それまでに求めたベクトル
ポテンシャルを用いて管電磁場分布を得る(ステップS
13)。
来ると(ステップS12)、それまでに求めたベクトル
ポテンシャルを用いて管電磁場分布を得る(ステップS
13)。
【0107】最後に、その管電磁場分布を表示手段5が
表示する。
表示する。
【0108】図6は第3の本発明を示すブロック図であ
る。
る。
【0109】第1の本発明と異なるところは、管電磁場
解析手段4の結果を踏まえて、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する探傷信号演算手段7を有する点である。
解析手段4の結果を踏まえて、受信コイルに生じる探傷
信号を演算する探傷信号演算手段7を有する点である。
【0110】すなわち、管電磁場解析手段4で得られた
電磁場分布から受信コイルに生じる信号を求める。
電磁場分布から受信コイルに生じる信号を求める。
【0111】具体的には、上述のようにして求められた
ベクトルポテンシャルA(ヘ゛クトル)に、基づいて、(数
1)から受信コイルに発生する電圧Vが得られる。
ベクトルポテンシャルA(ヘ゛クトル)に、基づいて、(数
1)から受信コイルに発生する電圧Vが得られる。
【0112】図7は第4の本発明を示すブロック図であ
る。第2の本発明と異なるところは、管電磁場解析手段
4の結果を踏まえて、受信コイルに生じる探傷信号を演
算する探傷信号演算手段7を有する点である。その内容
は、上述したので省略する。
る。第2の本発明と異なるところは、管電磁場解析手段
4の結果を踏まえて、受信コイルに生じる探傷信号を演
算する探傷信号演算手段7を有する点である。その内容
は、上述したので省略する。
【0113】なお、本発明の手段には、上記実施例で
は、コンピュータを用いてソフトウェア的に実現した
が、これに限らず専用のハード回路を用いてももちろん
よい。
は、コンピュータを用いてソフトウェア的に実現した
が、これに限らず専用のハード回路を用いてももちろん
よい。
【0114】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、シミュレ
ーション手法を利用しているので、実際に探傷対象の管
に合わせて、何種類もの送信コイルや、受信コイルを作
成する必要がなく、しかも、その計算時間は短く、コン
ピュータの必要とされる容量も小さいものですむ。
ーション手法を利用しているので、実際に探傷対象の管
に合わせて、何種類もの送信コイルや、受信コイルを作
成する必要がなく、しかも、その計算時間は短く、コン
ピュータの必要とされる容量も小さいものですむ。
【図1】本発明の管電磁場シミュレーション装置が前提
とする管、送信コイルなどを示す略示断面図である。
とする管、送信コイルなどを示す略示断面図である。
【図2】第1の本発明の管電磁場シミュレーション装置
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図3】第2の本発明の管電磁場シミュレーション装置
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図4】第2の本発明の管電磁場シミュレーション装置
の動作を説明するためのフローチャートである。
の動作を説明するためのフローチャートである。
【図5】本発明における電磁場分布計算のための模式図
である。
である。
【図6】第3の本発明の管電磁場シミュレーション装置
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図7】第4の本発明の管電磁場シミュレーション装置
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
1 入力手段 2 無欠陥解析手段 3 第1等価電流源演算手段 4 管電磁場解析手段 5 表示手段 6 第2等価電流源演算手段 7 探傷信号演算手段
Claims (4)
- 【請求項1】 探傷対象である管の各種データ、送信コ
イルの各種データ、その送信コイルの励磁周波数、欠陥
の各種データ等の各種データを入力するための入力手段
と、その入力手段からの各種データの全部又は一部に基
づき、前記管に欠陥が無いものとして、その管の電磁場
分布を解析する無欠陥解析手段と、前記入力手段から入
力された各種データの全部又は一部、及び前記無欠陥解
析手段による解析結果を利用して、ボーン近似法による
繰り返し演算によって、前記欠陥と等価な電流源を求め
る第1等価電流源演算手段と、その第1等価電流源演算
手段による演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁場
を解析する管電磁場解析手段とを備えたことを特徴とす
る管電磁場シミュレーション装置。 - 【請求項2】 探傷対象である管内で送信コイルを移動
させその管の欠陥を探る管電磁場シミュレーション装置
であって、前記管の各種データ、送信コイルの各種デー
タ、その送信コイルの励磁周波数、前記欠陥の各種デー
タ等の各種データを入力するための入力手段と、その入
力手段からの各種データの全部又は一部に基づき、前記
管に欠陥が無いものとして、その管の電磁場分布を解析
する無欠陥解析手段と、前記送信コイルが最初の位置に
ある場合の演算では、前記入力手段から入力された各種
データの全部又は一部、及び前記無欠陥解析手段による
解析結果を利用して、ボーン近似法による繰り返し演算
によって、前記欠陥と等価な電流源を求め、前記送信コ
イルが2番目以降の位置にある場合の演算では、前記無
欠陥解析手段により得られた、欠陥が無い場合の欠陥位
置における電磁場の大きさに比例して、先に求められて
いる前記等価電流源を補正して、2番目以降の位置にあ
る場合の等価電流源を求める第2等価電流源演算手段
と、その第2等価電流源演算手段による演算結果を利用
して、欠陥のある管の電磁場を解析する管電磁場解析手
段とを備えたことを特徴とする管電磁場シミュレーショ
ン装置。 - 【請求項3】 探傷対象である管の各種データ、送信コ
イルの各種データ、その送信コイルの励磁周波数、欠陥
の各種データ、受信コイルの各種データ、前記送信コイ
ルと前記受信コイルとの距離等の各種データを入力する
ための入力手段と、前記その入力手段からの各種データ
の全部又は一部に基づき、管に欠陥が無いものとして、
その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段と、前記
入力手段から入力された各種データの全部又は一部、及
び前記無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボー
ン近似法による繰り返し演算によって、前記欠陥と等価
な電流源を求める第1等価電流源演算手段と、その第1
等価電流源演算手段による演算結果を利用して、欠陥の
ある管の電磁場を解析する管電磁場解析手段と、前記管
電磁場解析手段による解析結果を利用して、前記受信コ
イルに生じる探傷信号を演算する探傷信号演算手段とを
備えたことを特徴とする管電磁場シミュレーション装
置。 - 【請求項4】 探傷対象である管内で送信コイル及び受
信コイルを移動させその管の欠陥を探る管電磁場シミュ
レーション装置であって、前記管の各種データ、送信コ
イルの各種データ、その送信コイルの励磁周波数、欠陥
の各種データ、受信コイルの各種データ、前記送信コイ
ルと前記受信コイルとの距離等の各種データを入力する
ための入力手段と、その入力手段からの各種データの全
部又は一部に基づき、前記管に欠陥が無いものとして、
その管の電磁場分布を解析する無欠陥解析手段と、前記
送信コイルが最初の位置にある場合の演算では、前記入
力手段から入力された各種データの全部又は一部、及び
前記無欠陥解析手段による解析結果を利用して、ボーン
近似法による繰り返し演算によって、前記欠陥と等価な
電流源を求め、前記送信コイルが2番目以降の位置にあ
る場合の演算では、前記前記無欠陥解析手段で得られ
た、欠陥が無い場合の欠陥位置における電磁場の大きさ
に比例して、先に求められている前記等価電流源を補正
して、2番目以降の位置にある場合の等価電流源を求め
る第2等価電流源演算手段と、その第2等価電流源演算
手段による演算結果を利用して、欠陥のある管の電磁場
を解析する管電磁場解析手段と、前記管電磁場解析手段
による解析結果を利用して、前記受信コイルに生じる探
傷信号を演算する探傷信号演算手段とを備えたことを特
徴とする管電磁場シミュレーション装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/818,148 US5270647A (en) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | Pipe electromagnetic field simulation apparatus using Born's approximation rule |
| US07/818148 | 1992-01-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05240841A true JPH05240841A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=25224794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34195692A Pending JPH05240841A (ja) | 1992-01-08 | 1992-12-22 | 管電磁場シミュレーション装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5270647A (ja) |
| JP (1) | JPH05240841A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2768900B2 (ja) * | 1994-05-10 | 1998-06-25 | 富士通株式会社 | 電磁界強度算出装置 |
| US5903477A (en) * | 1996-04-10 | 1999-05-11 | Fujitsu Limited | Simulation apparatus and simulation method for electromagnetic field intensity using moment method |
| US6281678B1 (en) | 2000-02-29 | 2001-08-28 | Gene R Auville | Tri-tip probe |
| US8076928B2 (en) * | 2005-05-13 | 2011-12-13 | Nunally Patrick O'neal | System and method for in-situ integrity and performance monitoring of operating metallic and non-metallic natural gas transmission and delivery pipelines using ultra wideband point-to point and point-to point and point-to-multipoint communication |
| EP1795920B1 (en) * | 2005-12-09 | 2013-07-17 | Services Pétroliers Schlumberger | An electromagnetic imaging method and device |
| JP5299800B2 (ja) * | 2011-10-25 | 2013-09-25 | 新日鐵住金株式会社 | 浸炭検知方法 |
| EP3132116A4 (en) | 2014-07-11 | 2018-04-25 | Halliburton Energy Services, Inc. | Holographic techniques for corrosion evaluation of wellbore pipes |
| EP3143250A4 (en) * | 2014-07-11 | 2018-01-10 | Halliburton Energy Services, Inc. | Casing defect determination using stored defect response information |
| WO2017011078A1 (en) * | 2015-07-10 | 2017-01-19 | Halliburton Energy Services, Inc. | High quality visualization in a corrosion inspection tool for multiple pipes |
| WO2017082912A1 (en) * | 2015-11-12 | 2017-05-18 | Halliburton Energy Services, Inc. | Two-dimensional imaging with multi-stage processing |
| CN105467455B (zh) * | 2015-11-20 | 2018-10-23 | 北京瑞芯谷科技有限公司 | 一种利用地下电子标识器精准查找地下设施的方法 |
| EP3182173A1 (en) * | 2015-12-16 | 2017-06-21 | Services Pétroliers Schlumberger | Deconvolution of electromagnetic thickness measurement |
| EP3779430A4 (en) * | 2018-03-27 | 2021-12-22 | Nippon Steel Corporation | METHOD AND DEVICE FOR DETECTING METAL RESIDUE IN A RESISTANCE-WELDED STEEL PIPE |
| CN116840927A (zh) * | 2022-03-24 | 2023-10-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 基于Born近似的裂缝性地层感应测井仪器电磁场高精度正演方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3693075A (en) * | 1969-11-15 | 1972-09-19 | Forster F M O | Eddy current system for testing tubes for defects,eccentricity,and wall thickness |
| US4763274A (en) * | 1986-06-24 | 1988-08-09 | Westinghouse Electric Corp. | Machine implemented analysis eddy current data |
| US4855677A (en) * | 1988-03-11 | 1989-08-08 | Westinghouse Electric Corp. | Multiple coil eddy current probe and method of flaw detection |
-
1992
- 1992-01-08 US US07/818,148 patent/US5270647A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-22 JP JP34195692A patent/JPH05240841A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5270647A (en) | 1993-12-14 |
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