JPH05247134A - 光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物Info
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Abstract
(57)【要約】
【目 的】光学的造形用樹脂組成物の造形物の表面に付
着している未硬化物は水で洗浄ができ、又、造形物の歪
みが少なく、寸法精度に優れた光学的造形用樹脂組成物
及びその硬化物を提供する。 【構 成】特定の構造を有するエポキシ(メタ)アクリ
レート(A)、希釈剤として水に可溶な反応性単量体
(B)及び光重合性開始剤(C)を含有することを特徴
とする光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物。
着している未硬化物は水で洗浄ができ、又、造形物の歪
みが少なく、寸法精度に優れた光学的造形用樹脂組成物
及びその硬化物を提供する。 【構 成】特定の構造を有するエポキシ(メタ)アクリ
レート(A)、希釈剤として水に可溶な反応性単量体
(B)及び光重合性開始剤(C)を含有することを特徴
とする光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、活性エネルギー線硬化
型の光学的造形用樹脂組成物に関する。
型の光学的造形用樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、塗料用、インキ用、接着剤用、感
光樹脂版用などの光硬化性組成物が知られている。
光樹脂版用などの光硬化性組成物が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光硬化
性組成物は該組成物に光束を照射して、照射された部分
を硬化させた後にさらに硬化物の周辺部の未硬化の部分
に光束を照射して硬化させ、以後これを繰り返して立体
形状の硬化体を製造する光学的造形物を得るための光学
的造形物用樹脂組成物として用いると、立体形状の硬化
体を製造中に硬化体に歪や亀裂が発生したり、硬化体が
得られても、その寸法精度が劣るという問題がある。
又、硬化体を取り出す場合、未硬化部分を溶剤類で洗浄
しなければならず毒性があったり汚染の問題等がある。
性組成物は該組成物に光束を照射して、照射された部分
を硬化させた後にさらに硬化物の周辺部の未硬化の部分
に光束を照射して硬化させ、以後これを繰り返して立体
形状の硬化体を製造する光学的造形物を得るための光学
的造形物用樹脂組成物として用いると、立体形状の硬化
体を製造中に硬化体に歪や亀裂が発生したり、硬化体が
得られても、その寸法精度が劣るという問題がある。
又、硬化体を取り出す場合、未硬化部分を溶剤類で洗浄
しなければならず毒性があったり汚染の問題等がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究した結果、立体形状の硬化体
の製造中に硬化体に歪や亀裂等が発生せず寸法精度にも
優れ、未硬化部分は水で洗浄ができ、立体形状の硬化体
の製造に適した光学造形用樹脂組成物及びその硬化物を
提供することに成功した。
題を解決するため鋭意研究した結果、立体形状の硬化体
の製造中に硬化体に歪や亀裂等が発生せず寸法精度にも
優れ、未硬化部分は水で洗浄ができ、立体形状の硬化体
の製造に適した光学造形用樹脂組成物及びその硬化物を
提供することに成功した。
【0005】即ち、本発明は、 1 式(1)
【0006】
【化3】
【0007】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して
水素原子又は炭素数1〜4個のアルキル基、R3 は水素
原子又はメチル基、nは0又は1以上の整数であり、M
は水素原子又は
水素原子又は炭素数1〜4個のアルキル基、R3 は水素
原子又はメチル基、nは0又は1以上の整数であり、M
は水素原子又は
【0008】
【化4】
【0009】である。)で表されるエポキシ(メタ)ア
クリレート(A)、希釈剤として水に可溶な反応性単量
体(B)及び光重合性開始剤(C)を含有することを特
徴とする光学的造形用樹脂組成物、及び 2 上記1記載の樹脂組成物の硬化物、 に関する。
クリレート(A)、希釈剤として水に可溶な反応性単量
体(B)及び光重合性開始剤(C)を含有することを特
徴とする光学的造形用樹脂組成物、及び 2 上記1記載の樹脂組成物の硬化物、 に関する。
【0010】本発明に使用する前記式(1)で表される
エポキシ(メタ)アクリレート(A)は、式(2)で表
されるエポキシ樹脂と
エポキシ(メタ)アクリレート(A)は、式(2)で表
されるエポキシ樹脂と
【0011】
【化5】
【0012】(式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立し
て水素原子又は炭素数1〜4個のアルキル基、nは0又
は1以上の整数であり、Xは水素原子又はグリシジル基
である。)(メタ)アクリル酸を反応させることにより
得ることができる。式(2)で表されるエポキシ樹脂
は、種々の方法で得ることができるが、一つの好ましい
方法は式(3)で表される化合物、
て水素原子又は炭素数1〜4個のアルキル基、nは0又
は1以上の整数であり、Xは水素原子又はグリシジル基
である。)(メタ)アクリル酸を反応させることにより
得ることができる。式(2)で表されるエポキシ樹脂
は、種々の方法で得ることができるが、一つの好ましい
方法は式(3)で表される化合物、
【0013】
【化6】
【0014】(式中、R1 ,R2 及びnは、式(1)の
ものと同じ意味を表す。)のアルコール性水酸基とエピ
クロルヒドリンとの反応を行うことにより得ることがで
きる。式(3)で表される化合物は、式(4)で示され
るヒダントイン化合物、
ものと同じ意味を表す。)のアルコール性水酸基とエピ
クロルヒドリンとの反応を行うことにより得ることがで
きる。式(3)で表される化合物は、式(4)で示され
るヒダントイン化合物、
【0015】
【化7】
【0016】(式中、R1 及びR2 は式(1)のものと
同じ意味を表す。)例えば、ヒダントイン、5,5−ジ
メチルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、
5−エチル−5−メチルヒダントイン、5,5−ジプロ
ピルヒダントイン等と式(5)で表される化合物を
同じ意味を表す。)例えば、ヒダントイン、5,5−ジ
メチルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、
5−エチル−5−メチルヒダントイン、5,5−ジプロ
ピルヒダントイン等と式(5)で表される化合物を
【0017】
【化8】
【0018】(式中、R1 及びR2 は式(1)のものと
同じ意味を表す。)式(5)で表される化合物1モルに
対して、式(4)で表される化合物を通常0〜0.5モ
ルの割合で反応温度を通常130〜160℃で通常5〜
10時間反応させて得ることができる。
同じ意味を表す。)式(5)で表される化合物1モルに
対して、式(4)で表される化合物を通常0〜0.5モ
ルの割合で反応温度を通常130〜160℃で通常5〜
10時間反応させて得ることができる。
【0019】式(2)で表されるエポキシ樹脂を得るさ
いに使用するエピクロルヒドリンの使用量は、式(3)
におけるアルコール性水酸基1当量に対して1当量以上
使用するのが好ましい。しかしながら水酸基1当量に対
して15倍当量を超えると増量した効果はほとんどなく
なり、容積効率も悪くなり好ましくない。式(3)で表
される化合物とエピクロルヒドリンとを反応させる際に
触媒として第四アンモニウム塩、例えば、テトラメチル
アンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロライド等を使用することが好ましい。その使用
量は式(3)におけるアルコール性水酸基1当量に対し
て0.3〜50gの範囲で使用するのが好ましい。
いに使用するエピクロルヒドリンの使用量は、式(3)
におけるアルコール性水酸基1当量に対して1当量以上
使用するのが好ましい。しかしながら水酸基1当量に対
して15倍当量を超えると増量した効果はほとんどなく
なり、容積効率も悪くなり好ましくない。式(3)で表
される化合物とエピクロルヒドリンとを反応させる際に
触媒として第四アンモニウム塩、例えば、テトラメチル
アンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロライド等を使用することが好ましい。その使用
量は式(3)におけるアルコール性水酸基1当量に対し
て0.3〜50gの範囲で使用するのが好ましい。
【0020】反応中にアルカリ金属水酸化物(例えば、
苛性ソーダ、苛性カリ、水酸化リチウム、水酸化カルシ
ウム等)を使用するのが好ましい。アルカリ金属水酸化
物の使用量は、式(3)で表される化合物のエポキシ化
したアルコール性水酸基1当量に対してほぼ当量使用す
るのが好ましい。アルカリ金属水酸化物は固形でも水溶
液でも構わない。また水溶液を使用する場合は、反応
中、反応系内の水は常圧下、又は減圧下において反応系
外に留去しながら反応を行うことができる。
苛性ソーダ、苛性カリ、水酸化リチウム、水酸化カルシ
ウム等)を使用するのが好ましい。アルカリ金属水酸化
物の使用量は、式(3)で表される化合物のエポキシ化
したアルコール性水酸基1当量に対してほぼ当量使用す
るのが好ましい。アルカリ金属水酸化物は固形でも水溶
液でも構わない。また水溶液を使用する場合は、反応
中、反応系内の水は常圧下、又は減圧下において反応系
外に留去しながら反応を行うことができる。
【0021】反応温度は30〜100℃が好ましく、反
応温度が30℃未満であると反応が遅くなり長時間の反
応が必要となる。反応温度が100℃を超えると副反応
が多く起り好ましくない。反応終了後、過剰のエピクロ
ルヒドリンを減圧下留去した後、有機溶剤に樹脂を溶解
させアルカリ金属水酸化物で脱ハロゲン化水素反応を行
うことができる。有機溶剤としては、メチルイソブチル
ケトン、トルエン、キシレン等が使用できるが、メチル
イソブチルケトンの使用が好ましい。
応温度が30℃未満であると反応が遅くなり長時間の反
応が必要となる。反応温度が100℃を超えると副反応
が多く起り好ましくない。反応終了後、過剰のエピクロ
ルヒドリンを減圧下留去した後、有機溶剤に樹脂を溶解
させアルカリ金属水酸化物で脱ハロゲン化水素反応を行
うことができる。有機溶剤としては、メチルイソブチル
ケトン、トルエン、キシレン等が使用できるが、メチル
イソブチルケトンの使用が好ましい。
【0022】エポキシ(メタ)アクリレート(A)は、
式(2)で表されるエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に
対して(メタ)アクリル酸を好ましくは約0.5〜1.
5当量、特に好ましくは約0.8〜1.1当量となる比
で反応させ、反応を促進させるために触媒、(例えば、
トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、メチルト
リエチルアンモニウムクロライド、トリフェニルスチビ
ン、トリフェニルフォスフィン等)を使用するのが好ま
しく、該触媒の使用量は反応原料混合物に対して0.1
〜10重量の範囲で使用するのが好ましい。反応中の重
合を防止するために重合防止性(例えば、メトキノン、
ハイドロキノン、フェノチアジン等)を使用するのが好
ましく、その使用量は、反応原料混合物に対して0.0
1〜1重量%の範囲で使用するのが好ましい。反応温度
は通常60〜150℃である。又、反応時間は通常5〜
60時間である。
式(2)で表されるエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に
対して(メタ)アクリル酸を好ましくは約0.5〜1.
5当量、特に好ましくは約0.8〜1.1当量となる比
で反応させ、反応を促進させるために触媒、(例えば、
トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、メチルト
リエチルアンモニウムクロライド、トリフェニルスチビ
ン、トリフェニルフォスフィン等)を使用するのが好ま
しく、該触媒の使用量は反応原料混合物に対して0.1
〜10重量の範囲で使用するのが好ましい。反応中の重
合を防止するために重合防止性(例えば、メトキノン、
ハイドロキノン、フェノチアジン等)を使用するのが好
ましく、その使用量は、反応原料混合物に対して0.0
1〜1重量%の範囲で使用するのが好ましい。反応温度
は通常60〜150℃である。又、反応時間は通常5〜
60時間である。
【0023】本発明の樹脂組成物に使用する希釈剤とし
て水に可溶な反応性単量体(B)としては、例えば、N
−ビニルピロリドン、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートジ(メ
タ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレー
ト、グリセリントリグリシジルエーテルトリ(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアマイド、イ
ソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチ
ル(メタ)アクリルアマイド等のモノマー類を挙げるこ
とができる。
て水に可溶な反応性単量体(B)としては、例えば、N
−ビニルピロリドン、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートジ(メ
タ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレー
ト、グリセリントリグリシジルエーテルトリ(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアマイド、イ
ソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチ
ル(メタ)アクリルアマイド等のモノマー類を挙げるこ
とができる。
【0024】次に、光重合性開始剤(C)の代表的なも
のとしては、例えば4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、ベンジル
ジメチルケタール、2,4−ジエチルチオキサントン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンイソプロ
ピルチオキサントン、2−メチル−1−〔4−(メチル
チオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパン−1−オ
ン等を挙げることができる。これらは、単独或は、2種
以上を組合せて用いることができる。
のとしては、例えば4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、ベンジル
ジメチルケタール、2,4−ジエチルチオキサントン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンイソプロ
ピルチオキサントン、2−メチル−1−〔4−(メチル
チオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパン−1−オ
ン等を挙げることができる。これらは、単独或は、2種
以上を組合せて用いることができる。
【0025】本発明の樹脂組成物は、エポキシ(メタ)
アクリレート(A)を100部とした場合、水に可溶な
反応性単量体(B)を好ましくは30〜900部、特に
好ましくは50〜500部と(A)成分+(B)成分の
総量を100部とした場合、光重合性開始剤(C)を、
好ましくは0.5〜25部、特に好ましくは2〜10部
の割合で混合して形成したものが好ましい。本発明の樹
脂組成物は、各成分((A)、(B)、(C))を常温
又は加温して混合溶解することにより得ることができ
る。
アクリレート(A)を100部とした場合、水に可溶な
反応性単量体(B)を好ましくは30〜900部、特に
好ましくは50〜500部と(A)成分+(B)成分の
総量を100部とした場合、光重合性開始剤(C)を、
好ましくは0.5〜25部、特に好ましくは2〜10部
の割合で混合して形成したものが好ましい。本発明の樹
脂組成物は、各成分((A)、(B)、(C))を常温
又は加温して混合溶解することにより得ることができ
る。
【0026】本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を
損わない限り、必要に応じて、顔料、染料等の着色剤、
充填剤、消泡剤、レベリング剤、増粘剤、難燃剤、可塑
剤、溶剤、改質用樹脂、酸化防止剤、光安定剤、紫外線
吸収剤等を適量配合して使用することができる。
損わない限り、必要に応じて、顔料、染料等の着色剤、
充填剤、消泡剤、レベリング剤、増粘剤、難燃剤、可塑
剤、溶剤、改質用樹脂、酸化防止剤、光安定剤、紫外線
吸収剤等を適量配合して使用することができる。
【0027】本発明の樹脂組成物の粘度としては、好ま
しくは常温で7000cps 以下のもの、さらに好ましく
は5000cps 以下のものである。粘度があまり高くな
ると、造形所用時間が長くなるため作業性が悪くなる傾
向がある。一般に造形用樹脂組成物は硬化時に体積収縮
をするので、精度の点から収縮の小さいことが要望され
る。本発明の樹脂組成物の硬化時の体積収縮としては、
好ましくは5%以下のものである。本発明の実施態様と
しては、特開昭60−247515号公報に記載されて
いるように、本発明の光学的造形用樹脂組成物を容器に
収容し、導光体を用いて、前記容器と該導光体とを相対
的に移動しつつ、該導光体から硬化に必要な活性エネル
ギー線を選択的に供給することによって、所望形状の固
体(硬化物)を形成することができる。
しくは常温で7000cps 以下のもの、さらに好ましく
は5000cps 以下のものである。粘度があまり高くな
ると、造形所用時間が長くなるため作業性が悪くなる傾
向がある。一般に造形用樹脂組成物は硬化時に体積収縮
をするので、精度の点から収縮の小さいことが要望され
る。本発明の樹脂組成物の硬化時の体積収縮としては、
好ましくは5%以下のものである。本発明の実施態様と
しては、特開昭60−247515号公報に記載されて
いるように、本発明の光学的造形用樹脂組成物を容器に
収容し、導光体を用いて、前記容器と該導光体とを相対
的に移動しつつ、該導光体から硬化に必要な活性エネル
ギー線を選択的に供給することによって、所望形状の固
体(硬化物)を形成することができる。
【0028】本発明の組成物を硬化する際に使用する活
性エネルギー線としては、紫外線、X線、放射線、或は
高周波等を用いることができる。これらのうちでも、1
800〜5000オングストロームの波長を有する紫外
線が経済的に好ましく、その光源としては、紫外線レー
ザー、水銀ランプ、キセノンランプ、ナトリウムラン
プ、アルカリ金属ランプ等が使用できる。特に好ましい
光源としては、レーザー光源であり、エネルギーレベル
を高めて造形時間を短縮し、良好な集光性を利用して、
造形精度を向上させることが可能である。また、水銀ラ
ンプ等の各種ランプからの紫外線を集光した点光源も有
効である。
性エネルギー線としては、紫外線、X線、放射線、或は
高周波等を用いることができる。これらのうちでも、1
800〜5000オングストロームの波長を有する紫外
線が経済的に好ましく、その光源としては、紫外線レー
ザー、水銀ランプ、キセノンランプ、ナトリウムラン
プ、アルカリ金属ランプ等が使用できる。特に好ましい
光源としては、レーザー光源であり、エネルギーレベル
を高めて造形時間を短縮し、良好な集光性を利用して、
造形精度を向上させることが可能である。また、水銀ラ
ンプ等の各種ランプからの紫外線を集光した点光源も有
効である。
【0029】本発明の樹脂組成物は、活性エネルギー線
によるラジカル重合反応により硬化が進むため、活性エ
ネルギー線照射等、該樹脂組成物を30〜100℃程度
に加熱することにより、架橋反応を効果的に促進するこ
ともできるし、さらに、得られた造形物を通常40〜1
00℃の温度に加熱処理、または水銀ランプなどでUV
照射処理をすることで、より機械強度の優れた造形物を
得ることができる。本発明の光学的造形用樹脂組成物
は、3次元立体モデルを層状形成物の積み重ねによって
作成するための非常に優れたものであり、金型を用いな
いでモデルの創成加工ができ、しかも、自由曲面などC
AD/CAMとドッキングによりあらゆる形状が創成で
き、硬化体の取り出し時、未硬化物を水で洗浄できるな
ど、工業的価値は極めて大きい。例えば、本樹脂組成物
の応用分野としては、設計の途中での外観デザインを審
査するためのモデル、部品相互の組合わせの不都合をチ
ェックするためのモデル、鋳型を製作するための木型、
金型を製作するためのモデルなど、幅広い用途に利用す
ることができる。具体的な適用分野としては、自動車、
電子電機部品、家具、建築構造物、玩具、容器類、鋳
物、人形など、各種曲面体のモデルや加工用があげられ
る。
によるラジカル重合反応により硬化が進むため、活性エ
ネルギー線照射等、該樹脂組成物を30〜100℃程度
に加熱することにより、架橋反応を効果的に促進するこ
ともできるし、さらに、得られた造形物を通常40〜1
00℃の温度に加熱処理、または水銀ランプなどでUV
照射処理をすることで、より機械強度の優れた造形物を
得ることができる。本発明の光学的造形用樹脂組成物
は、3次元立体モデルを層状形成物の積み重ねによって
作成するための非常に優れたものであり、金型を用いな
いでモデルの創成加工ができ、しかも、自由曲面などC
AD/CAMとドッキングによりあらゆる形状が創成で
き、硬化体の取り出し時、未硬化物を水で洗浄できるな
ど、工業的価値は極めて大きい。例えば、本樹脂組成物
の応用分野としては、設計の途中での外観デザインを審
査するためのモデル、部品相互の組合わせの不都合をチ
ェックするためのモデル、鋳型を製作するための木型、
金型を製作するためのモデルなど、幅広い用途に利用す
ることができる。具体的な適用分野としては、自動車、
電子電機部品、家具、建築構造物、玩具、容器類、鋳
物、人形など、各種曲面体のモデルや加工用があげられ
る。
【0030】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお合成例及び実施例中の部は、重量部であ
る。 エポキシ(メタ)アクリレート(A)の合成例 合成例1.次の構造式で表されるエポキシ樹脂 240
部
明する。なお合成例及び実施例中の部は、重量部であ
る。 エポキシ(メタ)アクリレート(A)の合成例 合成例1.次の構造式で表されるエポキシ樹脂 240
部
【0031】
【化9】
【0032】アクリル酸137部、メトキノン0.2
部、及びベンジルトリメチルアンモニウムクロライド
1.4部を仕込み、95℃で反応させエポキシアクリレ
ート(A−1)を得た。
部、及びベンジルトリメチルアンモニウムクロライド
1.4部を仕込み、95℃で反応させエポキシアクリレ
ート(A−1)を得た。
【0033】合成例2.2,4−ジグリシジル−5,5
−ジメチルヒダントイン(エポキシ当量137)548
部、5,5−ジメチルヒダントイン128部、トリエタ
ノールアミン2部を混合し、140℃で5時間攪拌して
得られた反応生成物676部(エポキシ当量360、式
(3)におけるnの平均値が2.1、軟化点76℃)を
エピクロルヒドリン2000部に溶解させた後、テトラ
メチルアンモニウムクロライド13部を添加し、攪拌下
70℃で98.5%NaOH 104部を100分かけ
て添加した。添加後さらに70℃で3時間反応を行っ
た。次いで過剰の未反応エピクロルヒドリンの大半を減
圧下で留去し、副生塩を含む反応生成物をメチルイソブ
チルケトン1500部に溶解させ副生塩をロ過し除去
後、次いでメチルイソブチルケトンを蒸留し、エポキシ
当量216、軟化点65℃のエポキシ樹脂722部を得
た。(得られたエポキシ樹脂はエポキシ当量から計算す
ると式(3)におけるアルコール性水酸基2.1個の
内、約1.8個がエポキシ化されている。)得られたエ
ポキシ樹脂216部、アクリル酸68.5部、メトキノ
ン0.5部、トリフェニルフォスフィン2.0部を仕込
み110℃に昇温し、110℃で反応を行い、反応液の
酸価(mgKOH/g)が1.0以下になるまで約10時間反応
を行いエポキシアクリレート(A−2)を得た。
−ジメチルヒダントイン(エポキシ当量137)548
部、5,5−ジメチルヒダントイン128部、トリエタ
ノールアミン2部を混合し、140℃で5時間攪拌して
得られた反応生成物676部(エポキシ当量360、式
(3)におけるnの平均値が2.1、軟化点76℃)を
エピクロルヒドリン2000部に溶解させた後、テトラ
メチルアンモニウムクロライド13部を添加し、攪拌下
70℃で98.5%NaOH 104部を100分かけ
て添加した。添加後さらに70℃で3時間反応を行っ
た。次いで過剰の未反応エピクロルヒドリンの大半を減
圧下で留去し、副生塩を含む反応生成物をメチルイソブ
チルケトン1500部に溶解させ副生塩をロ過し除去
後、次いでメチルイソブチルケトンを蒸留し、エポキシ
当量216、軟化点65℃のエポキシ樹脂722部を得
た。(得られたエポキシ樹脂はエポキシ当量から計算す
ると式(3)におけるアルコール性水酸基2.1個の
内、約1.8個がエポキシ化されている。)得られたエ
ポキシ樹脂216部、アクリル酸68.5部、メトキノ
ン0.5部、トリフェニルフォスフィン2.0部を仕込
み110℃に昇温し、110℃で反応を行い、反応液の
酸価(mgKOH/g)が1.0以下になるまで約10時間反応
を行いエポキシアクリレート(A−2)を得た。
【0034】合成例3.2,4−ジグリシジル−5,5
−ジメチルヒダントイン(エポキシ当量137)822
部、5,5−ジメチルヒダントイン256部、トリエタ
ノールアミン3.5部を混合し、140℃で7時間攪拌
して得られた反応生成物1078部、(エポキシ当量5
77、式(3)における平均のnが4.3)をエピクロ
ルヒドリン4070部に溶解させた後、テトラメチルア
ンモニウムクロライド26部を添加し、攪拌下70℃で
98.5%NaOH 211部を100分かけて添加し
た。添加後さらに70℃で3時間反応を行った。次いで
過剰の未反応エピクロルヒドリンの大半を減圧下で留去
し、副生塩を含む反応生成物をメチルイソブチルケトン
2500部に溶解させ、副生塩をロ過し除去後、次いで
メチルイソブチルケトンを蒸留し、エポキシ当量23
9、軟化点81℃のエポキシ樹脂1221部を得た。
(得られたエポキシ樹脂はエポキシ当量から計算すると
式(3)におけるアルコール性水酸基4.1個の内約
3.7個がエポキシ化されている。)得られたエポキシ
樹脂239部、アクリル酸68.5部、メトキノン0.
5部、トリフェニルフォスフィン2.0部を仕込み12
0℃で反応を行い反応液の酸価(mgKOH/g)が1.0以下
になるまで約10時間反応を行いエポキシアクリレート
(A−3)を得た。
−ジメチルヒダントイン(エポキシ当量137)822
部、5,5−ジメチルヒダントイン256部、トリエタ
ノールアミン3.5部を混合し、140℃で7時間攪拌
して得られた反応生成物1078部、(エポキシ当量5
77、式(3)における平均のnが4.3)をエピクロ
ルヒドリン4070部に溶解させた後、テトラメチルア
ンモニウムクロライド26部を添加し、攪拌下70℃で
98.5%NaOH 211部を100分かけて添加し
た。添加後さらに70℃で3時間反応を行った。次いで
過剰の未反応エピクロルヒドリンの大半を減圧下で留去
し、副生塩を含む反応生成物をメチルイソブチルケトン
2500部に溶解させ、副生塩をロ過し除去後、次いで
メチルイソブチルケトンを蒸留し、エポキシ当量23
9、軟化点81℃のエポキシ樹脂1221部を得た。
(得られたエポキシ樹脂はエポキシ当量から計算すると
式(3)におけるアルコール性水酸基4.1個の内約
3.7個がエポキシ化されている。)得られたエポキシ
樹脂239部、アクリル酸68.5部、メトキノン0.
5部、トリフェニルフォスフィン2.0部を仕込み12
0℃で反応を行い反応液の酸価(mgKOH/g)が1.0以下
になるまで約10時間反応を行いエポキシアクリレート
(A−3)を得た。
【0035】実施例1.合成例1で得たエポキシアクリ
レート(A−1)60部、トリエチレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート30部、N−ビニルピ
ロリドン10部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケト
ン5部の割合で混合溶解し本発明の光学的造形用樹脂組
成物を得た。該樹脂組成物を入れる容器を乗せた三次元
NC(数値制御)テーブル、ヘリウムカドミウレーザー
と光学系およびパーソナルコンピューターをメインとす
る制御部より構成される光造形実験システムを用いて、
この樹脂組成物から、底面の直径12mm、高さ15mm、
厚さ0.5mmの円錐を造形した。造形物を容器から取り
出し、造形物の表面に付着している未硬化の樹脂組成物
を水で洗浄したところ、造形物の表面はタックのない状
態となり、未硬化物は、水で完全に洗浄することができ
た。又、この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が高
い。
レート(A−1)60部、トリエチレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート30部、N−ビニルピ
ロリドン10部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケト
ン5部の割合で混合溶解し本発明の光学的造形用樹脂組
成物を得た。該樹脂組成物を入れる容器を乗せた三次元
NC(数値制御)テーブル、ヘリウムカドミウレーザー
と光学系およびパーソナルコンピューターをメインとす
る制御部より構成される光造形実験システムを用いて、
この樹脂組成物から、底面の直径12mm、高さ15mm、
厚さ0.5mmの円錐を造形した。造形物を容器から取り
出し、造形物の表面に付着している未硬化の樹脂組成物
を水で洗浄したところ、造形物の表面はタックのない状
態となり、未硬化物は、水で完全に洗浄することができ
た。又、この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が高
い。
【0036】実施例2.合成例2で得たエポキシアクリ
レート(A−2)35部、N−メトキシメチルアクリル
アマイド30部、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト35部及び2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フ
ェニル〕−2−モルホリノープロパン−1−オン5部の
割合で混合溶解し、本発明の光学的造形用樹脂組成物を
得た。この組成物を用い実施例1に示したレーザー光造
形実験システムを用いて、つりがね状の造形物を作成し
た。造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着し
ている未硬化物を水で洗浄し、表面がタックのない造形
物を得た。この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が
高い。
レート(A−2)35部、N−メトキシメチルアクリル
アマイド30部、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト35部及び2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フ
ェニル〕−2−モルホリノープロパン−1−オン5部の
割合で混合溶解し、本発明の光学的造形用樹脂組成物を
得た。この組成物を用い実施例1に示したレーザー光造
形実験システムを用いて、つりがね状の造形物を作成し
た。造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着し
ている未硬化物を水で洗浄し、表面がタックのない造形
物を得た。この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が
高い。
【0037】実施例3.合成例3で得たエポキシアクリ
レート(A−3)35部、グリセリントリグリシジルエ
ーテルトリアクリレート35部、トリエチレングリコー
ルジアクリレート20部、イソプロピルアクリルアミド
10部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケトン7部の
割合で混合溶解し、本発明の光学的造形用樹脂組成物を
得た。この組成物を用い、実施例1に示したレーザー光
造形実験システムを用いて、コップ状造形物を作成し
た。造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着し
ている未硬化物を水で洗浄し、表面がタックのない造形
物を得た。この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が
高い。
レート(A−3)35部、グリセリントリグリシジルエ
ーテルトリアクリレート35部、トリエチレングリコー
ルジアクリレート20部、イソプロピルアクリルアミド
10部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケトン7部の
割合で混合溶解し、本発明の光学的造形用樹脂組成物を
得た。この組成物を用い、実施例1に示したレーザー光
造形実験システムを用いて、コップ状造形物を作成し
た。造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着し
ている未硬化物を水で洗浄し、表面がタックのない造形
物を得た。この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が
高い。
【0038】比較例1.ペンタエリスリトールトリアク
リレート60部、トリエチレングリコールジグリシジル
エーテルジアクリレート30部、N−ビニルピロリドン
10部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケトン5部の
割合で混合溶解し光学的造形用樹脂組成物を得た。この
組成物を使用して、実施例1に示したレーザー光学形実
験システムを用いて、実施例1と同じ円錐を造形した。
造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着してい
る未硬化物を水で洗浄し、表面がタックのない造形物を
得た。この造形物は歪みが大きく亀裂の発生がみられ
た。
リレート60部、トリエチレングリコールジグリシジル
エーテルジアクリレート30部、N−ビニルピロリドン
10部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケトン5部の
割合で混合溶解し光学的造形用樹脂組成物を得た。この
組成物を使用して、実施例1に示したレーザー光学形実
験システムを用いて、実施例1と同じ円錐を造形した。
造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着してい
る未硬化物を水で洗浄し、表面がタックのない造形物を
得た。この造形物は歪みが大きく亀裂の発生がみられ
た。
【0039】比較例2.ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート70部、トリメチロールプロパントリアク
リレート30部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケト
ン5部の割合で混合溶解し光学的造形樹脂組成物を得
た。この組成物を使用して、実施例1と同じ円錐を造形
した。造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着
している未硬化物を水で洗浄したが造形物の表面に付着
している未硬化物は全く洗浄されなかった。又、この造
形物は歪みが大きく亀裂の発生がみられた
アクリレート70部、トリメチロールプロパントリアク
リレート30部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルケト
ン5部の割合で混合溶解し光学的造形樹脂組成物を得
た。この組成物を使用して、実施例1と同じ円錐を造形
した。造形物を容器から取り出し、造形物の表面に付着
している未硬化物を水で洗浄したが造形物の表面に付着
している未硬化物は全く洗浄されなかった。又、この造
形物は歪みが大きく亀裂の発生がみられた
【0040】
【発明の効果】本発明によって、造形物の表面の未硬化
物を水で洗浄することができ、かつ造形物の歪みが少な
く、寸法精度に優れている光学的造形用樹脂組成物及び
硬化物を得ることが可能である。
物を水で洗浄することができ、かつ造形物の歪みが少な
く、寸法精度に優れている光学的造形用樹脂組成物及び
硬化物を得ることが可能である。
Claims (2)
- 【請求項1】式(1) 【化1】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素原子又は
炭素数1〜4個のアルキル基、R3 は水素原子又はメチ
ル基、nは0又は1以上の整数であり、Mは水素原子又
は 【化2】 である。)で表されるエポキシ(メタ)アクリレート
(A)、希釈剤として水に可溶な反応性単量体(B)及
び光重合性開始剤(C)を含有することを特徴とする光
学的造形用樹脂組成物 - 【請求項2】請求項1記載の樹脂組成物の硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8027492A JPH05247134A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | 光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8027492A JPH05247134A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | 光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05247134A true JPH05247134A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=13713703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8027492A Pending JPH05247134A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | 光学的造形用樹脂組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05247134A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002090407A1 (fr) * | 1999-11-05 | 2002-11-14 | Chemipro Kasei Kaisha,Limited | Composition de resine pouvant etre retire avec de l'eau neutre et procede de traitement au moyen d'une telle composition |
| JP2010214960A (ja) * | 1997-07-21 | 2010-09-30 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | 輻射線−硬化性組成物の粘度安定化 |
| JP2015123684A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物を製造するためのキット及び三次元造形物 |
| CN106249544A (zh) * | 2015-06-10 | 2016-12-21 | 全谱激光器有限公司 | 配合3d打印系统和方法使用的水洗树脂配方 |
| CN106883347A (zh) * | 2017-02-27 | 2017-06-23 | 广东工业大学 | 一种光敏树脂合成前体及其制备方法和光敏树脂 |
-
1992
- 1992-03-03 JP JP8027492A patent/JPH05247134A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010214960A (ja) * | 1997-07-21 | 2010-09-30 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | 輻射線−硬化性組成物の粘度安定化 |
| WO2002090407A1 (fr) * | 1999-11-05 | 2002-11-14 | Chemipro Kasei Kaisha,Limited | Composition de resine pouvant etre retire avec de l'eau neutre et procede de traitement au moyen d'une telle composition |
| JP2015123684A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物を製造するためのキット及び三次元造形物 |
| CN106249544A (zh) * | 2015-06-10 | 2016-12-21 | 全谱激光器有限公司 | 配合3d打印系统和方法使用的水洗树脂配方 |
| CN106883347A (zh) * | 2017-02-27 | 2017-06-23 | 广东工业大学 | 一种光敏树脂合成前体及其制备方法和光敏树脂 |
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