JPH05249596A - 拡張されたｕｖ露出寛容度を有するネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料 - Google Patents

拡張されたｕｖ露出寛容度を有するネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料

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JPH05249596A
JPH05249596A JP4203563A JP20356392A JPH05249596A JP H05249596 A JPH05249596 A JP H05249596A JP 4203563 A JP4203563 A JP 4203563A JP 20356392 A JP20356392 A JP 20356392A JP H05249596 A JPH05249596 A JP H05249596A
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silver halide
photographic material
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JP4203563A
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Alberto Vacca
アルベルト・ヴァッカ
Aldo Sgarbi
アルド・スガルビ
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Minnesota Mining and Manufacturing Co
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    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
    • G03C1/8155—Organic compounds therefor
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    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 支持体、UV感応性ネガティブ作用ハロゲン化
銀グレインを含有する親水性コロイダルハロゲン化銀エ
マルジョン層、および１層以上の親水性コロイダル層を
有するUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料で
あって、該ハロゲン化銀エマルジョンが350〜400ミクロ
ンメーターの範囲に少なくとも80％の吸収を有する水で
除去可能なUV吸収化合物と反応的に関連することを特徴
とするUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料。 【効果】 本発明によるネガティブ作用ハロゲン化銀写
真材料は、UV光を多く含む光に露出した場合に高UV感応
性であり、高いコントラストおよび低い最低密度(かぶ
り)を提供する。そして、それらは拡張されたUV露出寛
容度を有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はUV感応性ネガティブ作用
ハロゲン化銀写真材料に関し、さらに詳しくは拡張され
たUV露出寛容度を有するUV感応性ネガティブ作用ハロゲ
ン化銀写真材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、グラフィックアートの分野では、
複写(duplicating)および接触工程(contacting proces
s)用の新規なネガティブ作用ハロゲン化技術写真材料が
開発されつつある。これらの材料はリソグラフプレート
を露出するために用いうる高出力接触フレームのUV光に
露出するためにデザインされており、通常の室内光(典
型的には、明るい白色光である。ここで「白色光」という
用語は通常市販されている蛍光灯の発光を意味する。)
において取り扱うことができる。
【０００３】明るい白色光のもとで安全に取り扱うこと
ができる複写および接触工程用のハロゲン化銀写真材料
を開発することが非常に望まれている。そのことによる
利点には、作業の容易性、露出および処理中における材
料の視認性、および一般的により好ましくは、作業者の
良好な作業環境が含まれる。
【０００４】UV発光ランプ(例えば、ハロゲン化金属ラ
ンプ)への露出に向けられたネガティブ作用ハロゲン化
銀材料は、エマルジョン層または非感光性層中のいずれ
かにおいてフィルター染料を用いることによりある程度
の白色光取り扱い性が可能となっている。典型的には、
このフィルター染料は特に可視光を吸収し、照射感応性
層の可視光による露出が防止される。このフィルター染
料はUV照射に対する意図的な露光を重大に阻害しないよ
うなものが選択される。上記フィルター染料を含有する
ハロゲン化銀材料の例は、米国特許第4,140,531号、同
第4,232,116号および同第4,495,274号およびEP特許出願
第146,302号(ここでは、処理の間に漂白することが可能
なブルー吸収染料が用いられている。)に開示されてい
る。
【０００５】さらに、スキャナ(scanner)ポジティブま
たはネガティブセパーレーション(separations)に接触
させる場合に、ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料の
主な目的は色調曲線(tonal curve)の忠実な複製であ
る。他方、修正およびダート(dirt)、スポット(spots)
およびペースト-アップライン(paste-up lines)をでき
るだけ防止するために第１接触をオーバー露出(overexp
ose)することはグラフィックアートの分野において通常
行なわれる。これらの２種の目的、すなわち、色調の複
製およびオーバー露出は相反するものである。すなわ
ち、適正時間を越えて露出を増大させることにより、ダ
ートなどを防止することは可能である。しかしながら、
ドット寸法および色調複製カーブの変化が生じる。
【０００６】したがって、グラフィックアートの分野で
は、フィルムの複製および接触の際にUV光に対する拡張
された露出寛容度を有するUV感応性ネガティブ作用ハロ
ゲン化銀写真エレメントを提供することが求められてい
る。
【０００７】米国再発行特許第30,303号には、写真材料
におけるフィルター染料として有用なUV吸収染料が記載
されている。このクレームは、式
【０００８】
【化５】
【０００９】[式中、nは１または２であって、nが１で
ある場合は、R1およびR2は、独立して、水素、１〜10個
の炭素原子を有するアルキル基または５〜６個の炭素原
子を有する環状アルキル基、ただし、R1およびR2は共に
水素ではなく、またはR1およびR2は共に、環状アミノ基
を完結するのに必要な原子であり、そしてnが２である
場合は、R1およびR2の少なくとも１種はアルキレンであ
り、そしてGは電子吸引基である。]で示す構造を有する
分子に向けられている。
【００１０】これらは、写真材料のハロゲン化銀層また
はUVフィルター層中に含有される。または、これらは写
真材料のフィルム支持体中に含有されうる。これらの実
施例はカラーネガティブ被覆については言及しているけ
れども、白黒の構成も排除していない。水溶または漂白
可能性については何も記載がない。これらの主要目的は
フィルムを所望しないUV露出から保護することにより、
より調和の取れた色彩の演出を提供することである。
【００１１】同様の技術は米国特許第4,307,184号、同
第4,576,908号および同第4,946,768号に記載されてい
る。上記の第１の特許文献には、上述の染料の部類のポ
リマーが記載されており、これは我々が目的とする用途
からは除外される。第２の特許文献には、上述の式にお
いて、R1およびR2がアリル基である特定の化合物が記載
されている。第３の特許文献には、上述の式において、
R1がC1〜C3短アルキル鎖を有し、そしてR2がC10を上回
る長アルキル鎖を有する特定の化合物が記載されてい
る。再発行特許第30,303号に記載の誘導体と比較した場
合における改良された吸収プロファイル(profiles)およ
び低減された速度低下という利点が主張されている。ま
た、それらの主な用途はカラーネガティブ構成における
UVフィルター染料である。この染料は疎水性であり、恐
らくは、処理において漂白されない。事実、通常は、そ
れらは処理後のUV保護を提供するために非漂白性および
非拡散性であることが好ましい。米国特許第4,307,183
号では、ハロゲン化銀構成における上式の化合物のポリ
マーとメチンスペクトル増感剤との超増感組み合わせが
クレームされている。
【００１２】さらに、これらに関連して、米国特許第4,
849,326号には、ポジティブ(白黒)ハロゲン化銀構成に
向けられた上述の染料の水溶性化合物が記載されてい
る。水溶化化合物に用いられている化学式によれば、こ
れは再発行特許第30,303号に記載のものと比較して新規
である。利点は、処理後における最小限の残留UVスティ
ン(stain)と共に改良された白色光安全性であると記載
されている。上述の染料の水溶性化合物はまた、EP特許
出願第411,819号に記載されており、これらはUV-感応性
ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料の背面層中にハレ
ーション防止染料として用いられている。利点は改良さ
れたドライエッチング特性と記載されている。これらの
両文献とも上述の染料を、望まれているような、接触処
理用のUV-感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料
のUV露出寛容度を改良するために用いうることを教示ま
たは示唆していない。
【００１３】
【発明の要旨】本発明によれば、改良されたUV露出寛容
度を有する接触工程用のUV感応性ネガティブ作用ハロゲ
ン化銀写真材料が提供される。この材料は支持体、UV感
応性ネガティブ作用ハロゲン化銀グレインを含有する親
水性コロイダルハロゲン化銀エマルジョン層、および１
層以上の親水性コロイダル層を有するものであり、上記
ハロゲン化銀エマルジョンが350〜400ミクロンメーター
(micronmeters)の範囲に少なくとも80％の吸収を有する
水で除去可能なUV吸収化合物と反応的に関連している(r
eactively associated)ものである。
【００１４】本発明における２種類の要件は、１)UV染
料はネガティブ作用ハロゲン化銀エマルジョン層中に存
在するか、または支持体上における露出寛容度を増大さ
せるためのエマルジョン層と同一の側に被覆された層中
に存在する必要があること、および、２)このUV染料は
最適の後続の接触露出のための化学処理中において除去
されることである。
【００１５】本発明によれば、オーバー露出された第１
接触から形成されたハーフトーン画像が第２接触を提供
するために用いられる場合は、一般に、第１接触に用い
られるのと同一の露出時間が用いられ、本来のスキャナ
複製(original scanner reproduction)の正確な複製が
得られる。
【００１６】
【発明の構成】本発明は、支持体、UV感応性ネガティブ
作用ハロゲン化銀グレインを含有する親水性コロイダル
ハロゲン化銀エマルジョン層、および１層以上の親水性
コロイダル層を有するUV感応性ネガティブ作用ハロゲン
化銀写真材料であって、上記ハロゲン化銀エマルジョン
が350〜400ミクロンメーターの範囲に少なくとも80％の
吸収を有する水で除去可能なUV吸収化合物と反応的に関
連しているものに関する。
【００１７】好ましくは、本発明によるネガティブ作用
ハロゲン化銀写真材料に用いるUV吸収化合物は以下の式
に示す構造を有するものである。
【００１８】
【化６】
【００１９】[式中、R1およびR2は、それぞれ、アルキ
ル基、アリール基または環状アルキル基の同一もしくは
異なる基、またはR1およびR2は共に、環状アミノ基を完
結するのに必要な原子であり、Gは電子吸引基であり、
そしてR1、R2およびGの少なくとも１種は水溶化基(solu
bilizing group)で置換されている。]
【００２０】上述の式(I)において、R1およびR2は同一
または異なる基であって、アルキル基、好ましくは、１
〜10個の炭素原子を有するアルキル基、より好ましくは
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基(シアノアルキ
ルまたはアルコキシアルキルのような置換アルキル基を
含む。)、アリール基、好ましくは６〜20個の炭素原子
を有するアリール基、より好ましくは６〜10個の炭素原
子を有するアリール基、または環状アルキル基、好まし
くは５〜６個の炭素原子を有する環状アルキル基、また
はR1およびR2は共に、例えば、ピペリジノ、モルホリ
ノ、ピロリジノ、ヘキサヒドロアゼピノおよびピペラジ
ノ基のような環状アミノ基を完結するために必要な元素
である。
【００２１】Gは当業者に知られているすべての電子吸
引基であって、例えば、CN、NO2、COORまたはSO2R[式
中、Rはアルキル基、好ましくは１〜10個の炭素原子を
有するアルキル基、より好ましくは１〜４個の炭素原子
を有するアルキル基、またはアリール基(例えば、フェ
ニルまたはナフチル)、好ましくは６〜20個の炭素原子
を有するアリール基、より好ましくは６〜10個の炭素原
子を有するアリール基である。
【００２２】そして、R1、R2およびGの少なくとも１つ
の基は当業者に知られているすべての水溶化基で置換さ
れている。水溶化基には、例えば、COOH基またはそれら
のアルカリ金属またはアンモニウム塩、SO3H基またはそ
れらのアルカリ金属またはアンモニウム塩、ヒドロキシ
基、４級アンモニウム塩含有基、ホスフェート基または
ポリオキシアルキレン基が挙げられる。
【００２３】より好ましくは、本発明によるネガティブ
作用ハロゲン化銀写真材料に用いるUV吸収化合物は、式
【００２４】
【化７】
【００２５】[式中、R1は１〜10個の炭素原子を有する
アルキル基、好ましくは１〜４個の炭素原子を有する低
級アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチルまたはt-ブチル基であ
り、R3は１〜10個の炭素原子を有するアルキレン基であ
って、この炭素原子鎖は、例えば、-O-、-S-、-COO-ま
たは-SO2-のような二価の基を有しうる。]
【００２７】本発明による写真材料のUV吸収化合物は電
磁スペクトルのUVと可視領域との境界域に強い吸収を有
する。本発明によるUV吸収化合物は380ミクロンメータ
ーの周辺にその吸収スペクトルのピークまたはプラトー
を有する。それらの吸収の少なくとも80％は350〜400ミ
クロンメーターの範囲に存在する。350ミクロンメータ
ーを下回るそれらの吸収は露出光のUV照射に対するハロ
ゲン化銀エマルジョンの応答に重大には影響しないけれ
ども、露出ランプにより発せられた照射を30％を越えて
吸収しないことが望ましい。さらに、本発明による写真
材料のUV吸収化合物は高い水溶性を示し、そのためにそ
れらは処理中に材料からUV吸収をかなりの程度残すこと
なく洗浄除去することができる。好ましくは処理後のDm
in領域におけるこの材料の吸収は、300〜400ミクロンメ
ーターの範囲において0.10を下回るものである。
【００２８】本発明に用いうる水溶性UV吸収化合物の例
を以下に示す。
【００２９】
【化８】
【００３０】
【化９】
【００３１】本発明のUV吸収化合物は当業者に周知の方
法にしたがって調製することができる。式(I)および(I
I)で示すUV吸収化合物は、水溶化基を有する適当なアミ
ン化合物を適当な中間体で有機溶媒中で沸騰温度におい
て処理し、次いで、化合物を単離するための通常の方法
により調製することができる。有用な中間体は、例え
ば、米国特許第4,045,229号に記載されている。
【００３２】以下に本発明に有用なUV吸収化合物の調製
例を示す。
【００３３】
【調製例】
化合物(１):N-(3-アリリデンマロノニトリル)-サルコシ
ン サルコシン(89.1g、１モル)を、NaOH(40g、１モル)およ
び450mlのメタノールを含有する水170ml中に溶解した。
次いで、撹拌しながらアセトアニリドアリリデンマロノ
ニトリル(216g、0.91モル)を添加した。この混合物を30
分間還流した後に、氷冷した。100mlの37％HClを添加す
ることによりイエロー色固体が分離し、これを濾別し、
そして２:１エタノール-水混合物から結晶させた。得ら
れた生成物(112g、収率65％)は170〜２℃の融点および
以下に示す元素分析値によりC9H9N3Oの組成式を有して
いた。
【００３４】 分光分析結果: λmax(水中)=374ミクロンメーター ε (水中)=52,000
【００３５】この生成物は化学量論量のNaOHを添加する
ことにより水中に溶解する。
【００３６】本発明の写真材料においては、UV吸収化合
物は親水性コロイダルハロゲン化銀エマルジョン層中お
よび/または隣接親水性コロイダル層中に用いられる。
好ましくは、この隣接層はハロゲン化銀エマルジョン層
よりも露出光源に近い。UV吸収化合物を本発明によるハ
ロゲン化銀写真エレメントの親水性コロイダル層中に含
有させるためには、それらは、ハロゲン化銀エマルジョ
ン層および/または隣接層の親水性コロイダル被覆組成
物に水溶液の形態で添加されうる。UV吸収化合物の添加
量は、用いられる化合物またはハロゲン化銀エマルジョ
ンのタイプに依存して異なるけれども、一般に、ハロゲ
ン化銀１モルに対して0.0001〜0.1モル、好ましくは、
ハロゲン化銀１モルに対して0.001〜0.01モルである。
ハロゲン化銀エマルジョン層への添加の場合は、この添
加はUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀エマルジョン
の調製工程のいかなる段階においても行いうる。好まし
くは、第２熟成の終了後、そして、被覆の前に行われ
る。
【００３７】ハロゲン化銀がUV照射に対して通常高い感
度を有することは当業者に周知であり、臭化銀もまたブ
ルーおよび短波長可視光に対して比較的高い感度を有し
ており、一方、塩化銀はブルーおよび短波長可視光に対
して比較的低い感度を有することも当業者に周知であ
る。したがって、本発明によるUV感応性ネガティブ作用
写真材料に用いるハロゲン化銀エマルジョンは、好まし
くは、高クロリドハロゲン化銀エマルジョンから選択さ
れることが好ましい。好ましくは、それらは少なくとも
50モル％、さらに好ましくは、少なくとも75モル％の塩
化銀を含有し、塩化銀の含有量が増大するにしたがっ
て、UV照射感応性を高く保った状態においても通常のブ
ルーおよび可視光感応性は低減する。さらに好ましく
は、本発明によるUV感応性ネガティブ作用型写真材料に
用いられるハロゲン化銀エマルジョンは、全ハロゲン化
銀グレインの少なくとも75重量％が少なくとも80モル％
が塩化銀であるハロゲン化銀グレインであるエマルジョ
ンである。残りのハロゲン化銀は、臭化銀-またはヨウ
化銀である。しかしながら、通常は、後者は１モル％を
越えない量で用いられる。本発明においては、本発明に
よるUV吸収化合物を組み合わせて可視光を吸収可能な染
料を用いることが有用である。そのことにより、この写
真材料は明るい条件の下においても安全に取り扱うこと
ができる。このような染料には、例えば、オキソノール
染料、ベンジリデン染料などのような処理中にブリーチ
可能または洗浄除去可能なものが含まれる。有用な染料
の例は、例えば、米国特許第4,140,531号に記載されて
いる。従来のエマルジョン増感染料を用いることによ
り、エマルジョンの感光性を可視光のより長波長領域に
拡張することができる。本発明に用いられるエマルジョ
ンにはこれは必須ではない。また、高クロリドハロゲン
化銀エマルジョンは比較的小さいグレイン寸法を有する
ことが好ましい。例えば、平均グレイン寸法0.05〜0.6
ミクロンが好ましい。さらに好ましいグレイン寸法は0.
05〜0.3ミクロンであり、最も好ましい範囲は0.05〜0.1
ミクロンである。高クロリドハロゲン化銀グレインは、
好ましくは、立方体型である。しかしながら、八面体
状、球状、板状型などのような他の形状のものも用いう
る。
【００３８】本発明では、ハロゲン化銀は、少なくと
も、電子受容体として機能する、例えば、ロジウム、イ
リジウムおよびルテニウムのような元素周期表の８族の
ドーピング金属元素の存在下において調製される。好ま
しくは、このようなドーピング元素は水溶性イリジウム
塩または水溶性ロジウム塩のなかから選択される。イリ
ジウム塩には、カリウムイリジウム(III)ヘキサクロリ
ドおよびナトリウムイリジウム(III)ヘキサブロミドの
ようなイリジウムとアルカリ金属ハライドが包含され
る。ロジウム塩には、ロジウム(III)トリクロリドおよ
びロジウム(IV)テトラクロリドのようなロジウムハライ
ド、およびカリウムロジウム(III)ヘキサブロミドおよ
びナトリウムロジウム(III)ヘキサクロリドのようなア
ルカリ金属ハライドが含まれる。このような塩は、ハロ
ゲン化銀１モルに対して0.5×10-4〜10×10-4モル、そ
して好ましくは２×10-4〜7×10-4モルの範囲の量で添
加されうる。
【００３９】化学増感に用いられる金化合物にはアルカ
リ金属クロロアウレート、クロロ金酸、金スルフィド、
金セレニドなどが含まれる。このような金化合物は、一
般に、ハロゲン化銀１モルに対して１×10-6〜1×10-4
の量で用いられる。
【００４０】本発明による写真材料のUV感応性ネガティ
ブ作用ハロゲン化銀エマルジョンには他の種々の写真添
加剤を用いることができる。これらには、例えば、米国
特許第4,495,274号に記載のような、減感剤、ソラリゼ
ーション促進剤、安定剤、硬化剤、被覆助剤、保存剤、
艶消剤、帯電防止剤などが挙げられる。
【００４１】ゼラチンは、本発明のハロゲン化銀写真材
料のための親水性コロイドとして通常用いられる。親水
性コロイドとしては、ゼラチン誘導体、アルブミン、カ
ゼイン、寒天(agar-agar)、アルギン酸のような天然
物、およびポリビニルアルコールポリビニルピロリド
ン、セルロースエーテル、部分加水分解ポリビニルアセ
テートのような親水性ポリマーなどがゼラチンと共にま
たはゼラチンの代わりに用いうる。さらに、ゼラチン
は、ポリエチルアクリレートラテックスのようなビニル
モノマーのエマルジョン重合により得られるポリマーラ
テックスで部分的に置換されうる。そのことにより、写
真層の物理特性が改良される。
【００４２】本発明による直接ポジティブハロゲン化銀
写真材料に用いられる支持ベースには、通常用いられる
材料が好適である。例えば、ガラス、布、金属、例えば
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、セルロースニトレート、ポリエステル、ポリアミ
ン、ポリスチレンなどのようなフィルム、バライタ被覆
紙、樹脂被覆紙を含む紙などが挙げられる。
【００４３】本発明によるネガティブ作用ハロゲン化銀
写真材料はグラフィックアートの分野において種々の目
的に用いうる。例えば、密着(contacting)用、複製用、
オフセット印刷マスタ作成用ならびに特別目的のための
ラジオグラフィー、電子写真などのような低いブルー光
感応性とともに高いUV感応性が必要とされる用途に用い
られる。
【００４４】本発明によるネガティブ作用ハロゲン化銀
写真材料は、UV光を多く含む光に露出した場合に高UV感
応性であり、高いコントラストおよび低い最低密度(か
ぶり)を提供する。そして、それらは拡張されたUV露出
寛容度を有している。
【００４５】
【実施例】本発明の他の利点を以下の実施例を通してさ
らに詳細に説明する。
【００４６】
【実施例】水ゼラチン溶液Aに水溶液Bと水溶液Cとをダ
ブル-ジェット法で25分間で撹拌しながら同時に添加す
ることにより、98モル％の塩化物および２モル％の臭化
物を含有するハロゲン化銀エマルジョンを調製した。上
記の水溶液は以下に示す組成物である。
【００４７】溶液A 水 500g ゼラチン 1g ポリビニルピロリドン(K30) 12g 以下の式に示す化合物 0.25g
【００４８】
【化１０】
【００４９】 AgNO3(0.1M) 40g溶液B 水 250g KBr 2.6g KCl 80g溶液C 水 133g AgNO3 １７０ｇ
【００５０】このゼラチン溶液を３５℃の定温に保っ
た。溶液Cの添加速度を一定に保ち、その間、溶液Bの添
加速度を種々に変化させた。その調節は、飽和Ag/AgCl
型の参照電極とBrイオンの特定電極で測定したエマルジ
ョンのミリボルトが380±10mvに保たれるように変化さ
せた。従来の凝集法により可溶性塩を除去したエマルジ
ョンは、0.08ミクロンメーターの平均粒子寸法を有して
いた。表１に示すように個々の成分をさらに添加し、グ
リーンハレーション防止層で裏塗りされたポリエチレン
テレフタレート支持ベースの上に2.3g/m2の銀被覆重量
で被覆した。このフィルムを0.15連続ウェッジを通して
露光した。露出ランプはフィリップス(philips)HPA2000
UVランプを用い、このフィルムを１メーターの距離で1
0" 露出した。室内光はオスラム(Osram)40W型21ルミラ
ックス(Lumilux)TM白色ランプであった。
【００５１】露出フィルムを３M・RDC現像剤で40℃にお
いて20" 現像し、３M・フィクスロール(Fixroll)フィク
サー(Fixer)において固定した。以下の表１は１の密度
(D1)、先端(toe)コントラスト(D2)、中間(medium)コン
トラスト(D3)、D-min(D4)およびD-max(D5)における速度
を示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】次いで、ネガティブ作用ハロゲン化銀エマ
ルジョン中にこのUV吸収化合物を含有させることにより
露出寛容度特性を評価した。これにより、得られた改良
が示された。
【００５４】露出寛容度特性を評価するためには、ま
ず、ハード・ドット・オリジナル(hard dot original)
を用いて最適ドット-フォー-ドット(dot-for-dot)を測
定しなければならない。最適の密着露出は、中間色調(m
idtones)における十分なドット複製とともに4.0を上回
るDmaxを提供する。８×ユニットオーバー露出(ダー
ト、スポットまたはペースト-アップラインを除去する
ために用いた。)における第１密着露出、および、次い
で、同一の密着オーバー露出における第２密着露出から
なる評価により得られるドットの拡大が測定された。以
下の表２は最適密着露出および第１(ネガティブ)および
第２(ポジティブ)密着オーバー露出における上記フィル
ムの50％ドット複製(ドットゲイン％(％dot gain))を示
し、ネガティブ作用エマルジョンに添加したUV吸収化合
物の添加のオーバー露出被覆におけるドット複製におけ
る効果が著しいことを示す。
【００５５】
【表２】
【００５６】上述の染料Aは以下に示すオキソノール染
料である。
【化１１】
フロントページの続き (72)発明者 アルド・スガルビ イタリア17016フェラーニア（サヴォーナ) （番地の表示なし） スリーエム・イタリ ア・リチェルシェ・ソシエタ・ペル・アチ オニ内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 支持体、UV感応性ネガティブ作用ハロゲ
    ン化銀グレインを含有する親水性コロイダルハロゲン化
    銀エマルジョン層、および１層以上の親水性コロイダル
    層を有するUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材
    料であって、該ハロゲン化銀エマルジョンが350〜400ミ
    クロンメーターの範囲に少なくとも80％の吸収を有する
    水で除去可能なUV吸収化合物と反応的に関連することを
    特徴とするUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材
    料。
  2. 【請求項２】 前記UV感応性ネガティブ作用ハロゲン化
    銀写真]前記UV吸収化合物が、式 【化１】 [式中、R1およびR2は、それぞれ、アルキル基、アリー
    ル基または環状アルキル基の同一もしくは異なる基、ま
    たはR1およびR2は、共に環状アミノ基を完結するのに必
    要な原子であり、Gは電子吸引基であり、そしてR1、R2
    およびGの少なくとも１種は水溶化基で置換されてい
    る。]で示す構造を有する、請求項１記載のUV感応性ネ
    ガティブ作用ハロゲン化銀写真材料。
  3. 【請求項３】 前記UV吸収化合物が、式 【化２】 [式中、R1はアルキル基であり、そしてR3はアルキレン
    基である。]で示す構造を有する、請求項１記載のUV感
    応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料。
  4. 【請求項４】 前記水で除去可能なUV吸収化合物の添加
    量が、ハロゲン化銀１モルに対して0.0001〜0.1モルの
    範囲である、請求項１記載のUV感応性ネガティブ作用ハ
    ロゲン化銀写真材料。
  5. 【請求項５】 前記水で除去可能なUV吸収化合物がハロ
    ゲン化銀エマルジョン層中に含有される、請求項１記載
    のUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料。
  6. 【請求項６】 前記UV吸収化合物が、支持体のハロゲン
    化銀エマルジョン層を有する側と同一の側に位置する親
    水性コロイド層中に含有される、請求項１記載のUV感応
    性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料。
  7. 【請求項７】 前記ハロゲン化銀エマルジョンが高クロ
    リドハロゲン化銀エマルジョンである、請求項１記載の
    UV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料。
  8. 【請求項８】 支持体、UV感応性ネガティブ作用ハロゲ
    ン化銀グレインを含有する親水性コロイダルハロゲン化
    銀エマルジョン層、および１層以上の親水性コロイダル
    層を有するUV感応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材
    料のUV露出寛容度を増大させる方法であって、350〜400
    ミクロンメーターの範囲に少なくとも80％の吸収を有す
    る水で除去可能なUV吸収化合物の効果的な量を該ハロゲ
    ン化銀グレインと反応的に関連させて該材料中に導入す
    る工程を包含する方法。
  9. 【請求項９】 前記水で除去可能なUV吸収化合物が、式 【化３】 [式中、R1およびR2は、それぞれ、アルキル基、アリー
    ル基または環状アルキル基の同一もしくは異なる基、ま
    たはR1およびR2は、共に環状アミノ基を完結するのに必
    要な原子であり、Gは電子吸引基であり、そしてR1、R2
    およびGの少なくとも１種は水溶化基で置換されてい
    る。]で示す構造を有する、請求項８記載のUV感応性ネ
    ガティブ作用ハロゲン化銀写真材料のUV露出寛容度を増
    大させる方法。
  10. 【請求項１０】 前記水で除去可能なUV吸収化合物が、
    式 【化４】 [式中、R1はアルキル基であり、そしてR2はアルキレン
    基である。]で示す構造を有する、請求項８記載のUV感
    応性ネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料のUV露出寛容
    度を増大させる方法。
JP4203563A 1991-07-30 1992-07-30 拡張されたｕｖ露出寛容度を有するネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料 Pending JPH05249596A (ja)

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IT91A002108 1991-07-30
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JP4203563A Pending JPH05249596A (ja) 1991-07-30 1992-07-30 拡張されたｕｖ露出寛容度を有するネガティブ作用ハロゲン化銀写真材料

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US5316901A (en) 1994-05-31
EP0525445A1 (en) 1993-02-03
ITMI912108A0 (it) 1991-07-30
IT1250717B (it) 1995-04-21
ITMI912108A1 (it) 1993-01-30

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