JPH05251302A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPH05251302A JPH05251302A JP4083262A JP8326292A JPH05251302A JP H05251302 A JPH05251302 A JP H05251302A JP 4083262 A JP4083262 A JP 4083262A JP 8326292 A JP8326292 A JP 8326292A JP H05251302 A JPH05251302 A JP H05251302A
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- JP
- Japan
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- reticle
- mask
- dust
- reticle mask
- cassette case
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- Pending
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 14
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- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 縮小投影露光装置の内部において、レチクル
マスクへの浮遊塵や搬送系および駆動系の摺動部からの
発塵の付着を防ぐことにある。 【構成】 レチクルマスク１をレチクルカセットケース
２に収納したまま、レチクル搬送装置４によりレチクル
カセットライブラリ３から装置内を移動させる。これに
より、レチクルマスク１は、レチクル塵芥検査装置５お
よびレチクルステージ６などのユースポイント以外で
は、外気に曝されない。従って、装置内の浮遊塵や搬送
系および駆動系の摺動部からの発塵の付着を防いでい
る。
マスクへの浮遊塵や搬送系および駆動系の摺動部からの
発塵の付着を防ぐことにある。 【構成】 レチクルマスク１をレチクルカセットケース
２に収納したまま、レチクル搬送装置４によりレチクル
カセットライブラリ３から装置内を移動させる。これに
より、レチクルマスク１は、レチクル塵芥検査装置５お
よびレチクルステージ６などのユースポイント以外で
は、外気に曝されない。従って、装置内の浮遊塵や搬送
系および駆動系の摺動部からの発塵の付着を防いでい
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体デバイスの製造に
用いられる露光装置に関し、特にそのリングラフィ技術
における縮小投影に関する。
用いられる露光装置に関し、特にそのリングラフィ技術
における縮小投影に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の縮小投影露光装置では、レチクル
マスクの搬送経路は図３に示すように構成されている。
図３（ａ）は装置の全体の概念図、図３（ｂ）はレチク
ル搬送経路の概念図である。図３において、１はレチク
ルマスク，２はレチクルカセットケース，３はレチクル
カセットライブラリ，４はレチクル搬送装置，５はレチ
クル塵芥検査装置，６はレチクルステージ，７は水銀ラ
ンプ，８は縮小投影レンズ，９はウエハ，１０はチャン
バ，１１は送風機，１２はＨＥＰＡフィルタである。
マスクの搬送経路は図３に示すように構成されている。
図３（ａ）は装置の全体の概念図、図３（ｂ）はレチク
ル搬送経路の概念図である。図３において、１はレチク
ルマスク，２はレチクルカセットケース，３はレチクル
カセットライブラリ，４はレチクル搬送装置，５はレチ
クル塵芥検査装置，６はレチクルステージ，７は水銀ラ
ンプ，８は縮小投影レンズ，９はウエハ，１０はチャン
バ，１１は送風機，１２はＨＥＰＡフィルタである。
【０００３】図３において、レチクルマスク１はレチク
ルカセットケース２に収納された形で、レチクルカセッ
トライブラリ３にセットされる。このとき、レチクルマ
スク１はレチクルカセットケース２より取り出され、レ
チクル搬送装置４によってレチクル塵芥検査装置５まで
運ばれ、ごみの有無がチェックされる。その後、再び、
レチクル搬送装置４によってレチクルステージ６まで運
ばれる。
ルカセットケース２に収納された形で、レチクルカセッ
トライブラリ３にセットされる。このとき、レチクルマ
スク１はレチクルカセットケース２より取り出され、レ
チクル搬送装置４によってレチクル塵芥検査装置５まで
運ばれ、ごみの有無がチェックされる。その後、再び、
レチクル搬送装置４によってレチクルステージ６まで運
ばれる。
【０００４】この段階で、水銀ランプ７からレチクルマ
スク上に光が照射される。レチクルマスクを通過した光
は縮小投影レンズ８により縮小され、感光剤の塗布され
たウエハ９上に投影される。なお、縮小投影露光装置内
はチャンバ１０で覆われており、内部は送風機１１およ
びＨＥＰＡフィルタ１２により清浄な空気が併給され、
清浄度が保たれている。
スク上に光が照射される。レチクルマスクを通過した光
は縮小投影レンズ８により縮小され、感光剤の塗布され
たウエハ９上に投影される。なお、縮小投影露光装置内
はチャンバ１０で覆われており、内部は送風機１１およ
びＨＥＰＡフィルタ１２により清浄な空気が併給され、
清浄度が保たれている。
【０００５】ここで、レチクルマスクはＨＥＰＡフィル
タ１２により併給される清浄な空気内で取り扱われてい
るが、それでも装置内の風上からの浮遊塵があったりあ
るいは搬送系および駆動系の摺動部からの発塵が付着し
やすい。このため、塵芥がマスクとなってウエハ上に転
写されると、共通欠陥となる危険性がある。
タ１２により併給される清浄な空気内で取り扱われてい
るが、それでも装置内の風上からの浮遊塵があったりあ
るいは搬送系および駆動系の摺動部からの発塵が付着し
やすい。このため、塵芥がマスクとなってウエハ上に転
写されると、共通欠陥となる危険性がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】解決しようとする課題
は、塵芥がマスクとなってウエハ上に転写され、共通欠
陥の生ずる危険性のある点である。
は、塵芥がマスクとなってウエハ上に転写され、共通欠
陥の生ずる危険性のある点である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、レチクルマス
クをレチクルカセットケースに収納したまま装置を搬送
し、レチクル塵芥検査装置およびレチクルステージの前
でレチクルマスクをレチクルカセットケースより取り出
す機構を有することを特徴とする。
クをレチクルカセットケースに収納したまま装置を搬送
し、レチクル塵芥検査装置およびレチクルステージの前
でレチクルマスクをレチクルカセットケースより取り出
す機構を有することを特徴とする。
【０００８】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して詳細に
説明する。図１は、本発明による縮小投影露光装置の第
１の実施例を示す概念図である。図１において、１はレ
チクルマスク，２はレチクルカセットケース，３はレチ
クルカセットライブラリ，４はレチクル搬送装置，５は
レチクル塵芥検査装置，６はレチクルステージである。
説明する。図１は、本発明による縮小投影露光装置の第
１の実施例を示す概念図である。図１において、１はレ
チクルマスク，２はレチクルカセットケース，３はレチ
クルカセットライブラリ，４はレチクル搬送装置，５は
レチクル塵芥検査装置，６はレチクルステージである。
【０００９】レチクルマスク１はレチクルカセットケー
ス２に収納された形で、レチクルカセットライブラリ３
にセットされる。レチクルカセットケース２は、レチク
ルマスク１を収納したまま、レチクル搬送装置４により
レチクル塵芥検査装置５に運ばれる。レチクル塵芥検査
装置５の手前で、レチクルマスク１はレチクルカセット
ケース２より取り出され、レチクル塵芥検査装置５にセ
ットされる。検査後、再び、レチクルマスク１はレチク
ルカセットケース２に収納され、レチクル搬送装置４に
よりレチクルステージ６に運ばれる。レチクルステージ
の手前で、先と同様にレチクルマスク１が取り出され
る。
ス２に収納された形で、レチクルカセットライブラリ３
にセットされる。レチクルカセットケース２は、レチク
ルマスク１を収納したまま、レチクル搬送装置４により
レチクル塵芥検査装置５に運ばれる。レチクル塵芥検査
装置５の手前で、レチクルマスク１はレチクルカセット
ケース２より取り出され、レチクル塵芥検査装置５にセ
ットされる。検査後、再び、レチクルマスク１はレチク
ルカセットケース２に収納され、レチクル搬送装置４に
よりレチクルステージ６に運ばれる。レチクルステージ
の手前で、先と同様にレチクルマスク１が取り出され
る。
【００１０】図２は、本発明による縮小投影露光装置の
第２の実施例を示す概念図である。図２において、１は
レチクルマスク，３はレチクルカセットライブラリ，４
はレチクル搬送装置，５はレチクル塵芥検査装置，６は
レチクルステージ，１３はレチクルカセットケースの外
筒，１４はレチクルカセットケースの内筒である。
第２の実施例を示す概念図である。図２において、１は
レチクルマスク，３はレチクルカセットライブラリ，４
はレチクル搬送装置，５はレチクル塵芥検査装置，６は
レチクルステージ，１３はレチクルカセットケースの外
筒，１４はレチクルカセットケースの内筒である。
【００１１】図２に示す縮小投影露光装置の動作は、図
１に示す縮小投影露光装置と同じである。しかし、レチ
クルカセットケースは外筒１３と内筒とから成り、外筒
１３をレチクルカセットライブラリに残して、レチクル
マスク１を収納した内筒１４が装置内に搬送される。こ
れにより、装置外でレチクルカセットケースの外筒１３
に付着した塵芥が、装置内で振りまかれる危険性を防い
でいる。
１に示す縮小投影露光装置と同じである。しかし、レチ
クルカセットケースは外筒１３と内筒とから成り、外筒
１３をレチクルカセットライブラリに残して、レチクル
マスク１を収納した内筒１４が装置内に搬送される。こ
れにより、装置外でレチクルカセットケースの外筒１３
に付着した塵芥が、装置内で振りまかれる危険性を防い
でいる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、レチクル
マスクをレチクルカセットケースに収納したまま装置内
で移動させることにより、レチクル塵芥検査装置および
レチクルステージなどのユースポイント以外では、レチ
クルマスクが外気に曝されず、浮遊塵や搬送系の摺動部
からの発塵が付着し難い利点がある。
マスクをレチクルカセットケースに収納したまま装置内
で移動させることにより、レチクル塵芥検査装置および
レチクルステージなどのユースポイント以外では、レチ
クルマスクが外気に曝されず、浮遊塵や搬送系の摺動部
からの発塵が付着し難い利点がある。
【図１】本発明による縮小投影露光装置の第１の実施例
を示す概念図である。
を示す概念図である。
【図２】本発明による縮小投影露光装置の第２の実施例
を示す概念図である。
を示す概念図である。
【図３】従来の縮小投影露光装置の一例を示す概念図で
ある。
ある。
１ レチクルマスク ２ レチクルカセットケース ３ レチクルカセットライブラリ ４ レチクル搬送装置 ５ レチクル塵芥検査装置 ６ レチクルステージ ７ 水銀ランプ ８ 縮小投影レンズ ９ ウエハ １０ チャンバ １１ 送風機 １２ ＨＥＰＡフィルタ １３ 外筒 １４ 内筒
Claims (3)
- 【請求項１】 レチクルマスクを収納するためのレチク
ルマスク収納手段と、 前記レチクルマスクを収納したままの状態で前記レチク
ルマスク収納手段を予め定められた位置へ搬送するため
のレチクル搬送装置と、 前記レチクル搬送装置により運ばれた前記レチクルマス
クを前記レチクルマスク収納手段より取り出して塵芥を
検査するためのレチクル塵芥検査装置と、 前記検査の後に前記レチクル塵芥検査装置から運ばれて
きた前記レチクルマスクを前記レチクルマスク収納手段
より取り出して露光処理するためのレチクルステージと
を備えた縮小投影露光装置。 - 【請求項２】 前記レチクルマスク収納手段は、 前記レチクルマスクを収納するためのレチクルカセット
ケースであるように構成した請求項１の縮小投影露光装
置。 - 【請求項３】 前記レチクルマスク収納手段は、 前記レチクルマスクを収納するレチクルカセットケース
の内筒と、前記内筒を収納する外筒とから成り、かつ、
前記内筒のみが前記レチクル搬送装置により搬送可能で
あるように構成した請求項１の縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4083262A JPH05251302A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4083262A JPH05251302A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251302A true JPH05251302A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=13797441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4083262A Pending JPH05251302A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05251302A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5675402A (en) * | 1994-10-21 | 1997-10-07 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Stepper light control using movable blades |
| KR100440812B1 (ko) * | 1995-10-19 | 2004-10-14 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 코너지지(cornerholding)기능을지니는레티클용기 |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP4083262A patent/JPH05251302A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5675402A (en) * | 1994-10-21 | 1997-10-07 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Stepper light control using movable blades |
| KR100440812B1 (ko) * | 1995-10-19 | 2004-10-14 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 코너지지(cornerholding)기능을지니는레티클용기 |
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