JPH05251604A - リードフレームの製造方法 - Google Patents
リードフレームの製造方法Info
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- JPH05251604A JPH05251604A JP4868192A JP4868192A JPH05251604A JP H05251604 A JPH05251604 A JP H05251604A JP 4868192 A JP4868192 A JP 4868192A JP 4868192 A JP4868192 A JP 4868192A JP H05251604 A JPH05251604 A JP H05251604A
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- lead
- frame
- lead frame
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】多品種生産に合致した新規のリードフレームの
製造方法を提供する。 【構成】フープ材5の幅方向両側の所定箇所にスプロケ
ットホール1を有し、半導体素子を載置すべきパッド部
21から放射状に延びる多数のインナーリード3と、各
インナーリードの端縁から外方に伸長するアウターリー
ド2とを備えたリードフレームの製造方法において、前
記スプロケットホール1をプレス法により形成するプレ
ス工程と、前記インナーリード3およびアウターリード
2をエッチング法により形成するエッチング工程とを含
むリードフレームの製造方法。
製造方法を提供する。 【構成】フープ材5の幅方向両側の所定箇所にスプロケ
ットホール1を有し、半導体素子を載置すべきパッド部
21から放射状に延びる多数のインナーリード3と、各
インナーリードの端縁から外方に伸長するアウターリー
ド2とを備えたリードフレームの製造方法において、前
記スプロケットホール1をプレス法により形成するプレ
ス工程と、前記インナーリード3およびアウターリード
2をエッチング法により形成するエッチング工程とを含
むリードフレームの製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はリードフレーム、特に微
細パターンを有するリードフレームの製造方法に関す
る。
細パターンを有するリードフレームの製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】現在電子工業の躍進と共にIC、LSI
が急激な需要増加をもたらしている。これに伴ないリー
ドフレームの量も急激に増加している。一方、IC、L
SIの多ピン化に伴ない品種も毎月数十〜数百種類も増
加している。これに対応すべくリードフレームもフォト
マスク、金型の新設を余儀なくされている。
が急激な需要増加をもたらしている。これに伴ないリー
ドフレームの量も急激に増加している。一方、IC、L
SIの多ピン化に伴ない品種も毎月数十〜数百種類も増
加している。これに対応すべくリードフレームもフォト
マスク、金型の新設を余儀なくされている。
【0003】リードフレームは、一般に、大きく分けて
リードフレームの搬送のためのスプロケットホール、ア
ウターリード、インナーリードを有し、通常は一括して
プレスによる打ち抜き、または一括してエッチングによ
って形成される。
リードフレームの搬送のためのスプロケットホール、ア
ウターリード、インナーリードを有し、通常は一括して
プレスによる打ち抜き、または一括してエッチングによ
って形成される。
【0004】ここで、インナーリードまたはアウターリ
ードは、使用するICの種類により千差万別であり、し
かも独特な微細パターンが要求されている一方、スプロ
ケットホールはフレーム幅が一定ならばピンの数、パタ
ーンの形状により統一されているのが一般的であり、特
にユーザーにおいて使用する機械が定まっている場合は
一定でないと不都合な場合が多い。
ードは、使用するICの種類により千差万別であり、し
かも独特な微細パターンが要求されている一方、スプロ
ケットホールはフレーム幅が一定ならばピンの数、パタ
ーンの形状により統一されているのが一般的であり、特
にユーザーにおいて使用する機械が定まっている場合は
一定でないと不都合な場合が多い。
【0005】一方、エッチングによる場合は枚葉式のバ
ッチ式の場合が多く、このような全エッチング方式によ
る場合はスプロケットホールとインナーリードまたはア
ウターリードが同時エッチング方式なので長尺のフープ
材を対象とした連続方式による量産化等において不都合
な場合が生じる。
ッチ式の場合が多く、このような全エッチング方式によ
る場合はスプロケットホールとインナーリードまたはア
ウターリードが同時エッチング方式なので長尺のフープ
材を対象とした連続方式による量産化等において不都合
な場合が生じる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】これらの多品種のリー
ドフレームを製造するために、従来は一品種毎にエッチ
ングマスクのパターン作成またはプレス金型製造を行な
っていた。このことは費用が莫大なものになるだけでな
く、製造納期が長くなり、さらには、異品種混入等のト
ラブルも巻き込む結果となる。また、納期を早めるため
多量の在庫をかかえる結果にもつながり、品種変換の激
しい時期にデッドストックにもなりかねない。
ドフレームを製造するために、従来は一品種毎にエッチ
ングマスクのパターン作成またはプレス金型製造を行な
っていた。このことは費用が莫大なものになるだけでな
く、製造納期が長くなり、さらには、異品種混入等のト
ラブルも巻き込む結果となる。また、納期を早めるため
多量の在庫をかかえる結果にもつながり、品種変換の激
しい時期にデッドストックにもなりかねない。
【0007】本発明の目的は、前記した従来技術の欠点
を解消し、多品種生産に合致した、新規のリードフレー
ムの製造方法を提供することにある。
を解消し、多品種生産に合致した、新規のリードフレー
ムの製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、フープ材の幅方向両側の所定箇所に
スプロケットホールを有し、半導体素子を載置すべきパ
ッド部から放射状に延びる多数のインナーリードと、各
インナーリードの端縁から外方に伸長するアウターリー
ドとを備えたリードフレームの製造方法において、前記
スプロケットホールをプレス法により形成するプレス工
程と、前記インナーリードおよびアウターリードをエッ
チング法により形成するエッチング工程とを含むことを
特徴するリードフレームの製造方法が提供される。
に本発明によれば、フープ材の幅方向両側の所定箇所に
スプロケットホールを有し、半導体素子を載置すべきパ
ッド部から放射状に延びる多数のインナーリードと、各
インナーリードの端縁から外方に伸長するアウターリー
ドとを備えたリードフレームの製造方法において、前記
スプロケットホールをプレス法により形成するプレス工
程と、前記インナーリードおよびアウターリードをエッ
チング法により形成するエッチング工程とを含むことを
特徴するリードフレームの製造方法が提供される。
【0009】ここで、前記フープ材上に複数列のリード
フレームが形成されるのが好ましい。以下に、本発明を
図面を参照しながらさらに詳細に説明する。図1は本発
明方法によって得られるリードフレームの一例を示す平
面図で、1はサイドレール上に形成されるスプロケット
ホール、2はアウターリード、3はインナーリード、2
1はパッド部である。
フレームが形成されるのが好ましい。以下に、本発明を
図面を参照しながらさらに詳細に説明する。図1は本発
明方法によって得られるリードフレームの一例を示す平
面図で、1はサイドレール上に形成されるスプロケット
ホール、2はアウターリード、3はインナーリード、2
1はパッド部である。
【0010】図2〜12は本発明によるリードフレーム
の製造方法の一実施例を工程順に示した模式図および各
工程におけるフレームの断面図である。まず、図2のプ
レス工程において一方のリール(図2では右側のリー
ル)に巻かれているコイル状の42鉄合金(フープ材
5)をプレス機7によりプレス加工し、他方のリール4
(図2では左側のリール)に巻きとられる。この工程
で、図3に示すメタル母材5(フープ材)は図4に示す
ようにスプロケットホール1を有するフレームに加工さ
れる。
の製造方法の一実施例を工程順に示した模式図および各
工程におけるフレームの断面図である。まず、図2のプ
レス工程において一方のリール(図2では右側のリー
ル)に巻かれているコイル状の42鉄合金(フープ材
5)をプレス機7によりプレス加工し、他方のリール4
(図2では左側のリール)に巻きとられる。この工程
で、図3に示すメタル母材5(フープ材)は図4に示す
ようにスプロケットホール1を有するフレームに加工さ
れる。
【0011】つぎに、プレス加工された前記フレームは
図5に示すフォトレジスト塗布工程へ送られ、フォトレ
ジストタンク6内を通過し、フォトレジスト膜12が塗
布されたコイルはロール19またはブレードにより膜厚
を調整し、乾燥炉20を通過することによって塗膜を乾
燥したのち、リールに巻きとられる。この工程により4
2鉄合金表面は、図6に示すようにフレームの全面にフ
ォトレジスト膜12が塗布された状態となる。
図5に示すフォトレジスト塗布工程へ送られ、フォトレ
ジストタンク6内を通過し、フォトレジスト膜12が塗
布されたコイルはロール19またはブレードにより膜厚
を調整し、乾燥炉20を通過することによって塗膜を乾
燥したのち、リールに巻きとられる。この工程により4
2鉄合金表面は、図6に示すようにフレームの全面にフ
ォトレジスト膜12が塗布された状態となる。
【0012】つぎに、図7に示す露光工程でフォトマス
ク8の上から前記レジスト膜12を露光する。通常レジ
ストに対し感応性のある光(図7、8に矢印で示す)、
例えば遠紫外線を照射する。露光工程により図8に示す
フレームが得られる。符号15、16はそれぞれフォト
マスク遮光部、透光部である。
ク8の上から前記レジスト膜12を露光する。通常レジ
ストに対し感応性のある光(図7、8に矢印で示す)、
例えば遠紫外線を照射する。露光工程により図8に示す
フレームが得られる。符号15、16はそれぞれフォト
マスク遮光部、透光部である。
【0013】続いて、図9に示す現像工程で現像液タン
ク9内を通過し、図10に示す断面形状としたのち、図
11に示すエッチング・剥膜工程へ搬送され、エッチン
グ槽10および剥膜装置11を通過して、図12に示す
リードフレームが形成される。
ク9内を通過し、図10に示す断面形状としたのち、図
11に示すエッチング・剥膜工程へ搬送され、エッチン
グ槽10および剥膜装置11を通過して、図12に示す
リードフレームが形成される。
【0014】つぎに、本発明方法による他の実施例を図
13〜19を参照しながら説明する。図13〜19に示
すものは、前記フォトレジスト塗布(図5、6参照)の
代りに感光性フィルムを用いたものである。
13〜19を参照しながら説明する。図13〜19に示
すものは、前記フォトレジスト塗布(図5、6参照)の
代りに感光性フィルムを用いたものである。
【0015】まず、図13に示すメタル母材5(フープ
材)、例えば42鉄合金上に、図14に示すように感光
性のフォトレジストフィルム12を貼り、その上にポリ
エチレンテレフタレート(PET)フィルム13を設け
る。14は離型用のポリエチレン(PE)フィルムであ
る。
材)、例えば42鉄合金上に、図14に示すように感光
性のフォトレジストフィルム12を貼り、その上にポリ
エチレンテレフタレート(PET)フィルム13を設け
る。14は離型用のポリエチレン(PE)フィルムであ
る。
【0016】つぎに、図15に示すようにフォトマスク
8を重ね、その上から紫外線等の前記フォトレジストフ
ィルム12に合った光を照射する。つぎに、図16に示
すようにPETフィルム13を剥がし、常法により現像
して図17に示すフレームを得る。符号17はレジスト
残部を示す。
8を重ね、その上から紫外線等の前記フォトレジストフ
ィルム12に合った光を照射する。つぎに、図16に示
すようにPETフィルム13を剥がし、常法により現像
して図17に示すフレームを得る。符号17はレジスト
残部を示す。
【0017】続いて、エッチングを行なって図18に示
すフレームとしたのち、剥膜工程を経て図19に示すよ
うな所定のリードフレームを得ることができる。なお、
上記感光性のフォトレジストフィルムを用いる場合も、
前記フォトレジスト塗布の場合のようにコイル状で製造
することが可能であり、また5フレームあるいは10フ
レームの短冊状で製造することが可能である。製造設備
の仕様または取り扱いやすさ等から任意に選定すること
ができる。
すフレームとしたのち、剥膜工程を経て図19に示すよ
うな所定のリードフレームを得ることができる。なお、
上記感光性のフォトレジストフィルムを用いる場合も、
前記フォトレジスト塗布の場合のようにコイル状で製造
することが可能であり、また5フレームあるいは10フ
レームの短冊状で製造することが可能である。製造設備
の仕様または取り扱いやすさ等から任意に選定すること
ができる。
【0018】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明
する。
する。
【0019】(実施例1)66mm幅、150μm 厚の
42鉄合金の110mのコイルを用い本発明のリードフ
レームを作成した。図20、21はこの時のリードフレ
ームで図20はプレスによりスプロケットホール1まで
形成したもの、また図21はさらに、エッチング法によ
りインナーリード3、アウターリード2を形成し最終パ
ターンまで製造したものである。図20のスプロケット
ホール形成までのパターンのものは他品種とも共通して
いるのでこの形状で保存し別品種へ対応させることがで
きる。
42鉄合金の110mのコイルを用い本発明のリードフ
レームを作成した。図20、21はこの時のリードフレ
ームで図20はプレスによりスプロケットホール1まで
形成したもの、また図21はさらに、エッチング法によ
りインナーリード3、アウターリード2を形成し最終パ
ターンまで製造したものである。図20のスプロケット
ホール形成までのパターンのものは他品種とも共通して
いるのでこの形状で保存し別品種へ対応させることがで
きる。
【0020】この方法で2か月間リードフレームを製造
したところ、金型の種類は従来に比べ1/3に、またフ
ォトマスクの数は1/2に減少した。金型、フォトマス
クの管理は大幅に楽になった。
したところ、金型の種類は従来に比べ1/3に、またフ
ォトマスクの数は1/2に減少した。金型、フォトマス
クの管理は大幅に楽になった。
【0021】(実施例2)図22、23に示すように3
5mm幅、100μm 厚の銅合金の200m巻コイルを
使用し、リードフレームを作成した。図22は、プレス
によりスプロケットホール1までを形成したもの、図2
3はエッチングによりインナーリード3およびアウター
リード2を形成したもので、この場合ピン数が多いので
アウターリード2はフレームの4か所からとる構造とし
た。この場合も実施例1と同様に金型、フォトマスクの
数が減少できた。
5mm幅、100μm 厚の銅合金の200m巻コイルを
使用し、リードフレームを作成した。図22は、プレス
によりスプロケットホール1までを形成したもの、図2
3はエッチングによりインナーリード3およびアウター
リード2を形成したもので、この場合ピン数が多いので
アウターリード2はフレームの4か所からとる構造とし
た。この場合も実施例1と同様に金型、フォトマスクの
数が減少できた。
【0022】(実施例3)図24、25は多列式リード
フレームの製造に関するものである。この場合、図24
のようにプレスによりスプロケットホール1を打ち抜
き、つぎに図25に示すように4列のフレームを同時に
エッチングにより形成した。この場合それぞれのスプロ
ケットホール1、インナーリード3、アウターリード2
をエッチングにより作成したが、はじめのスプロケット
ホール1を基準に露光を行なうため微細なパターンを形
成でき、しかもスプロケットホール1を利用して連続的
に作業できるためリードフレームの多量生産に都合が良
い。
フレームの製造に関するものである。この場合、図24
のようにプレスによりスプロケットホール1を打ち抜
き、つぎに図25に示すように4列のフレームを同時に
エッチングにより形成した。この場合それぞれのスプロ
ケットホール1、インナーリード3、アウターリード2
をエッチングにより作成したが、はじめのスプロケット
ホール1を基準に露光を行なうため微細なパターンを形
成でき、しかもスプロケットホール1を利用して連続的
に作業できるためリードフレームの多量生産に都合が良
い。
【0023】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、スプロケットホールをプレスにより、イン
ナーリードとアウターリードをエッチングにより製造す
ることにより、従来に比べフォトマスクは約半分、金型
は1/3に減少することができた。
ているので、スプロケットホールをプレスにより、イン
ナーリードとアウターリードをエッチングにより製造す
ることにより、従来に比べフォトマスクは約半分、金型
は1/3に減少することができた。
【0024】また、スプロケットホールをプレスした状
態で保存しておくことによりどのような品種にも対応で
きるため、仕掛品を大幅に減少させることができ、納期
も約1/3短縮できるようになった。
態で保存しておくことによりどのような品種にも対応で
きるため、仕掛品を大幅に減少させることができ、納期
も約1/3短縮できるようになった。
【図1】 本発明により得られるリードフレームの概要
を説明するための平面図である。
を説明するための平面図である。
【図2】 本発明方法におけるプレス工程を示す模式図
である。
である。
【図3】 メタル母材(フープ材)の断面図である。
【図4】 プレス後のフレームの断面図である。
【図5】 本発明方法におけるフォトレジスト塗布工程
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図6】 フォトレジスト塗布後のフレームの断面図で
ある。
ある。
【図7】 本発明方法における露光工程を示す模式図で
ある。
ある。
【図8】 露光工程後のフレームの断面図である。
【図9】 本発明方法における現像工程を示す模式図で
ある。
ある。
【図10】 現像工程後のフレームの断面図である。
【図11】 本発明方法におけるエッチング・剥膜工程
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図12】 エッチング・剥膜工程後のフレームの断面
図である。
図である。
【図13】 本発明方法における他の実施例のメタル母
材の断面図である。
材の断面図である。
【図14】 本発明方法における他の実施例のフォトレ
ジスト膜貼付後の断面図である。
ジスト膜貼付後の断面図である。
【図15】 本発明方法における他の実施例の露光時の
断面図である。
断面図である。
【図16】 本発明方法における他の実施例のPETフ
ィルム剥離時のフレームの断面図である。
ィルム剥離時のフレームの断面図である。
【図17】 本発明方法における他の実施例の現像後の
フレームの断面図である。
フレームの断面図である。
【図18】 本発明方法における他の実施例のエッチン
グ後のフレームの断面図である。
グ後のフレームの断面図である。
【図19】 本発明方法における他の実施例の剥膜後の
フレームの断面図である。
フレームの断面図である。
【図20】 実施例1におけるスプロケットホール形成
後のフレームの平面図である。
後のフレームの平面図である。
【図21】 実施例1における最終パターン形成後のフ
レームの平面図である。
レームの平面図である。
【図22】 実施例2におけるスプロケットホール形成
後のフレームの平面図である。
後のフレームの平面図である。
【図23】 実施例2における最終パターン形成後のフ
レームの平面図である。
レームの平面図である。
【図24】 実施例3におけるスプロケットホール形成
後のフレームの平面図である。
後のフレームの平面図である。
【図25】 実施例3における最終パターン形成後のフ
レームの平面図である。
レームの平面図である。
【符号の説明】 1 スプロケットホール 2 アウターリー
ド 3 インナーリード 4 リール 5 メタル母材(フープ材) 6 フォトレジス
トタンク 7 プレス機 8 フォトマスク 9 現像液タンク 10 エッチング
槽 11 剥膜装置 12 フォトレジ
スト膜(フィルム) 13 PETフィルム 14 PEフィル
ム 15 フォトマスク遮光部 16 フォトマス
ク透光部 17 レジスト残部 18 サイドレー
ル 19 ロール 20 乾燥炉 21 パッド部
ド 3 インナーリード 4 リール 5 メタル母材(フープ材) 6 フォトレジス
トタンク 7 プレス機 8 フォトマスク 9 現像液タンク 10 エッチング
槽 11 剥膜装置 12 フォトレジ
スト膜(フィルム) 13 PETフィルム 14 PEフィル
ム 15 フォトマスク遮光部 16 フォトマス
ク透光部 17 レジスト残部 18 サイドレー
ル 19 ロール 20 乾燥炉 21 パッド部
Claims (1)
- 【請求項1】フープ材の幅方向両側の所定箇所にスプロ
ケットホールを有し、半導体素子を載置すべきパッド部
から放射状に延びる多数のインナーリードと、各インナ
ーリードの端縁から外方に伸長するアウターリードとを
備えたリードフレームの製造方法において、 前記スプロケットホールをプレス法により形成するプレ
ス工程と、前記インナーリードおよびアウターリードを
エッチング法により形成するエッチング工程とを含むこ
とを特徴するリードフレームの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4868192A JPH05251604A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | リードフレームの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4868192A JPH05251604A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | リードフレームの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251604A true JPH05251604A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=12810066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4868192A Withdrawn JPH05251604A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | リードフレームの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05251604A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000252397A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-14 | Kitani Denki Kk | 電気機器用プレス部品 |
| CN110813669A (zh) * | 2019-11-15 | 2020-02-21 | 江苏上达电子有限公司 | 一种新型cof基材喷雾涂布方法 |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP4868192A patent/JPH05251604A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000252397A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-14 | Kitani Denki Kk | 電気機器用プレス部品 |
| CN110813669A (zh) * | 2019-11-15 | 2020-02-21 | 江苏上达电子有限公司 | 一种新型cof基材喷雾涂布方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |