JPH0525631A - 蒸着装置用窓 - Google Patents
蒸着装置用窓Info
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- JPH0525631A JPH0525631A JP18242091A JP18242091A JPH0525631A JP H0525631 A JPH0525631 A JP H0525631A JP 18242091 A JP18242091 A JP 18242091A JP 18242091 A JP18242091 A JP 18242091A JP H0525631 A JPH0525631 A JP H0525631A
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- window
- target
- entrance window
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
- H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
- H01B3/44—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
- H01B3/441—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from alkenes
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長時間の成膜作業をしても、蒸発粒子の付着
の無いレーザＰＶＤ蒸着装置用窓。 【構成】 透明材料からなる入射窓３を介して照射され
る集光された光エネルギ１が透過する透過孔を中心に有
する第１のアパーチャ４と、第１のアパーチャ４よりタ
ーゲット１１側に位置し第１のアパーチャ４を透過した
光エネルギ１が透過する透過孔を中心に有する第２のア
パーチャ５と、第１のアパーチャ４と第２のアパーチャ
５の間にあって光エネルギ１の通路を挟むように設けら
れた偏向電極６、７とからなる。第２のアパーチャ５を
通過して第１のアパーチャ４に向けて飛来する蒸発粒子
１０は、偏向電極６、７に電圧を印加することにより、
飛行方向を曲げられるので、蒸発粒子１０は第１のアパ
ーチャ４に衝突し、蒸発粒子１０は入射窓３に到達する
ことがない。
の無いレーザＰＶＤ蒸着装置用窓。 【構成】 透明材料からなる入射窓３を介して照射され
る集光された光エネルギ１が透過する透過孔を中心に有
する第１のアパーチャ４と、第１のアパーチャ４よりタ
ーゲット１１側に位置し第１のアパーチャ４を透過した
光エネルギ１が透過する透過孔を中心に有する第２のア
パーチャ５と、第１のアパーチャ４と第２のアパーチャ
５の間にあって光エネルギ１の通路を挟むように設けら
れた偏向電極６、７とからなる。第２のアパーチャ５を
通過して第１のアパーチャ４に向けて飛来する蒸発粒子
１０は、偏向電極６、７に電圧を印加することにより、
飛行方向を曲げられるので、蒸発粒子１０は第１のアパ
ーチャ４に衝突し、蒸発粒子１０は入射窓３に到達する
ことがない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＰＶＤ法（物理的蒸着
法）、特にレーザＰＶＤ法を用いた蒸着装置用窓に関す
る。
法）、特にレーザＰＶＤ法を用いた蒸着装置用窓に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光は単一波長でビームの拡がりも
小さいので、極めて小さい領域に集光でき、したがって
高密度エネルギを発生して高融点材料でも容易に溶融・
蒸発させることができる。この特徴を生かした蒸着法は
レーザＰＶＤ法と言われ、高硬度・緻密質のセラミック
膜ができることから、耐摩耗部品、耐熱耐食性部品、電
子部品などとして有用である。
小さいので、極めて小さい領域に集光でき、したがって
高密度エネルギを発生して高融点材料でも容易に溶融・
蒸発させることができる。この特徴を生かした蒸着法は
レーザＰＶＤ法と言われ、高硬度・緻密質のセラミック
膜ができることから、耐摩耗部品、耐熱耐食性部品、電
子部品などとして有用である。
【０００３】従来用いられているレーザＰＶＤ装置の一
例を図３に示す。図３において真空室１３の中央にはタ
ーゲットホルダ１２がほぼ４５°に傾斜して設置され、
このターゲットホルダ１２にはターゲット１１が同様に
傾斜して固定されている。また、真空室１３の底面には
排気管１５が取り付けられ、真空ポンプ１４により真空
室１３内のガスが排気され、真空室１３は真空に保たれ
ている。
例を図３に示す。図３において真空室１３の中央にはタ
ーゲットホルダ１２がほぼ４５°に傾斜して設置され、
このターゲットホルダ１２にはターゲット１１が同様に
傾斜して固定されている。また、真空室１３の底面には
排気管１５が取り付けられ、真空ポンプ１４により真空
室１３内のガスが排気され、真空室１３は真空に保たれ
ている。
【０００４】ターゲット１１を側面から臨む真空室１３
の側壁には光透過室１７が設けられ、この光透過室１７
の一番先には透明材料からなる入射窓３が取り付けられ
ている。この入射窓３を通して、レンズ２で集光された
レーザ光１が、ターゲット１１に照射される。
の側壁には光透過室１７が設けられ、この光透過室１７
の一番先には透明材料からなる入射窓３が取り付けられ
ている。この入射窓３を通して、レンズ２で集光された
レーザ光１が、ターゲット１１に照射される。
【０００５】真空室１３内のターゲット１１に対向する
位置には、基板ホルダ８に固定された基板９が、ターゲ
ット１１に平行に置かれている。レンズ２で集光された
レーザ光１が、入射窓３を通して、ターゲット１１に照
射されると、ターゲット１１がアブレーションを起こ
し、ターゲット１１より放出された蒸発粒子１０は対向
して置かれた基板９上に堆積して膜が形成される。
位置には、基板ホルダ８に固定された基板９が、ターゲ
ット１１に平行に置かれている。レンズ２で集光された
レーザ光１が、入射窓３を通して、ターゲット１１に照
射されると、ターゲット１１がアブレーションを起こ
し、ターゲット１１より放出された蒸発粒子１０は対向
して置かれた基板９上に堆積して膜が形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このようにレーザＰＶ
Ｄ法においては、入射窓を通してレーザ光がターゲット
に照射され、ターゲットからは蒸発粒子が放出され、対
向して設置された基板の上に膜として堆積する。この時
に、大部分の蒸発粒子は基板の方向へ向かうが、蒸発粒
子の一部は入射窓の方へも飛散する。そのため、入射窓
にも蒸発粒子が付着し、入射するレーザ光の透過率が低
下するので、レーザ成膜を長時間にわたって続けること
が困難となる。
Ｄ法においては、入射窓を通してレーザ光がターゲット
に照射され、ターゲットからは蒸発粒子が放出され、対
向して設置された基板の上に膜として堆積する。この時
に、大部分の蒸発粒子は基板の方向へ向かうが、蒸発粒
子の一部は入射窓の方へも飛散する。そのため、入射窓
にも蒸発粒子が付着し、入射するレーザ光の透過率が低
下するので、レーザ成膜を長時間にわたって続けること
が困難となる。
【０００７】かかる問題点を解決するため、蒸着装置の
覗き窓において、透明部材に蒸発粒子が飛散して付着す
るのを防止するための提案として、実開昭５９−１６９
３４９号公報の蒸着装置の覗き窓の考案があり、この提
案においては透明部材の内側にリング状または格子状の
永久磁石を取り付けたものである。しかしながら、この
提案においては蒸発粒子が磁性体金属である場合には、
覗き窓への付着は防止することはできるものの、非磁性
金属のイオン等の付着の防止はできないという問題点が
あった。
覗き窓において、透明部材に蒸発粒子が飛散して付着す
るのを防止するための提案として、実開昭５９−１６９
３４９号公報の蒸着装置の覗き窓の考案があり、この提
案においては透明部材の内側にリング状または格子状の
永久磁石を取り付けたものである。しかしながら、この
提案においては蒸発粒子が磁性体金属である場合には、
覗き窓への付着は防止することはできるものの、非磁性
金属のイオン等の付着の防止はできないという問題点が
あった。
【０００８】そのため、従来のレーザＰＶＤ蒸着装置に
おいては、入射窓の洗浄あるいは交換のために成膜作業
をしばしば中断する必要があり、長時間の連続成膜は不
可能であって、成膜作業の中断によって皮膜内部に界面
が生ずると共に、入射窓の交換に費用を要するという問
題点があった。
おいては、入射窓の洗浄あるいは交換のために成膜作業
をしばしば中断する必要があり、長時間の連続成膜は不
可能であって、成膜作業の中断によって皮膜内部に界面
が生ずると共に、入射窓の交換に費用を要するという問
題点があった。
【０００９】本発明は従来のレーザＰＶＤ蒸着装置を用
いて皮膜を形成する場合に、飛散した蒸発粒子が入射窓
に堆積し、レーザ光の透過量が減衰するという問題点を
解決するためになされたものであって、入射窓の内面に
蒸発粒子の堆積することを防止し、入射窓の洗浄、交換
を不要とすることにより、長時間の連続成膜を可能と
し、界面の無い膜を形成することのできる蒸着装置用窓
を提供することを目的とする。
いて皮膜を形成する場合に、飛散した蒸発粒子が入射窓
に堆積し、レーザ光の透過量が減衰するという問題点を
解決するためになされたものであって、入射窓の内面に
蒸発粒子の堆積することを防止し、入射窓の洗浄、交換
を不要とすることにより、長時間の連続成膜を可能と
し、界面の無い膜を形成することのできる蒸着装置用窓
を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】従来のレーザＰＶＤ蒸着
装置おいて、蒸発粒子の一部が入射窓の方へも飛散する
こと自体を防止することはできない。そこで、発明者等
は飛散する蒸発粒子を何らかの方法で遮蔽すれば良いと
考え鋭意研究した結果、レーザ光の透過孔を中心に有す
るアパーチャで遮蔽することを着想した。しかし、アパ
ーチャ１枚ではアパーチャの透過孔を通過する蒸発粒子
の入射窓への侵入を防止することができない。そこで、
さらに研究を重ねた結果、飛散する蒸発粒子の行路に電
界をかけて曲げてやることを着想し、アパーチャを２重
に設置すると共に、２つのアパーチャの間に偏向電極を
設置することにより本発明を完成した。
装置おいて、蒸発粒子の一部が入射窓の方へも飛散する
こと自体を防止することはできない。そこで、発明者等
は飛散する蒸発粒子を何らかの方法で遮蔽すれば良いと
考え鋭意研究した結果、レーザ光の透過孔を中心に有す
るアパーチャで遮蔽することを着想した。しかし、アパ
ーチャ１枚ではアパーチャの透過孔を通過する蒸発粒子
の入射窓への侵入を防止することができない。そこで、
さらに研究を重ねた結果、飛散する蒸発粒子の行路に電
界をかけて曲げてやることを着想し、アパーチャを２重
に設置すると共に、２つのアパーチャの間に偏向電極を
設置することにより本発明を完成した。
【００１１】本発明の蒸着装置用窓は、透明材料からな
る入射窓と、前記入射窓を介して照射される集光された
光エネルギが透過する透過孔を中心に有する第１のアパ
ーチャと、前記第１のアパーチャよりターゲット側に位
置し前記第１のアパーチャを透過した光エネルギが透過
する透過孔を中心に有する第２のアパーチャと、前記第
１のアパーチャと第２のアパーチャの間にあって光エネ
ルギの通路を挟むように設けられた偏向電極とからなる
ことを要旨とする。
る入射窓と、前記入射窓を介して照射される集光された
光エネルギが透過する透過孔を中心に有する第１のアパ
ーチャと、前記第１のアパーチャよりターゲット側に位
置し前記第１のアパーチャを透過した光エネルギが透過
する透過孔を中心に有する第２のアパーチャと、前記第
１のアパーチャと第２のアパーチャの間にあって光エネ
ルギの通路を挟むように設けられた偏向電極とからなる
ことを要旨とする。
【００１２】
【作用】レーザ光はレンズで集光されて入射窓を通して
真空室に向けて照射される。入射窓を透過したレーザ光
は第１のアパーチャの透過孔を通過し、偏向電極の間を
通り、さらに第２のアパーチャの透過孔を通過して、タ
ーゲットに照射される。レーザ光がターゲットに照射さ
れると、ターゲットがアブレーションを起こし、ターゲ
ットより放出された蒸発粒子は対向して置かれた基板上
に堆積して膜が形成される。
真空室に向けて照射される。入射窓を透過したレーザ光
は第１のアパーチャの透過孔を通過し、偏向電極の間を
通り、さらに第２のアパーチャの透過孔を通過して、タ
ーゲットに照射される。レーザ光がターゲットに照射さ
れると、ターゲットがアブレーションを起こし、ターゲ
ットより放出された蒸発粒子は対向して置かれた基板上
に堆積して膜が形成される。
【００１３】蒸発粒子の大部分はターゲットの法線方向
に飛んで基板に堆積するが、蒸発粒子の一部は入射窓の
方向にも飛来する。この時蒸発粒子の多くがイオンにな
っている。入射窓の方向へ飛来した蒸発粒子は先ず第２
のアパーチャで遮られる。しかし、第２のアパーチャに
は透過孔が設けられているので、、第２のアパーチャの
透過孔を通過した蒸発粒子は、さらに第１のアパーチャ
に向けて進入する。
に飛んで基板に堆積するが、蒸発粒子の一部は入射窓の
方向にも飛来する。この時蒸発粒子の多くがイオンにな
っている。入射窓の方向へ飛来した蒸発粒子は先ず第２
のアパーチャで遮られる。しかし、第２のアパーチャに
は透過孔が設けられているので、、第２のアパーチャの
透過孔を通過した蒸発粒子は、さらに第１のアパーチャ
に向けて進入する。
【００１４】然るに、第１のアパーチャと第２のアパー
チャの間には、光エネルギの通路を挟むように偏向電極
が設けられているので、偏向電極に電圧を印加すること
により、第２のアパーチャを通過して第１のアパーチャ
に向けて飛来する蒸発粒子であるイオンの飛行方向を、
陽イオンの時は偏向電極のカソードの方へ、陰イオンの
時はアノードの方へ曲げてやることが可能である。その
結果、飛行方向を曲げられた蒸発粒子は第１のアパーチ
ャに衝突し、蒸発粒子は入射窓に到達することがない。
チャの間には、光エネルギの通路を挟むように偏向電極
が設けられているので、偏向電極に電圧を印加すること
により、第２のアパーチャを通過して第１のアパーチャ
に向けて飛来する蒸発粒子であるイオンの飛行方向を、
陽イオンの時は偏向電極のカソードの方へ、陰イオンの
時はアノードの方へ曲げてやることが可能である。その
結果、飛行方向を曲げられた蒸発粒子は第１のアパーチ
ャに衝突し、蒸発粒子は入射窓に到達することがない。
【００１５】なお、入射窓の方向へ飛散してくる陽イオ
ンに電界をかけて行路を曲げるには ｍｖ2／ｒ＝ｑ×（Ｖ／ｄ）・・・・・（１） の電界（Ｖ／ｄ）が必要である。ここで、 ｍ〔ｋｇ〕：イオンの質量 ｖ〔ｍ／ｓｅｃ〕：イオンの速度 ｒ〔ｍ〕：回転半径 ｑ〔ｃ〕：イオンの電荷 Ｖ〔ｖ〕：電圧 ｄ〔ｍ〕：電極間距離 従って、 ｒ＝ｍｖ2／〔ｑ×（Ｖ／ｄ）〕・・・・・（２） となり、このｒが極力小さくなるように電圧Ｖおよび電
極間距離ｄを選べば良い。
ンに電界をかけて行路を曲げるには ｍｖ2／ｒ＝ｑ×（Ｖ／ｄ）・・・・・（１） の電界（Ｖ／ｄ）が必要である。ここで、 ｍ〔ｋｇ〕：イオンの質量 ｖ〔ｍ／ｓｅｃ〕：イオンの速度 ｒ〔ｍ〕：回転半径 ｑ〔ｃ〕：イオンの電荷 Ｖ〔ｖ〕：電圧 ｄ〔ｍ〕：電極間距離 従って、 ｒ＝ｍｖ2／〔ｑ×（Ｖ／ｄ）〕・・・・・（２） となり、このｒが極力小さくなるように電圧Ｖおよび電
極間距離ｄを選べば良い。
【００１６】
【実施例】本発明の実施例を以下図面に従って説明し、
合わせて従来例および比較例と比較して本発明の効果を
明らかにする。図１は本発明の実施例装置を取り付けた
レーザＰＶＤ蒸着装置の概略図である。真空室１３の中
央にはターゲットホルダ１２が４５°傾斜して設置さ
れ、このターゲットホルダ１２にはターゲット１１が同
様に４５°傾斜して固定されている。また、真空室１３
の底面には排気管１５が取り付けられ、真空ポンプ１４
により真空室１３内のガスが排気され、真空室１３は１
０-8Ｔｏｒｒ程度の真空に保たれている。
合わせて従来例および比較例と比較して本発明の効果を
明らかにする。図１は本発明の実施例装置を取り付けた
レーザＰＶＤ蒸着装置の概略図である。真空室１３の中
央にはターゲットホルダ１２が４５°傾斜して設置さ
れ、このターゲットホルダ１２にはターゲット１１が同
様に４５°傾斜して固定されている。また、真空室１３
の底面には排気管１５が取り付けられ、真空ポンプ１４
により真空室１３内のガスが排気され、真空室１３は１
０-8Ｔｏｒｒ程度の真空に保たれている。
【００１７】ターゲット１１を側面から臨む真空室１３
の側壁には光透過室１７が設けられ、この光透過室１７
の一番先には透明材料からなる入射窓３が取り付けられ
ている。この入射窓３を通して、レンズ２で集光された
レーザ光１が、ターゲット１１に照射される。また、真
空室１３内のターゲット１１に対向する位置には、基板
ホルダ８に固定された基板９が、ターゲット１１に平行
に置かれている。
の側壁には光透過室１７が設けられ、この光透過室１７
の一番先には透明材料からなる入射窓３が取り付けられ
ている。この入射窓３を通して、レンズ２で集光された
レーザ光１が、ターゲット１１に照射される。また、真
空室１３内のターゲット１１に対向する位置には、基板
ホルダ８に固定された基板９が、ターゲット１１に平行
に置かれている。
【００１８】光透過室１７の入口には中心にレーザ光が
透過する透過孔を有する第２のアパーチャ５が設けら
れ、さらに光透過室１７の奥には同様に中心にレーザ光
が透過する透過孔を有する第１のアパーチャ４が設けら
れている。この第１のアパーチャ４と第２のアパーチャ
５の間には、光エネルギの通路を挟むように偏向電極の
アノード６とカソード７が設けられている。また、この
アノード６およびカソード７には、図２の偏向用電極拡
大図に示すように、電源１６が接続されている。
透過する透過孔を有する第２のアパーチャ５が設けら
れ、さらに光透過室１７の奥には同様に中心にレーザ光
が透過する透過孔を有する第１のアパーチャ４が設けら
れている。この第１のアパーチャ４と第２のアパーチャ
５の間には、光エネルギの通路を挟むように偏向電極の
アノード６とカソード７が設けられている。また、この
アノード６およびカソード７には、図２の偏向用電極拡
大図に示すように、電源１６が接続されている。
【００１９】本実施例装置の作動を説明すると、レーザ
光１はレンズ２で集光されて入射窓３を通して真空室１
３に向けて照射される。入射窓３を透過したレーザ光１
は第１のアパーチャ４の透過孔を通過し、偏向電極のア
ノード６とカソード７の間を通り、さらに第２のアパー
チャ５の透過孔を通過して、ターゲット１１に照射され
る。レーザ光１がターゲット１１に照射されると、ター
ゲット１１がアブレーションを起こし、ターゲットより
蒸発した蒸発粒子１０が対向して置かれた基板９上に堆
積して膜が形成される。
光１はレンズ２で集光されて入射窓３を通して真空室１
３に向けて照射される。入射窓３を透過したレーザ光１
は第１のアパーチャ４の透過孔を通過し、偏向電極のア
ノード６とカソード７の間を通り、さらに第２のアパー
チャ５の透過孔を通過して、ターゲット１１に照射され
る。レーザ光１がターゲット１１に照射されると、ター
ゲット１１がアブレーションを起こし、ターゲットより
蒸発した蒸発粒子１０が対向して置かれた基板９上に堆
積して膜が形成される。
【００２０】蒸発粒子１０の大部分はターゲットの法線
方向に飛んで基板９に堆積するが、蒸発粒子１０の一部
１０ａは、図２の偏向用電極付近拡大図に示すように、
入射窓３の方向にも飛来する。この時蒸発粒子の多くが
イオンになっている。入射窓３の方向へ飛来した蒸発粒
子は先ず第２のアパーチャ５で遮られる。しかし、第２
のアパーチャ５には透過孔が設けられているので、、第
２のアパーチャ５の透過孔を通過した蒸着粒子１０ａ
は、さらに第１のアパーチャ５に向けて進入する。
方向に飛んで基板９に堆積するが、蒸発粒子１０の一部
１０ａは、図２の偏向用電極付近拡大図に示すように、
入射窓３の方向にも飛来する。この時蒸発粒子の多くが
イオンになっている。入射窓３の方向へ飛来した蒸発粒
子は先ず第２のアパーチャ５で遮られる。しかし、第２
のアパーチャ５には透過孔が設けられているので、、第
２のアパーチャ５の透過孔を通過した蒸着粒子１０ａ
は、さらに第１のアパーチャ５に向けて進入する。
【００２１】然るに、第１のアパーチャ４と第２のアパ
ーチャ５の間には、光エネルギの通路を挟むように偏向
電極のアノード６とカソード７が設けられ、電源１６が
接続されているので、電圧を印加することにより、第２
のアパーチャ５を通過して第１のアパーチャ４に向けて
飛来する蒸発粒子１０ａである陽イオンの飛行方向を、
カソード７の方へ、陰イオンの飛行方向をアノード６の
方へ曲げてやることが可能である。その結果、飛行方向
を曲げられた蒸発粒子１０ａは第１のアパーチャ４に衝
突し、蒸発粒子１０ａは入射窓３に到達することがな
い。
ーチャ５の間には、光エネルギの通路を挟むように偏向
電極のアノード６とカソード７が設けられ、電源１６が
接続されているので、電圧を印加することにより、第２
のアパーチャ５を通過して第１のアパーチャ４に向けて
飛来する蒸発粒子１０ａである陽イオンの飛行方向を、
カソード７の方へ、陰イオンの飛行方向をアノード６の
方へ曲げてやることが可能である。その結果、飛行方向
を曲げられた蒸発粒子１０ａは第１のアパーチャ４に衝
突し、蒸発粒子１０ａは入射窓３に到達することがな
い。
【００２２】次に、本実施例装置を用いた実際の実施例
について説明する。断面積が６ｍｍ×３３ｍｍの矩形に
なっているレーザ光１を焦点距離ｆ＝３５０ｍｍのレン
ズ２で集光し入射窓３を通して光透過室１７内に向けて
照射した。光透過室１７内には透過孔径２０ｍｍの第１
のアパーチャ４と透過孔径１６ｍｍの第２のアパーチャ
５を設置し、レーザ光１はこの２つのアパーチャを通し
てＳｉのターゲット１１を照射した。
について説明する。断面積が６ｍｍ×３３ｍｍの矩形に
なっているレーザ光１を焦点距離ｆ＝３５０ｍｍのレン
ズ２で集光し入射窓３を通して光透過室１７内に向けて
照射した。光透過室１７内には透過孔径２０ｍｍの第１
のアパーチャ４と透過孔径１６ｍｍの第２のアパーチャ
５を設置し、レーザ光１はこの２つのアパーチャを通し
てＳｉのターゲット１１を照射した。
【００２３】ここで、表１に示すように、偏向用電極で
あるアノード６とカソード７との距離ｄ：２５ｍｍ、４
０ｍｍ、電圧Ｖ：１ｖ、５ｖ、１０ｖ、入射窓と第１の
アパーチャの距離ｌ：１０ｃｍ、１５ｃｍとして、実施
例ａ〜ｅを行い入射窓３の汚れ状態を評価した。なお、
アノード６とカソード７との電極間距離ｄは光透過の関
係で２０ｍｍ以下には設定できないので、２０ｍｍ以上
とした。
あるアノード６とカソード７との距離ｄ：２５ｍｍ、４
０ｍｍ、電圧Ｖ：１ｖ、５ｖ、１０ｖ、入射窓と第１の
アパーチャの距離ｌ：１０ｃｍ、１５ｃｍとして、実施
例ａ〜ｅを行い入射窓３の汚れ状態を評価した。なお、
アノード６とカソード７との電極間距離ｄは光透過の関
係で２０ｍｍ以下には設定できないので、２０ｍｍ以上
とした。
【００２４】また、比較のために図３の従来装置を用
い、同じレーザ光１を同じレンズで集光し、Ｓｉのター
ゲット１１に照射して同様に入射窓３の汚れを評価し
た。得られた結果は表１にまとめて示した。なお、入射
窓の汚れは、汚れの無かったものは○、汚れのあったも
のは×で示した。
い、同じレーザ光１を同じレンズで集光し、Ｓｉのター
ゲット１１に照射して同様に入射窓３の汚れを評価し
た。得られた結果は表１にまとめて示した。なお、入射
窓の汚れは、汚れの無かったものは○、汚れのあったも
のは×で示した。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１の結果より、入射窓とアパーチャの距
離ｌ：０．１ｍ、電極間距離ｄ：０．２０〜０．０２５
ｍの時に、電圧を１０ｖ以上とした場合、入射窓とアパ
ーチャの距離ｌ：０．１５ｍ、電極間距離ｄ：０．２０
〜０．０２５ｍの時に、電圧を５ｖ以上とした場合に入
射窓の汚れがないことが判明した。従って、前記（２）
式において、ｄおよびＶを適宜選択すれば入射窓の汚れ
を防止することができることが確認された。なお、蒸発
粒子の種類等によって、この条件は変わってくるが、入
射窓とアパーチャの距離ｌに応じて、ｒ＜ｌの条件を満
足すれば、入射窓の汚れは発生しない。
離ｌ：０．１ｍ、電極間距離ｄ：０．２０〜０．０２５
ｍの時に、電圧を１０ｖ以上とした場合、入射窓とアパ
ーチャの距離ｌ：０．１５ｍ、電極間距離ｄ：０．２０
〜０．０２５ｍの時に、電圧を５ｖ以上とした場合に入
射窓の汚れがないことが判明した。従って、前記（２）
式において、ｄおよびＶを適宜選択すれば入射窓の汚れ
を防止することができることが確認された。なお、蒸発
粒子の種類等によって、この条件は変わってくるが、入
射窓とアパーチャの距離ｌに応じて、ｒ＜ｌの条件を満
足すれば、入射窓の汚れは発生しない。
【００２７】
【発明の効果】本発明の蒸着装置用窓は以上説明したよ
うに、透明材料からなる入射窓を介して照射される集光
された光エネルギを透過する透過孔を中心に有する第１
のアパーチャと、第１のアパーチャよりターゲット側に
位置し第１のアパーチャを透過した光エネルギを透過す
る透過孔を中心に有する第２のアパーチャと、第１のア
パーチャと第２のアパーチャの間にあって光エネルギの
通路を挟むように設けられた偏向電極とからなることを
特徴とするものであって、第２のアパーチャを通過して
第１のアパーチャに向けて飛来する蒸発粒子は、偏向電
極に電圧を印加することにより、飛行方向を曲げられる
ので、蒸発粒子は第１のアパーチャに衝突し、蒸発粒子
は入射窓に到達することがない。そのため、蒸着装置の
入射窓の内面に薄膜生成物の堆積することが防止され、
皮膜形成中の入射窓の曇りが完全に防止される。また、
入射窓の洗浄、交換が不要となり、長時間の連続成膜に
より界面の無い厚膜の形成を可能とする。
うに、透明材料からなる入射窓を介して照射される集光
された光エネルギを透過する透過孔を中心に有する第１
のアパーチャと、第１のアパーチャよりターゲット側に
位置し第１のアパーチャを透過した光エネルギを透過す
る透過孔を中心に有する第２のアパーチャと、第１のア
パーチャと第２のアパーチャの間にあって光エネルギの
通路を挟むように設けられた偏向電極とからなることを
特徴とするものであって、第２のアパーチャを通過して
第１のアパーチャに向けて飛来する蒸発粒子は、偏向電
極に電圧を印加することにより、飛行方向を曲げられる
ので、蒸発粒子は第１のアパーチャに衝突し、蒸発粒子
は入射窓に到達することがない。そのため、蒸着装置の
入射窓の内面に薄膜生成物の堆積することが防止され、
皮膜形成中の入射窓の曇りが完全に防止される。また、
入射窓の洗浄、交換が不要となり、長時間の連続成膜に
より界面の無い厚膜の形成を可能とする。
【図１】本発明の実施例装置を取り付けたレーザＰＶＤ
蒸着装置の概略側面図である。
蒸着装置の概略側面図である。
【図２】図１の蒸着装置の偏向用電極付近の拡大図であ
る。
る。
【図３】従来のレーザＰＶＤ蒸着装置の概略図側面図で
ある。
ある。
１ レーザ光 ２ レンズ ３ 入射窓 ４ 第１のアパー
チャ ５ 第２のアパーチャ ６ 偏向電極のア
ノード ７ 偏向電極のカソード ９ 基板 １０、１０ａ 蒸発粒子 １１ ターゲット １３ 真空室 １４ 真空ポンプ １６ 電源
チャ ５ 第２のアパーチャ ６ 偏向電極のア
ノード ７ 偏向電極のカソード ９ 基板 １０、１０ａ 蒸発粒子 １１ ターゲット １３ 真空室 １４ 真空ポンプ １６ 電源
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 透明材料からなる入射窓と、前記入射窓
を介して照射される集光された光エネルギが透過する透
過孔を中心に有する第１のアパーチャと、前記第１のア
パーチャよりターゲット側に位置し前記第１のアパーチ
ャを透過した光エネルギが透過する透過孔を中心に有す
る第２のアパーチャと、前記第１のアパーチャと第２の
アパーチャの間にあって光エネルギの通路を挟むように
設けられた偏向電極とからなることを特徴とする蒸着装
置用窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18242091A JPH0525631A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 蒸着装置用窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18242091A JPH0525631A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 蒸着装置用窓 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525631A true JPH0525631A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=16117974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18242091A Pending JPH0525631A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 蒸着装置用窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0525631A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08315432A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Nippondenso Co Ltd | 光情報記録媒体の製造装置及び製造方法 |
| JP2010525172A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-07-22 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァー フェーデルング デア アンゲバンテン フォルシュング エー ファー | 真空内で基板上にコーティングを形成するためのアセンブリ |
| JP2024123510A (ja) * | 2023-03-01 | 2024-09-12 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 覗き窓、覗き窓付きスナウト、および、覗き窓の異物付着抑制方法 |
-
1991
- 1991-07-23 JP JP18242091A patent/JPH0525631A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08315432A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Nippondenso Co Ltd | 光情報記録媒体の製造装置及び製造方法 |
| JP2010525172A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-07-22 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァー フェーデルング デア アンゲバンテン フォルシュング エー ファー | 真空内で基板上にコーティングを形成するためのアセンブリ |
| JP2024123510A (ja) * | 2023-03-01 | 2024-09-12 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 覗き窓、覗き窓付きスナウト、および、覗き窓の異物付着抑制方法 |
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