JPH05264484A - Ｅｐｍａ等における特性ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法及びそのための装置 - Google Patents
Ｅｐｍａ等における特性ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法及びそのための装置Info
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- JPH05264484A JPH05264484A JP4062070A JP6207092A JPH05264484A JP H05264484 A JPH05264484 A JP H05264484A JP 4062070 A JP4062070 A JP 4062070A JP 6207092 A JP6207092 A JP 6207092A JP H05264484 A JPH05264484 A JP H05264484A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及
びバックグラウンド位置をより正確に検出する方法及び
そのための装置。 【構成】 得られた強度分布データを平滑化Ａし、曲線
Ａの二次微分曲線Ｂを求め、曲線Ｂのマイナスの極小値
が１点の場合、その位置をピーク位置と判断し、曲線Ｂ
の極小値が２点以上の場合、理論ピーク位置ｄに最も近
い極小値位置をピーク位置と判断し、曲線Ｂの極小値が
ない場合、理論ピーク位置ｄをピーク位置と判断し、理
論ピーク位置ｄとそれから前後の一定間隔離れた位置の
間に二次微分値の極大値が存在しない場合、理論ピーク
位置ｄから一定間隔離れた位置をバックグラウンド位置
ｅとし、この間に二次微分値の極大値が存在する場合、
その極大値に対応する曲線Ａの極小値位置をバックグラ
ウンド位置ｆとする。
びバックグラウンド位置をより正確に検出する方法及び
そのための装置。 【構成】 得られた強度分布データを平滑化Ａし、曲線
Ａの二次微分曲線Ｂを求め、曲線Ｂのマイナスの極小値
が１点の場合、その位置をピーク位置と判断し、曲線Ｂ
の極小値が２点以上の場合、理論ピーク位置ｄに最も近
い極小値位置をピーク位置と判断し、曲線Ｂの極小値が
ない場合、理論ピーク位置ｄをピーク位置と判断し、理
論ピーク位置ｄとそれから前後の一定間隔離れた位置の
間に二次微分値の極大値が存在しない場合、理論ピーク
位置ｄから一定間隔離れた位置をバックグラウンド位置
ｅとし、この間に二次微分値の極大値が存在する場合、
その極大値に対応する曲線Ａの極小値位置をバックグラ
ウンド位置ｆとする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＥＰＭＡ等における特
性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法
及びそのための装置に関し、特に、ピーク位置及びバッ
クグラウンド位置をより正確に検出する方法及びそのた
めの装置に関する。
性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法
及びそのための装置に関し、特に、ピーク位置及びバッ
クグラウンド位置をより正確に検出する方法及びそのた
めの装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子プローブマイクロアナライザ
ー（以下、ＥＰＭＡと言う。）等の波長分散型Ｘ線分光
器による特性Ｘ線の強度は、そのピーク位置とバックグ
ラウンド位置を検出し、ピーク位置の強度からバックグ
ラウンド位置の強度を差し引いて求めている。特性Ｘ線
のピーク位置検出については、対象となる元素の特性Ｘ
線を検出できる分光器位置の前後の数点（７〜１５点程
度）において、一定間隔で分光器を停止させて一定時間
Ｘ線を計測し、それらの値の中の最大値位置をピーク位
置としたり、又は、それらの値を二次曲線等の曲線にフ
ィッティングさせ、その曲線の最大値の分光器位置をピ
ーク位置と見なしたりしていた。
ー（以下、ＥＰＭＡと言う。）等の波長分散型Ｘ線分光
器による特性Ｘ線の強度は、そのピーク位置とバックグ
ラウンド位置を検出し、ピーク位置の強度からバックグ
ラウンド位置の強度を差し引いて求めている。特性Ｘ線
のピーク位置検出については、対象となる元素の特性Ｘ
線を検出できる分光器位置の前後の数点（７〜１５点程
度）において、一定間隔で分光器を停止させて一定時間
Ｘ線を計測し、それらの値の中の最大値位置をピーク位
置としたり、又は、それらの値を二次曲線等の曲線にフ
ィッティングさせ、その曲線の最大値の分光器位置をピ
ーク位置と見なしたりしていた。
【０００３】また、特性Ｘ線のバックグラウンド位置に
ついても、上記のようにして検出されたピーク位置から
前後一定の距離離れた位置をバックグラウンド位置と見
なしていた。
ついても、上記のようにして検出されたピーク位置から
前後一定の距離離れた位置をバックグラウンド位置と見
なしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ピーク
位置について、前者の計測値の最大値位置をピーク位置
と見なす方法では、データ検出間隔が大きくなるとピー
クを逃してしまう危険性があり、また、後者のピークフ
ィッティング法では、本来のピークが２つに割れていた
ような場合、その２つのピークの中間をピーク位置と見
なしてしまう等の危険性があった。
位置について、前者の計測値の最大値位置をピーク位置
と見なす方法では、データ検出間隔が大きくなるとピー
クを逃してしまう危険性があり、また、後者のピークフ
ィッティング法では、本来のピークが２つに割れていた
ような場合、その２つのピークの中間をピーク位置と見
なしてしまう等の危険性があった。
【０００５】さらに、バックグラウンド位置について、
求めるピークと隣接してバックグラウンド位置とする一
定距離近傍に別の元素のピークが存在する場合、その位
置のＸ線強度がバックグラウンドと見なされ、誤った値
をバックグラウンドとする危険性があった。
求めるピークと隣接してバックグラウンド位置とする一
定距離近傍に別の元素のピークが存在する場合、その位
置のＸ線強度がバックグラウンドと見なされ、誤った値
をバックグラウンドとする危険性があった。
【０００６】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線
のピーク位置及びバックグラウンド位置をより正確に検
出する方法及びそのための装置を提供することである。
ものであり、その目的は、ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線
のピーク位置及びバックグラウンド位置をより正確に検
出する方法及びそのための装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明のＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバッ
クグラウンド位置検出方法は、離散的なＸ線強度分布デ
ータから指定された元素の特性Ｘ線強度のピーク位置及
びバックグラウンド位置を検出する方法において、得ら
れた強度分布データを平滑化し、平滑化された強度分布
曲線の二次微分曲線を求め、二次微分曲線のマイナスの
一定値以下の極小値が１点存在する場合、その位置を特
性Ｘ線のピーク位置と判断し、二次微分曲線のマイナス
の一定値以下の極小値が２点以上存在する場合、特性Ｘ
線の理論ピーク位置に最も近い極小値位置をピーク位置
と判断し、二次微分曲線のマイナスの極小値が存在しな
い場合、特性Ｘ線の理論ピーク位置をピーク位置と判断
し、さらに、特性Ｘ線の理論ピーク位置とそれから前後
の一定間隔離れた分光位置の間に二次微分値の極大値が
存在しない場合、理論ピーク位置から一定間隔離れた分
光位置をバックグラウンド位置と判断し、理論ピーク位
置とそれから一定間隔離れた分光位置の間に二次微分値
の極大値が存在する場合、その極大値に対応する平滑化
されたＸ線分布曲線の極小値位置をバックグラウンド位
置と判断することを特徴とする方法である。
明のＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバッ
クグラウンド位置検出方法は、離散的なＸ線強度分布デ
ータから指定された元素の特性Ｘ線強度のピーク位置及
びバックグラウンド位置を検出する方法において、得ら
れた強度分布データを平滑化し、平滑化された強度分布
曲線の二次微分曲線を求め、二次微分曲線のマイナスの
一定値以下の極小値が１点存在する場合、その位置を特
性Ｘ線のピーク位置と判断し、二次微分曲線のマイナス
の一定値以下の極小値が２点以上存在する場合、特性Ｘ
線の理論ピーク位置に最も近い極小値位置をピーク位置
と判断し、二次微分曲線のマイナスの極小値が存在しな
い場合、特性Ｘ線の理論ピーク位置をピーク位置と判断
し、さらに、特性Ｘ線の理論ピーク位置とそれから前後
の一定間隔離れた分光位置の間に二次微分値の極大値が
存在しない場合、理論ピーク位置から一定間隔離れた分
光位置をバックグラウンド位置と判断し、理論ピーク位
置とそれから一定間隔離れた分光位置の間に二次微分値
の極大値が存在する場合、その極大値に対応する平滑化
されたＸ線分布曲線の極小値位置をバックグラウンド位
置と判断することを特徴とする方法である。
【０００８】また、上記方法を実施する本発明の装置
は、Ｘ線分光器を備え、指定された元素の特性Ｘ線が検
出可能な該分光器の分光範囲を連続的に駆動し、かつ、
該分光器の所定一定駆動間隔毎にＸ線計測開始信号を送
る分光器駆動制御手段と、該所定一定駆動間隔内で一定
時間のＸ線計測を行うＸ線計測手段とを有し、分光器の
駆動速度が前記所定一定駆動間隔内において前記一定時
間のＸ線計測が完了するよう設定されていることを特徴
とするものである。
は、Ｘ線分光器を備え、指定された元素の特性Ｘ線が検
出可能な該分光器の分光範囲を連続的に駆動し、かつ、
該分光器の所定一定駆動間隔毎にＸ線計測開始信号を送
る分光器駆動制御手段と、該所定一定駆動間隔内で一定
時間のＸ線計測を行うＸ線計測手段とを有し、分光器の
駆動速度が前記所定一定駆動間隔内において前記一定時
間のＸ線計測が完了するよう設定されていることを特徴
とするものである。
【０００９】
【作用】本発明の方法とそれを実施する装置において
は、スペクトルのピーク検出を分光器を連続的に駆動し
て行えるため、分光器移動中にＸ線データ計測を行わな
い分光領域が小さくなり、微小ピークの検出を逃がす可
能性が小さくなり、また、Ｘ線計測時間の無駄が少なく
なる。さらに、ピークが２つ以上に割れている場合やピ
ークが検出されなかった場合の対処が容易になる。ま
た、求めるピーク近傍に別の元素のピークが存在する場
合でも、バックグラウンドを正確に評価可能な位置をバ
ックグラウンド位置として求めることができる。したが
って、ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバ
ックグラウンド位置をより正確に検出することができ
る。
は、スペクトルのピーク検出を分光器を連続的に駆動し
て行えるため、分光器移動中にＸ線データ計測を行わな
い分光領域が小さくなり、微小ピークの検出を逃がす可
能性が小さくなり、また、Ｘ線計測時間の無駄が少なく
なる。さらに、ピークが２つ以上に割れている場合やピ
ークが検出されなかった場合の対処が容易になる。ま
た、求めるピーク近傍に別の元素のピークが存在する場
合でも、バックグラウンドを正確に評価可能な位置をバ
ックグラウンド位置として求めることができる。したが
って、ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバ
ックグラウンド位置をより正確に検出することができ
る。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照にして、本発明のＥＰＭＡ
等における特性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド
位置検出方法及びそのための装置の実施例について説明
する。図１は本発明に基づくＥＰＭＡの構成を示す図で
あり、電子銃１から出た電子線２は、収束レンズ３及び
対物レンズ４によりステージ６上に載置された試料５上
に収束照射される。試料５から発生する特性Ｘ線は波長
分散型Ｘ線分光器７により検出される。波長分散型Ｘ線
分光器７は、分光結晶８、分光器駆動モータ９、検出器
１０からなり、分光結晶８を駆動する分光器駆動モータ
９は、分光器駆動制御装置１２により移動制御が行われ
る。以下、説明の簡単のため、駆動モータ９はパルスモ
ータとし、分光器駆動制御装置１２は駆動パルスを発生
させてこのパルスモータ９を駆動するものとする。一
方、検出器１０は、Ｘ線計測装置１１によりその検出動
作が制御されるようになっており、また、Ｘ線計測装置
１１には、分光器駆動制御装置１２から駆動パルスの一
定個数毎に１個のパルス信号が入力するようになってい
る。分光器駆動制御装置１２は、コンピュータ１４によ
り制御されると共に、コンピュータ１４に分光器７の駆
動速度（パルス発生時間間隔）信号を送る。また、Ｘ線
計測装置１１によって計測されたＸ線計測値もコンピュ
ータ１４に入力する。得られたＸ線計測値は記憶装置１
３に格納され、それらの値をグラフ化して表示出力装置
１５に表示できるようになっている。
等における特性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド
位置検出方法及びそのための装置の実施例について説明
する。図１は本発明に基づくＥＰＭＡの構成を示す図で
あり、電子銃１から出た電子線２は、収束レンズ３及び
対物レンズ４によりステージ６上に載置された試料５上
に収束照射される。試料５から発生する特性Ｘ線は波長
分散型Ｘ線分光器７により検出される。波長分散型Ｘ線
分光器７は、分光結晶８、分光器駆動モータ９、検出器
１０からなり、分光結晶８を駆動する分光器駆動モータ
９は、分光器駆動制御装置１２により移動制御が行われ
る。以下、説明の簡単のため、駆動モータ９はパルスモ
ータとし、分光器駆動制御装置１２は駆動パルスを発生
させてこのパルスモータ９を駆動するものとする。一
方、検出器１０は、Ｘ線計測装置１１によりその検出動
作が制御されるようになっており、また、Ｘ線計測装置
１１には、分光器駆動制御装置１２から駆動パルスの一
定個数毎に１個のパルス信号が入力するようになってい
る。分光器駆動制御装置１２は、コンピュータ１４によ
り制御されると共に、コンピュータ１４に分光器７の駆
動速度（パルス発生時間間隔）信号を送る。また、Ｘ線
計測装置１１によって計測されたＸ線計測値もコンピュ
ータ１４に入力する。得られたＸ線計測値は記憶装置１
３に格納され、それらの値をグラフ化して表示出力装置
１５に表示できるようになっている。
【００１１】さて、Ｘ線分光器７の１回の移動によりス
ペクトルを検出する場合、その移動領域で等間隔で収集
するデータ点数をＮ点とし、各データ点毎の検出器１０
による一定のＸ線収集時間（ドウェルタイム）をＴ、こ
の１点のデータを収集する間に分光器７を移動させるモ
ータ９のパルスステップ数をｎとすると、１点のデータ
を収集するためのタイミングチャート（１サイクル）は
図２に示すようになる。Ｎ点のデータを収集するために
は、図２のサイクルがＮ回繰り返すことになる。なお、
分光器７の１サイクルの移動中に１点のデータ収集が終
わるためには、分光器７のパルス数で計測した駆動速度
ｖはｎ／Ｔ以下である必要があり、１サイクル中にデー
タ収集（Ｘ線計測）をせずに分光器７が移動するダミー
時間ｔが生ずる。このダミー時間ｔは、図２に示すよう
に、前サイクルのｎステップ駆動終了パルスから検出器
１０のゲートオンに要する時間ｇ、検出器１０のゲート
オフから計測Ｘ線データのメモリへの取り込み時間ｍ、
及び、計測Ｘ線データのメモリへの取り込みから次のｎ
ステップ駆動終了パルスがくるまでの時間ｕの和で与え
られるが、これらの時間は何れも小さくすることが可能
である。そのため、このダミー時間ｔ小さく抑えて、Ｘ
線計測時間Ｔに比べ事実上無視できる程度にすることが
可能となる（図２では分りやすさのために、ダミー時間
は大きくとってある。）。
ペクトルを検出する場合、その移動領域で等間隔で収集
するデータ点数をＮ点とし、各データ点毎の検出器１０
による一定のＸ線収集時間（ドウェルタイム）をＴ、こ
の１点のデータを収集する間に分光器７を移動させるモ
ータ９のパルスステップ数をｎとすると、１点のデータ
を収集するためのタイミングチャート（１サイクル）は
図２に示すようになる。Ｎ点のデータを収集するために
は、図２のサイクルがＮ回繰り返すことになる。なお、
分光器７の１サイクルの移動中に１点のデータ収集が終
わるためには、分光器７のパルス数で計測した駆動速度
ｖはｎ／Ｔ以下である必要があり、１サイクル中にデー
タ収集（Ｘ線計測）をせずに分光器７が移動するダミー
時間ｔが生ずる。このダミー時間ｔは、図２に示すよう
に、前サイクルのｎステップ駆動終了パルスから検出器
１０のゲートオンに要する時間ｇ、検出器１０のゲート
オフから計測Ｘ線データのメモリへの取り込み時間ｍ、
及び、計測Ｘ線データのメモリへの取り込みから次のｎ
ステップ駆動終了パルスがくるまでの時間ｕの和で与え
られるが、これらの時間は何れも小さくすることが可能
である。そのため、このダミー時間ｔ小さく抑えて、Ｘ
線計測時間Ｔに比べ事実上無視できる程度にすることが
可能となる（図２では分りやすさのために、ダミー時間
は大きくとってある。）。
【００１２】このようにすることにより、分光器がｎス
テップ移動した後に止まってＸ線を計測する従来の場合
よりも、全データ収集時間を短くすることができること
になる。また、全データ収集時間中に占めるダミー時間
を小さくすれば、分光器７の駆動中にＸ線が計測されて
いない時間はそれだけ小さくなり、この間にＸ線ピーク
プロファイルのピークを逃がす確率が小さくなって、よ
り正確なスペクトルのデータ収集が可能になる。さら
に、駆動パルスが等間隔でなく、例えば、速度が立ち上
がり時に徐々に増え、中間位置で一定で、停止時に徐々
に減らして行くような移動制御をする時にも、Ｘ線収集
時間Ｔを一定にしさえすれば、速度変化に係わらず正確
な検出ができる。
テップ移動した後に止まってＸ線を計測する従来の場合
よりも、全データ収集時間を短くすることができること
になる。また、全データ収集時間中に占めるダミー時間
を小さくすれば、分光器７の駆動中にＸ線が計測されて
いない時間はそれだけ小さくなり、この間にＸ線ピーク
プロファイルのピークを逃がす確率が小さくなって、よ
り正確なスペクトルのデータ収集が可能になる。さら
に、駆動パルスが等間隔でなく、例えば、速度が立ち上
がり時に徐々に増え、中間位置で一定で、停止時に徐々
に減らして行くような移動制御をする時にも、Ｘ線収集
時間Ｔを一定にしさえすれば、速度変化に係わらず正確
な検出ができる。
【００１３】なお、上記においては、分光器駆動手段を
パルスモータとしたが、これに限らず、極微小ステップ
で駆動するマイクロステップモータでもよく、また、パ
ルス電流によらない直流モータでもよい。ただし、直流
モータの場合は、一定駆動間隔毎にＸ線計測開始の信号
を与えるために、エンコーダ等の手段によって位置検出
を行うことが必要である。
パルスモータとしたが、これに限らず、極微小ステップ
で駆動するマイクロステップモータでもよく、また、パ
ルス電流によらない直流モータでもよい。ただし、直流
モータの場合は、一定駆動間隔毎にＸ線計測開始の信号
を与えるために、エンコーダ等の手段によって位置検出
を行うことが必要である。
【００１４】次に、以上のようなＸ線強度測定装置を用
いて、スペクトルのピーク位置及びバックグラウンド位
置を検出する方法を以下に示す。まず、指定された元素
の特性Ｘ線の波長からそのＸ線が検出できる分光器位置
を求め、その分光器位置の前後のデータを収集し、得ら
れたＸ線強度をＩ1 、Ｉ2 、・・・、ＩN とする。これ
ら強度をグラフ上にプロットすると、図３（ａ）に×印
で示したようになる。次に、これらのデータを移動式最
小二乗法による高次多項式への近似等の手法によって平
滑化する。得られた曲線Ａを図３（ａ）中に示す。次
に、このＸ線強度分布曲線Ａを二次微分する。この二次
微分した曲線Ｂを図３（ｂ）に示す。ここで、知られて
いるように、この曲線Ｂの値のマイナスの極小値を与え
る横軸位置（分光器位置）は、二次微分する前の曲線Ａ
の極大値を与える位置に対応している。そこで、二次微
分した曲線Ｂのマイナスの一定値以下の極小値を探し、
それが１点ならば、その点をそのスペクトルのピーク位
置と判断する。また、このマイナスの一定値以下の極小
値が２点以上存在する場合には、分光器状態、化合状態
等を考慮して特性Ｘ線波長から計算した理論ピーク位置
ｄに最も近い曲線Ａのピーク分光器位置ｃをその元素の
特性Ｘ線のピーク位置と判断する（図３の場合）。ま
た、マイナスの極小値が１つも存在しない場合には、ピ
ークが検出できなかったものとして、理論ピーク位置ｄ
をピーク位置とする。このようにして、指定された元素
の特性Ｘ線のピーク位置の自動検出を効率的に実行する
ことが可能となる。
いて、スペクトルのピーク位置及びバックグラウンド位
置を検出する方法を以下に示す。まず、指定された元素
の特性Ｘ線の波長からそのＸ線が検出できる分光器位置
を求め、その分光器位置の前後のデータを収集し、得ら
れたＸ線強度をＩ1 、Ｉ2 、・・・、ＩN とする。これ
ら強度をグラフ上にプロットすると、図３（ａ）に×印
で示したようになる。次に、これらのデータを移動式最
小二乗法による高次多項式への近似等の手法によって平
滑化する。得られた曲線Ａを図３（ａ）中に示す。次
に、このＸ線強度分布曲線Ａを二次微分する。この二次
微分した曲線Ｂを図３（ｂ）に示す。ここで、知られて
いるように、この曲線Ｂの値のマイナスの極小値を与え
る横軸位置（分光器位置）は、二次微分する前の曲線Ａ
の極大値を与える位置に対応している。そこで、二次微
分した曲線Ｂのマイナスの一定値以下の極小値を探し、
それが１点ならば、その点をそのスペクトルのピーク位
置と判断する。また、このマイナスの一定値以下の極小
値が２点以上存在する場合には、分光器状態、化合状態
等を考慮して特性Ｘ線波長から計算した理論ピーク位置
ｄに最も近い曲線Ａのピーク分光器位置ｃをその元素の
特性Ｘ線のピーク位置と判断する（図３の場合）。ま
た、マイナスの極小値が１つも存在しない場合には、ピ
ークが検出できなかったものとして、理論ピーク位置ｄ
をピーク位置とする。このようにして、指定された元素
の特性Ｘ線のピーク位置の自動検出を効率的に実行する
ことが可能となる。
【００１５】また、バックグラウンド位置については、
上記理論ピーク位置ｄから前後一定距離ＬB-、ＬB+（Ｌ
B-＝ＬB+）の位置のバックグラウンドと見られる分光器
位置を求め、理論ピーク位置ｄからその前後のバックグ
ラウンドと見られる位置までの間に正の二次微分値が存
在するかどうかを判定する。もし存在しなければ（＋方
向）、上記のバックグラウンドと見られる位置ｅをバッ
クグラウンド位置と見なす。もし存在すれば（−方
向）、その正の極大位置に相当する位置が元の平滑化し
たＸ線強度分布曲線Ａの極小値の位置であるので、その
点ｆを真のパックグラウンド位置とする。理論ピークの
前後のこのようにして定めたバックグラウンド位置ｅ、
ｆの平滑化されたＸ線強度分布曲線Ａ上の点を直線で結
んで、バックグラウンド直線Ｇを作成する。そして、上
記のようにして求めたピーク位置ｃにおけるバックグラ
ウンド直線Ｇ上の点ｈがバックグラウンド強度になる。
上記理論ピーク位置ｄから前後一定距離ＬB-、ＬB+（Ｌ
B-＝ＬB+）の位置のバックグラウンドと見られる分光器
位置を求め、理論ピーク位置ｄからその前後のバックグ
ラウンドと見られる位置までの間に正の二次微分値が存
在するかどうかを判定する。もし存在しなければ（＋方
向）、上記のバックグラウンドと見られる位置ｅをバッ
クグラウンド位置と見なす。もし存在すれば（−方
向）、その正の極大位置に相当する位置が元の平滑化し
たＸ線強度分布曲線Ａの極小値の位置であるので、その
点ｆを真のパックグラウンド位置とする。理論ピークの
前後のこのようにして定めたバックグラウンド位置ｅ、
ｆの平滑化されたＸ線強度分布曲線Ａ上の点を直線で結
んで、バックグラウンド直線Ｇを作成する。そして、上
記のようにして求めたピーク位置ｃにおけるバックグラ
ウンド直線Ｇ上の点ｈがバックグラウンド強度になる。
【００１６】そして、上記のようにして求めたピーク位
置のスペクトル強度からバックグラウンド強度を差し引
くことにより、特性Ｘ線強度が求まる。
置のスペクトル強度からバックグラウンド強度を差し引
くことにより、特性Ｘ線強度が求まる。
【００１７】このようにして特性Ｘ線のピーク位置及び
バックグラウンド位置を求めると、スペクトルのピーク
検出を分光器を連続的に駆動して行えるため、分光器移
動中にＸ線データ計測を行わない分光領域が小さくな
り、微小ピークの検出を逃がす可能性が小さくなり、ま
た、Ｘ線計測時間の無駄が少なくなる。さらに、ピーク
が２つ以上に割れている場合やピークが検出されなかっ
た場合の対処が容易になる。また、求めるピーク近傍に
別の元素のピークが存在する場合でも、バックグラウン
ドを正確に評価可能な位置をバックグラウンド位置とし
て求めることができる。したがって、ＥＰＭＡ等におけ
る特性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置をよ
り正確に検出することができる。
バックグラウンド位置を求めると、スペクトルのピーク
検出を分光器を連続的に駆動して行えるため、分光器移
動中にＸ線データ計測を行わない分光領域が小さくな
り、微小ピークの検出を逃がす可能性が小さくなり、ま
た、Ｘ線計測時間の無駄が少なくなる。さらに、ピーク
が２つ以上に割れている場合やピークが検出されなかっ
た場合の対処が容易になる。また、求めるピーク近傍に
別の元素のピークが存在する場合でも、バックグラウン
ドを正確に評価可能な位置をバックグラウンド位置とし
て求めることができる。したがって、ＥＰＭＡ等におけ
る特性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置をよ
り正確に検出することができる。
【００１８】以上、本発明の特性Ｘ線のピーク位置及び
バックグラウンド位置検出方法と装置を実施例に基づい
て説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず
種々の変形が可能である。
バックグラウンド位置検出方法と装置を実施例に基づい
て説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず
種々の変形が可能である。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバック
グラウンド位置検出方法及びそのための装置によると、
スペクトルのピーク検出を分光器を連続的に駆動して行
えるため、分光器移動中にＸ線データ計測を行わない分
光領域が小さくなり、微小ピークの検出を逃がす可能性
が小さくなり、また、Ｘ線計測時間の無駄が少なくな
る。さらに、ピークが２つ以上に割れている場合やピー
クが検出されなかった場合の対処が容易になる。また、
求めるピーク近傍に別の元素のピークが存在する場合で
も、バックグラウンドを正確に評価可能な位置をバック
グラウンド位置として求めることができる。したがっ
て、ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバッ
クグラウンド位置をより正確に検出することができる。
のＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバック
グラウンド位置検出方法及びそのための装置によると、
スペクトルのピーク検出を分光器を連続的に駆動して行
えるため、分光器移動中にＸ線データ計測を行わない分
光領域が小さくなり、微小ピークの検出を逃がす可能性
が小さくなり、また、Ｘ線計測時間の無駄が少なくな
る。さらに、ピークが２つ以上に割れている場合やピー
クが検出されなかった場合の対処が容易になる。また、
求めるピーク近傍に別の元素のピークが存在する場合で
も、バックグラウンドを正確に評価可能な位置をバック
グラウンド位置として求めることができる。したがっ
て、ＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及びバッ
クグラウンド位置をより正確に検出することができる。
【図１】本発明に基づくＥＰＭＡの構成を示す図であ
る。
る。
【図２】本発明の装置により１点のデータを収集するた
めのタイミングチャートの１例を示す図である。
めのタイミングチャートの１例を示す図である。
【図３】本発明に基づくピーク位置及びバックグラウン
ド位置検出方法を説明するための図である。
ド位置検出方法を説明するための図である。
１…電子銃 ２…電子線 ３…収束レンズ ４…対物レンズ ５…試料 ６…ステージ ７…波長分散型Ｘ線分光器 ８…分光結晶 ９…分光器駆動モータ １０…検出器 １１…Ｘ線計測装置 １２…分光器駆動制御装置 １３…記憶装置 １４…コンピュータ １５…表示出力装置
Claims (2)
- 【請求項１】 離散的なＸ線強度分布データから指定さ
れた元素の特性Ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド
位置を検出する方法において、得られた強度分布データ
を平滑化し、平滑化された強度分布曲線の二次微分曲線
を求め、二次微分曲線のマイナスの一定値以下の極小値
が１点存在する場合、その位置を特性Ｘ線のピーク位置
と判断し、二次微分曲線のマイナスの一定値以下の極小
値が２点以上存在する場合、特性Ｘ線の理論ピーク位置
に最も近い極小値位置をピーク位置と判断し、二次微分
曲線のマイナスの極小値が存在しない場合、特性Ｘ線の
理論ピーク位置をピーク位置と判断し、さらに、特性Ｘ
線の理論ピーク位置とそれから前後の一定間隔離れた分
光位置の間に二次微分値の極大値が存在しない場合、理
論ピーク位置から一定間隔離れた分光位置をバックグラ
ウンド位置と判断し、理論ピーク位置とそれから一定間
隔離れた分光位置の間に二次微分値の極大値が存在する
場合、その極大値に対応する平滑化されたＸ線分布曲線
の極小値位置をバックグラウンド位置と判断することを
特徴とするＥＰＭＡ等における特性Ｘ線のピーク位置及
びバックグラウンド位置検出方法。 - 【請求項２】 Ｘ線分光器を備え、指定された元素の特
性Ｘ線が検出可能な該分光器の分光範囲を連続的に駆動
し、かつ、該分光器の所定一定駆動間隔毎にＸ線計測開
始信号を送る分光器駆動制御手段と、該所定一定駆動間
隔内で一定時間のＸ線計測を行うＸ線計測手段とを有
し、分光器の駆動速度が前記所定一定駆動間隔内におい
て前記一定時間のＸ線計測が完了するよう設定されてい
ることを特徴とする請求項１記載の特性Ｘ線のピーク位
置及びバックグラウンド位置検出方法を実施するための
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062070A JPH05264484A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | Ｅｐｍａ等における特性ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法及びそのための装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062070A JPH05264484A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | Ｅｐｍａ等における特性ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法及びそのための装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05264484A true JPH05264484A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=13189465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4062070A Withdrawn JPH05264484A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | Ｅｐｍａ等における特性ｘ線のピーク位置及びバックグラウンド位置検出方法及びそのための装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05264484A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010127874A (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Jeol Ltd | Ｘ線分析の測定条件設定方法及びｘ線分析装置 |
| JP2019086455A (ja) * | 2017-11-09 | 2019-06-06 | 日本電子株式会社 | データ処理装置及びデータ処理方法 |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP4062070A patent/JPH05264484A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010127874A (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Jeol Ltd | Ｘ線分析の測定条件設定方法及びｘ線分析装置 |
| JP2019086455A (ja) * | 2017-11-09 | 2019-06-06 | 日本電子株式会社 | データ処理装置及びデータ処理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |