JPH05271973A - 紫外線洗浄方法 - Google Patents
紫外線洗浄方法Info
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- JPH05271973A JPH05271973A JP9868792A JP9868792A JPH05271973A JP H05271973 A JPH05271973 A JP H05271973A JP 9868792 A JP9868792 A JP 9868792A JP 9868792 A JP9868792 A JP 9868792A JP H05271973 A JPH05271973 A JP H05271973A
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- cleaned
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被洗浄物の表面酸化を防止するとともに、湿
式洗浄の効果を高めることのできる紫外線洗浄方法を提
供する。 【構成】 被洗浄物１に水等の液体２を介して紫外線４
を照射する。その場合、例えば被洗浄物１及び紫外線ラ
ンプ３を液体２中に配置する。これにより、被洗浄物１
表面が、酸化の原因となる活性酸素に対して液体により
遮断され、酸化が防止される。
式洗浄の効果を高めることのできる紫外線洗浄方法を提
供する。 【構成】 被洗浄物１に水等の液体２を介して紫外線４
を照射する。その場合、例えば被洗浄物１及び紫外線ラ
ンプ３を液体２中に配置する。これにより、被洗浄物１
表面が、酸化の原因となる活性酸素に対して液体により
遮断され、酸化が防止される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種の部品等の表面を
洗浄するための紫外線洗浄方法に関する。
洗浄するための紫外線洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
各種分野の部品等に対する洗浄方法としては、水などの
液体でその表面の汚れを洗い流す方法が多く行なわれて
いる。
各種分野の部品等に対する洗浄方法としては、水などの
液体でその表面の汚れを洗い流す方法が多く行なわれて
いる。
【０００３】しかしながら、この湿式洗浄においては、
被洗浄物が疎水性だったり、ぬれ性の悪いものの場合に
は、水などの液体をはじいてしまい洗浄効果が低下して
しまうという問題があった。
被洗浄物が疎水性だったり、ぬれ性の悪いものの場合に
は、水などの液体をはじいてしまい洗浄効果が低下して
しまうという問題があった。
【０００４】また近年は、例えば紫外線を照射する等、
ドライ雰囲気中で洗浄する乾式洗浄方法も行なわれてい
るが、この乾式洗浄では空気中の酸素などの影響を受
け、被洗浄物が酸化されてしまうという問題があった。
ドライ雰囲気中で洗浄する乾式洗浄方法も行なわれてい
るが、この乾式洗浄では空気中の酸素などの影響を受
け、被洗浄物が酸化されてしまうという問題があった。
【０００５】本発明は、上記のような湿式洗浄及び乾式
洗浄の欠点を解消し得るものであって、被洗浄物の表面
酸化を防止するとともに、湿式洗浄の効果を高めること
のできる紫外線洗浄方法を提供することを目的とする。
洗浄の欠点を解消し得るものであって、被洗浄物の表面
酸化を防止するとともに、湿式洗浄の効果を高めること
のできる紫外線洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、被洗浄物に水等の液体を介して紫外線を照
射することを特徴とする。
に本発明は、被洗浄物に水等の液体を介して紫外線を照
射することを特徴とする。
【０００７】その場合、例えば被洗浄物及び紫外線ラン
プを液体中に配置する。
プを液体中に配置する。
【０００８】また、被洗浄物を液体中に配置し、紫外線
ランプを液体の外部に配置してもよい。
ランプを液体の外部に配置してもよい。
【０００９】さらに、被洗浄物に液体を噴霧しながら紫
外線を照射してもよい。
外線を照射してもよい。
【００１０】
【作用】大気中では、波長１８４．９ｎｍの紫外線で酸
素（Ｏ2 ）がオゾン（Ｏ3 ）になり、２５４ｎｍの紫外
線でＯ3 がＯ2 ＋活性酸素になる。この活性酸素が酸化
の原因となるため、液体によって活性酸素を遮断し、紫
外光だけを被洗浄物に当てることにより、被洗浄物の酸
化を防止しながら、洗浄効果を上げることができる。
素（Ｏ2 ）がオゾン（Ｏ3 ）になり、２５４ｎｍの紫外
線でＯ3 がＯ2 ＋活性酸素になる。この活性酸素が酸化
の原因となるため、液体によって活性酸素を遮断し、紫
外光だけを被洗浄物に当てることにより、被洗浄物の酸
化を防止しながら、洗浄効果を上げることができる。
【００１１】
【実施例】図１は、本発明の第一実施例を示したもの
で、被洗浄物１を水等の液体２中に漬けるとともに、紫
外線ランプ３も液体２中に配置して点灯し、被洗浄物１
に紫外線４を照射する方法である。
で、被洗浄物１を水等の液体２中に漬けるとともに、紫
外線ランプ３も液体２中に配置して点灯し、被洗浄物１
に紫外線４を照射する方法である。
【００１２】この実施例の実験例を示す。被洗浄物１と
して酸化物を作り易い銀基板を使用し、これを純水に漬
ける。また紫外線ランプ３として低圧水銀灯を使用し、
これを純水中に設置する。そして、紫外線ランプ３を点
灯して一定時間紫外線を照射した後、銀基板を純水中か
ら取り出して乾燥させる。
して酸化物を作り易い銀基板を使用し、これを純水に漬
ける。また紫外線ランプ３として低圧水銀灯を使用し、
これを純水中に設置する。そして、紫外線ランプ３を点
灯して一定時間紫外線を照射した後、銀基板を純水中か
ら取り出して乾燥させる。
【００１３】比較のために、未処理の銀基板と、純水に
漬けただけの銀基板と、上記処理をした銀基板の各場合
における水滴の接触角を測定した結果、上記処理をした
もののぬれ性が一番良かった。
漬けただけの銀基板と、上記処理をした銀基板の各場合
における水滴の接触角を測定した結果、上記処理をした
もののぬれ性が一番良かった。
【００１４】また、酸化については、乾式洗浄として乾
燥した銀基板に直接紫外線を照射したものは、銀の表面
が酸化して変色してしまったが、上記処理したものは銀
の変色が見られなかった。
燥した銀基板に直接紫外線を照射したものは、銀の表面
が酸化して変色してしまったが、上記処理したものは銀
の変色が見られなかった。
【００１５】図２は、本発明の第二実施例を示したもの
で、被洗浄物１を液体２中に漬け、紫外線ランプ３は液
体２の外部、即ち大気中に設置して紫外線４を照射する
方法である。
で、被洗浄物１を液体２中に漬け、紫外線ランプ３は液
体２の外部、即ち大気中に設置して紫外線４を照射する
方法である。
【００１６】また、図３は第三実施例を示したもので、
被洗浄物１に対して水等の液体２を噴霧しながら、上方
に設置した紫外線ランプ３から紫外線４を照射する方法
である。
被洗浄物１に対して水等の液体２を噴霧しながら、上方
に設置した紫外線ランプ３から紫外線４を照射する方法
である。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、被洗浄物
の酸化を防止しながら、湿式洗浄の効果を高めることが
でき、洗浄すべき部品等の歩留りの向上及び品質の安定
化を図ることができる。
の酸化を防止しながら、湿式洗浄の効果を高めることが
でき、洗浄すべき部品等の歩留りの向上及び品質の安定
化を図ることができる。
【図１】本発明の第一実施例を示す説明図。
【図２】同、第二実施例を示す説明図。
【図３】同、第三実施例を示す説明図。
１ ； 被洗浄物 ２ ； 液体 ３ ； 紫外線ランプ ４ ； 紫外線
Claims (4)
- 【請求項１】 被洗浄物(1) に水等の液体(2) を介して
紫外線(4) を照射することを特徴とする紫外線洗浄方
法。 - 【請求項２】 被洗浄物(1) 及び紫外線ランプ(3) を液
体(2) 中に配置した請求項１に記載の紫外線洗浄方法。 - 【請求項３】 被洗浄物(1) を液体(2) 中に配置し、紫
外線ランプ(3) を前記液体(2) の外部に配置した請求項
１に記載の紫外線洗浄方法。 - 【請求項４】 被洗浄物(1) に液体(2) を噴霧しながら
紫外線(4) を照射する請求項１に記載の紫外線洗浄方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9868792A JPH05271973A (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 紫外線洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9868792A JPH05271973A (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 紫外線洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05271973A true JPH05271973A (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=14226423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9868792A Pending JPH05271973A (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 紫外線洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05271973A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6461437B1 (en) * | 2000-01-26 | 2002-10-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus used for fabricating liquid crystal device and method of fabricating the same |
| KR100454514B1 (ko) * | 2000-09-06 | 2004-11-05 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전기 광학 장치의 제조 방법 및 제조 장치와 액정 패널의제조 방법 및 제조 장치 |
| JP2017109146A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社トクヤマ | 洗浄方法および洗浄装置 |
| JP2018101798A (ja) * | 2018-02-13 | 2018-06-28 | 株式会社ニコン | 湿式処理方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143884A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-30 | 富士通株式会社 | 洗浄方法 |
| JPS61220434A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-09-30 | Toshiba Corp | ウエハ洗浄装置 |
| JPH02144914A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体基板の水洗方法および装置 |
| JPH03225825A (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-04 | Sony Corp | 洗浄方法 |
-
1992
- 1992-03-25 JP JP9868792A patent/JPH05271973A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143884A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-30 | 富士通株式会社 | 洗浄方法 |
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| JP2018101798A (ja) * | 2018-02-13 | 2018-06-28 | 株式会社ニコン | 湿式処理方法 |
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