JPH0527348A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 159
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 59
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 49
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 49
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 40
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 14
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 13
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 claims description 8
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 claims description 6
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005389 trialkylsiloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 45
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 7
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 7
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 7
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 7
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical compound CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyladenine Chemical compound N=1C=NC=2NC=NC=2C=1NCC1=CC=CC=C1 NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N Propyl gallate Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N adenosine Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000004672 ethylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004674 methylcarbonyl group Chemical group CC(=O)* 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- QSLPNSWXUQHVLP-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-sulfanylmethane Chemical compound [S]C QSLPNSWXUQHVLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003682 3-furyl group Chemical group O1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001397 3-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- CVZDIUZSWUDGOP-UHFFFAOYSA-N 4,5-dichloro-2-methyl-1,2-thiazol-3-one Chemical compound CN1SC(Cl)=C(Cl)C1=O CVZDIUZSWUDGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=NNN=C21 BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYYMDNHUJFIDDQ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2-methyl-1,2-thiazol-3-one;2-methyl-1,2-thiazol-3-one Chemical compound CN1SC=CC1=O.CN1SC(Cl)=CC1=O QYYMDNHUJFIDDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INVVMIXYILXINW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidin-7-one Chemical compound CC1=CC(=O)N2NC=NC2=N1 INVVMIXYILXINW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRELSFHXXVCUIE-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1-sulfanyltetrazole Chemical compound SN1N=NN=C1C1=CC=CC=C1 CRELSFHXXVCUIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPAZGLFMMUODDK-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1h-benzimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=CNC2=C1 XPAZGLFMMUODDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFFGJBXGBJISGV-UHFFFAOYSA-N Adenine Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2 GFFGJBXGBJISGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930024421 Adenine Natural products 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002126 C01EB10 - Adenosine Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N Dodecyl gallate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISLYUUGUJKSGDZ-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=NC2=NC=NN12 Chemical compound OC1=CC=NC2=NC=NN12 ISLYUUGUJKSGDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960000643 adenine Drugs 0.000 description 1
- 229960005305 adenosine Drugs 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004656 alkyl sulfonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N anhydrous gallic acid Natural products OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- FIVPIPIDMRVLAY-UHFFFAOYSA-N aspergillin Natural products C1C2=CC=CC(O)C2N2C1(SS1)C(=O)N(C)C1(CO)C2=O FIVPIPIDMRVLAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001621 bismuth Chemical class 0.000 description 1
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical compound CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006251 butylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- UOPIRNHVGHLLDZ-UHFFFAOYSA-L dichlororhodium Chemical compound Cl[Rh]Cl UOPIRNHVGHLLDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000555 dodecyl gallate Substances 0.000 description 1
- 235000010386 dodecyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 229940080643 dodecyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonimidic acid Chemical compound CCS(N)(=O)=O ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- GDCRSXZBSIRSFR-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CCOC(=O)C=C GDCRSXZBSIRSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- XXRLNWSPPBSGMY-UHFFFAOYSA-N heptane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCCCCS(N)(=O)=O XXRLNWSPPBSGMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- MGJXBDMLVWIYOQ-UHFFFAOYSA-N methylazanide Chemical compound [NH-]C MGJXBDMLVWIYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEGLCMHJXHIJLR-UHFFFAOYSA-N methylisothiazolinone Chemical compound CN1SC=CC1=O BEGLCMHJXHIJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000006518 morpholino carbonyl group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([H])C([H])([H])N(C(*)=O)C1([H])[H] 0.000 description 1
- JEUXZUSUYIHGNL-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylethanamine;hydrate Chemical compound O.CCN(CC)CC JEUXZUSUYIHGNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 1
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000473 propyl gallate Substances 0.000 description 1
- 235000010388 propyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 229940075579 propyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000004307 pyrazin-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])N=C(*)C([H])=N1 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004526 pyridazin-2-yl group Chemical group N1N(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002112 pyrrolidino group Chemical group [*]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- VUAPWJOZAXCYTE-UHFFFAOYSA-M sodium 4-decoxy-4-oxo-3-sulfobutanoate Chemical compound [Na+].S(=O)(=O)(O)C(C(=O)OCCCCCCCCCC)CC(=O)[O-] VUAPWJOZAXCYTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005556 structure-activity relationship Methods 0.000 description 1
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 保存による感度の変動が少ないハロゲン化銀
写真感光材料を提供する。 【構成】 （１）塩化銀を70モル％、ロジウム塩をハロ
ゲン化銀１モル当たり1.0×10-8〜10-4モル含む、平均
粒径0.05〜0.30μmのハロゲン化銀粒子を含有する乳剤
層又は他の親水性コロイド層に、一般式〔Ｉ〕で表され
る化合物を含有させる。 （２）該乳剤層に隣接した親水性コロイド層に、一般式
〔II〕で表される化合物又は一般式〔III〕、又は〔I
V〕で表される化合物を含有させる。
写真感光材料を提供する。 【構成】 （１）塩化銀を70モル％、ロジウム塩をハロ
ゲン化銀１モル当たり1.0×10-8〜10-4モル含む、平均
粒径0.05〜0.30μmのハロゲン化銀粒子を含有する乳剤
層又は他の親水性コロイド層に、一般式〔Ｉ〕で表され
る化合物を含有させる。 （２）該乳剤層に隣接した親水性コロイド層に、一般式
〔II〕で表される化合物又は一般式〔III〕、又は〔I
V〕で表される化合物を含有させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、より詳しくは明室用感光材料に関する。
材料に関し、より詳しくは明室用感光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年印刷製版分野に於いて省力化、合理
化、作業環境改善のため、従来は暗室下で行われていた
フィルムメーキング、いわゆる返し工程作業を明るい室
内で行うことが出来るようにするための技術が要求さ
れ、感光材料やプリンター等の機器の改良がなされてい
る。
化、作業環境改善のため、従来は暗室下で行われていた
フィルムメーキング、いわゆる返し工程作業を明るい室
内で行うことが出来るようにするための技術が要求さ
れ、感光材料やプリンター等の機器の改良がなされてい
る。
【０００３】このような明室での取り扱いが可能な感光
材料としては、紫外光に富む光源、たとえば超高圧水銀
灯、メタルハライド光源、キセノンランプ、ハロゲンラ
ンプ、クォーツランプ等に感光するハロゲン化銀感光材
料があげられる。
材料としては、紫外光に富む光源、たとえば超高圧水銀
灯、メタルハライド光源、キセノンランプ、ハロゲンラ
ンプ、クォーツランプ等に感光するハロゲン化銀感光材
料があげられる。
【０００４】明室で取り扱い可能なハロゲン化銀写真感
光材料（以下明室材料という）の製造方法としては、例
えば特開昭56-125734号に記載されている、ロジウム塩
やビスマス塩などの無機減感剤を、塩化銀を主体とする
乳剤に添加する方法、特開昭45-17273号に記載されてい
る、有機減感剤を塩化銀を主体とする乳剤に添加する方
法、特開昭59-157633号、同61-26041号に記載されてい
る、ロジウム塩及び有機減感剤を、塩化銀を主体とする
乳剤に添加する方法、特公昭63-316042号に記載されて
いる、塩化銀を主体とする乳剤層に、ロジウム塩、減感
色素、テトラゾリウム化合物、ヒドラジン化合物を、バ
ッキング層に減感色素の分光感度最大波長における吸光
度が0.5以上となるように染料を添加する方法等が知ら
れている。
光材料（以下明室材料という）の製造方法としては、例
えば特開昭56-125734号に記載されている、ロジウム塩
やビスマス塩などの無機減感剤を、塩化銀を主体とする
乳剤に添加する方法、特開昭45-17273号に記載されてい
る、有機減感剤を塩化銀を主体とする乳剤に添加する方
法、特開昭59-157633号、同61-26041号に記載されてい
る、ロジウム塩及び有機減感剤を、塩化銀を主体とする
乳剤に添加する方法、特公昭63-316042号に記載されて
いる、塩化銀を主体とする乳剤層に、ロジウム塩、減感
色素、テトラゾリウム化合物、ヒドラジン化合物を、バ
ッキング層に減感色素の分光感度最大波長における吸光
度が0.5以上となるように染料を添加する方法等が知ら
れている。
【０００５】本発明者らは無機減感剤を、塩化銀を主体
とする乳剤に添加する方法が効果があることを確認した
が、感光材料の保存による感度の変動が問題であった。
特に最近は、明室感光材料に対して、明室下での取り扱
い時間の延長に対する要求が増大しており、上記効果は
最近の要求を十分に満たすものではなかった。
とする乳剤に添加する方法が効果があることを確認した
が、感光材料の保存による感度の変動が問題であった。
特に最近は、明室感光材料に対して、明室下での取り扱
い時間の延長に対する要求が増大しており、上記効果は
最近の要求を十分に満たすものではなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高感度
で、明室下での取り扱い可能な時間の長いネガ型ハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。
で、明室下での取り扱い可能な時間の長いネガ型ハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。
【０００７】本発明の他の目的は保存による感度の変動
が少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供することであ
る。
が少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供することであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下によ
り達成される。即ち、 （１）支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層
と、少なくとも１層の非感光性親水性コロイド層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、該感光材料が、
塩化銀を少なくとも70モル％、かつロジウム塩をハロゲ
ン化銀１モル当たり1.0×10-8〜10-4モル含む、平均粒
径0.05〜0.30μmのネガ型非スペクトル増感ハロゲン化
銀粒子を含有する乳剤層を有し、該乳剤層及び／又は他
の親水性コロイド層中に、一般式〔Ｉ〕で表される化合
物を少なくとも１種含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
り達成される。即ち、 （１）支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層
と、少なくとも１層の非感光性親水性コロイド層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、該感光材料が、
塩化銀を少なくとも70モル％、かつロジウム塩をハロゲ
ン化銀１モル当たり1.0×10-8〜10-4モル含む、平均粒
径0.05〜0.30μmのネガ型非スペクトル増感ハロゲン化
銀粒子を含有する乳剤層を有し、該乳剤層及び／又は他
の親水性コロイド層中に、一般式〔Ｉ〕で表される化合
物を少なくとも１種含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
【０００９】
【化４】
【００１０】式中、Ｒ1，Ｒ2は各々水素原子、又は置換
されていてもよいアルキル基を表し、Ｒ1とＲ2は互いに
結合して５員環又は６員環を形成してもよい。Ｒ3,Ｒ4,
Ｒ5,Ｒ6,Ｒ7は、各々水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、ホル
ミル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、
スルホンアミド基、ハロゲン原子を表す。Ｒ3とＲ7は、
Ｒ1とＲ7又はＲ2とＲ3が結合して５員環又は６員環を形
成するのに必要な非金属原子群を表す。
されていてもよいアルキル基を表し、Ｒ1とＲ2は互いに
結合して５員環又は６員環を形成してもよい。Ｒ3,Ｒ4,
Ｒ5,Ｒ6,Ｒ7は、各々水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、ホル
ミル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、
スルホンアミド基、ハロゲン原子を表す。Ｒ3とＲ7は、
Ｒ1とＲ7又はＲ2とＲ3が結合して５員環又は６員環を形
成するのに必要な非金属原子群を表す。
【００１１】（２）前記乳剤層に隣接した親水性コロイ
ド層中に、一般式〔II〕で表される化合物及び／又は一
般式〔III〕で表される化合物を少なくとも１種含有す
ることを特徴とする（１）記載のハロゲン化銀写真感光
材料。
ド層中に、一般式〔II〕で表される化合物及び／又は一
般式〔III〕で表される化合物を少なくとも１種含有す
ることを特徴とする（１）記載のハロゲン化銀写真感光
材料。
【００１２】
【化５】
【００１３】一般式〔II〕において、Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10，
Ｒ11は各々水素原子、カルボキシル基、アルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基
を表し、Ｘ1，Ｘ2は酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3はメチン基を表し、ｎ1は０、１又は２を
表す。
Ｒ11は各々水素原子、カルボキシル基、アルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基
を表し、Ｘ1，Ｘ2は酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3はメチン基を表し、ｎ1は０、１又は２を
表す。
【００１４】一般式〔III〕において、Ｒ12，Ｒ13は各
々水素原子、ハロゲン原子、アルキルカルボニル基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ス
ルホンアミド基、置換又は無置換のアルキル基又はアリ
ール基を表し、Ｒ12とＲ13で環を形成してもよい。Ｙ1
とＹ2は各々−O−、−S−、−Se−、−Te−、−CO−、
−SO2−、−N(R14)−を表し、Ｙ1とＹ2は同一でも異な
っていてもよい。
々水素原子、ハロゲン原子、アルキルカルボニル基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ス
ルホンアミド基、置換又は無置換のアルキル基又はアリ
ール基を表し、Ｒ12とＲ13で環を形成してもよい。Ｙ1
とＹ2は各々−O−、−S−、−Se−、−Te−、−CO−、
−SO2−、−N(R14)−を表し、Ｙ1とＹ2は同一でも異な
っていてもよい。
【００１５】Ｌ4は−CH2CH2−、−C(R15)H−CH2−、−C
(R16)H−CH2−、を表し、Ｌ5は＝CH−、＝C(R17)−を表
す。ｎ2は０〜６の整数を表し、Ｚはヒドロキシル基、
カルボキシル基、スルホ基、アミノ基、アルキルカルボ
ニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アミノスルホニル基、置換又は無置換のアルキル基
又はアリール基を表す。ｍ1は０〜３の整数を表し、Ｒ
14，Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17は各々アルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アルキルチオ基、トリアルキルシロキシ
基、ハロゲン原子、３級アミノ基を表す。Ｍ1，Ｍ2はア
ルカリ金属を表し、Ｍ1とＭ2は同一でも異なっていても
よい。
(R16)H−CH2−、を表し、Ｌ5は＝CH−、＝C(R17)−を表
す。ｎ2は０〜６の整数を表し、Ｚはヒドロキシル基、
カルボキシル基、スルホ基、アミノ基、アルキルカルボ
ニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アミノスルホニル基、置換又は無置換のアルキル基
又はアリール基を表す。ｍ1は０〜３の整数を表し、Ｒ
14，Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17は各々アルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アルキルチオ基、トリアルキルシロキシ
基、ハロゲン原子、３級アミノ基を表す。Ｍ1，Ｍ2はア
ルカリ金属を表し、Ｍ1とＭ2は同一でも異なっていても
よい。
【００１６】（３）前記乳剤層に隣接した親水性コロイ
ド層中に、一般式〔IV〕で表される化合物を少なくとも
１種含有することを特徴とする（１）記載のハロゲン化
銀写真感光材料。
ド層中に、一般式〔IV〕で表される化合物を少なくとも
１種含有することを特徴とする（１）記載のハロゲン化
銀写真感光材料。
【００１７】
【化６】
【００１８】式中、Ｇは水素原子、ハロゲン原子を表
し、Ｒ18はハメットのδp値が−0.05より小さい一価の
基を表す。Ｒ19は少なくとも１つのスルホン酸基を有す
るアリール基を表し、Ｒ20は低級アルキル基、ハロゲン
原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基を表す。Ｒ21及び
Ｒ22は、それぞれ水素原子、アルキル基を表し、Ｒ21と
Ｒ22は互いに結合して５員環又は６員環を形成してもよ
い。Ｌ6，Ｌ7，Ｌ8はメチン基を表し、ｍ2は１，２，３
又は４を表し、ｎ3は１又は２を表す。
し、Ｒ18はハメットのδp値が−0.05より小さい一価の
基を表す。Ｒ19は少なくとも１つのスルホン酸基を有す
るアリール基を表し、Ｒ20は低級アルキル基、ハロゲン
原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基を表す。Ｒ21及び
Ｒ22は、それぞれ水素原子、アルキル基を表し、Ｒ21と
Ｒ22は互いに結合して５員環又は６員環を形成してもよ
い。Ｌ6，Ｌ7，Ｌ8はメチン基を表し、ｍ2は１，２，３
又は４を表し、ｎ3は１又は２を表す。
【００１９】以下、本発明を詳しく説明する。
【００２０】一般式〔Ｉ〕において、Ｒ1及びＲ2で表さ
れるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。アルキル基
は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば
ハロゲン原子、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシ
ル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、スル
ホンアミド、シアノ、スルホ、アシルアミノ、カルバモ
イル、スルファモイル等の各基を挙げることが出来る。
れるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。アルキル基
は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば
ハロゲン原子、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシ
ル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、スル
ホンアミド、シアノ、スルホ、アシルアミノ、カルバモ
イル、スルファモイル等の各基を挙げることが出来る。
【００２１】更にＲ1とＲ2が結合して５〜６員の含窒素
複素環（例えばモルホリン環）を形成してもよい。
複素環（例えばモルホリン環）を形成してもよい。
【００２２】Ｒ3〜Ｒ7として好ましいアルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル等の各基が挙げられる。
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル等の各基が挙げられる。
【００２３】Ｒ3〜Ｒ7として好ましいアルコキシ基とし
ては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ等の各基が挙げられる。
ては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ等の各基が挙げられる。
【００２４】アルコキシカルボニル基としては、例えば
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル等の各基が挙げられ、アシルアミノ基として
は、例えばアセトアミド、、プロピオアミド、ブタンア
ミド等の各基が挙げられる。又、スルホンアミド基とし
ては、例えばメタンスルホンアミド、エタンスルホンア
ミド、ブタンスルホンアミド等の各基が挙げられる。
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル等の各基が挙げられ、アシルアミノ基として
は、例えばアセトアミド、、プロピオアミド、ブタンア
ミド等の各基が挙げられる。又、スルホンアミド基とし
ては、例えばメタンスルホンアミド、エタンスルホンア
ミド、ブタンスルホンアミド等の各基が挙げられる。
【００２５】Ｒ3とＲ7は、Ｒ1とＲ7又はＲ2とＲ3が結合
して含窒素複素環を形成するのに必要な非金属原子群を
表す。
して含窒素複素環を形成するのに必要な非金属原子群を
表す。
【００２６】本発明に用いられる一般式〔Ｉ〕で表され
る化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれ等に限
定されるものではない。
る化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれ等に限
定されるものではない。
【００２７】
【化７】
【００２８】
【化８】
【００２９】一般式〔Ｉ〕で表される化合物は、市販品
として容易に入手出来るか、又は、当業界公知の方法で
合成出来る。
として容易に入手出来るか、又は、当業界公知の方法で
合成出来る。
【００３０】本発明に用いる、一般式〔Ｉ〕で表される
化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時、粒子形成後、脱塩
後などのいずれの段階で添加してもかまわない。
化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時、粒子形成後、脱塩
後などのいずれの段階で添加してもかまわない。
【００３１】添加量は、0.005〜100g／モルＡgが好まし
く、より好ましくは、0.01〜50g／モルＡgである。
く、より好ましくは、0.01〜50g／モルＡgである。
【００３２】一般式〔Ｉ〕で表される化合物は、適当な
溶媒例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール等）に溶解し、ハロゲン化銀乳剤
層及び／又は他の親水性コロイド層に添加することが出
来る。
溶媒例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール等）に溶解し、ハロゲン化銀乳剤
層及び／又は他の親水性コロイド層に添加することが出
来る。
【００３３】一般式〔II〕で表される化合物において、
Ｒ8〜Ｒ11で表されるアルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、i-プロピル、t-ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2-エチルヘキシル、ドデシ
ル、ペンタデシル、エイコシル等の各基が挙げられる。
該アルキル基は置換基を有するものを含み、該置換基と
しては、例えばハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃
素、弗素等の各原子）、アリール基（例えばフェニル、
ナフチル等）、ヘテロ環基（例えばピロリジル、ピリジ
ル等）、スルフィン酸基、カルボキシル基、ニトロ基、
ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基（例えばアミ
ノ、ジエチルアミノ等）、アルコキシ基（例えばメトキ
シ、エトキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、i-プロポキ
シ等）、アリールオキシ基（フェノキシ、ナフチルオキ
シ等）、カルバモイル基（例えばアミノカルボニル、メ
チルカルバモイル、ペンチルカルバモイル、モルホリノ
カルボニル、フェニルカルバモイル等）、アミド基（例
えばメチルアミド、ベンズアミド、オクチルアミド
等）、スルファモイル基（例えばスルファモイル、メチ
ルスルファモイル、フェニルスルファモイル、モルホリ
ノスルホニル、ブチルスルファモイル等）、スルホンア
ミド基（例えばメタンスルホンアミド、ヘプタンスルホ
ンアミド、ベンゼンスルホンアミド等）、スルフィニル
基（例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、
オクチルスルフィニル等のアルキルスルフィニル基、フ
ェニルスルフィニルで表されるアリールスルフィニル
等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、2-ヒドロキシエトキシカル
ボニル、オクチルオキシカルボニル等）、アリールオキ
シカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル、ナフチ
ルオキシカルボニル等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ、エチルチオ、ヘキシルチオ等）、アリールチオ
基（例えばフェニルチオ、ナフチルチオ等）、アルキル
カルボニル基（例えばアセチル、エチルカルボニル、ブ
チルカルボニル、オクチルカルボニル等）、アリールカ
ルボニル基（例えばベンゾイル、p-メタンスルホンアミ
ドベンゾイル、p-カルボキシベンゾイル、ナフトイル
等）、シアノ基、ウレイド基（例えばメチルウレイド、
フェニルウレイド等）、チオウレイド基（例えばメチル
チオウレイド、フェニルチオウレイド等）等が挙げられ
る。
Ｒ8〜Ｒ11で表されるアルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、i-プロピル、t-ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2-エチルヘキシル、ドデシ
ル、ペンタデシル、エイコシル等の各基が挙げられる。
該アルキル基は置換基を有するものを含み、該置換基と
しては、例えばハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃
素、弗素等の各原子）、アリール基（例えばフェニル、
ナフチル等）、ヘテロ環基（例えばピロリジル、ピリジ
ル等）、スルフィン酸基、カルボキシル基、ニトロ基、
ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基（例えばアミ
ノ、ジエチルアミノ等）、アルコキシ基（例えばメトキ
シ、エトキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、i-プロポキ
シ等）、アリールオキシ基（フェノキシ、ナフチルオキ
シ等）、カルバモイル基（例えばアミノカルボニル、メ
チルカルバモイル、ペンチルカルバモイル、モルホリノ
カルボニル、フェニルカルバモイル等）、アミド基（例
えばメチルアミド、ベンズアミド、オクチルアミド
等）、スルファモイル基（例えばスルファモイル、メチ
ルスルファモイル、フェニルスルファモイル、モルホリ
ノスルホニル、ブチルスルファモイル等）、スルホンア
ミド基（例えばメタンスルホンアミド、ヘプタンスルホ
ンアミド、ベンゼンスルホンアミド等）、スルフィニル
基（例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、
オクチルスルフィニル等のアルキルスルフィニル基、フ
ェニルスルフィニルで表されるアリールスルフィニル
等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、2-ヒドロキシエトキシカル
ボニル、オクチルオキシカルボニル等）、アリールオキ
シカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル、ナフチ
ルオキシカルボニル等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ、エチルチオ、ヘキシルチオ等）、アリールチオ
基（例えばフェニルチオ、ナフチルチオ等）、アルキル
カルボニル基（例えばアセチル、エチルカルボニル、ブ
チルカルボニル、オクチルカルボニル等）、アリールカ
ルボニル基（例えばベンゾイル、p-メタンスルホンアミ
ドベンゾイル、p-カルボキシベンゾイル、ナフトイル
等）、シアノ基、ウレイド基（例えばメチルウレイド、
フェニルウレイド等）、チオウレイド基（例えばメチル
チオウレイド、フェニルチオウレイド等）等が挙げられ
る。
【００３４】Ｒ8〜Ｒ11で表されるアリール基として
は、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられる。該ア
リール基は置換基を有するものを含み、該置換基として
は、例えば前記のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基、及
びＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の置換基として挙げ
た前述の基が挙げられる。
は、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられる。該ア
リール基は置換基を有するものを含み、該置換基として
は、例えば前記のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基、及
びＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の置換基として挙げ
た前述の基が挙げられる。
【００３５】Ｒ8〜Ｒ11で表される置換基としてのアル
ケニル基としては、ビニル基、アリル基、1-プロペニル
基、1,3-ブタジエニル基、2-ペンテニル基等が挙げら
れ、該アルケニル基は置換基を有するものを含み、該置
換基としては前記のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の
置換基として挙げたものが挙げられる。
ケニル基としては、ビニル基、アリル基、1-プロペニル
基、1,3-ブタジエニル基、2-ペンテニル基等が挙げら
れ、該アルケニル基は置換基を有するものを含み、該置
換基としては前記のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の
置換基として挙げたものが挙げられる。
【００３６】Ｒ8〜Ｒ11で表される複素環基としては、
例えばピリジル基（例えば2-ピリジル、3-ピリジル、4-
ピリジル、5-カルボキシ-2-ピリジル、3,5-ジクロロ-2-
ピリジル、4,6-ジメチル-2-ピリジル、6-ヒドロキシ-2-
ピリジル、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ピリジル、3-ニ
トロ-2-ピリジル等）、オキサゾリル基（例えば5-カル
ボキシ-2-ベンゾオキサゾリル、2-ベンゾオキサゾリ
ル、2-オキサゾリル等）、チアゾリル基（例えば5-スル
ファモイル-2-ベンゾチアゾリル、2-ベンゾチアゾリ
ル、2-チアゾリル等）、イミダゾリル基（例えば１-メ
チル-2-イミダゾリル、１-メチル-5-カルボキシ-2-ベン
ゾイミダゾリル等）、フリル基（例えば3-フリル）、ピ
ロリル基（例えば3-ピロリル）、チエニル基（例えば2-
チエニル）、ピラジニル基（例えば2-ピラジニル）、ピ
リミジニル基（例えば2-ピリミジニル、4-クロロ-2-ピ
リミジニル等）、ピリダジニル基（例えば2-ピリダジニ
ル）、プリニル基（例えば8-プリニル）、イソオキサゾ
リル基（例えば3-イソオキサゾリル）、セレナゾリル基
（例えば5-カルボキシ-2-セレナゾリル）、スルホラニ
ル基（例えば3-スルホラニル）、ピペリジル基（例えば
1-メチル-3-ピペリジル）、ピラゾリル基（例えば3-ピ
ラゾリル）、テトラゾリル基（例えば1-メチル-5-テト
ラゾリル）等が挙げれられ、該複素環基は置換基を有す
るものを含み、該置基としては前記のＲ8〜Ｒ11で表さ
れるアルキル基及びＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の
置換基として例示したものが挙げられる。
例えばピリジル基（例えば2-ピリジル、3-ピリジル、4-
ピリジル、5-カルボキシ-2-ピリジル、3,5-ジクロロ-2-
ピリジル、4,6-ジメチル-2-ピリジル、6-ヒドロキシ-2-
ピリジル、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ピリジル、3-ニ
トロ-2-ピリジル等）、オキサゾリル基（例えば5-カル
ボキシ-2-ベンゾオキサゾリル、2-ベンゾオキサゾリ
ル、2-オキサゾリル等）、チアゾリル基（例えば5-スル
ファモイル-2-ベンゾチアゾリル、2-ベンゾチアゾリ
ル、2-チアゾリル等）、イミダゾリル基（例えば１-メ
チル-2-イミダゾリル、１-メチル-5-カルボキシ-2-ベン
ゾイミダゾリル等）、フリル基（例えば3-フリル）、ピ
ロリル基（例えば3-ピロリル）、チエニル基（例えば2-
チエニル）、ピラジニル基（例えば2-ピラジニル）、ピ
リミジニル基（例えば2-ピリミジニル、4-クロロ-2-ピ
リミジニル等）、ピリダジニル基（例えば2-ピリダジニ
ル）、プリニル基（例えば8-プリニル）、イソオキサゾ
リル基（例えば3-イソオキサゾリル）、セレナゾリル基
（例えば5-カルボキシ-2-セレナゾリル）、スルホラニ
ル基（例えば3-スルホラニル）、ピペリジル基（例えば
1-メチル-3-ピペリジル）、ピラゾリル基（例えば3-ピ
ラゾリル）、テトラゾリル基（例えば1-メチル-5-テト
ラゾリル）等が挙げれられ、該複素環基は置換基を有す
るものを含み、該置基としては前記のＲ8〜Ｒ11で表さ
れるアルキル基及びＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の
置換基として例示したものが挙げられる。
【００３７】Ｒ8〜Ｒ11で表されるシクロアルキル基と
しては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等が、挙げられる。
該シクロアルキル基は、置換基を有するものを含み、該
置換基としては前述のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基
及びＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の置換基として例
示したものが挙げられる。
しては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等が、挙げられる。
該シクロアルキル基は、置換基を有するものを含み、該
置換基としては前述のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基
及びＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル基の置換基として例
示したものが挙げられる。
【００３８】尚、Ｒ8〜Ｒ11がアルキル基である場合、
その炭素数は６以下であることが特に好ましい。
その炭素数は６以下であることが特に好ましい。
【００３９】一般式〔II〕において、Ｌ1〜Ｌ3で表され
るメチン基は置換基を有するものを含み、該置換基とし
ては、例えばアルキル基（例えばメチル、エチル、i-プ
ロピル、t-ブチル、3-ヒドロキシプロピル等）、アラル
キル基（例えばベンジル）、アリール基（例えばフェニ
ル）、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃素、弗素
等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ等）、
アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ
基（例えばメチルカルボニルオキシ、フェニルカルボニ
ルオキシ等）等が挙げられる。
るメチン基は置換基を有するものを含み、該置換基とし
ては、例えばアルキル基（例えばメチル、エチル、i-プ
ロピル、t-ブチル、3-ヒドロキシプロピル等）、アラル
キル基（例えばベンジル）、アリール基（例えばフェニ
ル）、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃素、弗素
等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ等）、
アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ
基（例えばメチルカルボニルオキシ、フェニルカルボニ
ルオキシ等）等が挙げられる。
【００４０】以下に本発明の具体的化合物例を示すが、
本発明はこれらに限定されない。
本発明はこれらに限定されない。
【００４１】
【化９】
【００４２】
【化１０】
【００４３】尚、上記化合物の他に、特願平2-19474号1
3頁〜28頁記載の化合物No.１〜No.22及びNo.24〜No.104
も具体的化合物として挙げられる。
3頁〜28頁記載の化合物No.１〜No.22及びNo.24〜No.104
も具体的化合物として挙げられる。
【００４４】本発明の化合物は、例えば米国特許3,247,
127号、同4,042,397号及び特願平2-19474号29頁〜32頁
に示された合成法に準じて容易に合成出来る。
127号、同4,042,397号及び特願平2-19474号29頁〜32頁
に示された合成法に準じて容易に合成出来る。
【００４５】本発明の化合物は、ハロゲン化銀写真感光
材料中に目的に応じて光学濃度が0.05〜3.0の範囲にな
るように使用されているのが好ましい。
材料中に目的に応じて光学濃度が0.05〜3.0の範囲にな
るように使用されているのが好ましい。
【００４６】化合物の添加量は１×10-3g/m2〜１g/m2が
好ましく、特に10-3g/m2〜0.5g/m2が好ましい。
好ましく、特に10-3g/m2〜0.5g/m2が好ましい。
【００４７】一般式〔II〕で表される化合物は、適当な
溶媒、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセルソ
ルブ等、あるいはこれらの混合溶媒に溶解し、ハロゲン
化銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加するのが
普通である。
溶媒、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセルソ
ルブ等、あるいはこれらの混合溶媒に溶解し、ハロゲン
化銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加するのが
普通である。
【００４８】尚、一般式〔II〕で表される化合物の溶媒
としては、化合物の30モル％〜100モル％のトリアルキ
ルアミン（例えばトリエチルアミン）を含有した水を選
ぶことが出来る。
としては、化合物の30モル％〜100モル％のトリアルキ
ルアミン（例えばトリエチルアミン）を含有した水を選
ぶことが出来る。
【００４９】ほかに、特開平2-110453号、同2-191942号
に記載されている固体粒子の分散体として、ハロゲン化
銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加することも
出来る。
に記載されている固体粒子の分散体として、ハロゲン化
銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加することも
出来る。
【００５０】一般式〔III〕において、Ｒ12,Ｒ13は、各
々水素原子、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素等）、ア
ルキルカルボニル基（例えばメチルカルボニル、エチル
エルボニル等）、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシ
カルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル等）、スルホン酸基、アミノスルフェニル基、
置換又は無置換のアルキル基（例えばメチル、エチル
等）もしくはアリール基（例えばフェニル）を表し、Ｒ
12とＲ13で環（例えば５ないし６員環）を形成してもよ
い。
々水素原子、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素等）、ア
ルキルカルボニル基（例えばメチルカルボニル、エチル
エルボニル等）、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシ
カルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル等）、スルホン酸基、アミノスルフェニル基、
置換又は無置換のアルキル基（例えばメチル、エチル
等）もしくはアリール基（例えばフェニル）を表し、Ｒ
12とＲ13で環（例えば５ないし６員環）を形成してもよ
い。
【００５１】Ｙ1とＹ2は各々−O−、−S−、−Se−、−
Te−、−CO−、−SO2−、−N(R14)−を表し、Ｙ1、Ｙ2
は同一でも異なっていてもよい。
Te−、−CO−、−SO2−、−N(R14)−を表し、Ｙ1、Ｙ2
は同一でも異なっていてもよい。
【００５２】Ｌ4は−CH2CH2−、−C(R15)H−CH2−、−C
(R16)H−CH2−を表す。
(R16)H−CH2−を表す。
【００５３】Ｌ5は＝CH−、＝C(R17)−を表す。
【００５４】ｎ2は０から６の整数を表す。
【００５５】Ｚはヒドロキシル基、スルホ基、アミノ
基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基（例えばメ
チルカルボニル、エチルカルボニル等）、ハロゲン原子
（例えば塩素、臭素等）アルコキシ基、アルキルチオ基
（例えばメチルチオ）、スルホンアミド基、置換または
無置換のアルキル基（例えばチメル、エチル等）もしく
はアリール基（例えばフェニルル）を表す。
基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基（例えばメ
チルカルボニル、エチルカルボニル等）、ハロゲン原子
（例えば塩素、臭素等）アルコキシ基、アルキルチオ基
（例えばメチルチオ）、スルホンアミド基、置換または
無置換のアルキル基（例えばチメル、エチル等）もしく
はアリール基（例えばフェニルル）を表す。
【００５６】アルキル基及びアリール基の置換基として
は、前記一般式〔II〕のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル
基の置換基として例示したものが挙げられる。
は、前記一般式〔II〕のＲ8〜Ｒ11で表されるアルキル
基の置換基として例示したものが挙げられる。
【００５７】ｍ1は０〜３の整数を表す。
【００５８】Ｒ14,Ｒ15,Ｒ16及びＲ17は各々アルキル基
（例えばメチル、エチル等）、アリール基（例えばフェ
ニル）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ
等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、トリアル
キルシロキシ基（例えばトリメチルシロキシ）、ハロゲ
ン原子（例えば塩素、臭素等）、３級アミノ基を表す。
（例えばメチル、エチル等）、アリール基（例えばフェ
ニル）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ
等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、トリアル
キルシロキシ基（例えばトリメチルシロキシ）、ハロゲ
ン原子（例えば塩素、臭素等）、３級アミノ基を表す。
【００５９】Ｍ1、Ｍ2はアルカリ金属（例えばナトリウ
ム、カリウム等）で、Ｍ1とＭ2は同一でも異なっていて
もよい。
ム、カリウム等）で、Ｍ1とＭ2は同一でも異なっていて
もよい。
【００６０】以下に一般式〔III〕で表される化合物の
具体例を挙げるがこれらに限定されない。
具体例を挙げるがこれらに限定されない。
【００６１】
【化１１】
【００６２】
【化１２】
【００６３】
【化１３】
【００６４】尚、上記の化合物の他に、特願平2-106806
号８頁〜13頁記載の化合物４〜９、11、13〜15、18〜2
0、23、24、26、及び28〜30も具体的化合物として挙げ
ることが出来る。
号８頁〜13頁記載の化合物４〜９、11、13〜15、18〜2
0、23、24、26、及び28〜30も具体的化合物として挙げ
ることが出来る。
【００６５】一般式〔III〕で表される化合物は、適当
な溶媒、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、
エタノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセル
ソルブ等、あるいはこれらの混合溶媒に溶解し、ハロゲ
ン化銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加するこ
とが出来る。
な溶媒、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、
エタノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセル
ソルブ等、あるいはこれらの混合溶媒に溶解し、ハロゲ
ン化銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加するこ
とが出来る。
【００６６】ほかに、特開平2-110453号、同2-191942号
に記載されている固体粒子の分散体として、ハロゲン化
銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加することも
出来る。
に記載されている固体粒子の分散体として、ハロゲン化
銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加することも
出来る。
【００６７】またこれらの化合物はカチオン性ポリマー
等により媒染されていてもよい。
等により媒染されていてもよい。
【００６８】化合物の添加量は、１×10-3g/m2〜1.5g/m
2が好ましく、特に５×10-3g/m2〜1.0g/m2が好ましい。
2が好ましく、特に５×10-3g/m2〜1.0g/m2が好ましい。
【００６９】前記一般式〔III〕で表される化合物は単
独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせ使用して
もよい。また、前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物と他
の公知の化合物と組み合わせてもよい。
独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせ使用して
もよい。また、前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物と他
の公知の化合物と組み合わせてもよい。
【００７０】本発明において、ハロゲン化銀写真感光材
料に含有される前記一般式〔III〕で表される化合物
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有されていてもよいし、又
それ以外の親水性コロイド層を含む写真構成層に含有さ
れていてもよい。
料に含有される前記一般式〔III〕で表される化合物
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有されていてもよいし、又
それ以外の親水性コロイド層を含む写真構成層に含有さ
れていてもよい。
【００７１】一般式〔IV〕において、Ｇで表されるハロ
ゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、沃素等
が挙げられる。
ゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、沃素等
が挙げられる。
【００７２】Ｒ18で表されるハメットδp値が−0.05よ
り小さい一価の基としては、炭素数１〜４のアルキル基
（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、tert-ブ
チル等）が挙げられこれらは置換基を有していてよい。
り小さい一価の基としては、炭素数１〜４のアルキル基
（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、tert-ブ
チル等）が挙げられこれらは置換基を有していてよい。
【００７３】置換アルキル基は、例えばカルボキシメチ
ル基、2-メトキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、ベ
ンジル基およびフェネチル基等である。さらにＲ18は、
シクロアルキル基（例えばシクロベンチル、ジクロヘキ
シル）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメトキ
シ、エトキシ、n-ブトキシ等）を表し、置換基を有して
もよく、例えば2-メトキシエトキシ、エトキシメトキ
シ、2-ヒドロキシエトキシ等である。さらにＲ18として
は、アミノ基（例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチル
アミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ
等）、ウレイド基（例えばウレイド、メチルウレイド、
エチルウレイド）等が好ましく挙げられる。前記のハメ
ットのδp値は「薬物の構造活性相関」（南江堂）第96
頁（1979年）に記載されており、この表に基づいて置換
基を選ぶことができる。
ル基、2-メトキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、ベ
ンジル基およびフェネチル基等である。さらにＲ18は、
シクロアルキル基（例えばシクロベンチル、ジクロヘキ
シル）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメトキ
シ、エトキシ、n-ブトキシ等）を表し、置換基を有して
もよく、例えば2-メトキシエトキシ、エトキシメトキ
シ、2-ヒドロキシエトキシ等である。さらにＲ18として
は、アミノ基（例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチル
アミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ
等）、ウレイド基（例えばウレイド、メチルウレイド、
エチルウレイド）等が好ましく挙げられる。前記のハメ
ットのδp値は「薬物の構造活性相関」（南江堂）第96
頁（1979年）に記載されており、この表に基づいて置換
基を選ぶことができる。
【００７４】さらには前記一般式〔IV〕において、Ｒ19
が表すスルホ基を有するアリール基は、該スルホ基のほ
かに他の置換基として、例えばハロゲン原子（例えばフ
ッ素、塩素、臭素等）、ヒドロキシル基、アルコキシ基
（例えばメトキシ、エトキシ、n-プロボキシ等）、アリ
ールオキシ基（例えばフェノキシ）、炭素数１〜４のア
ルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル
等）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）ニトロ
基、アルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル、
エチルスルホニル、ブチルスルホニル等）、カルバモイ
ル基（例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、エチ
ルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、エチルスルファモイ
ル等）、スルホンアミド基（例えばメチルスルホンアミ
ド、エチルスルホンアミド等）等を有していてもよい。
が表すスルホ基を有するアリール基は、該スルホ基のほ
かに他の置換基として、例えばハロゲン原子（例えばフ
ッ素、塩素、臭素等）、ヒドロキシル基、アルコキシ基
（例えばメトキシ、エトキシ、n-プロボキシ等）、アリ
ールオキシ基（例えばフェノキシ）、炭素数１〜４のア
ルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル
等）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）ニトロ
基、アルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル、
エチルスルホニル、ブチルスルホニル等）、カルバモイ
ル基（例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、エチ
ルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、エチルスルファモイ
ル等）、スルホンアミド基（例えばメチルスルホンアミ
ド、エチルスルホンアミド等）等を有していてもよい。
【００７５】これらの具体例としては、例えば3-スルホ
フェニル、4-スルホフェニル、2-メチル-4-スルホフェ
ニル、2-クロロ-4-スルホフェニル、4-クロロ-3-スルホ
フェニル、2-クロロ-5-スルホフェニル、2-メトキシ-4-
スルホフェニル、2-ヒドロキシ-4-スルホフェニル、2,5
-ジクロロ-4-スルホフェニル、2,6-ジメチル-4-スルホ
フェニル、4-フェノキシ-3-スルホフェニル、2-クロロ-
6-メチル-4-スルホフェニル、3-カルボキシ-2-ヒドロキ
シ-5-スルホフェニル、2,5-ジスルホフェニル、3,5-ジ
スルホフェニル、3,6-ジスルホ-2-ナフチル、8-ヒドロ
キシ-3,6-ジスルホ-2-ナフチル、5-ヒドロキシ-7-スル
ホ-2-ナフチル、6,8-ジスルホ-2-ナフチル等を挙げるこ
とができる。
フェニル、4-スルホフェニル、2-メチル-4-スルホフェ
ニル、2-クロロ-4-スルホフェニル、4-クロロ-3-スルホ
フェニル、2-クロロ-5-スルホフェニル、2-メトキシ-4-
スルホフェニル、2-ヒドロキシ-4-スルホフェニル、2,5
-ジクロロ-4-スルホフェニル、2,6-ジメチル-4-スルホ
フェニル、4-フェノキシ-3-スルホフェニル、2-クロロ-
6-メチル-4-スルホフェニル、3-カルボキシ-2-ヒドロキ
シ-5-スルホフェニル、2,5-ジスルホフェニル、3,5-ジ
スルホフェニル、3,6-ジスルホ-2-ナフチル、8-ヒドロ
キシ-3,6-ジスルホ-2-ナフチル、5-ヒドロキシ-7-スル
ホ-2-ナフチル、6,8-ジスルホ-2-ナフチル等を挙げるこ
とができる。
【００７６】次にＲ20が表す一価の基としては、炭素数
１〜４のアルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル
等）、ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等）、
ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エト
キシ等）、ニトロ基等を好ましく挙げることができる。
１〜４のアルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル
等）、ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等）、
ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エト
キシ等）、ニトロ基等を好ましく挙げることができる。
【００７７】また、Ｒ21およびＲ22がそれぞれ表すアル
キル基としては、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、tert-ブチル等）が
好ましく、これらのアルキル基には更に置換基として、
例えばシアノ基、ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、
臭素等）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ等）、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル等）、アシル基（例えばアセチル、プ
ロピオニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキ
シ、プロピオニルオキシ等）、アリールオキシ基（例え
ばフェノキシ）、アミノ基（例えばアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ等）、
アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ等）、
アルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル、エチ
ルスルホニル等）、アシルアミノ基（例えばアセトアミ
ド）、アルキルスルホニルアミノ基（例えばメチルスル
ホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ等）、アリール
基（例えばフェニル）、スルホ基が挙げられる。
キル基としては、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、tert-ブチル等）が
好ましく、これらのアルキル基には更に置換基として、
例えばシアノ基、ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、
臭素等）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ等）、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル等）、アシル基（例えばアセチル、プ
ロピオニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキ
シ、プロピオニルオキシ等）、アリールオキシ基（例え
ばフェノキシ）、アミノ基（例えばアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ等）、
アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ等）、
アルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル、エチ
ルスルホニル等）、アシルアミノ基（例えばアセトアミ
ド）、アルキルスルホニルアミノ基（例えばメチルスル
ホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ等）、アリール
基（例えばフェニル）、スルホ基が挙げられる。
【００７８】さらに上記Ｒ21とＲ22とが互いに結合して
形成する５員環又は６員環としては、例えばピロリジノ
基、ピペリジノ基、モルホリノ基等を挙げることができ
る。
形成する５員環又は６員環としては、例えばピロリジノ
基、ピペリジノ基、モルホリノ基等を挙げることができ
る。
【００７９】さらにはＬ6，Ｌ7，Ｌ8が表すメチン基
は、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル、エチ
ル、ブチル等）、またはアリール基（例えばフェニル）
で置換されていてもよい。
は、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル、エチ
ル、ブチル等）、またはアリール基（例えばフェニル）
で置換されていてもよい。
【００８０】上記一般式〔IV〕で表される化合物は、下
記一般式〔Ｖ〕で表されるアルデヒド化合物と、下記一
般式〔VI〕で表されるピラゾロン化合物を特開昭59-206
829号４頁上段右、上から12行より同頁下段右11行まで
に記載の方法により合成することが出来る。
記一般式〔Ｖ〕で表されるアルデヒド化合物と、下記一
般式〔VI〕で表されるピラゾロン化合物を特開昭59-206
829号４頁上段右、上から12行より同頁下段右11行まで
に記載の方法により合成することが出来る。
【００８１】
【化１４】
【００８２】式中Ｒ18，Ｒ19，Ｒ20，Ｘ3，Ｙ3，Ｇ，Ｌ
6，Ｌ7，Ｌ8及びｍ2，ｍ3は前記一般式〔IV〕で説明し
たものとそれぞれ同義である。ｐ及びｑは１又は２の整
数を表す。但しｐとｑは同時に２であることはない。
6，Ｌ7，Ｌ8及びｍ2，ｍ3は前記一般式〔IV〕で説明し
たものとそれぞれ同義である。ｐ及びｑは１又は２の整
数を表す。但しｐとｑは同時に２であることはない。
【００８３】次に本発明において用いられる一般式〔I
V〕で表される化合物を例示するが本発明はこれに限定
されるものではない。
V〕で表される化合物を例示するが本発明はこれに限定
されるものではない。
【００８４】
【化１５】
【００８５】
【化１６】
【００８６】尚、特開昭59-206829号４頁〜６頁に記載
の化合物（３）〜（12）、（15）、（17）、（18）、
（20）〜（26）及び（28）、（29）も例示化合物として
挙げることが出来る。
の化合物（３）〜（12）、（15）、（17）、（18）、
（20）〜（26）及び（28）、（29）も例示化合物として
挙げることが出来る。
【００８７】一般式〔IV〕で表される化合物の添加量と
しては１×10-3g/m2〜１g/m2が好ましく、特に４×10-3
g/m2〜0.5g/m2が好ましい。
しては１×10-3g/m2〜１g/m2が好ましく、特に４×10-3
g/m2〜0.5g/m2が好ましい。
【００８８】一般式〔IV〕で表される化合物は、適当な
溶媒、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセルソ
ルブ等、あるいはこれらの混合溶媒に溶解し、ハロゲン
化銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加すること
が出来る。
溶媒、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセルソ
ルブ等、あるいはこれらの混合溶媒に溶解し、ハロゲン
化銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加すること
が出来る。
【００８９】ほかに、特開平2-110453号、同2-191942号
に記載されている固体粒子の分散体として、ハロゲン化
銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加することも
出来る。
に記載されている固体粒子の分散体として、ハロゲン化
銀乳剤層に隣接した親水性コロイド層に添加することも
出来る。
【００９０】本発明に用いられるハロゲン化銀の組成
は、塩化銀を少なくとも70％含有するものである。特に
その組成は、塩化銀、塩臭化銀であることが好ましい。
また該乳剤は、粒子の平均粒径が0.05〜0.3μmであるハ
ロゲン化銀粒子を含有することが好ましい。ハロゲン化
銀粒子は、酸性法、中性法及びアンモニア法のいずれで
得られたものでもよいが、pＨ１〜４の酸性法によるも
のがより好ましい。さらに反応容器内においてアデニ
ン、ベンジルアデニン、アデノシン等で示される核酸分
解物、テトラザインデン化合物或いはメルカプト化合物
等をハロゲン化銀に吸着させ、ハロゲン化銀粒子の溶解
度を低下せしめてハロゲン化銀粒子を作成する方法も本
発明に係る粒子形成のために好ましい態様である。
は、塩化銀を少なくとも70％含有するものである。特に
その組成は、塩化銀、塩臭化銀であることが好ましい。
また該乳剤は、粒子の平均粒径が0.05〜0.3μmであるハ
ロゲン化銀粒子を含有することが好ましい。ハロゲン化
銀粒子は、酸性法、中性法及びアンモニア法のいずれで
得られたものでもよいが、pＨ１〜４の酸性法によるも
のがより好ましい。さらに反応容器内においてアデニ
ン、ベンジルアデニン、アデノシン等で示される核酸分
解物、テトラザインデン化合物或いはメルカプト化合物
等をハロゲン化銀に吸着させ、ハロゲン化銀粒子の溶解
度を低下せしめてハロゲン化銀粒子を作成する方法も本
発明に係る粒子形成のために好ましい態様である。
【００９１】なお本明細書中、ハロゲン化銀粒子の粒径
は、便宜的に同体積の立方晶粒子の稜長で表す。
は、便宜的に同体積の立方晶粒子の稜長で表す。
【００９２】乳剤中にロジウム塩を含有させるために
は、各種の塩を添加させればよいが、たとえば本発明に
使用する水溶性ロジウム塩としては、従来知られている
ものが任意に用いられ、代表的には［Na3RhCl6］、［K3
RhCl6］、塩化ロジウムアミン錯体、ロジウムトリクロ
ライド等が用いられる。
は、各種の塩を添加させればよいが、たとえば本発明に
使用する水溶性ロジウム塩としては、従来知られている
ものが任意に用いられ、代表的には［Na3RhCl6］、［K3
RhCl6］、塩化ロジウムアミン錯体、ロジウムトリクロ
ライド等が用いられる。
【００９３】含有させる水溶性ロジウムの量はハロゲン
化銀１モル当たり10-8〜10-4モルであるがより好ましく
は10-7〜10-5モルである。
化銀１モル当たり10-8〜10-4モルであるがより好ましく
は10-7〜10-5モルである。
【００９４】使用する水溶性ロジウム塩は、一般にはハ
ロゲン化銀の生成時に用いることが特に好ましいが、そ
の後の任意の時期であることもできるし、分割して用い
ることもできる。
ロゲン化銀の生成時に用いることが特に好ましいが、そ
の後の任意の時期であることもできるし、分割して用い
ることもできる。
【００９５】ロジウム塩は上記乳剤に含有されるほか、
この乳剤により形成される乳剤層以外の層、例えばハロ
ゲン化銀乳剤層塗設面側の任意の親水性コロイド層に含
有させることもできる。また分割して、２以上の層に添
加されるのでもよい。
この乳剤により形成される乳剤層以外の層、例えばハロ
ゲン化銀乳剤層塗設面側の任意の親水性コロイド層に含
有させることもできる。また分割して、２以上の層に添
加されるのでもよい。
【００９６】またロジウム塩を使用するときに、他の無
機化合物例えばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コ
バルト塩、金塩などを併用してもよい。
機化合物例えばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コ
バルト塩、金塩などを併用してもよい。
【００９７】上記乳剤中のハロゲン化銀粒子の単分散度
は任意であるが、好ましくは５〜60％、より好ましくは
８〜30％となるよう調製する。
は任意であるが、好ましくは５〜60％、より好ましくは
８〜30％となるよう調製する。
【００９８】ここで単分散度は、上記定義した粒径の標
準偏差を平均粒径で割った値を100倍した数値で表す。
準偏差を平均粒径で割った値を100倍した数値で表す。
【００９９】上記乳剤中のハロゲン化銀として、少なく
とも２層の多層積層構造を有するタイプの粒子を用いる
ことができる。例えばコア部を塩化銀、シェル部を臭化
銀としたもの、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀
とした塩臭化銀粒子を用いることができる。いずれも乳
剤中の塩化銀含有率は50モル％以上であることは必須で
ある。この場合任意の層に沃素を含有させてもよいが、
各層で５モル％以内であることが好ましい。
とも２層の多層積層構造を有するタイプの粒子を用いる
ことができる。例えばコア部を塩化銀、シェル部を臭化
銀としたもの、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀
とした塩臭化銀粒子を用いることができる。いずれも乳
剤中の塩化銀含有率は50モル％以上であることは必須で
ある。この場合任意の層に沃素を含有させてもよいが、
各層で５モル％以内であることが好ましい。
【０１００】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
例えば米国特許2,444,607号、同2,716,862号、同3,512,
982号、西独国出願公告1,189,380号、同2,058,626号、
同2,118,411号、特公昭43-4133号、米国特許3,342,596
号、特公昭47-4417号、西独国出願公告2,149,789号、特
公昭39-2825号、特公昭49-13566号、特公昭50-40665
号、特開昭61-198147号等に記載されている化合物、好
ましくは例えば5,6-トリメチレン-7-ヒドロキシ-s-トリ
アゾロ(1,5-a)ピリジン、5,6-テトラメチレン-7-ヒドロ
キシ-s-トリアゾロ(1,2-a)ピリミジン、5-メチル-7-ヒ
ドロキシ-s-トリアゾロ(1,5-a)ピリミジン、7-ヒドロキ
シ-s-トリアゾロ(1,5-a)ピリミジン、5-メチル-6-プロ
モ-7-ヒドロキシ-s-トリアゾロ(1,5-a)ピリミジン、没
食子酸エステル（例えば没食子酸イソアミル、没食子酸
ドデシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム）、
メルカプタン類（1-フェニル-5-メルカプトテトラゾー
ル、2-メルカプトベンゾチアゾール)、ベンゾトリアゾ
ール類（5-ブロムベンゾトリアゾール、5-メチルベンゾ
トリアゾール）、ベンゾイミダゾール類（6-ニトロベン
ゾイミダゾール）、ジスルフィド類等の４級塩化合物等
を用いて安定化することができる。
例えば米国特許2,444,607号、同2,716,862号、同3,512,
982号、西独国出願公告1,189,380号、同2,058,626号、
同2,118,411号、特公昭43-4133号、米国特許3,342,596
号、特公昭47-4417号、西独国出願公告2,149,789号、特
公昭39-2825号、特公昭49-13566号、特公昭50-40665
号、特開昭61-198147号等に記載されている化合物、好
ましくは例えば5,6-トリメチレン-7-ヒドロキシ-s-トリ
アゾロ(1,5-a)ピリジン、5,6-テトラメチレン-7-ヒドロ
キシ-s-トリアゾロ(1,2-a)ピリミジン、5-メチル-7-ヒ
ドロキシ-s-トリアゾロ(1,5-a)ピリミジン、7-ヒドロキ
シ-s-トリアゾロ(1,5-a)ピリミジン、5-メチル-6-プロ
モ-7-ヒドロキシ-s-トリアゾロ(1,5-a)ピリミジン、没
食子酸エステル（例えば没食子酸イソアミル、没食子酸
ドデシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム）、
メルカプタン類（1-フェニル-5-メルカプトテトラゾー
ル、2-メルカプトベンゾチアゾール)、ベンゾトリアゾ
ール類（5-ブロムベンゾトリアゾール、5-メチルベンゾ
トリアゾール）、ベンゾイミダゾール類（6-ニトロベン
ゾイミダゾール）、ジスルフィド類等の４級塩化合物等
を用いて安定化することができる。
【０１０１】本発明において用いられる親水性コロイ
ド、支持体さらに処理は写真業界で公知の素材及び方法
を用いることができる。
ド、支持体さらに処理は写真業界で公知の素材及び方法
を用いることができる。
【０１０２】現像剤としては、Ｔ.Ｈ.ジェームス著ザ・
セオリィ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第４
版（The Theory of the Photographic Process Fourth
Edition）第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ザ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ（Journal of the Ame
rican Chemical Society）第73巻、第3,100頁（1951）
に記載されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し
得るものである。これらの現像剤は単独で使用しても２
種以上組み合わせてもよいが、２種以上を組み合わせて
用いる方が好ましい。また本発明の感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤としては、例えば亜硫酸ソー
ダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効
果が損なわれることはなく、本発明の１つの特徴として
挙げることができる。
セオリィ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第４
版（The Theory of the Photographic Process Fourth
Edition）第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ザ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ（Journal of the Ame
rican Chemical Society）第73巻、第3,100頁（1951）
に記載されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し
得るものである。これらの現像剤は単独で使用しても２
種以上組み合わせてもよいが、２種以上を組み合わせて
用いる方が好ましい。また本発明の感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤としては、例えば亜硫酸ソー
ダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効
果が損なわれることはなく、本発明の１つの特徴として
挙げることができる。
【０１０３】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが実施態様はこれらに限定されない。
るが実施態様はこれらに限定されない。
【０１０４】実施例−１
試料の調製
pＨ3.0の硝酸酸性雰囲気下で、銀電位（EAg）を170mVに
保持しながら下記〔溶液Ａ〕中に〔溶液Ｂ〕を下記表１
に示す添加流速で添加してEAgを１ＮのNaClで制御して
コントロールドダブルジェット法で混合すると共に、
〔溶液Ｃ〕を添加時間２分迄は〔溶液Ｂ〕と同じ反応温
度、添加流速で添加し、その後は〔溶液Ｂ〕のEAgをIN
のNaClで制御しつつ添加流速の0.99倍の流速で添加し、
表１の本発明のハロゲン化銀乳剤ａ,ｂ,ｃ,ｄ,ｅ及びｆ
を調製した。
保持しながら下記〔溶液Ａ〕中に〔溶液Ｂ〕を下記表１
に示す添加流速で添加してEAgを１ＮのNaClで制御して
コントロールドダブルジェット法で混合すると共に、
〔溶液Ｃ〕を添加時間２分迄は〔溶液Ｂ〕と同じ反応温
度、添加流速で添加し、その後は〔溶液Ｂ〕のEAgをIN
のNaClで制御しつつ添加流速の0.99倍の流速で添加し、
表１の本発明のハロゲン化銀乳剤ａ,ｂ,ｃ,ｄ,ｅ及びｆ
を調製した。
【０１０５】
【表１】
【０１０６】
〔溶液Ａ〕
ゼラチン 5.6g
ポリイソプロピレン-ポリエチレンオキシジコハク酸-
エステルナトリウム塩10％エタノール溶液 0.56ml
塩化ナトリウム 0.12g
ベンジルアデニン 1.00g
濃硝酸 0.43ml
蒸留水 445ml
〔溶液Ｂ〕
硝酸銀 60g
濃硝酸 0.21ml
蒸留水 83.3ml
〔溶液Ｃ〕
ゼラチン 3.0g
ポリイソプロピレン-ポリエチレンオキシジコハク酸-
エステルナトリウム塩10％エタノール溶液 0.3ml
臭化カリウム 4.2g
塩化ナトリウム 18.8g
Na3RhCl5 0.01％水溶液 4.00ml
蒸留水 83.6ml
〔溶液Ｄ〕
ゼラチン 1.4g
ポリイソプロピレン-ポリエチレンオキシジコハク酸-
エステルナトリウム塩10％メタノール溶液 0.14ml
蒸留水 48.8ml
得られた各ハロゲン化銀乳剤のハロゲン化銀平均粒径
を、表１に示した。
を、表１に示した。
【０１０７】尚乳剤No.ｆは、乳剤No.ｃを調製した条件
で、〔溶液Ｃ〕の組成を下記のように変えた〔溶液Ｅ〕
を用いて調製した。
で、〔溶液Ｃ〕の組成を下記のように変えた〔溶液Ｅ〕
を用いて調製した。
【０１０８】
〔溶液Ｅ〕
ゼラチン 3.0g
ポリイソプロピレン-ポリエチレンオキシジコハク酸-
エステルナトリウム塩10％エタノール溶液 0.3ml
臭化カリウム 4.2g
塩化ナトリウム 18.8g
蒸留水 84ml
各ハロゲン化銀粒子の塩化銀含有率は90モル％、ロジ
ウム含有量はハロゲン化銀１モル当たり２×10-6モル、
単分散度は８〜15％であった。
ウム含有量はハロゲン化銀１モル当たり２×10-6モル、
単分散度は８〜15％であった。
【０１０９】EAg値の測定には、金属銀電極と、ダブル
ジャンクション型飽和Ag／AgCl比較電極を用いた。（電
極の構成は、特開昭57-197534号に開示されるダブルジ
ャンクションを使用した。）また〔溶液Ｂ〕、〔溶液
Ｃ〕の添加には、流量可変型のローラーチューブ定量ポ
ンプを用いた。
ジャンクション型飽和Ag／AgCl比較電極を用いた。（電
極の構成は、特開昭57-197534号に開示されるダブルジ
ャンクションを使用した。）また〔溶液Ｂ〕、〔溶液
Ｃ〕の添加には、流量可変型のローラーチューブ定量ポ
ンプを用いた。
【０１１０】また添加中、乳剤のサンプリングにより新
たな粒子の発生が認められないことを電子顕微鏡により
観察し、系内の臨界成長速度をこえる添加量でないこと
を確認している。
たな粒子の発生が認められないことを電子顕微鏡により
観察し、系内の臨界成長速度をこえる添加量でないこと
を確認している。
【０１１１】このようにして調製した乳剤ａ〜ｆに、そ
れぞれ6-メチル-4-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザイン
デンをハロゲン化銀１モル当たり200mg加え、炭酸ナト
リウムでpＨを5.7に調整し、ついで〔溶液Ｄ〕を添加し
た。その後各ハロゲン化銀乳剤を常法に従って水洗、脱
塩し、再分散時に2-メチル-3-オキソイソチアゾール、5
-クロロ-2-メチル-3-オキソイソチアゾール、4,5-ジク
ロロ-2-メチル-3-オキソイソチアゾールの混合物を添加
した。さらに、下記添加剤を加えて乳剤層用塗布液を調
製し、特願平2-226971号の実施例−１によるラテックス
下引き処理を施し、かつ下記の組成のバッキング層及び
バッキング保護層を重層塗布した厚さ１００μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルムに塗布し、表２の試料
No.１〜25を得た。銀付量は、いずれも2.5g/m2であっ
た。
れぞれ6-メチル-4-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザイン
デンをハロゲン化銀１モル当たり200mg加え、炭酸ナト
リウムでpＨを5.7に調整し、ついで〔溶液Ｄ〕を添加し
た。その後各ハロゲン化銀乳剤を常法に従って水洗、脱
塩し、再分散時に2-メチル-3-オキソイソチアゾール、5
-クロロ-2-メチル-3-オキソイソチアゾール、4,5-ジク
ロロ-2-メチル-3-オキソイソチアゾールの混合物を添加
した。さらに、下記添加剤を加えて乳剤層用塗布液を調
製し、特願平2-226971号の実施例−１によるラテックス
下引き処理を施し、かつ下記の組成のバッキング層及び
バッキング保護層を重層塗布した厚さ１００μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルムに塗布し、表２の試料
No.１〜25を得た。銀付量は、いずれも2.5g/m2であっ
た。
【０１１２】
【表２】
【０１１３】尚、乳剤層、乳剤保護層、バッキング層、
バッキング保護層等の各塗布液への添加剤の量は１m2当
たりのmgで示す。
バッキング保護層等の各塗布液への添加剤の量は１m2当
たりのmgで示す。
【０１１４】
［乳剤層用塗布液添加剤］
サポニン 90
本発明の化合物〔Ｉ〕（メタノール５％溶液として添加） 表２に示す
5-フェニル-1-メルカプトテトラゾール 11
アクリル酸エチル-メタクリル酸共重合ラテックス 2
クエン酸 4
スチレン-マレイン酸共重合体 50
(i)-アミル-(n)デシルスルホコハク酸エステルナトリウム塩 5
グリオキザール 35
ホルムアルデヒド 45
［乳剤保護層組成］
ゼラチン 1.14
ジ(2-エチルヘキシル)スルホコハク酸エステルナトリウム塩 12
不定型シリカ 20
塩化ナトリウム 11
本発明の化合物〔Ｉ〕（５％メタノール溶液として添加） 表２に示す
〃 〔II〕（５％水-トリエチルアミン溶液として添加） 〃
〃 〔III〕（５％水溶液として添加） 〃
〃 〔IV〕（１％水溶液として添加） 〃
2-メチル-3-オキソイソチアゾール
5-クロロ-2-メチル-3-オキソイソチアゾール 混合物 0.5
4,5-ジクロロ-2-メチル-3-オキソイソチアゾール
クエン酸 4
シアヌルクロライド 30
［バッキング層］
ブチルアクリレート-スチレン共重合ラテックス 0.5
サポニン ２００
バッキング染料Ａ １００
バッキング染料Ｂ 70
バッキング染料Ｃ 50
オセインゼラチン 2000
【０１１５】
【化１７】
【０１１６】
［バッキング保護層］
ジオクチルスルホコハク酸エステルナトリウム塩 300
マット剤：メタクリル酸メチル（平均粒径4.0μm） 100
オセインゼラチン（等電点4.9） 1100
弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50
［相対感度、保存性及びセーフライト性の評価］相対感
度と保存性は下記の保存条件Ａ，Ｂで保存した試料にお
いてウシオユーテックスK.K.製ＦＦ新明室プリンタータ
イプFA-Qで露光したのち、コニカ(株)製現像液CDM-62
1、定着液CFL-851、自動現像機GR-26を用いて現像条件3
8℃20秒で処理し、濃度3.0を与える露光量の逆数の相対
値で示した。
度と保存性は下記の保存条件Ａ，Ｂで保存した試料にお
いてウシオユーテックスK.K.製ＦＦ新明室プリンタータ
イプFA-Qで露光したのち、コニカ(株)製現像液CDM-62
1、定着液CFL-851、自動現像機GR-26を用いて現像条件3
8℃20秒で処理し、濃度3.0を与える露光量の逆数の相対
値で示した。
【０１１７】保存条件Ａ：23℃、55％RH、２日間
保存条件Ｂ：23℃、55％RH、３時間調湿後、防湿袋中に
密閉し55℃３日間 セーフライト性の評価は、あらかじめ50％の網点原稿が
50％の網点に変換されるように密着露光されたサンプル
をＵＶカットした蛍光灯の300lux光量下で、網点面積が
２％減少するのに要する時間を測定し５段階で評価し
た。
密閉し55℃３日間 セーフライト性の評価は、あらかじめ50％の網点原稿が
50％の網点に変換されるように密着露光されたサンプル
をＵＶカットした蛍光灯の300lux光量下で、網点面積が
２％減少するのに要する時間を測定し５段階で評価し
た。
【０１１８】
時間（分） 段階
０〜10 １
11〜30 ２
31〜40 ３
41〜50 ４
51以上 ５
評価の結果を表３に示す。
【０１１９】
【表３】
【０１２０】表３から、ロジウム塩を含まない乳剤層に
化合物〔Ｉ〕、非感光性親水性コロイド層に化合物〔I
I〕又は化合物〔IV〕を含有させた試料No.２，No.３及
びロジウム塩を含む乳剤層に化合物〔Ｉ〕のみを含有さ
せた試料No.１等の比較試料にくらべて、本発明の試料N
o.４〜No.25は、保存による感度の低下が少なく、セー
フライト耐性にも格段と優れていることが分かる。
化合物〔Ｉ〕、非感光性親水性コロイド層に化合物〔I
I〕又は化合物〔IV〕を含有させた試料No.２，No.３及
びロジウム塩を含む乳剤層に化合物〔Ｉ〕のみを含有さ
せた試料No.１等の比較試料にくらべて、本発明の試料N
o.４〜No.25は、保存による感度の低下が少なく、セー
フライト耐性にも格段と優れていることが分かる。
【０１２１】
【発明の効果】本発明により、高度で、保存による感度
の変動が少なく、明室下で長時間取り扱えるネガ型ハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供できる。
の変動が少なく、明室下で長時間取り扱えるネガ型ハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供できる。
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体上に少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層と、少なくとも１層の非感光性親水性コロイド
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該感光
材料が、塩化銀を少なくとも70モル％、かつロジウム塩
をハロゲン化銀１モル当たり1.0×10-8〜10-4モル含
む、平均粒径0.05〜0.30μmのネガ型非スペクトル増感
ハロゲン化銀粒子を含有する乳剤層を有し、該乳剤層及
び／又は他の親水性コロイド層中に、一般式〔Ｉ〕で表
される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 【化１】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2は各々水素原子、又は置換されていて
もよいアルキル基を表し、Ｒ1とＲ2は互いに結合して５
員環又は６員環を形成してもよい。Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，
Ｒ6，Ｒ7は、各々水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、ホルミ
ル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、ス
ルホンアミド基、ハロゲン原子を表す。Ｒ3とＲ7は、Ｒ
1とＲ7又はＲ2とＲ3が結合して５員環又は６員環を形成
するのに必要な非金属原子群を表す。］ - 【請求項２】 前記乳剤層に隣接した親水性コロイド層
中に、一般式〔II〕で表される化合物及び／又は一般式
〔III〕で表される化合物を少なくとも１種含有するこ
とを特徴とする請求項１記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 【化２】 ［一般式〔II〕において、Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10，Ｒ11は各々
水素原子、カルボキシル基、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、複素環基を表し、Ｘ
1，Ｘ2は酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3
はメチン基を表し、ｎ1は０、１又は２を表す。一般式
〔III〕において、Ｒ12，Ｒ13は各々水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキルカルボニル基、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基、スルホ基、スルホンアミド基、置
換又は無置換のアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ12
とＲ13で環を形成してもよい。Ｙ1とＹ2は各々−O−、
−S−、−Se−、−Te−、−CO−、−SO2−、−N(R14)−
を表し、Ｙ1とＹ2は同一でも異なっていてもよい。Ｌ4
は−CH2CH2−、−C(R15)H−CH2−、−C(R16)H−CH2−、
を表し、Ｌ5は＝CH−、＝C(R17)−を表す。ｎ2は０〜６
の整数を表し、Ｚはヒドロキシル基、カルボキシル基、
スルホ基、アミノ基、アルキルカルボニル基、ハロゲン
原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノスルホニ
ル基、置換又は無置換の、アルキル基又はアリール基を
表す。ｍ1は０〜３の整数を表し、Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16，
Ｒ17は各々アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、トリアルキルシロキシ基、ハロゲン原
子、３級アミノ基を表す。Ｍ1，Ｍ2はアルカリ金属を表
し、Ｍ1とＭ2は同一でも異なっていてもよい。］ - 【請求項３】 前記乳剤層に隣接した親水性コロイド層
中に、一般式〔IV〕で表される化合物を少なくとも１種
含有することを特徴とする請求項１記載のハロゲン化銀
写真感光材料。 【化３】 ［式中、Ｇは水素原子、ハロゲン原子を表し、Ｒ18はハ
メットのδp値が−0.05より小さい一価の基を表す。Ｒ
19は少なくとも１つのスルホン酸基を有するアリール基
を表し、Ｒ20は低級アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロ
キシル基、アルコキシ基を表す。Ｒ21及びＲ22は、それ
ぞれ水素原子、アルキル基を表し、Ｒ21とＲ22は互いに
結合して５員環又は６員環を形成してもよい。Ｌ6，
Ｌ7，Ｌ8はそれぞれメチン基を表し、ｍ2は１，２，３
又は４を表し、ｎ3は１又は２を表す。］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18247991A JPH0527348A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18247991A JPH0527348A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527348A true JPH0527348A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16118996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18247991A Pending JPH0527348A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0527348A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5723272A (en) * | 1995-12-22 | 1998-03-03 | Eastman Kodak Company | Silver halide light-sensitive element |
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1991
- 1991-07-23 JP JP18247991A patent/JPH0527348A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5723272A (en) * | 1995-12-22 | 1998-03-03 | Eastman Kodak Company | Silver halide light-sensitive element |
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