JPH05277128A - 衝撃波治療装置 - Google Patents
衝撃波治療装置Info
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- JPH05277128A JPH05277128A JP4080821A JP8082192A JPH05277128A JP H05277128 A JPH05277128 A JP H05277128A JP 4080821 A JP4080821 A JP 4080821A JP 8082192 A JP8082192 A JP 8082192A JP H05277128 A JPH05277128 A JP H05277128A
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- JP
- Japan
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- applicator
- approach
- shock wave
- pressure
- water
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
- Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被検者の保護ないしアプリケータの保護の観
点で優れた衝撃波治療装置を提供することにある。 【構成】 衝撃波治療装置において、上方アプローチと
下方アプローチとにそれぞれ対応させてアプリケータ1
0内の設定圧力を切換える圧力制御手段50Aを、具備
することを特徴とする。
点で優れた衝撃波治療装置を提供することにある。 【構成】 衝撃波治療装置において、上方アプローチと
下方アプローチとにそれぞれ対応させてアプリケータ1
0内の設定圧力を切換える圧力制御手段50Aを、具備
することを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被検者の体内にある被
破砕物、例えば癌細胞、結石などを衝撃波の集束エネル
ギーで破砕して治療する衝撃波治療装置に関する。
破砕物、例えば癌細胞、結石などを衝撃波の集束エネル
ギーで破砕して治療する衝撃波治療装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にこの種の衝撃波治療装置は、衝撃
波の焦域を形成する衝撃波トランスデューサと、断層像
情報を収集する、超音波トランスデューサと、衝撃波及
び超音波の伝達媒体並びに音響カプラを兼ねる水が注入
されるウォーターバックとを有するアプリケータを備
え、このアプリケータを上下両方よりアプローチするこ
とを可能としている。
波の焦域を形成する衝撃波トランスデューサと、断層像
情報を収集する、超音波トランスデューサと、衝撃波及
び超音波の伝達媒体並びに音響カプラを兼ねる水が注入
されるウォーターバックとを有するアプリケータを備
え、このアプリケータを上下両方よりアプローチするこ
とを可能としている。
【0003】このような衝撃波治療装置を用いて被検者
の体内の結石を破砕する場合には、アプリケータを被検
者に接触させ、衝撃波を結石に集束させることにより結
石の破砕を行うことになるが、対象部位に応じて被検者
に対するアプリケータのアプローチ方向が適切に選択さ
れる。例えば、胆結石の場合は、腹臥位をとる被検者に
対し下方よりアプローチした方が衝撃波焦点の位置合せ
が容易であり、また腎結石の場合には腹臥位をとる被検
者に対し上方からアプローチした方が操作が容易とな
る。
の体内の結石を破砕する場合には、アプリケータを被検
者に接触させ、衝撃波を結石に集束させることにより結
石の破砕を行うことになるが、対象部位に応じて被検者
に対するアプリケータのアプローチ方向が適切に選択さ
れる。例えば、胆結石の場合は、腹臥位をとる被検者に
対し下方よりアプローチした方が衝撃波焦点の位置合せ
が容易であり、また腎結石の場合には腹臥位をとる被検
者に対し上方からアプローチした方が操作が容易とな
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アプリ
ケータを被検者に対し接触させ過ぎると被検者は圧迫感
を強く感じるようになる。逆にその接触が弱過ぎると、
下方アプローチの場合では被検者が体位を保つのに苦痛
を感じるようになることから、アプリケータと被検者と
の接触状態が適切な範囲とることが要求されるものの、
従来においては、その要求を満すための適切な配慮がな
されていなかった。また、アプリケータ内の液量が多過
ぎると、アプリケータに損傷をもたらすおそれが大きく
なるにもかかわらず、従来においては、その過液量を防
止するための配慮がなされていなかった。
ケータを被検者に対し接触させ過ぎると被検者は圧迫感
を強く感じるようになる。逆にその接触が弱過ぎると、
下方アプローチの場合では被検者が体位を保つのに苦痛
を感じるようになることから、アプリケータと被検者と
の接触状態が適切な範囲とることが要求されるものの、
従来においては、その要求を満すための適切な配慮がな
されていなかった。また、アプリケータ内の液量が多過
ぎると、アプリケータに損傷をもたらすおそれが大きく
なるにもかかわらず、従来においては、その過液量を防
止するための配慮がなされていなかった。
【0005】本発明は、上記した事情に着目してなされ
たもので、その目的とするところは、被検者の保護ない
しアプリケータの保護の観点で優れた衝撃波治療装置を
提供することにある。
たもので、その目的とするところは、被検者の保護ない
しアプリケータの保護の観点で優れた衝撃波治療装置を
提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、被検者の被破砕物に対する破砕用衝撃波
の焦域を形成する衝撃波トランスデューサと、被検者の
断層像情報を収集する超音波トランスデューサと、衝撃
波及び超音波の伝達媒体並びに音響カプラを兼ねる液体
が注入されるウォーターバックとを有するアプリケータ
を備え、このアプリケータを被検者に対し上下両方より
アプローチすることを可能とした衝撃波治療装置におい
て、上方アプローチと下方アプローチとにそれぞれ対応
させて設定圧力を切換える圧力切換手段を、具備するこ
とを特徴とする。
達成するため、被検者の被破砕物に対する破砕用衝撃波
の焦域を形成する衝撃波トランスデューサと、被検者の
断層像情報を収集する超音波トランスデューサと、衝撃
波及び超音波の伝達媒体並びに音響カプラを兼ねる液体
が注入されるウォーターバックとを有するアプリケータ
を備え、このアプリケータを被検者に対し上下両方より
アプローチすることを可能とした衝撃波治療装置におい
て、上方アプローチと下方アプローチとにそれぞれ対応
させて設定圧力を切換える圧力切換手段を、具備するこ
とを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明による衝撃波治療装置の構成であれば、
例えば上方アプローチから下方アプローチに切換えた場
合、圧力切換手段がその切換えに対応させてアプリケー
タ内の設定圧力を切換える。従って、アプリケータ内に
加わる圧力を上方アプローチと下方アプローチとにそれ
ぞれ対応させて各別に制御できる。これにより、被検者
及びアプリケータの保護上好都合な圧力制御を容易に行
えるようになる。
例えば上方アプローチから下方アプローチに切換えた場
合、圧力切換手段がその切換えに対応させてアプリケー
タ内の設定圧力を切換える。従って、アプリケータ内に
加わる圧力を上方アプローチと下方アプローチとにそれ
ぞれ対応させて各別に制御できる。これにより、被検者
及びアプリケータの保護上好都合な圧力制御を容易に行
えるようになる。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。図1,図2は本発明の一実施例たる衝撃波治療装置
の構成を示す斜視図である。そして、図1は上方アプロ
ーチの状態を示す図、図2は下方アプローチの状態を示
す図である。
る。図1,図2は本発明の一実施例たる衝撃波治療装置
の構成を示す斜視図である。そして、図1は上方アプロ
ーチの状態を示す図、図2は下方アプローチの状態を示
す図である。
【0009】図1に示すように、本実施例の衝撃波治療
装置は、アプリケータ10と、アプリケータ支持器20
と、衝撃波制御装置30と、断層像イメージング装置4
0と、水制御装置50と、寝台60とからなる。
装置は、アプリケータ10と、アプリケータ支持器20
と、衝撃波制御装置30と、断層像イメージング装置4
0と、水制御装置50と、寝台60とからなる。
【0010】アプリケータ10は、図3に模式的に示す
ように、中央部に穴を設けてなる凹面型衝撃波トランス
デューサ11、蛇腹12、膜13によりウォーターバッ
ク14が構成されている。そして、ウォーターバック1
4は中央部に穴を設けてなるフレーム15に取付けられ
ている。また、ウォーターバック14内には超音波伝搬
物質並びに音響カプラを兼ねる水16が収容されてい
る。さらに、フレーム15及び凹面型衝撃波トランスデ
ューサ11の穴を介して棒体17が密閉体14内に挿入
されている。棒体17の端部には断層像イメージング用
の超音波トランスデューサ18が設けられている。フレ
ーム15にはプローブ駆動機構19が設けられている。
このプローブ駆動機構19は、棒体17をウォーターバ
ック14内で進退動作させる。凹面型衝撃波トランスデ
ューサ11は、複数個の高出力型超音波トランスデュー
サ素子を有する。このこれら高出力型超音波トランスデ
ューサ素子は、フレーム15に、凹面状であり且つ環状
にて配置されている。この配置により、凹面型衝撃波発
生体11から所定距離に衝撃波の焦点を設定し得る。
ように、中央部に穴を設けてなる凹面型衝撃波トランス
デューサ11、蛇腹12、膜13によりウォーターバッ
ク14が構成されている。そして、ウォーターバック1
4は中央部に穴を設けてなるフレーム15に取付けられ
ている。また、ウォーターバック14内には超音波伝搬
物質並びに音響カプラを兼ねる水16が収容されてい
る。さらに、フレーム15及び凹面型衝撃波トランスデ
ューサ11の穴を介して棒体17が密閉体14内に挿入
されている。棒体17の端部には断層像イメージング用
の超音波トランスデューサ18が設けられている。フレ
ーム15にはプローブ駆動機構19が設けられている。
このプローブ駆動機構19は、棒体17をウォーターバ
ック14内で進退動作させる。凹面型衝撃波トランスデ
ューサ11は、複数個の高出力型超音波トランスデュー
サ素子を有する。このこれら高出力型超音波トランスデ
ューサ素子は、フレーム15に、凹面状であり且つ環状
にて配置されている。この配置により、凹面型衝撃波発
生体11から所定距離に衝撃波の焦点を設定し得る。
【0011】アプリケータ支持器20は、アプリケータ
10を支持しつつ、アプリケータ10を水平移動させ
(XY軸移動)、大きく上下移動させ(大Z軸移動)、
小さく上下移動させ(小Z軸移動)、反転移動させ(反
転移動)、傾斜移動させ(傾斜移動)ることができるよ
うになっている。アプリケータ支持器20の詳細は後述
する。
10を支持しつつ、アプリケータ10を水平移動させ
(XY軸移動)、大きく上下移動させ(大Z軸移動)、
小さく上下移動させ(小Z軸移動)、反転移動させ(反
転移動)、傾斜移動させ(傾斜移動)ることができるよ
うになっている。アプリケータ支持器20の詳細は後述
する。
【0012】衝撃波制御装置30は、送受信器31、パ
ルサ32、主制御器33、固定操作卓33、着脱自在操
作卓35、表示器36及び超音波トランスデューサ用位
置制御器37からなる。送受信器31は、凹面型衝撃波
トランスデューサ11に対してパルサ32から与えられ
る大出力パルス又は小出力パルスを選択的に与えること
ができる。大出力パルスは衝撃波を発生するためのもの
である。小出力パルスは衝撃波焦点と結石との一致を確
認するための波形情報を得るためのものである。大出力
パルスと小出力パルスとの発射回数等の統計データは、
表示器36に表示される。超音波トランスデューサ用位
置制御器37は、主制御器33の指令により棒体17を
ウォーターバック14内で進退動作させ、断層イメージ
ンク用プローブ18を密閉体14内の所望の位置に設定
する。着脱自在操作卓35は、図示のようにアプリケー
タ10のフレーム15に着脱自在に設けられる。主制御
器33は、本実施例装置の全体の制御を司る。
ルサ32、主制御器33、固定操作卓33、着脱自在操
作卓35、表示器36及び超音波トランスデューサ用位
置制御器37からなる。送受信器31は、凹面型衝撃波
トランスデューサ11に対してパルサ32から与えられ
る大出力パルス又は小出力パルスを選択的に与えること
ができる。大出力パルスは衝撃波を発生するためのもの
である。小出力パルスは衝撃波焦点と結石との一致を確
認するための波形情報を得るためのものである。大出力
パルスと小出力パルスとの発射回数等の統計データは、
表示器36に表示される。超音波トランスデューサ用位
置制御器37は、主制御器33の指令により棒体17を
ウォーターバック14内で進退動作させ、断層イメージ
ンク用プローブ18を密閉体14内の所望の位置に設定
する。着脱自在操作卓35は、図示のようにアプリケー
タ10のフレーム15に着脱自在に設けられる。主制御
器33は、本実施例装置の全体の制御を司る。
【0013】断層イメージング装置40は、断層イメー
ジング用の超音波トランスデューサ18を含み、Bモー
ド制御装置41と表示器42とからなり、電子セクタ走
査による断層像(Bモード像)を表示器42に表示す
る。
ジング用の超音波トランスデューサ18を含み、Bモー
ド制御装置41と表示器42とからなり、電子セクタ走
査による断層像(Bモード像)を表示器42に表示す
る。
【0014】なお、Bモード制御装置41は、例えば、
操作パネル上に配置された自動モードスイッチ41A
と、マニュアルスイッチ41Bとを備えている。自動モ
ードスイッチ41Aを起動すると、前述のように、アプ
リケータ10が上方のアプローチの状態にあるときに
は、図8に示すように通常の状態でのセクタBモード像
を表示し、アプリケータ10が下方アプローチの状態に
あるときには、図9に示すように反転された状態でのセ
クタBモード像を表示する。マニュアルスイッチ41B
を起動すると、前述のように、アプリケータ10が上方
アプローチの状態にあるときには、その旨をインジケー
タ41Cにて表示し、また、アプリケータ10が下方ア
プローチの状態にあるときにも、その旨をインジケータ
41Cにて表示する。従って、操作者は、例えば、操作
パネル上に配置されたスイッチ41Dを手動にて任意に
選択することにより、図8に示すように通常の状態での
セクタBモード像、或いは、図9に示すように反転され
た状態でのセクタBモード像を表示することができる。
もちろん、マニュアルスイッチ41Bを起動した場合
は、もちろん、上方アプローチの状態又は下方アプロー
チの状態のいずれにあっても、標準状態を変更するため
スイッチ操作を行う必要がないのは、いうまでもない。
操作パネル上に配置された自動モードスイッチ41A
と、マニュアルスイッチ41Bとを備えている。自動モ
ードスイッチ41Aを起動すると、前述のように、アプ
リケータ10が上方のアプローチの状態にあるときに
は、図8に示すように通常の状態でのセクタBモード像
を表示し、アプリケータ10が下方アプローチの状態に
あるときには、図9に示すように反転された状態でのセ
クタBモード像を表示する。マニュアルスイッチ41B
を起動すると、前述のように、アプリケータ10が上方
アプローチの状態にあるときには、その旨をインジケー
タ41Cにて表示し、また、アプリケータ10が下方ア
プローチの状態にあるときにも、その旨をインジケータ
41Cにて表示する。従って、操作者は、例えば、操作
パネル上に配置されたスイッチ41Dを手動にて任意に
選択することにより、図8に示すように通常の状態での
セクタBモード像、或いは、図9に示すように反転され
た状態でのセクタBモード像を表示することができる。
もちろん、マニュアルスイッチ41Bを起動した場合
は、もちろん、上方アプローチの状態又は下方アプロー
チの状態のいずれにあっても、標準状態を変更するため
スイッチ操作を行う必要がないのは、いうまでもない。
【0015】水制御装置50は、アプリケータ10のウ
ォーターバック14内のス水を給排する給排制御機能
と、そのウォーターバック14内の設定圧力を上方アプ
ローチと下方アプローチとにそれぞれ対応させて切換え
る圧力切換手段50Aとしての機能とを併せもつもので
ある。即ち、水制御装置50における給排制御機能によ
る水の給排は、間接的に超音波トランスデューサ18の
ウォーターバック14内における位置設定に寄与するこ
とになるが、この水の給排が上方アプローチ及び下方ア
プローチのいずれの条件時でなされるのかを無視する
と、被検者に対するアプリケータ10の過剰接触やウォ
ーターバック14の破損事故を招来する危険性がある。
そこで、本実施例では、条件変更制御手段50Aの機能
により、上方アプローチと下方アプローチとにそれぞれ
対応させてウォーターバック14内の設定圧力を切換え
るものとしている。例えば、上方アプローチでの操作時
はウォーターバック14内が負圧となるため、図4
(A)に示すような時間軸に対する圧力特性曲線の如
く、被検者に対するアプリケータの非接触時にウォータ
ーバック内の大気圧との差圧が例えば−0.5気圧であ
り、その接触状態に移行すると次第に水圧が上昇し負気
圧が小さな上限設定まで到達し、この上限設定値で飽和
する圧力特性となるようにウォーターバック14内の圧
力を設定するものである。これに対し、下方アプローチ
での操作時には、ウォーターバック14内が正圧となる
ため、図4(B)に示すような時間軸に対する圧力特性
曲線の如く、被検者に対するアプリケータの非接触時に
ウォーターバック内の大気圧との差圧が例えば+0.5
気圧であり、その接触状態に移行すると次第に水圧が上
昇し1気圧程度の上限設定値まで到達し、この上限設定
値で飽和する圧力特性となるようにウォーターバック1
4内の圧力を設定するものである。このようにウォータ
ーバック14内の設定圧力を上方アプローチと下方アプ
ローチとにそれぞれ対応させて切換えるため、本実施例
では図5に示す如く、水制御器50の制御動作で給水系
50B、排水系50Cを駆動し、タンク50Dとアプリ
ケータ10(ウォーターバック14)との間で水が移動
するようにする一方、ウォーターバック14内に圧力セ
ンサ14Aを設けるとともに、タンク50D内に圧力セ
ンサ14Bを設けてなる水回路系を構築しているもので
ある。更に、このように構築してなる水回路系におい
て、ウォーターバック14内に設けた圧力センサ14A
の検出力と、ウォーターバック14内水量との関係を図
示したのが、図7(A),(B)の特性線図である。即
ち、図7(A)のように上方アプローチの場合は、ウォ
ーターバック内水量が増量しても、センサ検如く、水制
御機50の制御動作で給水系50B、排水系50Cを駆
動し、タンク50Dとウォーターバック14との間で水
が移動するようにする一方、ウォーターバック14内に
圧力センサ14Aをまたタンク50D内に圧力センサ1
4Bを設けた水回路系70を構築している。更に、図6
に示す如く、水回路系70を含む圧力制御系80を構築
することによって、操作卓33AでAUTOキーをセッ
トすると、圧力制御系90から主制御器33へ自動でア
プリケータ10を被検者に対して上方アプローチあるい
は下方アプローチする際、アプリケータ10内の設定圧
力を対応させて自動切換えすることができる。また操作
卓33AでMANUALキーをセットすると、手動によ
りアプリケータ10内の設定圧力を切換えることができ
るようになる。なお、アプリケータ10から水回路系7
0へは圧力信号が加わる。アプリケータ支持器20から
アプリケータ10へは回転信号が加わる。アプリケータ
10の回転位置は後述する回転位置検出機構145で検
出され。この検出信号がアプリケータ支持器に加わる。
ォーターバック14内のス水を給排する給排制御機能
と、そのウォーターバック14内の設定圧力を上方アプ
ローチと下方アプローチとにそれぞれ対応させて切換え
る圧力切換手段50Aとしての機能とを併せもつもので
ある。即ち、水制御装置50における給排制御機能によ
る水の給排は、間接的に超音波トランスデューサ18の
ウォーターバック14内における位置設定に寄与するこ
とになるが、この水の給排が上方アプローチ及び下方ア
プローチのいずれの条件時でなされるのかを無視する
と、被検者に対するアプリケータ10の過剰接触やウォ
ーターバック14の破損事故を招来する危険性がある。
そこで、本実施例では、条件変更制御手段50Aの機能
により、上方アプローチと下方アプローチとにそれぞれ
対応させてウォーターバック14内の設定圧力を切換え
るものとしている。例えば、上方アプローチでの操作時
はウォーターバック14内が負圧となるため、図4
(A)に示すような時間軸に対する圧力特性曲線の如
く、被検者に対するアプリケータの非接触時にウォータ
ーバック内の大気圧との差圧が例えば−0.5気圧であ
り、その接触状態に移行すると次第に水圧が上昇し負気
圧が小さな上限設定まで到達し、この上限設定値で飽和
する圧力特性となるようにウォーターバック14内の圧
力を設定するものである。これに対し、下方アプローチ
での操作時には、ウォーターバック14内が正圧となる
ため、図4(B)に示すような時間軸に対する圧力特性
曲線の如く、被検者に対するアプリケータの非接触時に
ウォーターバック内の大気圧との差圧が例えば+0.5
気圧であり、その接触状態に移行すると次第に水圧が上
昇し1気圧程度の上限設定値まで到達し、この上限設定
値で飽和する圧力特性となるようにウォーターバック1
4内の圧力を設定するものである。このようにウォータ
ーバック14内の設定圧力を上方アプローチと下方アプ
ローチとにそれぞれ対応させて切換えるため、本実施例
では図5に示す如く、水制御器50の制御動作で給水系
50B、排水系50Cを駆動し、タンク50Dとアプリ
ケータ10(ウォーターバック14)との間で水が移動
するようにする一方、ウォーターバック14内に圧力セ
ンサ14Aを設けるとともに、タンク50D内に圧力セ
ンサ14Bを設けてなる水回路系を構築しているもので
ある。更に、このように構築してなる水回路系におい
て、ウォーターバック14内に設けた圧力センサ14A
の検出力と、ウォーターバック14内水量との関係を図
示したのが、図7(A),(B)の特性線図である。即
ち、図7(A)のように上方アプローチの場合は、ウォ
ーターバック内水量が増量しても、センサ検如く、水制
御機50の制御動作で給水系50B、排水系50Cを駆
動し、タンク50Dとウォーターバック14との間で水
が移動するようにする一方、ウォーターバック14内に
圧力センサ14Aをまたタンク50D内に圧力センサ1
4Bを設けた水回路系70を構築している。更に、図6
に示す如く、水回路系70を含む圧力制御系80を構築
することによって、操作卓33AでAUTOキーをセッ
トすると、圧力制御系90から主制御器33へ自動でア
プリケータ10を被検者に対して上方アプローチあるい
は下方アプローチする際、アプリケータ10内の設定圧
力を対応させて自動切換えすることができる。また操作
卓33AでMANUALキーをセットすると、手動によ
りアプリケータ10内の設定圧力を切換えることができ
るようになる。なお、アプリケータ10から水回路系7
0へは圧力信号が加わる。アプリケータ支持器20から
アプリケータ10へは回転信号が加わる。アプリケータ
10の回転位置は後述する回転位置検出機構145で検
出され。この検出信号がアプリケータ支持器に加わる。
【0016】また、上記した水回路系70において、ア
プリケータ10(ウォーターバック14)内に設けた圧
力センサ14Aの検出出力とウォーターバック14内水
量との関係を図示したものが。図7(A),(B)の特
性線図である。即ち、図7(A)のように上方アプロー
チの場合は、ウォーターバック内水量が増えても、セン
サ検出圧力は−13(gf/cm2 )で一定であるのに
対して、図7(B)のように下方アプローチの場合に
は、ウォーターバック内水量が増量するほどセンサ検出
圧力が大きくなり、10lの水量のとき+38(gf/
cm2 )であったのが、15lの水量の時+48(gf
/cm2 )にもなる。更に、水量が増量するほどセンサ
検出圧力が大きくなる特性が描ける。そこで、下方アプ
ローチを選択した場合には、ウォーターバック14内の
水量の増減に対応させて図8に示すような時間軸に対す
る圧力特性曲線の如く、特性x1,x2,x3のような
関係となるようにウォーターバック内の設定圧力を切換
えることもできるにするとよい。
プリケータ10(ウォーターバック14)内に設けた圧
力センサ14Aの検出出力とウォーターバック14内水
量との関係を図示したものが。図7(A),(B)の特
性線図である。即ち、図7(A)のように上方アプロー
チの場合は、ウォーターバック内水量が増えても、セン
サ検出圧力は−13(gf/cm2 )で一定であるのに
対して、図7(B)のように下方アプローチの場合に
は、ウォーターバック内水量が増量するほどセンサ検出
圧力が大きくなり、10lの水量のとき+38(gf/
cm2 )であったのが、15lの水量の時+48(gf
/cm2 )にもなる。更に、水量が増量するほどセンサ
検出圧力が大きくなる特性が描ける。そこで、下方アプ
ローチを選択した場合には、ウォーターバック14内の
水量の増減に対応させて図8に示すような時間軸に対す
る圧力特性曲線の如く、特性x1,x2,x3のような
関係となるようにウォーターバック内の設定圧力を切換
えることもできるにするとよい。
【0017】このように、水回路系の中に圧力切換手段
50Aの機能を付加しておくことにより、アプリケータ
10(ウォーターバック14)内に設置された圧力セン
サ14Aにより被検者とアプリケータ10との接触具合
を知り、その程度に応じてアプリケータ10内の水16
の量を適切に調節することを、上方アプローチと下方ア
プローチとにそれぞれ対応させて行える。
50Aの機能を付加しておくことにより、アプリケータ
10(ウォーターバック14)内に設置された圧力セン
サ14Aにより被検者とアプリケータ10との接触具合
を知り、その程度に応じてアプリケータ10内の水16
の量を適切に調節することを、上方アプローチと下方ア
プローチとにそれぞれ対応させて行える。
【0018】寝台60は患者を載置するための天板60
Aを有する。天板60Aは、その中央部に下方アプロー
チの際に利用される開閉自在部60Bを設けている。
Aを有する。天板60Aは、その中央部に下方アプロー
チの際に利用される開閉自在部60Bを設けている。
【0019】以上の如く構成にて、図1に示すように、
アプリケータ10を上方アプローチのための配置に設定
し得、図2に示すように、アプリケータ10を下方アプ
ローチのための配置に設定し得る。この配置転換は、ア
プリケータ支持器20の動作による。また、アプリケー
タ10を上方アプローチのための配置に設定すると、表
示器42には図9に示すように通常のセクタ断層像42
Aが焦点マーカFMと共に表示されアプリケータ10を
下方アプローチのための配置に設定すると、表示器42
には図10に示すように反転されたセクタ断層像42B
が焦点マーカFMと共に表示される。これにより、上方
アプローチ、下方アプローチのいずれにあっても衝撃波
の照射方向、焦点位置、結石位置を知ることができる。
なお、表示器42には文字情報CIを表示することがで
きる。断層像42A,42B中には結石CAの像が現れ
ている。
アプリケータ10を上方アプローチのための配置に設定
し得、図2に示すように、アプリケータ10を下方アプ
ローチのための配置に設定し得る。この配置転換は、ア
プリケータ支持器20の動作による。また、アプリケー
タ10を上方アプローチのための配置に設定すると、表
示器42には図9に示すように通常のセクタ断層像42
Aが焦点マーカFMと共に表示されアプリケータ10を
下方アプローチのための配置に設定すると、表示器42
には図10に示すように反転されたセクタ断層像42B
が焦点マーカFMと共に表示される。これにより、上方
アプローチ、下方アプローチのいずれにあっても衝撃波
の照射方向、焦点位置、結石位置を知ることができる。
なお、表示器42には文字情報CIを表示することがで
きる。断層像42A,42B中には結石CAの像が現れ
ている。
【0020】次にアプリケータ支持器20について説明
する。図11に示すように、床に設置されるベース10
0は、当該ベース100に直交して支柱110設けられ
ている。この支柱110は、図12,図13に示すよう
に、ベース100の内部に設けたXY軸移動機構120
によりX軸方向とY軸方向とに移動することができる。
XY軸移動機構120は、X軸移動機構122の上にY
軸移動機構124を配置している。X軸移動機構122
及びY軸移動機構124は、リードスクリュー機構であ
る。X軸移動機構122は、X軸固定板122Aに回転
可能にスクリュ122Bが設けられている。スクリュ1
22Bは、その端部に設けたモータ122Cにより回転
される。スクリュ122BにはX軸リード122Dが設
けられているから、モータ122Cの駆動により、X軸
リード122DをX軸方向に移動できる。同様に、Y軸
移動機構124は、Y軸固定板124Aに回転可能にス
クリュ124Bが設けられている。スクリュ124B
は、その端部に設けたモータ124Cにより回転され
る。スクリュ124BにはY軸リード124Dが設けら
れているから、モータ124Cの駆動により、Y軸リー
ド124DをX軸方向に移動できる。Y軸固定板124
Aはベース100に固定され、Y軸リード124DにX
軸固定板122Aが固定される。X軸リード122Dは
支柱110に連結されている。従って、支柱110は、
XY軸移動機構120のモータ122C、124Cによ
りX軸方向とY軸方向とに個別に移動することができ
る。
する。図11に示すように、床に設置されるベース10
0は、当該ベース100に直交して支柱110設けられ
ている。この支柱110は、図12,図13に示すよう
に、ベース100の内部に設けたXY軸移動機構120
によりX軸方向とY軸方向とに移動することができる。
XY軸移動機構120は、X軸移動機構122の上にY
軸移動機構124を配置している。X軸移動機構122
及びY軸移動機構124は、リードスクリュー機構であ
る。X軸移動機構122は、X軸固定板122Aに回転
可能にスクリュ122Bが設けられている。スクリュ1
22Bは、その端部に設けたモータ122Cにより回転
される。スクリュ122BにはX軸リード122Dが設
けられているから、モータ122Cの駆動により、X軸
リード122DをX軸方向に移動できる。同様に、Y軸
移動機構124は、Y軸固定板124Aに回転可能にス
クリュ124Bが設けられている。スクリュ124B
は、その端部に設けたモータ124Cにより回転され
る。スクリュ124BにはY軸リード124Dが設けら
れているから、モータ124Cの駆動により、Y軸リー
ド124DをX軸方向に移動できる。Y軸固定板124
Aはベース100に固定され、Y軸リード124DにX
軸固定板122Aが固定される。X軸リード122Dは
支柱110に連結されている。従って、支柱110は、
XY軸移動機構120のモータ122C、124Cによ
りX軸方向とY軸方向とに個別に移動することができ
る。
【0021】支柱110には断面C形状のスライド体1
30がZ軸方向にスライド可能にして設けられている。
支柱110の端部にはスプロケット131が設けられ、
同様に支柱110の端部にはモータ132が設けられて
いる。スプロケット131とモータ132とにチェーン
133が掛け渡されている。従って、モータ132を回
転駆動することにより、スプロケット131は回転駆動
され得る。スプロケット131にはワイヤ134が掛け
渡されている。ワイヤ134の一端はスライド体130
に結ばれ、他端には重り135が吊されている。従っ
て、モータ132を回転駆動することにより、スプロケ
ット131の回転駆動を介して、スライド対130を支
柱130の長手方向の所望の位置に設定できる。これ
は、アプリケータ10を大きくZ軸方向に移動すること
に寄与する。
30がZ軸方向にスライド可能にして設けられている。
支柱110の端部にはスプロケット131が設けられ、
同様に支柱110の端部にはモータ132が設けられて
いる。スプロケット131とモータ132とにチェーン
133が掛け渡されている。従って、モータ132を回
転駆動することにより、スプロケット131は回転駆動
され得る。スプロケット131にはワイヤ134が掛け
渡されている。ワイヤ134の一端はスライド体130
に結ばれ、他端には重り135が吊されている。従っ
て、モータ132を回転駆動することにより、スプロケ
ット131の回転駆動を介して、スライド対130を支
柱130の長手方向の所望の位置に設定できる。これ
は、アプリケータ10を大きくZ軸方向に移動すること
に寄与する。
【0022】スライド体130には回転軸140が設け
られている。回転軸140の一端には、スプロケット1
41が設けられている。回転軸140の他端はC形状ア
ーム150が固定されている。またスライド体130に
はアーム回転機構144が設けられている。アーム回転
機構144は、スプロケット141と、モータ42と、
スプロケット141とモータ142とに掛け渡されたチ
ェーン143とからなる。従って、モータ142を回転
駆動することにより、スライド体130に対してC形状
アーム150を図示のように回転することができる。こ
れにより、アプリケータ10を反転することがてき、上
方アプローチと下方アプローチとを所望にて実現する。
また、上方アプローチの状態と、下方アプローチの状態
とで、表示器42に表示されるBモード像が自動的に反
転する機能を有したものである。すなわち、図13に示
すように、スライド体130内に、回転位置検出機構1
45が設けられている。この回転位置検出機構145
は、回転軸140に設けられた棒146と、この棒14
6の位置を検出する複数のセンサ147とからなる。図
13におけるA−A方向に見た断面図である図14に示
すように、複数の光センサの如きセンサ147(147
A,147B,147C,147D)は、回転軸140
の回転と共に回転する棒146の位置を検出するべく、
棒146が回転する周上に等間隔に配置されている。セ
ンサ147の出力は、図3に示すように、回転位置検出
器149に与えられる。この回転位置検出器149は、
センサ147から与えられる棒146の位置を示す検出
信号に基づき、アプリケータ10が上方アプローチの状
態にあるか、又は、下方アプローチの状態にあるかを判
断する。すなわち、図14に示すように、棒146がセ
ンサ147Aとセンサ147Bとの間である区域148
Aに位置するときには、アプリケータ10が上方アプロ
ーチの状態にあると判定する。棒146がセンサ147
Cとセンサ147Dとの間である区域148Bに位置す
るときには、アプリケータ10が下方アプローチの状態
にあると判定する。なお、区域148A,148B以外
の区域では、ジョイスティック等のポインティングデバ
イスの操作が行われても、アプリケータ10が移動しな
い範囲である。この範囲では、C形状アーム150が傾
いた状態にあるため、アプリケータ10の移動がある
と、被検者にとって危険であり、安全性の観点でアプリ
ケータ10の移動を禁止している。
られている。回転軸140の一端には、スプロケット1
41が設けられている。回転軸140の他端はC形状ア
ーム150が固定されている。またスライド体130に
はアーム回転機構144が設けられている。アーム回転
機構144は、スプロケット141と、モータ42と、
スプロケット141とモータ142とに掛け渡されたチ
ェーン143とからなる。従って、モータ142を回転
駆動することにより、スライド体130に対してC形状
アーム150を図示のように回転することができる。こ
れにより、アプリケータ10を反転することがてき、上
方アプローチと下方アプローチとを所望にて実現する。
また、上方アプローチの状態と、下方アプローチの状態
とで、表示器42に表示されるBモード像が自動的に反
転する機能を有したものである。すなわち、図13に示
すように、スライド体130内に、回転位置検出機構1
45が設けられている。この回転位置検出機構145
は、回転軸140に設けられた棒146と、この棒14
6の位置を検出する複数のセンサ147とからなる。図
13におけるA−A方向に見た断面図である図14に示
すように、複数の光センサの如きセンサ147(147
A,147B,147C,147D)は、回転軸140
の回転と共に回転する棒146の位置を検出するべく、
棒146が回転する周上に等間隔に配置されている。セ
ンサ147の出力は、図3に示すように、回転位置検出
器149に与えられる。この回転位置検出器149は、
センサ147から与えられる棒146の位置を示す検出
信号に基づき、アプリケータ10が上方アプローチの状
態にあるか、又は、下方アプローチの状態にあるかを判
断する。すなわち、図14に示すように、棒146がセ
ンサ147Aとセンサ147Bとの間である区域148
Aに位置するときには、アプリケータ10が上方アプロ
ーチの状態にあると判定する。棒146がセンサ147
Cとセンサ147Dとの間である区域148Bに位置す
るときには、アプリケータ10が下方アプローチの状態
にあると判定する。なお、区域148A,148B以外
の区域では、ジョイスティック等のポインティングデバ
イスの操作が行われても、アプリケータ10が移動しな
い範囲である。この範囲では、C形状アーム150が傾
いた状態にあるため、アプリケータ10の移動がある
と、被検者にとって危険であり、安全性の観点でアプリ
ケータ10の移動を禁止している。
【0023】そして、回転位置検出器149で得られる
アプローチ状態の判断信号は、アプリケータ支持器20
を介して主制御器33に与えられる。主制御器33は、
アプローチ状態の判断信号に基づき、表示器42に表示
されるBモード像の表示状態を設定すべく、Bモード制
御器41に対して指令信号を与える。
アプローチ状態の判断信号は、アプリケータ支持器20
を介して主制御器33に与えられる。主制御器33は、
アプローチ状態の判断信号に基づき、表示器42に表示
されるBモード像の表示状態を設定すべく、Bモード制
御器41に対して指令信号を与える。
【0024】C形状アーム150にはC形状サポート1
60が設けられている。C形状サポート160の両端部
に設けられた軸161がC形状アーム150の両端部に
取り付けられている。これにより、C形状サポート16
0は、C形状アーム150の内部にて回転可能である。
しかし、後述する逆V形状ストッパ184の作用によ
り、回動は阻止され、単に傾斜するだけに抑制されてい
る。C形状サポート160の中間部にはアプリケータ支
持ベース170が設けられている。アプリケータ支持ベ
ース170は、アプリケータ10をスライド可能にして
支持する。アプリケータ支持ベース170はスクリュー
機構171を有する。スクリュー機構171は、スクリ
ュウ172とこのスクリュウ172を回転させるモータ
173とスクリュウ172に設けられたリード174と
からなる。リード174の一端はアプリケータ10に固
定されている。従って、モータ173を回転させること
により、アプリケータ10を小さくZ軸方向に移動する
ことができる。
60が設けられている。C形状サポート160の両端部
に設けられた軸161がC形状アーム150の両端部に
取り付けられている。これにより、C形状サポート16
0は、C形状アーム150の内部にて回転可能である。
しかし、後述する逆V形状ストッパ184の作用によ
り、回動は阻止され、単に傾斜するだけに抑制されてい
る。C形状サポート160の中間部にはアプリケータ支
持ベース170が設けられている。アプリケータ支持ベ
ース170は、アプリケータ10をスライド可能にして
支持する。アプリケータ支持ベース170はスクリュー
機構171を有する。スクリュー機構171は、スクリ
ュウ172とこのスクリュウ172を回転させるモータ
173とスクリュウ172に設けられたリード174と
からなる。リード174の一端はアプリケータ10に固
定されている。従って、モータ173を回転させること
により、アプリケータ10を小さくZ軸方向に移動する
ことができる。
【0025】C形状アーム150の腕部150Aにはリ
ードスクリュウ機構180が設けられている。リードス
クリュウ機構180は、スクリュー181とスクリュー
181を回転させるモータ182とスクリュー181に
より移動させられるリード183と、逆V形状ストッパ
184とからなる。リード183の一端はC形状サポー
ト160に固定されている。逆V形状ストッパ184は
リード183を挟むように配置されている。従って、モ
ータ182を正逆回転することにより、リード183
は、逆V形状ストッパ184を押すから、図15に示す
ように水平状態にあるアプリケータ10を、図16,図
17に示すように、アプリケータ10を傾斜させること
ができる。
ードスクリュウ機構180が設けられている。リードス
クリュウ機構180は、スクリュー181とスクリュー
181を回転させるモータ182とスクリュー181に
より移動させられるリード183と、逆V形状ストッパ
184とからなる。リード183の一端はC形状サポー
ト160に固定されている。逆V形状ストッパ184は
リード183を挟むように配置されている。従って、モ
ータ182を正逆回転することにより、リード183
は、逆V形状ストッパ184を押すから、図15に示す
ように水平状態にあるアプリケータ10を、図16,図
17に示すように、アプリケータ10を傾斜させること
ができる。
【0026】C形状アーム150の腕部150Aにはグ
リップ190が設けられている。このグリップ190は
アプリケータ10を手動にて位置決めしたり、アプリケ
ータ10を手動にて反転したりするのに使うことができ
る。
リップ190が設けられている。このグリップ190は
アプリケータ10を手動にて位置決めしたり、アプリケ
ータ10を手動にて反転したりするのに使うことができ
る。
【0027】なお、本実施例によれば、上方アプローチ
と下方アプローチとを適宜に選択することができ、しか
も断層像にて両者の場合における焦点の位置決めを容易
に行うことができる。よって、図18又は図19に示す
診断態様を実施することができる。図18は患者Pの腎
結石の破砕治療が好適に行える状況を示し、図19は患
者Pの胆結石の破砕治療が好適に行える状況を示してい
る。このように多様な診断態様を実施可能な衝撃治療装
置を提供できる。この場合、寝台60の開閉自在部60
Bを操作することにより、下方アプローチによる治療は
容易となる。そして、上方アプローチと下方アプローチ
との選択は、アプリケータ支持器20がスライド体13
0内のアーム回転機構144を駆動制御することにより
実現される。アプリケータ支持器20は、主制御器33
により指令を受ける。操作者は、固定操作卓34及び着
脱自在操作卓35により主制御器33に指令を与えるこ
とができる。
と下方アプローチとを適宜に選択することができ、しか
も断層像にて両者の場合における焦点の位置決めを容易
に行うことができる。よって、図18又は図19に示す
診断態様を実施することができる。図18は患者Pの腎
結石の破砕治療が好適に行える状況を示し、図19は患
者Pの胆結石の破砕治療が好適に行える状況を示してい
る。このように多様な診断態様を実施可能な衝撃治療装
置を提供できる。この場合、寝台60の開閉自在部60
Bを操作することにより、下方アプローチによる治療は
容易となる。そして、上方アプローチと下方アプローチ
との選択は、アプリケータ支持器20がスライド体13
0内のアーム回転機構144を駆動制御することにより
実現される。アプリケータ支持器20は、主制御器33
により指令を受ける。操作者は、固定操作卓34及び着
脱自在操作卓35により主制御器33に指令を与えるこ
とができる。
【0028】また操作者は、固定操作卓34及び着脱自
在操作卓35により主制御器33に指令を与えることに
より、アプリケータ支持器20を制御できる。従って、
支柱110をXY軸移動制御でき、スライド体130を
大きくZ軸方向に移動でき、アプリケータ10を小さく
Z軸方向に移動でき、アプリケータ10を反転でき、ア
プリケータ10を傾斜させることができる。
在操作卓35により主制御器33に指令を与えることに
より、アプリケータ支持器20を制御できる。従って、
支柱110をXY軸移動制御でき、スライド体130を
大きくZ軸方向に移動でき、アプリケータ10を小さく
Z軸方向に移動でき、アプリケータ10を反転でき、ア
プリケータ10を傾斜させることができる。
【0029】さらに、着脱自在操作卓35は、アプリケ
ータ10から離脱してアプリケータ10から離れた位置
にてリモコンにてアプリケータ10の位置決め操作をす
ることができる。
ータ10から離脱してアプリケータ10から離れた位置
にてリモコンにてアプリケータ10の位置決め操作をす
ることができる。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、上
方アプローチと下方アプローチにそれぞれ対応させてア
プリケータ内の設定圧力を切換えることになるから、ア
プリケータ内に加わる圧力を上方アプローチと下方アプ
ローチとに対応させて各別に制御できる。従って、上方
アプローチ及び下方アプローチのいずれの場合でも被検
者に対するアプリケータの接触が適切となるようにアプ
リケータ内の圧力を制御できる。
方アプローチと下方アプローチにそれぞれ対応させてア
プリケータ内の設定圧力を切換えることになるから、ア
プリケータ内に加わる圧力を上方アプローチと下方アプ
ローチとに対応させて各別に制御できる。従って、上方
アプローチ及び下方アプローチのいずれの場合でも被検
者に対するアプリケータの接触が適切となるようにアプ
リケータ内の圧力を制御できる。
【図1】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置の
構成を示す上方アプローチの状態での斜視図。
構成を示す上方アプローチの状態での斜視図。
【図2】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置の
構成を示す下方アプローチの状態での斜視図。
構成を示す下方アプローチの状態での斜視図。
【図3】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置の
電気回路の構成を示すブロック図。
電気回路の構成を示すブロック図。
【図4】上方アプローチと下方アプローチとにそれぞれ
対応させてアプリケータ内の設定圧力を切換える一例を
説明するために用いた図。
対応させてアプリケータ内の設定圧力を切換える一例を
説明するために用いた図。
【図5】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置の
水回路系の概略を示す図。
水回路系の概略を示す図。
【図6】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置の
圧力制御系の概略を示すブロック図。
圧力制御系の概略を示すブロック図。
【図7】上方アプローチと下方アプーチとの各場合にお
けるアプリケータ内水量と、センサ検出圧力との関係を
示す特性線図。
けるアプリケータ内水量と、センサ検出圧力との関係を
示す特性線図。
【図8】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置で
の下方アプローチの場合のアプリケータ内の設定圧力を
水量に応じて切換える一例を説明するために用いた図。
の下方アプローチの場合のアプリケータ内の設定圧力を
水量に応じて切換える一例を説明するために用いた図。
【図9】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置の
上方アプローチの状態での断層像の表示例を示す図。
上方アプローチの状態での断層像の表示例を示す図。
【図10】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
の下方アプローチの状態での断層像の表示例を示す図。
の下方アプローチの状態での断層像の表示例を示す図。
【図11】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
のアプリケータ及びアプリケータ支持器の上方向から見
た図。
のアプリケータ及びアプリケータ支持器の上方向から見
た図。
【図12】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
のアプリケータ及びアプリケータ支持器の正面方向から
見た図。
のアプリケータ及びアプリケータ支持器の正面方向から
見た図。
【図13】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
のアプリケータ及びアプリケータ支持器の側面方向から
見た図。
のアプリケータ及びアプリケータ支持器の側面方向から
見た図。
【図14】図13におけるA−A方向に沿う断面図。
【図15】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
の傾斜機構による水平状態を示す図。
の傾斜機構による水平状態を示す図。
【図16】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
の傾斜機構による一の傾斜状態を示す図。
の傾斜機構による一の傾斜状態を示す図。
【図17】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
の傾斜機構による他の傾斜状態を示す図。
の傾斜機構による他の傾斜状態を示す図。
【図18】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
の上方アプローチの状態での治療状況を示す図。
の上方アプローチの状態での治療状況を示す図。
【図19】本発明による一実施例に係る衝撃波治療装置
の下方アプローチの状態での治療状況を示す図。
の下方アプローチの状態での治療状況を示す図。
10 アプリケータ 20 アプリケータ支持器 30 衝撃波制御装置 40 断層イメージング装置 50 水制御装置 50A 圧力制御手段
Claims (1)
- 【請求項1】 被検者の被破砕物に対する破砕用衝撃波
の焦域を形成する衝撃波トランスデューサと、被検者の
断層像情報を収集する超音波トランスデューサと、衝撃
波及び超音波の伝達媒体並びに音響カプラを兼ねる液体
が注入されるウォーターバックとを有するアプリケータ
を備え、このアプリケータを被検者に対し上下両方より
アプローチすること可能とした衝撃波治療装置におい
て、上方アプローチと下アプローチとにそれぞれ対応さ
せてアプリケータ内の設定圧力を切換える圧力切換手段
を、具備することを特徴とする衝撃波治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4080821A JPH05277128A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | 衝撃波治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4080821A JPH05277128A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | 衝撃波治療装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05277128A true JPH05277128A (ja) | 1993-10-26 |
Family
ID=13729107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4080821A Pending JPH05277128A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | 衝撃波治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05277128A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011522238A (ja) * | 2008-05-28 | 2011-07-28 | ジーイー センシング アンド インスペクション テクノロジーズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 超音波を用いた物体の非破壊試験の装置及び方法、並びにマトリクス型フェーズド・アレイ・プローブの利用方法 |
-
1992
- 1992-04-02 JP JP4080821A patent/JPH05277128A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011522238A (ja) * | 2008-05-28 | 2011-07-28 | ジーイー センシング アンド インスペクション テクノロジーズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 超音波を用いた物体の非破壊試験の装置及び方法、並びにマトリクス型フェーズド・アレイ・プローブの利用方法 |
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