JPH05286893A - 3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの製造方法及びその中間体 - Google Patents
3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの製造方法及びその中間体Info
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- JPH05286893A JPH05286893A JP11852592A JP11852592A JPH05286893A JP H05286893 A JPH05286893 A JP H05286893A JP 11852592 A JP11852592 A JP 11852592A JP 11852592 A JP11852592 A JP 11852592A JP H05286893 A JPH05286893 A JP H05286893A
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Landscapes
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- Fats And Perfumes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来より工程が少なく、簡便な操作で3−
(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)
−2−プロペン−1−アールを製造する方法を提供す
る。 【構成】 原料化合物である酢酸5,9−ジメチル−
1,3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存在下
閉環させることにより前記化合物を製造する。
(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)
−2−プロペン−1−アールを製造する方法を提供す
る。 【構成】 原料化合物である酢酸5,9−ジメチル−
1,3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存在下
閉環させることにより前記化合物を製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は香料素材として及び他の
香料素材の合成中間体として有用な3−(2,2,6−
トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン
−1−ア−ルの製造方法及びその原料として使用する新
規化合物酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリ
エン−1−イルに関する。
香料素材の合成中間体として有用な3−(2,2,6−
トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン
−1−ア−ルの製造方法及びその原料として使用する新
規化合物酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリ
エン−1−イルに関する。
【0002】
【従来の技術】3−(2,2,6−トリメチルシクロヘ
キサン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルは本発
明者らにより下記の反応経路1により合成され、拡散性
の強いオリス、パチュリ様木香を有する工業的に有用な
香料素材であることが見出され(特開平4−21649
号公報)、又、他の香料素材の合成中間体としても有用
な化合物である(特開平4−21642号公報)。
キサン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルは本発
明者らにより下記の反応経路1により合成され、拡散性
の強いオリス、パチュリ様木香を有する工業的に有用な
香料素材であることが見出され(特開平4−21649
号公報)、又、他の香料素材の合成中間体としても有用
な化合物である(特開平4−21642号公報)。
【0003】反応経路1
【化4】
【0004】(式中、R1 は水素原子又はメチル基を示
し、Acはアセチル基を示し、Etはエチル基を示し、
波線はトランス位及び/又はシス位を示す。)
し、Acはアセチル基を示し、Etはエチル基を示し、
波線はトランス位及び/又はシス位を示す。)
【0005】中間体である光学的に活性な1−〔6
(S)−2,2,6−トリメチルシクロヘキサン〕カル
バルデヒド(10)の合成に関しては、光学活性なシト
ロネラールを原料として用いる方法(特開昭63−44
544号公報)が知られているが、香料であり、又ボウ
フラの幼若フェロモンとしても工業的に多量に使用され
ている光学活性なl−メトキシシトロネラール(8)を
原料として用い、無水酢酸と反応させエノールアセテー
ト(9)とし、化合物(9)を精製する事なくリン酸触
媒で環化反応させる事により容易に高収率で化合物(1
0)を合成する事ができる。
(S)−2,2,6−トリメチルシクロヘキサン〕カル
バルデヒド(10)の合成に関しては、光学活性なシト
ロネラールを原料として用いる方法(特開昭63−44
544号公報)が知られているが、香料であり、又ボウ
フラの幼若フェロモンとしても工業的に多量に使用され
ている光学活性なl−メトキシシトロネラール(8)を
原料として用い、無水酢酸と反応させエノールアセテー
ト(9)とし、化合物(9)を精製する事なくリン酸触
媒で環化反応させる事により容易に高収率で化合物(1
0)を合成する事ができる。
【0006】ここで、化合物(8)のl−ヒドロキシシ
トロネラールはl−シトロネラールの加水反応により、
l−メトキシシトロネラールはl−シトロネラールを酸
触媒の存在下メタノールと反応させることにより得られ
る。
トロネラールはl−シトロネラールの加水反応により、
l−メトキシシトロネラールはl−シトロネラールを酸
触媒の存在下メタノールと反応させることにより得られ
る。
【0007】次に例えばモダンシンセティックアクショ
ン( Herbert O. House edited byW. A. BENJAMIN, IN
C. Menlo Park, California 1972)690ページに
示されているウィッティヒ反応を応用して、化合物(1
0)とホスフォノ酢酸トリエチルエステル(11)と反
応させる事により光学活性な3−〔6(S)−2,2,6
−トリメチルシクロヘキサン−1−イル〕アクリル酸エ
チル(12)を合成することができる。
ン( Herbert O. House edited byW. A. BENJAMIN, IN
C. Menlo Park, California 1972)690ページに
示されているウィッティヒ反応を応用して、化合物(1
0)とホスフォノ酢酸トリエチルエステル(11)と反
応させる事により光学活性な3−〔6(S)−2,2,6
−トリメチルシクロヘキサン−1−イル〕アクリル酸エ
チル(12)を合成することができる。
【0008】化合物(12)を水素化ホウ素ナトリウム
又は水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
ナトリウムを用いて還元し光学活性な3−〔6(S)−
2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル〕−
2−プロペン−1−オール(13)を合成し、化合物
(13)を二酸化マンガンで酸化して光学活性な3−
〔6(S)−2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−
1−イル〕−2−プロペン−1−アール(14)を合成
すことができる。しかし、上記のような方法ではl−シ
トロネラールからの製造行程で6行程を要し工業的に不
利であった。
又は水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
ナトリウムを用いて還元し光学活性な3−〔6(S)−
2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル〕−
2−プロペン−1−オール(13)を合成し、化合物
(13)を二酸化マンガンで酸化して光学活性な3−
〔6(S)−2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−
1−イル〕−2−プロペン−1−アール(14)を合成
すことができる。しかし、上記のような方法ではl−シ
トロネラールからの製造行程で6行程を要し工業的に不
利であった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的は
行程数がより少なく、より簡便な操作で3−(2,2,
6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロ
ペン−1−アールを製造することのできる方法を提供す
ることにある。
行程数がより少なく、より簡便な操作で3−(2,2,
6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロ
ペン−1−アールを製造することのできる方法を提供す
ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような実情におい
て、本発明者らは鋭意研究を行った結果、新規化合物で
ある酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン
−1−イルを酸触媒の存在下閉環させることにより、上
記課題が解決できることを見出し本発明を完成した。
て、本発明者らは鋭意研究を行った結果、新規化合物で
ある酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン
−1−イルを酸触媒の存在下閉環させることにより、上
記課題が解決できることを見出し本発明を完成した。
【0011】すなわち、本発明は式(1)
【化5】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示す)で表される酢酸5,9−ジメチ
ル−1,3,8−デカトリエン−1−イルに関する。
又はトランス位を示す)で表される酢酸5,9−ジメチ
ル−1,3,8−デカトリエン−1−イルに関する。
【0012】又本発明は式(1)
【化6】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示す)で表される酢酸5,9−ジメチ
ル−1,3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存
在下閉環させることを特徴とする式(2)
又はトランス位を示す)で表される酢酸5,9−ジメチ
ル−1,3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存
在下閉環させることを特徴とする式(2)
【化7】 で表される3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルの製造方法
に関する。
ン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルの製造方法
に関する。
【0013】更に本発明は具体的には式(3)
【化8】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示し、*印は光学活性であることを示
す)で表される光学活性酢酸5,9−ジメチル−1,
3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存在下閉環
させることを特徴とする式(4)
又はトランス位を示し、*印は光学活性であることを示
す)で表される光学活性酢酸5,9−ジメチル−1,
3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存在下閉環
させることを特徴とする式(4)
【化9】 (式中、*印は光学活性であることを示す)で表される
光学活性3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン
−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルの製造方法に
関する。
光学活性3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン
−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルの製造方法に
関する。
【0014】更に本発明は具体的には式(5)
【化10】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示す)で表される酢酸(5S)−5,
9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イルを
酸触媒の存在下閉環させることを特徴とする式(6)
又はトランス位を示す)で表される酢酸(5S)−5,
9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イルを
酸触媒の存在下閉環させることを特徴とする式(6)
【化11】 で表される(1R,6S)−3−(2,2,6−トリメ
チルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−
ア−ルの製造方法に関する。
チルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−
ア−ルの製造方法に関する。
【0015】本発明の酢酸5,9−ジメチル−1,3,
8−デカトリエン−1−イル(1)を酸触媒の存在下閉
環させて3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン
−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ル(2)を製造
する閉環反応は下記式で示される。
8−デカトリエン−1−イル(1)を酸触媒の存在下閉
環させて3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン
−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ル(2)を製造
する閉環反応は下記式で示される。
【0016】
【化12】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示す)
又はトランス位を示す)
【0017】出発原料の酢酸5,9−ジメチル−1,
3,8−デカトリエン−1−イル(1)は新規化合物で
あり、次の反応経路2に従って合成することができる。
3,8−デカトリエン−1−イル(1)は新規化合物で
あり、次の反応経路2に従って合成することができる。
【0018】反応経路2
【化13】 (式中、Etはエチル基を示し、DIBALは水素化ジ
イソブチルアルミニウムを示し、Acはアセチル基を示
し、及び波線はシス位及び/又はトランス位を示す)
イソブチルアルミニウムを示し、Acはアセチル基を示
し、及び波線はシス位及び/又はトランス位を示す)
【0019】すなわちモダンシンセティックアクション
( Herbert O. House edited by W.A. BENJAMIN, INC.
Menlo Park, California 1972)690頁に示され
るウィッティヒ反応を応用し、シトロネラール(15)
とホスホノ酢酸トリエチルエステル(9)を水素化ナト
リウム、水素化カリウム等の塩基の存在下、テトラヒド
ロフラン等の有機溶媒中で0〜50℃で、1〜6時間反
応させて、5,9−ジメチル−2,8−デカジエン酸エ
チル(16)を得る。これをDIBAL(水素化ジイソ
ブチルアルミニウム)、水素化ジメトキシエトキシナト
リウムアルミニウム、水素化ナトリウムボロン、水素化
リチウムアルミニウム等の還元剤を用い、トルエン等の
有機溶媒中、−20〜70℃で、1〜10時間反応させ
て、5,9−ジメチル−2,8−デカジエン−1−オー
ル(17)を得る。これと無水酢酸及び、酢酸カリウム
又は酢酸ナトリウム等の酢酸塩を、トリエチルアミン等
の三級アミンの存在下反応させることにより新規化合物
である酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリエ
ン−1−イル(1)を得ることができる。
( Herbert O. House edited by W.A. BENJAMIN, INC.
Menlo Park, California 1972)690頁に示され
るウィッティヒ反応を応用し、シトロネラール(15)
とホスホノ酢酸トリエチルエステル(9)を水素化ナト
リウム、水素化カリウム等の塩基の存在下、テトラヒド
ロフラン等の有機溶媒中で0〜50℃で、1〜6時間反
応させて、5,9−ジメチル−2,8−デカジエン酸エ
チル(16)を得る。これをDIBAL(水素化ジイソ
ブチルアルミニウム)、水素化ジメトキシエトキシナト
リウムアルミニウム、水素化ナトリウムボロン、水素化
リチウムアルミニウム等の還元剤を用い、トルエン等の
有機溶媒中、−20〜70℃で、1〜10時間反応させ
て、5,9−ジメチル−2,8−デカジエン−1−オー
ル(17)を得る。これと無水酢酸及び、酢酸カリウム
又は酢酸ナトリウム等の酢酸塩を、トリエチルアミン等
の三級アミンの存在下反応させることにより新規化合物
である酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリエ
ン−1−イル(1)を得ることができる。
【0020】本発明の式(1)の化合物の閉環反応にお
いて使用する酸触媒としては、リン酸、硫酸、塩酸、ア
ンバーリスト−15、活性白土、塩化アルミニウム、四
塩化スズ、三フッ化ホウ素エチルエーテル等が挙げられ
る。酸触媒の使用量は各触媒により異なるが、例えばリ
ン酸では酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリ
エン−1−イル(1)に対し3重量%以上、好ましくは
10〜30重量%である。
いて使用する酸触媒としては、リン酸、硫酸、塩酸、ア
ンバーリスト−15、活性白土、塩化アルミニウム、四
塩化スズ、三フッ化ホウ素エチルエーテル等が挙げられ
る。酸触媒の使用量は各触媒により異なるが、例えばリ
ン酸では酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリ
エン−1−イル(1)に対し3重量%以上、好ましくは
10〜30重量%である。
【0021】閉環反応を行うに際し、特に溶媒は必要と
しないが、添加剤としてベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素を加えると閉環反応の際に副生成物
として生じるポリマーの生成をおさえることができるの
で好ましい。この芳香族炭化水素の添加量は、酢酸5,
9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イル
(1)に対して30〜500重量%、好ましくは50〜
200重量%である。
しないが、添加剤としてベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素を加えると閉環反応の際に副生成物
として生じるポリマーの生成をおさえることができるの
で好ましい。この芳香族炭化水素の添加量は、酢酸5,
9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イル
(1)に対して30〜500重量%、好ましくは50〜
200重量%である。
【0022】閉環反応は反応温度50〜170℃、好ま
しくは80〜130℃で、反応時間1〜20時間、好ま
しくは3〜8時間で行うことができる。
しくは80〜130℃で、反応時間1〜20時間、好ま
しくは3〜8時間で行うことができる。
【0023】以上のようにして、シトロネラールからの
製造行程で5行程で3−(2,2,6−トリメチルシク
ロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アール
(2)を得ることができる。
製造行程で5行程で3−(2,2,6−トリメチルシク
ロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アール
(2)を得ることができる。
【0024】ここで、出発原料としてd−体又はl−体
の光学活性な酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカ
トリエン−1−イル(3)を用いれば、それぞれd−体
又はl−体の光学活性な3−(2,2,6−トリメチル
シクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アー
ル(4)を得ることができる。
の光学活性な酢酸5,9−ジメチル−1,3,8−デカ
トリエン−1−イル(3)を用いれば、それぞれd−体
又はl−体の光学活性な3−(2,2,6−トリメチル
シクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アー
ル(4)を得ることができる。
【0025】
【化14】 (式中、*印は光学活性であることを示し、Acはアセ
チル基を示し、波線はトランス位及び/又はシス位を示
す)
チル基を示し、波線はトランス位及び/又はシス位を示
す)
【0026】d−体又はl−体の光学活性な酢酸5,9
−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イル
(3)は、反応経路2において出発物質であるシトロネ
ラール(15)の代わりに、それぞれd−シトロネラー
ル又はl−シトロネラールを用いることにより得ること
ができる。
−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イル
(3)は、反応経路2において出発物質であるシトロネ
ラール(15)の代わりに、それぞれd−シトロネラー
ル又はl−シトロネラールを用いることにより得ること
ができる。
【0027】以上のようにして得られる3−(2,2,
6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロ
ペン−1−アールは香料素材として又は他の香料素材の
合成中間体として工業的に有用な化合物である。
6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロ
ペン−1−アールは香料素材として又は他の香料素材の
合成中間体として工業的に有用な化合物である。
【0028】例えば下記の反応式のようにして拡散性の
強いミューゲ様花香を有する3−(2,2,6−トリメ
チルシクロヘキサン−1−イル)プロパナール(19)
及び1−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1
−イル)ヘキサン−3−オールに代表されるアンバー様
香気を有す3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)プロパノール誘導体(20)を合成する
ことができる(特開平4−21642,21649号公
報)。
強いミューゲ様花香を有する3−(2,2,6−トリメ
チルシクロヘキサン−1−イル)プロパナール(19)
及び1−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1
−イル)ヘキサン−3−オールに代表されるアンバー様
香気を有す3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)プロパノール誘導体(20)を合成する
ことができる(特開平4−21642,21649号公
報)。
【0029】
【化15】 (式中、R2 は低級アルキル基を示し、Xはハロゲン原
子を示す)
子を示す)
【0030】すなわち、3−(2,2,6−トリメチル
シクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−
ル(2)をパラジウムカーボン等を触媒として水素添加
することにより、3−(2,2,6−トリメチルシクロ
ヘキサン−1−イル)プロパナール(19)が得られ、
これとR2 MgXで表されるアルキルマグネシウムハラ
イドと反応させることにより容易に3−(2,2,6−
トリメチルシクロヘキサン−1−イル)プロパノール誘
導体(20)が得られる。
シクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−
ル(2)をパラジウムカーボン等を触媒として水素添加
することにより、3−(2,2,6−トリメチルシクロ
ヘキサン−1−イル)プロパナール(19)が得られ、
これとR2 MgXで表されるアルキルマグネシウムハラ
イドと反応させることにより容易に3−(2,2,6−
トリメチルシクロヘキサン−1−イル)プロパノール誘
導体(20)が得られる。
【0031】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。以下に本実施例における分析機器及び分析条件を示
す。
するが本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。以下に本実施例における分析機器及び分析条件を示
す。
【0032】 GC 機器 :HEWLETT PACKARD 5890 カラム: Carbowax 20M 0.2mm×25m 昇温 :80〜220℃、5℃/min NMR 機器 :BRUKER AMX400 GC−MS 機器:日立 M−2000A 日立 M−80B 旋光度 機器 :日本分光 DIP−360 セル :3φ×100mm
【0033】実施例1 本実施例は前記反応経路2による酢酸5,9−ジメチル
−1,3,8−デカトリエン−1−イル(1)の製造例
を示す。 (1)(5S)−5,9−ジメチル−2,8−デカジエ
ン酸エチル(16)の合成:攪拌器、温度計、コンデン
サ−、及び滴下ロ−トを取り付けた2リットルの4口フ
ラスコに窒素雰囲気下、ナトリウムハイドライドデスパ
ージョン〔純度:63%〕34g(1.4モル)及びテ
トラヒドロフラン900gを入れかき交ぜた。次に滴下
ロートより室温にてホスホノ酢酸トリエチルエステル1
57g(0.7モル)を30分にて、反応温度25−2
8℃で滴下した。滴下後30分同温度でかき交ぜた後、
l−シトロネロール〔高砂香料工業社製、光学純度:9
8%ee〔α〕25 D =−14.48°〕100g(0.6
5モル)を25−30℃にて45分間で滴下した。滴下
後1時間かき交ぜ、反応を終了し、ジエチルエーテル2
00g、水250gを加え水洗分液しさらに水250g
にて水洗分液を2回行った後、エバポレーターでジエチ
ルエーテルを除去し粗生成物135gを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ガスクロ
マトグラフィーでの純度99%以上の(5S)−5,9
−ジメチル−2,8−デカジエン酸エチル:78.8g
{〔α〕20 D =+1.44°(C=1.04,CHCl
3 )理論収率:51.6%}を得た。
−1,3,8−デカトリエン−1−イル(1)の製造例
を示す。 (1)(5S)−5,9−ジメチル−2,8−デカジエ
ン酸エチル(16)の合成:攪拌器、温度計、コンデン
サ−、及び滴下ロ−トを取り付けた2リットルの4口フ
ラスコに窒素雰囲気下、ナトリウムハイドライドデスパ
ージョン〔純度:63%〕34g(1.4モル)及びテ
トラヒドロフラン900gを入れかき交ぜた。次に滴下
ロートより室温にてホスホノ酢酸トリエチルエステル1
57g(0.7モル)を30分にて、反応温度25−2
8℃で滴下した。滴下後30分同温度でかき交ぜた後、
l−シトロネロール〔高砂香料工業社製、光学純度:9
8%ee〔α〕25 D =−14.48°〕100g(0.6
5モル)を25−30℃にて45分間で滴下した。滴下
後1時間かき交ぜ、反応を終了し、ジエチルエーテル2
00g、水250gを加え水洗分液しさらに水250g
にて水洗分液を2回行った後、エバポレーターでジエチ
ルエーテルを除去し粗生成物135gを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ガスクロ
マトグラフィーでの純度99%以上の(5S)−5,9
−ジメチル−2,8−デカジエン酸エチル:78.8g
{〔α〕20 D =+1.44°(C=1.04,CHCl
3 )理論収率:51.6%}を得た。
【0034】 IR νmax(cm-1) ; 2975, 2925, 2875, 2860, 1730, 1660, 1460, 1382, 1318, 1270, 1231, 1188, 1160, 1135, 1120, 1100, 1052, 988 1 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.91(d,3H,J=6.7Hz), 1.19(m,1H), 1.29(t,3H,J=7.1Hz), 1.35(m,1H), 1.64(m,7H), 2.02(m,4H), 4.19(q,2H,J=7.1Hz), 5.08(m,1H), 5.81(dt, 1H,J=1.5Hz,J=1.5Hz,J=15.6Hz), 6.94(m,1H) MS(m/z) ; 224(M+,4), 181(7), 163(4), 150(11), 136(31), 121(11), 109(37), 95(41), 81(33), 69(100), 55(31), 41(41), 29(9)
【0035】(2)(5S)−5,9−ジメチル−2,
8−デカジエン−1−オ−ル(17)の合成:攪拌器、
温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた1リットル
の4口フラスコに窒素雰囲気下、(1)で合成した(5
S)−5,9−ジメチル−2,8−デカジエン酸エチル
75g(0.32モル)とトルエン500gを仕込み、
冷却し−70℃とした。次に滴下ロートよりDIBAL
(水素化ジイソブチルアルミニウム1.5モルのトルエ
ン溶液):446ml(0.67モル)を同温度で2時間
で滴下した。滴下終了後同温度で1時間かき交ぜ反応を
終了し、メタノール200mlを同温度で10分で滴下し
過剰のDIBALを分解した。反応液を室温に戻し10
%塩酸水1リットルで水洗分液し、さらに水1リットル
にて2回水洗分液した後、エバポレーターにてトルエン
を除去し粗生成物71.4gを得た。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製し、ガスクロマトグ
ラフィーでの純度99%以上の(5S)−5,9−ジメ
チル−2,8−デカジエン−1−オ−ル46.8g
{〔α〕25 D =−1.30°(C=1.00,CHCl
3 )理論収率:78.7%}を得た。
8−デカジエン−1−オ−ル(17)の合成:攪拌器、
温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた1リットル
の4口フラスコに窒素雰囲気下、(1)で合成した(5
S)−5,9−ジメチル−2,8−デカジエン酸エチル
75g(0.32モル)とトルエン500gを仕込み、
冷却し−70℃とした。次に滴下ロートよりDIBAL
(水素化ジイソブチルアルミニウム1.5モルのトルエ
ン溶液):446ml(0.67モル)を同温度で2時間
で滴下した。滴下終了後同温度で1時間かき交ぜ反応を
終了し、メタノール200mlを同温度で10分で滴下し
過剰のDIBALを分解した。反応液を室温に戻し10
%塩酸水1リットルで水洗分液し、さらに水1リットル
にて2回水洗分液した後、エバポレーターにてトルエン
を除去し粗生成物71.4gを得た。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製し、ガスクロマトグ
ラフィーでの純度99%以上の(5S)−5,9−ジメ
チル−2,8−デカジエン−1−オ−ル46.8g
{〔α〕25 D =−1.30°(C=1.00,CHCl
3 )理論収率:78.7%}を得た。
【0036】 IR νmax(cm-1) ; 3325, 2970, 2920, 2875, 1675, 1460, 1380, 1090, 1010, 975, 830 1 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.88(d,3H,J=6.6Hz), 1.15(m,1H), 1.34(m,1H), 1.50(m,3H), 1.60(s, 3H), 1.68(d,3H,J=1.2Hz), 1.98(m,4H), 4.09(d,2H,J=4.6Hz), 5.09(m, 1H), 5.65(m,2H) MS(m/z) ; 164(M-18,3), 149(8), 124(10), 95(38), 69(100), 55(48), 41(100)
【0037】(3)(5S)−5,9−ジメチル−2,
8−デカジエン−1−ア−ル(18)の合成:攪拌器、
温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた3リットル
の4口フラスコに窒素雰囲気下、塩化オキサリル58.
5g(0.317モル)、塩化メチレン1.2リットル
とを仕込み、冷却し−70℃とした。次にジメチルスル
ホキシド94.5ml(1.1モル)と塩化メチレン30
0mlとの溶液を同温度で20分で滴下し10分間攪拌し
た。次に(2)で合成した(5S)−5,9−ジメチル
−2,8−デカジエン−1−オール45g(0.24モ
ル)の塩化メチレン(1リットル)溶液を同温度で10
時間にて滴下し、さらに2時間攪拌した。さらに同温度
にてトリエチルアミン428ml(5.8モル)を30分
で滴下した後、1.5時間攪拌し反応を終了した。反応
液を−20℃にして水1.3リットルを加え水洗、分液
し、さらに塩化メチレン層を5%塩酸水溶液1.3リッ
トル及び水1.3リットルにて2回水洗、分液した後、
エバポレーターにて塩化メチレンを除去し、粗生成物4
5.2gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ガスクロマトグラフィーでの純度99
%以上の(5S)−5,9−ジメチル−2,8−デカジ
エン−1−ア−ル38.3g{〔α〕25 D =+8.93
°(C=1.03,CDCl3 )理論収率:86.6
%}を得た。
8−デカジエン−1−ア−ル(18)の合成:攪拌器、
温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた3リットル
の4口フラスコに窒素雰囲気下、塩化オキサリル58.
5g(0.317モル)、塩化メチレン1.2リットル
とを仕込み、冷却し−70℃とした。次にジメチルスル
ホキシド94.5ml(1.1モル)と塩化メチレン30
0mlとの溶液を同温度で20分で滴下し10分間攪拌し
た。次に(2)で合成した(5S)−5,9−ジメチル
−2,8−デカジエン−1−オール45g(0.24モ
ル)の塩化メチレン(1リットル)溶液を同温度で10
時間にて滴下し、さらに2時間攪拌した。さらに同温度
にてトリエチルアミン428ml(5.8モル)を30分
で滴下した後、1.5時間攪拌し反応を終了した。反応
液を−20℃にして水1.3リットルを加え水洗、分液
し、さらに塩化メチレン層を5%塩酸水溶液1.3リッ
トル及び水1.3リットルにて2回水洗、分液した後、
エバポレーターにて塩化メチレンを除去し、粗生成物4
5.2gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、ガスクロマトグラフィーでの純度99
%以上の(5S)−5,9−ジメチル−2,8−デカジ
エン−1−ア−ル38.3g{〔α〕25 D =+8.93
°(C=1.03,CDCl3 )理論収率:86.6
%}を得た。
【0038】 IR νmax(cm-1) ; 2975, 2925, 2880, 2860, 2820, 2745, 1700, 1640, 1460, 1382, 1350, 1170, 1150, 1128, 1110, 1095, 1045, 1015, 980, 890, 835 1 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.94(d,3H,J=6.7Hz), 1.25(m,1H), 1.37(m,1H), 1.61(d,3H,J=0.5Hz), 1.70(m,4H), 2.00(m,2H), 2.20(m,1H), 2.36(m,1H), 5.08(m,1H), 6.12 (tq,1H,J=7.8Hz,J=1.4Hz,), 6.83(dt,1H,J=15.6Hz,J=7.4Hz,), 9.52 (d,1H,J=7.9Hz) MS(m/z) ; 180(M+,3), 165(7), 137(14), 109(21), 95(38), 69(62)
【0039】(4)酢酸(5S)−5,9−ジメチル−
1,3,8−デカトリエン−1−イル(1)の合成:攪
拌器、温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた4口
フラスコに無水酢酸(27.3g:0.191モル)、
酢酸カリウム(0.8g:0.008モル)及びトリエ
チルアミン(11.2g:0.11モル)を入れ加熱攪
拌し80℃とした。次に(3)で合成した(5S)−
5,9−ジメチル−2,8−デカジエン−1−アール
(35g:0.19モル)を30分で滴下した。反応熱
で温度は上昇するが100℃に保ち、8時間同温度で反
応したのち、0℃に冷却し、水16g、ヘキサン250
mlを加え、水洗分液した。ヘキサン層にさらに水250
mlを加え、2回水洗分液した。さらにエバポレーターに
てヘキサンを除去し、粗−酢酸(5S)−5,9−ジメ
チル−1,3,8−デカトリエン−1−イル(52.8
g)を得た。これを精製する事なく次の反応に使用し
た。この粗酢酸(5S)−5,9−ジメチル−1,3,
8−デカトリエン−1−イルの1部をガスクロマトグラ
フィーで分取精製し、主成分である(E,E,5S)−
5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イ
ル(19−A)を99%以上の純度で得た。 〔α〕25 D =+25.81°(C=1.12,CHCl
3 ) IR (neat,cm-1) ; 3080, 3030, 2970, 2920, 1760, 1670, 1630, 1460, 1375, 1220, 1100, 980, 905 1 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.99(d,3H,J=6.7Hz), 1.32(dt,2H,J=8.3Hz,J=7.0Hz,), 1.58(s,3H), 1.68(s,3H), 1.94(dt,2H,J=7.2Hz,J=7.0Hz,), 2.13(s,3H), 2.16(m,1H), 5.08(t,1H,J=7.2Hz), 5.56(dd,1H,J=14.6Hz,J=7.9Hz,), 5.96(m,2H), 7.29(d,1H,J=11.8Hz) MS(m/z) ; 222(2,M+), 207(2), 180(27), 147(9), 137(39), 109(24), 97(39), 95(36), 81(24), 69(25), 43(100)
1,3,8−デカトリエン−1−イル(1)の合成:攪
拌器、温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた4口
フラスコに無水酢酸(27.3g:0.191モル)、
酢酸カリウム(0.8g:0.008モル)及びトリエ
チルアミン(11.2g:0.11モル)を入れ加熱攪
拌し80℃とした。次に(3)で合成した(5S)−
5,9−ジメチル−2,8−デカジエン−1−アール
(35g:0.19モル)を30分で滴下した。反応熱
で温度は上昇するが100℃に保ち、8時間同温度で反
応したのち、0℃に冷却し、水16g、ヘキサン250
mlを加え、水洗分液した。ヘキサン層にさらに水250
mlを加え、2回水洗分液した。さらにエバポレーターに
てヘキサンを除去し、粗−酢酸(5S)−5,9−ジメ
チル−1,3,8−デカトリエン−1−イル(52.8
g)を得た。これを精製する事なく次の反応に使用し
た。この粗酢酸(5S)−5,9−ジメチル−1,3,
8−デカトリエン−1−イルの1部をガスクロマトグラ
フィーで分取精製し、主成分である(E,E,5S)−
5,9−ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イ
ル(19−A)を99%以上の純度で得た。 〔α〕25 D =+25.81°(C=1.12,CHCl
3 ) IR (neat,cm-1) ; 3080, 3030, 2970, 2920, 1760, 1670, 1630, 1460, 1375, 1220, 1100, 980, 905 1 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.99(d,3H,J=6.7Hz), 1.32(dt,2H,J=8.3Hz,J=7.0Hz,), 1.58(s,3H), 1.68(s,3H), 1.94(dt,2H,J=7.2Hz,J=7.0Hz,), 2.13(s,3H), 2.16(m,1H), 5.08(t,1H,J=7.2Hz), 5.56(dd,1H,J=14.6Hz,J=7.9Hz,), 5.96(m,2H), 7.29(d,1H,J=11.8Hz) MS(m/z) ; 222(2,M+), 207(2), 180(27), 147(9), 137(39), 109(24), 97(39), 95(36), 81(24), 69(25), 43(100)
【0040】また、粗酢酸(5S)−5,9−ジメチル
−1,3,8−デカトリエン−1−イルには、1位及び
3位の二重結合があるため各トランス、シスの異性体を
含み、上記(19−A)を含めて下記に示す4種類の異
性体があり、これらのデータについて示すが、その帰属
については行わなかった。
−1,3,8−デカトリエン−1−イルには、1位及び
3位の二重結合があるため各トランス、シスの異性体を
含み、上記(19−A)を含めて下記に示す4種類の異
性体があり、これらのデータについて示すが、その帰属
については行わなかった。
【0041】
【化16】 ガスクスマトグラフィー組成比:(19−A)=39
%、(19−B)=26%、(19−C)=22%、
(19−D)=13%
%、(19−B)=26%、(19−C)=22%、
(19−D)=13%
【0042】 (19−B) MS(m/z) ; 180(23), 147(7), 137(34), 109(28), 97(28), 95(27), 81(22), 69(23), 43(100) (19−C) MS(m/z) ; 222(2,M+), 180(31), 147(5), 137(37), 109(22), 97(32), 95(33), 81(25), 69(26), 43(100) (19−D) MS(m/z) ; 222(2,M+), 180(31), 147(6), 137(41), 109(25), 97(26), 95(27), 81(25), 69(24), 43(100)
【0043】実施例2 (6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの合成:攪
拌器、温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた30
0mlの4口フラスコに、実施例1の(4)で合成した粗
酢酸(5S)−5,9−ジメチル−1,3,8−デカト
リエン−1−イル(52g)、トルエン60mlをいれ、
加熱し90℃とした。次に85%リン酸10.4gを同
温度にて10分間で滴下し、さらに6時間100℃にて
反応した。反応液を冷却した後、水100ml、ジエチル
エーテル200mlを加え水洗分液し、有機層をさらに水
200ml、5%ソーダ灰水溶液200ml及び飽和食塩水
200mlにて水洗分液した。有機層をエバポレーターに
てジエチルエーテルを除去し、粗(6S)−3−(2,
2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−
プロペン−1−アール(31g)を得た。得られた濃縮
油(31g)を20cmヘリパック蒸留器にて、精密蒸留
し、(6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘ
キサン−1−イル)−2−プロペン−1−アール(1
8.4g)を得た。実施例1の(3)で得た(5S)−
5,9−ジメチル−2,8−デカジエン−1−アールか
らの理論収率は52.8%であった。 b.p. 89.7〜91.0℃(0.9mmHg) 〔α〕25 D =+46.2°(C=1.04,CHC
l3 )
ン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの合成:攪
拌器、温度計、滴下ロ−ト、コンデンサ−のついた30
0mlの4口フラスコに、実施例1の(4)で合成した粗
酢酸(5S)−5,9−ジメチル−1,3,8−デカト
リエン−1−イル(52g)、トルエン60mlをいれ、
加熱し90℃とした。次に85%リン酸10.4gを同
温度にて10分間で滴下し、さらに6時間100℃にて
反応した。反応液を冷却した後、水100ml、ジエチル
エーテル200mlを加え水洗分液し、有機層をさらに水
200ml、5%ソーダ灰水溶液200ml及び飽和食塩水
200mlにて水洗分液した。有機層をエバポレーターに
てジエチルエーテルを除去し、粗(6S)−3−(2,
2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−
プロペン−1−アール(31g)を得た。得られた濃縮
油(31g)を20cmヘリパック蒸留器にて、精密蒸留
し、(6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘ
キサン−1−イル)−2−プロペン−1−アール(1
8.4g)を得た。実施例1の(3)で得た(5S)−
5,9−ジメチル−2,8−デカジエン−1−アールか
らの理論収率は52.8%であった。 b.p. 89.7〜91.0℃(0.9mmHg) 〔α〕25 D =+46.2°(C=1.04,CHC
l3 )
【0044】下記の式で示すトランス体及びシス体のガ
スクロマトグラフィ−での純度 トランス体(1R,6S)−体 90.6% シス体 (1S,6S)−体 9.4%
スクロマトグラフィ−での純度 トランス体(1R,6S)−体 90.6% シス体 (1S,6S)−体 9.4%
【0045】
【化17】 以下、トランス体及びシス体それぞれのデータを示す
が、トランス体に関しては、ガスクロマトグラフィ−で
精製した純度99%以上のものをサンプルとして使用し
た。
が、トランス体に関しては、ガスクロマトグラフィ−で
精製した純度99%以上のものをサンプルとして使用し
た。
【0046】 トランス体(1R,6S)−体 IR νmax(cm-1) ; 2960, 2940, 2875, 2860, 2820, 2710, 1700, 1640, 1460, 1395, 1380, 1375, 1330, 1305, 1285, 1250, 1225, 1210, 1175, 1160, 1140, 1120, 1100, 1070, 10501 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.76(d,3H,J=2.4Hz), 0.84(s,3H), 0.91(s,3H), 1.22〜1.71(8H), 6.08 (dd,1H,J=15.5Hz,J=8.0Hz), 6.61(q,1H,J=15.5Hz,J=10.1Hz), 9.52(d, 1H,J=8.0Hz) MS(m/z) ; 180(M+,13), 165(11), 147(6), 137(43), 123(31), 109(41), 95(100), 81(72), 69(35), 55(30), 41(24)
【0047】 シス体(1S,6S)−体 MS(m/z) ; 180(M+,11), 165(11), 147(4), 137(43), 123(33), 109(31), 95(100), 81(51), 69(26), 55(26), 41(20)
【0048】参考例1 (6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)プロパナールの合成;実施例2で合成し
た(6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキ
サン−1−イル)−2−プロペン−1−アール18gを
エタノール200mlに加え、5%パラジウム炭素1gを
触媒として室温にて常圧水添を行った。反応後、触媒を
ろ過した後、エバポレーターにてエタノールを除去し、
粗(6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキ
サン−1−イル)プロパナール19gを得た。このもの
を10cmヘリパック充填蒸留器で精密蒸留して、(6
S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−
1−イル)プロパナールを14g(理論収率77%)得
た。 b.p. 93〜94℃(1.1mmHg) 〔α〕25 D =+11.80°(C=1.08,エタノー
ル)
ン−1−イル)プロパナールの合成;実施例2で合成し
た(6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキ
サン−1−イル)−2−プロペン−1−アール18gを
エタノール200mlに加え、5%パラジウム炭素1gを
触媒として室温にて常圧水添を行った。反応後、触媒を
ろ過した後、エバポレーターにてエタノールを除去し、
粗(6S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキ
サン−1−イル)プロパナール19gを得た。このもの
を10cmヘリパック充填蒸留器で精密蒸留して、(6
S)−3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−
1−イル)プロパナールを14g(理論収率77%)得
た。 b.p. 93〜94℃(1.1mmHg) 〔α〕25 D =+11.80°(C=1.08,エタノー
ル)
【0049】ガスクロマトグラフィ−での純度 トランス体(1R,6S)−体 95.1% シス体 (1S,6S)−体 4.9%
【0050】
【化18】 以下、トランス体及びシス体それぞれのデータを示す
が、トランス体に関しては、ガスクロマトグラフィ−で
精製した純度99%以上のものをサンプルとして使用し
た。
が、トランス体に関しては、ガスクロマトグラフィ−で
精製した純度99%以上のものをサンプルとして使用し
た。
【0051】 トランス体(1R,6S)−体 IR νmax(cm-1) ; 2920, 2890, 2849, 17201 H-NMR(400MHz, CDCl3,δ) ; 0.80(d,3H,J=4.3Hz), 0.90(6H), 0.92〜1.78(8H), 2.27〜2.53(4H), 9.74(t,1H,J=1.9Hz) MS(m/z) ; 182(M+,8), 167(12), 149(16), 138(17), 123(13), 109(35), 95(17), 82(70), 69(100), 55(48), 41(20)
【0052】 シス体(1S,6S)−体 MS(m/z) ; 182(M+,4), 167(7), 149(16), 138(52), 123(68), 109(41), 95(76), 82(98), 69(100), 55(52), 41(18), 29(41)
【0053】
【発明の効果】本発明により中間体として酢酸5,9−
ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イルの開発
に伴い香料素材として及び他の香料素材の合成中間体と
して有用な3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)−2−プロペン−1−アールを従来より
も少ない製造行程で安価に得ることが達成される。
ジメチル−1,3,8−デカトリエン−1−イルの開発
に伴い香料素材として及び他の香料素材の合成中間体と
して有用な3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)−2−プロペン−1−アールを従来より
も少ない製造行程で安価に得ることが達成される。
Claims (2)
- 【請求項1】 式(1) 【化1】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示す)で表される酢酸5,9−ジメチ
ル−1,3,8−デカトリエン−1−イル。 - 【請求項2】 式(1) 【化2】 (式中、Acはアセチル基を示し、波線はシス位及び/
又はトランス位を示す)で表される酢酸5,9−ジメチ
ル−1,3,8−デカトリエン−1−イルを酸触媒の存
在下閉環させることを特徴とする式(2) 【化3】 で表される3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサ
ン−1−イル)−2−プロペン−1−ア−ルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11852592A JP3171919B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの製造方法及びその中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11852592A JP3171919B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの製造方法及びその中間体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05286893A true JPH05286893A (ja) | 1993-11-02 |
| JP3171919B2 JP3171919B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=14738769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11852592A Expired - Fee Related JP3171919B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 3−(2,2,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)−2−プロペン−1−アールの製造方法及びその中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3171919B2 (ja) |
-
1992
- 1992-04-13 JP JP11852592A patent/JP3171919B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3171919B2 (ja) | 2001-06-04 |
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