JPH05290330A - 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド - Google Patents
耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH05290330A JPH05290330A JP4081897A JP8189792A JPH05290330A JP H05290330 A JPH05290330 A JP H05290330A JP 4081897 A JP4081897 A JP 4081897A JP 8189792 A JP8189792 A JP 8189792A JP H05290330 A JPH05290330 A JP H05290330A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- magnetic
- corrosion
- magnetic film
- resistant magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
- H01F41/183—Sputtering targets therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲなどに用い
られる磁気ヘッドや磁気ヘッドのコア材に適した低磁
歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を有し、しかも
耐食性に優れた強磁性膜を形成するためのスパッタ用タ
ーゲットに関する。 【構成】（Ｆｅ，Ｃｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）系合金（但し、Ｍ
はＨｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれ
る少なくとも一種以上の元素、Ｃは炭素、Ｎは窒素）に
ＣｒとＲｈおよび／あるいはＲｕを同時に添加した強磁
性膜を形成するためのスパッタ用ターゲット。 【効果】本発明のターゲットを用いることにより、低磁
歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を有し、しかも
優れた耐食性を有する強磁性膜が得られた。また、本発
明のターゲットを用いて形成した強磁性膜をコア材に用
いた磁気ヘッドでは再生出力が高く、しかも長時間安定
な再生出力が得られた。
られる磁気ヘッドや磁気ヘッドのコア材に適した低磁
歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を有し、しかも
耐食性に優れた強磁性膜を形成するためのスパッタ用タ
ーゲットに関する。 【構成】（Ｆｅ，Ｃｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）系合金（但し、Ｍ
はＨｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれ
る少なくとも一種以上の元素、Ｃは炭素、Ｎは窒素）に
ＣｒとＲｈおよび／あるいはＲｕを同時に添加した強磁
性膜を形成するためのスパッタ用ターゲット。 【効果】本発明のターゲットを用いることにより、低磁
歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を有し、しかも
優れた耐食性を有する強磁性膜が得られた。また、本発
明のターゲットを用いて形成した強磁性膜をコア材に用
いた磁気ヘッドでは再生出力が高く、しかも長時間安定
な再生出力が得られた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高飽和磁束密度、高透磁
率、高耐熱性でしかも耐食性に優れた磁性膜を形成する
ためのターゲットに関し、特に磁気ディスク装置やデジ
タルＶＴＲなどに用いられる磁気ヘッドや磁気ヘッドの
コア材に適した強磁性金属膜を形成するためのターゲッ
トに関する。
率、高耐熱性でしかも耐食性に優れた磁性膜を形成する
ためのターゲットに関し、特に磁気ディスク装置やデジ
タルＶＴＲなどに用いられる磁気ヘッドや磁気ヘッドの
コア材に適した強磁性金属膜を形成するためのターゲッ
トに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化に伴い、高保磁力媒
体にも充分な書き込みが可能な Metalin Gap ヘッドが
注目されている。しかし、Metal in Gap ヘッドはガラ
スボンディングという高温プロセスを必要とするため、
熱安定性の高い磁性膜が要求される。Metal in Gap ヘ
ッドに用いられる比較的熱安定性の高い磁性膜としては
Ｃｏ系の非晶質合金、センダスト合金さらには特開平３
−２０４４４に示されたＦｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）Ｃで表されるような炭素や窒素を
比較的多量に含む磁性合金などが知られている。
体にも充分な書き込みが可能な Metalin Gap ヘッドが
注目されている。しかし、Metal in Gap ヘッドはガラ
スボンディングという高温プロセスを必要とするため、
熱安定性の高い磁性膜が要求される。Metal in Gap ヘ
ッドに用いられる比較的熱安定性の高い磁性膜としては
Ｃｏ系の非晶質合金、センダスト合金さらには特開平３
−２０４４４に示されたＦｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）Ｃで表されるような炭素や窒素を
比較的多量に含む磁性合金などが知られている。
【０００３】これ等の磁性膜について恒温恒湿試験や塩
水噴霧試験により膜の耐食性を評価した結果、Ｃｏ系の
非晶質合金およびセンダスト合金では比較的優れた耐食
性を示すが、良好な軟磁気特性を示す組成での飽和磁束
密度は１．１〜１．３Ｔと比較的低い。これに対し、
（Ｆｅ，Ｃｏ）（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍ
ｏ，Ｗ）（Ｃ，Ｎ）で表されるような炭素や窒素を比較
的多量に含む磁性合金では良好な軟磁気特性を示す組成
での飽和磁束密度が１．３〜１．６Ｔと高いにもかかわ
らず、耐食性に問題があり、磁気ヘッド作製プロセス中
に腐食したりあるいは長期にわたり記録再生試験を行う
と再生出力が低下する等、膜の腐食に関連する問題が生
ずることが明らかとなった。
水噴霧試験により膜の耐食性を評価した結果、Ｃｏ系の
非晶質合金およびセンダスト合金では比較的優れた耐食
性を示すが、良好な軟磁気特性を示す組成での飽和磁束
密度は１．１〜１．３Ｔと比較的低い。これに対し、
（Ｆｅ，Ｃｏ）（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍ
ｏ，Ｗ）（Ｃ，Ｎ）で表されるような炭素や窒素を比較
的多量に含む磁性合金では良好な軟磁気特性を示す組成
での飽和磁束密度が１．３〜１．６Ｔと高いにもかかわ
らず、耐食性に問題があり、磁気ヘッド作製プロセス中
に腐食したりあるいは長期にわたり記録再生試験を行う
と再生出力が低下する等、膜の腐食に関連する問題が生
ずることが明らかとなった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】比較的高い飽和磁束密
度を示す上記（Ｆｅ，Ｃｏ）（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）（Ｃ，Ｎ）膜の耐食性向上を目的
に、従来から耐食性向上に効果があるといわれている元
素（Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕ）を添加し耐食性を調べた。その
結果、いずれの元素も耐食性向上には効果があり、特に
Ｃｒは耐食性ばかりでなく膜の軟磁気特性をも改善する
効果があることが分かった。しかし、Ｃｏに比べて耐食
性の劣るＦｅ系の合金膜においては、いずれの元素も耐
食性を向上させるために添加量を増やすと磁歪は正側に
増加し、良好な耐食性が得られる組成では磁歪が２０×
１０~7以上と大きくなり低磁歪の膜が得られなかった。
度を示す上記（Ｆｅ，Ｃｏ）（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）（Ｃ，Ｎ）膜の耐食性向上を目的
に、従来から耐食性向上に効果があるといわれている元
素（Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕ）を添加し耐食性を調べた。その
結果、いずれの元素も耐食性向上には効果があり、特に
Ｃｒは耐食性ばかりでなく膜の軟磁気特性をも改善する
効果があることが分かった。しかし、Ｃｏに比べて耐食
性の劣るＦｅ系の合金膜においては、いずれの元素も耐
食性を向上させるために添加量を増やすと磁歪は正側に
増加し、良好な耐食性が得られる組成では磁歪が２０×
１０~7以上と大きくなり低磁歪の膜が得られなかった。
【０００５】本発明の目的は、膜の耐食性がセンダスト
合金なみに優れ、しかも低磁歪でセンダスト合金よりも
高い飽和磁束密度を有する磁性膜を形成するための耐食
性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いて形成した磁性
膜を用いた高密度磁気記録用の磁気ヘッドを提供するこ
とにある。
合金なみに優れ、しかも低磁歪でセンダスト合金よりも
高い飽和磁束密度を有する磁性膜を形成するための耐食
性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いて形成した磁性
膜を用いた高密度磁気記録用の磁気ヘッドを提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は（Ｆｅ，Ｃ
ｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）合金（但し、ＭはIVａ，Vａ，VIａ族
より選ばれる元素、Ｃは炭素、Ｎは窒素）に種々の元素
を添加し、低磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも比
較的良好な耐食性を示す磁性膜を形成するのに必要なタ
ーゲット組成について検討した。その結果、ＭとしてＨ
ｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれる少
なくとも一種以上の元素に、さらに（Ｃｒ＋Ｒｈ）、
（Ｃｒ＋Ｒｕ）、（Ｃｒ＋Ｒｈ＋Ｒｕ）の内のいずれか
一つを適量加えたターゲットを用いて形成した磁性膜で
は低磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも優れた耐食
性も示すことが分かった。
ｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）合金（但し、ＭはIVａ，Vａ，VIａ族
より選ばれる元素、Ｃは炭素、Ｎは窒素）に種々の元素
を添加し、低磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも比
較的良好な耐食性を示す磁性膜を形成するのに必要なタ
ーゲット組成について検討した。その結果、ＭとしてＨ
ｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれる少
なくとも一種以上の元素に、さらに（Ｃｒ＋Ｒｈ）、
（Ｃｒ＋Ｒｕ）、（Ｃｒ＋Ｒｈ＋Ｒｕ）の内のいずれか
一つを適量加えたターゲットを用いて形成した磁性膜で
は低磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも優れた耐食
性も示すことが分かった。
【０００７】また、本発明のターゲットを用いて形成し
た磁性膜を磁気ヘッドの磁気回路の少なくとも一部に用
いることにより、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッ
ドを得ることができた。
た磁性膜を磁気ヘッドの磁気回路の少なくとも一部に用
いることにより、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッ
ドを得ることができた。
【０００８】
【作用】上述の（Ｆｅ，Ｃｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）合金では、
Ｍ元素は熱処理により炭化物や窒化物となり、主にＦｅ
やＣｏの結晶粒界に析出してＦｅやＣｏの結晶粒成長を
抑制し、膜の耐熱性向上に寄与する。Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕ
より選ばれた元素は単独で膜の耐食性向上に効果がある
ことが知られていたが、特にＦｅ系の合金膜においては
良好な耐食性を示す組成では低磁歪の膜が得られなかっ
た。各種元素を組合せたターゲットを作製し、検討した
結果、上記（Ｆｅ，Ｃｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）系合金にＣｒと
Ｒｈ、ＣｒとＲｕ、ＣｒとＲｈとＲｕからなる組合せの
元素を添加したターゲットを用いて作製した膜では、耐
食性がセンダスト合金なみに優れ、低磁歪で良好な軟磁
気特性を示す膜を得ることができた。
Ｍ元素は熱処理により炭化物や窒化物となり、主にＦｅ
やＣｏの結晶粒界に析出してＦｅやＣｏの結晶粒成長を
抑制し、膜の耐熱性向上に寄与する。Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕ
より選ばれた元素は単独で膜の耐食性向上に効果がある
ことが知られていたが、特にＦｅ系の合金膜においては
良好な耐食性を示す組成では低磁歪の膜が得られなかっ
た。各種元素を組合せたターゲットを作製し、検討した
結果、上記（Ｆｅ，Ｃｏ）Ｍ（Ｃ，Ｎ）系合金にＣｒと
Ｒｈ、ＣｒとＲｕ、ＣｒとＲｈとＲｕからなる組合せの
元素を添加したターゲットを用いて作製した膜では、耐
食性がセンダスト合金なみに優れ、低磁歪で良好な軟磁
気特性を示す膜を得ることができた。
【０００９】上記特性とともに膜の飽和磁束密度がセン
ダスト合金と同等あるいはそれ以上となるターゲット組
成について検討した結果、ＦｅあるいはＣｏを主成分と
し、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ば
れる元素のターゲット中での総濃度が０．４から２０ａ
ｔ％、Ｃ，Ｎより選ばれる元素の総濃度が０．６から２
０ａｔ％、Ｒｈおよび／あるいはＲｕの総濃度が０．１
から１０ａｔ％、さらにＣｒ濃度が０．５から１０ａｔ
％であることが明らかとなった。上記組成値はスパッタ
ガスに純Ａｒを用いた場合の値であり、スパッタガスと
してＡｒ＋Ｎ2、Ａｒ＋Ｏ2、Ａｒ＋ＣＨ4等の上記IVａ
〜VIａ族元素（Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔ
ｉ）とも比較的低温（３００〜６００℃）で反応しやす
いガス種を用いた場合には最適組成値が変化した。また
チップをターゲット上に置くあるいは貼付て用いるいわ
ゆる貼り付けターゲットの場合はチップの数、形状、配
置等に充分注意する必要がある。
ダスト合金と同等あるいはそれ以上となるターゲット組
成について検討した結果、ＦｅあるいはＣｏを主成分と
し、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ば
れる元素のターゲット中での総濃度が０．４から２０ａ
ｔ％、Ｃ，Ｎより選ばれる元素の総濃度が０．６から２
０ａｔ％、Ｒｈおよび／あるいはＲｕの総濃度が０．１
から１０ａｔ％、さらにＣｒ濃度が０．５から１０ａｔ
％であることが明らかとなった。上記組成値はスパッタ
ガスに純Ａｒを用いた場合の値であり、スパッタガスと
してＡｒ＋Ｎ2、Ａｒ＋Ｏ2、Ａｒ＋ＣＨ4等の上記IVａ
〜VIａ族元素（Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔ
ｉ）とも比較的低温（３００〜６００℃）で反応しやす
いガス種を用いた場合には最適組成値が変化した。また
チップをターゲット上に置くあるいは貼付て用いるいわ
ゆる貼り付けターゲットの場合はチップの数、形状、配
置等に充分注意する必要がある。
【００１０】
【実施例】以下に表を用いて本発明を説明する。
【００１１】実施例１ 磁性膜の作製にはＲＦスパッタリング装置を用いた。ス
パッタリングは以下の条件で行った。
パッタリングは以下の条件で行った。
【００１２】イオンガス Ａｒ スパッタリング時のガス圧 ６．６×１０~1Ｐａ 高周波電力 ４００Ｗ 基板温度 ５０〜１００℃（水冷） 本実施例では種々の組成の焼結ターゲットを用いて膜作
製を行った。基板には直径１０ｍｍの結晶化ガラスを用
いた。膜厚２μｍの膜を作製し、Ａｒガス雰囲気中で５
７５℃、１時間の熱処理を行い、磁気特性の測定と耐食
性試験を行った結果を表１に示す。表中、ターゲット組
成は鋳込み値である。鋳込んだターゲット片についてＥ
ＰＭＡや炭素については燃焼赤外吸収法等の手法により
組成分析を行った結果、鋳込み値と分析値の差は最大
０．５ａｔ％で、これは分析精度の範囲内であることか
ら、目的とする組成のターゲットが得られているものと
考えられる。特性の測定は保磁力がＢ−Ｈカーブトレー
サ（５０Ｈｚ）、飽和磁束密度がＶＳＭ、磁歪が光テコ
法で、また耐食性の評価は恒温恒湿試験（８０℃，９０
％）により膜の磁化が１０％減少した時間で表した。
製を行った。基板には直径１０ｍｍの結晶化ガラスを用
いた。膜厚２μｍの膜を作製し、Ａｒガス雰囲気中で５
７５℃、１時間の熱処理を行い、磁気特性の測定と耐食
性試験を行った結果を表１に示す。表中、ターゲット組
成は鋳込み値である。鋳込んだターゲット片についてＥ
ＰＭＡや炭素については燃焼赤外吸収法等の手法により
組成分析を行った結果、鋳込み値と分析値の差は最大
０．５ａｔ％で、これは分析精度の範囲内であることか
ら、目的とする組成のターゲットが得られているものと
考えられる。特性の測定は保磁力がＢ−Ｈカーブトレー
サ（５０Ｈｚ）、飽和磁束密度がＶＳＭ、磁歪が光テコ
法で、また耐食性の評価は恒温恒湿試験（８０℃，９０
％）により膜の磁化が１０％減少した時間で表した。
【００１３】
【表１】
【００１４】この結果、番号１から３のＣｒ，Ｒｕ等の
元素を無添加あるいは少量添加したターゲットを用いた
膜では低磁歪で比較的良好な軟磁気特性を示すが耐食性
に問題があることが分かった。また番号４から６に示し
たＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ等の元素を比較的多く含むターゲッ
トを用いた膜では良好な耐食性を示すが、磁歪は２０×
１０~7以上と大きい。これに対し、番号７から１３に示
したＦｅ、Ｃｏ、あるいはＣｏＦｅにＨｆ、Ｚｒ、Ｔ
ａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれる元素とＣを主成
分とする合金に、（Ｃｒ＋Ｒｈ）、（Ｃｒ＋Ｒｕ）、
（Ｃｒ＋Ｒｈ＋Ｒｕ）の内のいずれか一つの組合せ元素
群を適量含むターゲットを用いた膜では、低磁歪で良好
な軟磁気特性を示し、しかも耐食性も良好なことから、
磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲのような高密度磁気
記録用磁気ヘッドのコア材に適した材料であることが分
かった。ここで、ＣｒとＲｈおよび／あるいはＲｕを複
合添加することにより、膜の磁歪が単独の添加膜に比べ
て減少した原因については不明であり、現在解析中であ
る。
元素を無添加あるいは少量添加したターゲットを用いた
膜では低磁歪で比較的良好な軟磁気特性を示すが耐食性
に問題があることが分かった。また番号４から６に示し
たＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ等の元素を比較的多く含むターゲッ
トを用いた膜では良好な耐食性を示すが、磁歪は２０×
１０~7以上と大きい。これに対し、番号７から１３に示
したＦｅ、Ｃｏ、あるいはＣｏＦｅにＨｆ、Ｚｒ、Ｔ
ａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれる元素とＣを主成
分とする合金に、（Ｃｒ＋Ｒｈ）、（Ｃｒ＋Ｒｕ）、
（Ｃｒ＋Ｒｈ＋Ｒｕ）の内のいずれか一つの組合せ元素
群を適量含むターゲットを用いた膜では、低磁歪で良好
な軟磁気特性を示し、しかも耐食性も良好なことから、
磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲのような高密度磁気
記録用磁気ヘッドのコア材に適した材料であることが分
かった。ここで、ＣｒとＲｈおよび／あるいはＲｕを複
合添加することにより、膜の磁歪が単独の添加膜に比べ
て減少した原因については不明であり、現在解析中であ
る。
【００１５】実施例２ イオンガスにＡｒ＋Ｎ2、Ａｒ＋ＣＨ4、Ａｒ＋Ｎ2＋Ｏ2
を用いて作製した磁性膜についての結果を以下に示す。
ガス圧、高周波電力等の他のスパッタ条件については実
施例１と同じである。
を用いて作製した磁性膜についての結果を以下に示す。
ガス圧、高周波電力等の他のスパッタ条件については実
施例１と同じである。
【００１６】種々の組成の焼結ターゲットを用いて膜を
作製し、Ａｒガス雰囲気中で５７５℃、１時間の熱処理
後、磁気特性の測定と耐食性試験を行った結果を表２に
示す。表中、ターゲット組成は実施例１と同様に鋳込み
値で、膜組成はＥＰＭＡによる分析値である。特性測定
および耐食性の評価法は実施例１と同じである。
作製し、Ａｒガス雰囲気中で５７５℃、１時間の熱処理
後、磁気特性の測定と耐食性試験を行った結果を表２に
示す。表中、ターゲット組成は実施例１と同様に鋳込み
値で、膜組成はＥＰＭＡによる分析値である。特性測定
および耐食性の評価法は実施例１と同じである。
【００１７】
【表２】
【００１８】この結果、番号１から３のＣｒ，Ｒｕ等の
元素を無添加あるいは少量添加したターゲットを用いた
膜では低磁歪で比較的良好な軟磁気特性を示すが耐食性
に問題があることが分かった。また番号４，５に示した
Ｒｕ，Ｒｈ等の元素を比較的多く含むターゲットを用い
た膜では良好な耐食性を示すが、磁歪は２５×１０~7以
上と大きい。これに対し、番号６から１０に示したＦ
ｅ，Ｃｏ，あるいはＣｏＦｅにＨｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎ
ｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれる元素と、（Ｃｒ＋Ｒ
ｈ）、（Ｃｒ＋Ｒｕ）、（Ｃｒ＋Ｒｈ＋Ｒｕ）の内のい
ずれか一つの組合せ元素群を適量含むターゲットを用い
た膜では、低磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも耐
食性も良好なことから、高密度磁気記録用磁気ヘッドの
コア材に適した材料であることが分かった。本実施例で
は、イオンガスにＡｒ＋Ｎ2、Ａｒ＋ＣＨ4、Ａｒ＋Ｎ2
＋Ｏ2等を用いて磁性膜を形成したが、作製された膜の
特性は表１とほぼ同等であることから、ターゲット組成
が適正であればイオンガス種の影響は小さいものと考え
られる。
元素を無添加あるいは少量添加したターゲットを用いた
膜では低磁歪で比較的良好な軟磁気特性を示すが耐食性
に問題があることが分かった。また番号４，５に示した
Ｒｕ，Ｒｈ等の元素を比較的多く含むターゲットを用い
た膜では良好な耐食性を示すが、磁歪は２５×１０~7以
上と大きい。これに対し、番号６から１０に示したＦ
ｅ，Ｃｏ，あるいはＣｏＦｅにＨｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎ
ｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉより選ばれる元素と、（Ｃｒ＋Ｒ
ｈ）、（Ｃｒ＋Ｒｕ）、（Ｃｒ＋Ｒｈ＋Ｒｕ）の内のい
ずれか一つの組合せ元素群を適量含むターゲットを用い
た膜では、低磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも耐
食性も良好なことから、高密度磁気記録用磁気ヘッドの
コア材に適した材料であることが分かった。本実施例で
は、イオンガスにＡｒ＋Ｎ2、Ａｒ＋ＣＨ4、Ａｒ＋Ｎ2
＋Ｏ2等を用いて磁性膜を形成したが、作製された膜の
特性は表１とほぼ同等であることから、ターゲット組成
が適正であればイオンガス種の影響は小さいものと考え
られる。
【００１９】実施例３ 実施例１，２の表中に示された代表的なターゲットを用
いて形成した強磁性膜からなる磁気ヘッドを試作し、保
磁力１５００Ｏｅのメタルテープを用いて長期にわたる
記録再生試験を行った。実験は実施例１，２と同様に８
０℃，９０％の恒温恒湿試験を行いながら、定期的に上
記の測定系を用いて記録再生特性の測定を行い、再生出
力の変化を調べた。磁気ヘッドには特開昭６２−６０１
１３に示されたフェライト基板上に上記の強磁性膜を形
成した構造のものを用いた。磁性膜膜厚はいずれも６μ
ｍである。表３に恒温恒湿試験時間に対する再生出力
（ｍＶｐ−ｐ）の測定結果を示す。
いて形成した強磁性膜からなる磁気ヘッドを試作し、保
磁力１５００Ｏｅのメタルテープを用いて長期にわたる
記録再生試験を行った。実験は実施例１，２と同様に８
０℃，９０％の恒温恒湿試験を行いながら、定期的に上
記の測定系を用いて記録再生特性の測定を行い、再生出
力の変化を調べた。磁気ヘッドには特開昭６２−６０１
１３に示されたフェライト基板上に上記の強磁性膜を形
成した構造のものを用いた。磁性膜膜厚はいずれも６μ
ｍである。表３に恒温恒湿試験時間に対する再生出力
（ｍＶｐ−ｐ）の測定結果を示す。
【００２０】
【表３】
【００２１】表３に示された組成はいずれもターゲット
組成である。表３の恒温恒湿試験による再生出力の変化
から、本発明によるターゲットを用いて形成した強磁性
膜の耐食性はセンダスト合金と同等あるいはそれ以上と
推定される。また、再生出力はセンダスト合金やＦｅ73
Ｚｒ9Ｃ13Ｃｒ5合金ターゲットを用いて形成した強磁性
膜をコア材に用いた磁気ヘッドに比べて高く、５０日の
恒温恒湿試験後でも再生出力は２０％程度低下するだけ
であった。これは本発明のターゲットを用いて形成した
強磁性膜が低磁歪、高飽和磁束密度でしかも耐食性も良
好なためと考えられる。これに対し、ＦｅＴａＣターゲ
ットを用いて形成したＦｅＴａＣ膜は本発明と同程度の
高い飽和磁束密度を示すにもかかわらず、耐食性が劣る
ために再生出力は急激に低下したものと考えられる。さ
らに、本発明と同程度の高い飽和磁束密度を有するＦｅ
ＴａＣＣｒターゲットを用いて形成したＦｅＴａＣＣｒ
膜をコア材に用いた磁気ヘッドの再生出力が低い原因は
磁歪が大きいことが原因しているものと思われる。
組成である。表３の恒温恒湿試験による再生出力の変化
から、本発明によるターゲットを用いて形成した強磁性
膜の耐食性はセンダスト合金と同等あるいはそれ以上と
推定される。また、再生出力はセンダスト合金やＦｅ73
Ｚｒ9Ｃ13Ｃｒ5合金ターゲットを用いて形成した強磁性
膜をコア材に用いた磁気ヘッドに比べて高く、５０日の
恒温恒湿試験後でも再生出力は２０％程度低下するだけ
であった。これは本発明のターゲットを用いて形成した
強磁性膜が低磁歪、高飽和磁束密度でしかも耐食性も良
好なためと考えられる。これに対し、ＦｅＴａＣターゲ
ットを用いて形成したＦｅＴａＣ膜は本発明と同程度の
高い飽和磁束密度を示すにもかかわらず、耐食性が劣る
ために再生出力は急激に低下したものと考えられる。さ
らに、本発明と同程度の高い飽和磁束密度を有するＦｅ
ＴａＣＣｒターゲットを用いて形成したＦｅＴａＣＣｒ
膜をコア材に用いた磁気ヘッドの再生出力が低い原因は
磁歪が大きいことが原因しているものと思われる。
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のターゲット
を用いることにより、高い飽和磁束密度、良好な軟磁気
特性、低磁歪で、しかも耐食性に優れている強磁性膜を
得るのに効果がある。また本発明のターゲットを用いて
形成した強磁性膜を磁気ヘッドコアあるいは磁気ヘッド
コアの一部に用いることにより記録再生特性に優れ、し
かも優れた耐食性を有する磁気ヘッドを得るのに効果が
ある。
を用いることにより、高い飽和磁束密度、良好な軟磁気
特性、低磁歪で、しかも耐食性に優れている強磁性膜を
得るのに効果がある。また本発明のターゲットを用いて
形成した強磁性膜を磁気ヘッドコアあるいは磁気ヘッド
コアの一部に用いることにより記録再生特性に優れ、し
かも優れた耐食性を有する磁気ヘッドを得るのに効果が
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 岳史 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所ＡＶ機器事業部内
Claims (8)
- 【請求項１】Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ
より選ばれる少なくとも一種以上の元素とＣ，Ｎより選
ばれる少なくとも一種以上の元素を含むＦｅあるいはＣ
ｏを主成分とする強磁性金属合金にさらにＲｈおよび／
あるいはＲｕとＣｒとを同時に添加したことを特徴とす
る耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項２】前記Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，
Ｔｉより選ばれる元素のターゲット中の総濃度が０．４
から２０ａｔ％、前記Ｃ，Ｎより選ばれる元素の総濃度
が０．６から２０ａｔ％、前記Ｒｈおよび／あるいはＲ
ｕの総濃度が０．１から１０ａｔ％、さらに前記Ｃｒ濃
度が０．５から１０ａｔ％であり、残りが主にＦｅ、Ｃ
ｏより選ばれる少なくとも一種以上の元素であることを
特徴とする請求項１記載の耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項３】Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ
より選ばれる少なくとも一種以上の元素を含むＦｅある
いはＣｏを主成分とする強磁性金属合金にさらにＲｈお
よび／あるいはＲｕとＣｒとを同時に添加したことを特
徴とする耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項４】前記Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，
Ｔｉより選ばれる元素のターゲット中の総濃度が０．５
から２５ａｔ％、前記Ｒｈおよび／あるいはＲｕの総濃
度が０．１から１２ａｔ％、さらに前記Ｃｒ濃度が０．
６から１２ａｔ％であり、残りが主にＦｅ、Ｃｏより選
ばれる少なくとも一種以上の元素であることを特徴とす
る請求項３記載の耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項５】請求項１から請求項４のうちいずれかに記
載したターゲットが焼結法あるいは溶解法により形成し
たことを特徴とする耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項６】請求項１から請求項５のうちいずれかに記
載した耐食性磁性膜用ターゲットを用いて形成した耐食
性磁性膜と膜組成が一致するように純Ｆｅ、純Ｃｏ、Ｆ
ｅ−Ｃｏ合金ターゲットあるいはＦｅ、Ｃｏより選ばれ
る少なくとも一種以上の元素とＨｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎ
ｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ、Ｃ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｃｒより選ばれ
る少なくとも一種以上の元素とからなる合金ターゲッ
ト、またはＦｅ、Ｃｏより選ばれる少なくとも一種以上
の元素とＨｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ、
Ｃ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｃｒより選ばれる少なくとも一種以上
の元素および／あるいはＨｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｗ，
Ｍｏ，Ｔｉ等の炭化物および／あるいは窒化物からなる
合金ターゲット上にＦｅ，Ｃｏ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎ
ｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｃ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｃｒより選ばれ
る元素のペレットあるいはこれ等の合金ペレットを配置
したことを特徴とする耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項７】ＲＦスパッタ，マグネトロンスパッタ，対
向ターゲット型スパッタ，イオンビームスパッタ等の物
理的手段により耐食性磁性膜を形成するために用いるこ
とを特徴とする請求項１から請求項６のうちいずれかに
記載の耐食性磁性膜用ターゲット。 - 【請求項８】請求項１から請求項７のうちいずれかに記
載した耐食性磁性膜用ターゲットを用いて形成した耐食
性磁性膜を磁気ヘッドコアあるいは磁気ヘッドコアの一
部に用いたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4081897A JPH05290330A (ja) | 1992-04-03 | 1992-04-03 | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4081897A JPH05290330A (ja) | 1992-04-03 | 1992-04-03 | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290330A true JPH05290330A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=13759236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4081897A Pending JPH05290330A (ja) | 1992-04-03 | 1992-04-03 | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290330A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6033792A (en) * | 1995-02-02 | 2000-03-07 | Hitachi, Ltd. | Soft magnetic thin film, and magnetic head and magnetic recording device using the same |
-
1992
- 1992-04-03 JP JP4081897A patent/JPH05290330A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6033792A (en) * | 1995-02-02 | 2000-03-07 | Hitachi, Ltd. | Soft magnetic thin film, and magnetic head and magnetic recording device using the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4969962A (en) | Magnetic alloys for magnetic head | |
| US5858548A (en) | Soft magnetic thin film, and magnetic head and magnetic recording device using the same | |
| US5663006A (en) | Corrosion-resistant magnetic film and magnetic head using the same | |
| JPH0342806A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JPH04214206A (ja) | 強磁性薄膜とその製造方法 | |
| JPS6129105A (ja) | 磁性合金薄膜 | |
| JPH05290330A (ja) | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH0617244A (ja) | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JP3232592B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH05251234A (ja) | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
| KR900002758B1 (ko) | 자기헤드용 비정질합금 | |
| JPS6047894B2 (ja) | 磁気記録媒体用ｃｏ基合金 | |
| JP3279591B2 (ja) | 強磁性薄膜とその製造方法 | |
| JPS58118015A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH05315133A (ja) | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JP2508462B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JPH04252006A (ja) | 耐食軟磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド | |
| JP2727274B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JPH07249519A (ja) | 軟磁性合金膜と磁気ヘッドおよび軟磁性合金膜の熱膨張係数の調整方法 | |
| JPH0529139A (ja) | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘツド | |
| JP3019400B2 (ja) | 非晶質軟磁性材料 | |
| JPH0766035A (ja) | 磁性薄膜 | |
| JPH0789526B2 (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
| JPH08107036A (ja) | 軟磁性薄膜及びそれを用いた磁気記録装置 | |
| JPH03181008A (ja) | 磁気ヘツド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040108 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050826 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050914 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20051021 |