JPH0529139A - 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘツド - Google Patents
耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH0529139A JPH0529139A JP18074791A JP18074791A JPH0529139A JP H0529139 A JPH0529139 A JP H0529139A JP 18074791 A JP18074791 A JP 18074791A JP 18074791 A JP18074791 A JP 18074791A JP H0529139 A JPH0529139 A JP H0529139A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- ferromagnetic metal
- corrosion resistance
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を有し、し
かも優れた耐食性を有する磁気ヘッド用の強磁性金属膜
を得る。 【構成】鉄系の強磁性金属膜中にIVａ〜VIａ族元素（Ｈ
ｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）からなる酸化物と、
これらの元素からなる炭化物，窒化物，硼化物のいずれ
かと、さらにＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれる元素
を同時に添加した磁性膜。 【効果】高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を示し、し
かも優れた耐食性を有する強磁性金属膜が得られた。ま
た、本発明を用いた磁気ヘッドにおいて高再生出力で、
しかも長期間安定な再生出力が得られた。
かも優れた耐食性を有する磁気ヘッド用の強磁性金属膜
を得る。 【構成】鉄系の強磁性金属膜中にIVａ〜VIａ族元素（Ｈ
ｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）からなる酸化物と、
これらの元素からなる炭化物，窒化物，硼化物のいずれ
かと、さらにＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれる元素
を同時に添加した磁性膜。 【効果】高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性を示し、し
かも優れた耐食性を有する強磁性金属膜が得られた。ま
た、本発明を用いた磁気ヘッドにおいて高再生出力で、
しかも長期間安定な再生出力が得られた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高飽和磁束密度，高透磁
率，高耐熱性でしかも耐食性に優れた磁性膜に関し、特
に磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲなどに用いられる
磁気ヘッドや磁気ヘッドのコア材に適した強磁性金属膜
に関する。
率，高耐熱性でしかも耐食性に優れた磁性膜に関し、特
に磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲなどに用いられる
磁気ヘッドや磁気ヘッドのコア材に適した強磁性金属膜
に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化に伴い、高保磁力媒
体にも充分な書き込みが可能なＭＩＧ（Metal in Gap）
ヘッドが最近注目されている。ＭＩＧヘッドはガラスボ
ンディングという高温プロセスを必要とするため、熱安
定性の高い磁性膜が要求される。ＭＩＧヘッドに用いら
れる比較的熱安定性の高い磁性膜としてはＣｏ系の非晶
質合金、センダスト合金さらには特開昭62−210607号に
示された（Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ）ＭＮで表わされるような
窒素を含む磁性合金などが知られている。ここで、Ｍは
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｗより成
る群から選択された金属である。また、Intermag Conf
erence '９０ では高飽和磁束密度で熱安定性の高い材
料として、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｂ−Ｎ−Ｏ（Sony）やＦｅ−
Ｔａ−Ｎ−Ｏ（ＪＶＣ）の報告があった。
体にも充分な書き込みが可能なＭＩＧ（Metal in Gap）
ヘッドが最近注目されている。ＭＩＧヘッドはガラスボ
ンディングという高温プロセスを必要とするため、熱安
定性の高い磁性膜が要求される。ＭＩＧヘッドに用いら
れる比較的熱安定性の高い磁性膜としてはＣｏ系の非晶
質合金、センダスト合金さらには特開昭62−210607号に
示された（Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ）ＭＮで表わされるような
窒素を含む磁性合金などが知られている。ここで、Ｍは
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｃｒ，Ｗより成
る群から選択された金属である。また、Intermag Conf
erence '９０ では高飽和磁束密度で熱安定性の高い材
料として、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｂ−Ｎ−Ｏ（Sony）やＦｅ−
Ｔａ−Ｎ−Ｏ（ＪＶＣ）の報告があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術に述べら
れているような磁性膜について恒温恒湿試験や塩水噴霧
試験により膜の耐食性を評価した結果、センダスト合金
以外の上記磁性膜では耐食性に問題があり、磁気ヘッド
作製プロセス中に腐食したりあるいは長期にわたり記録
再生試験を行うと再生出力が低下する等、膜の腐食に関
連する問題が生ずることが明らかとなった。これに対し
センダスト合金は優れた耐食性を示すが、飽和磁束密度
は最大で１.３〜１.４Ｔと比較的低い。
れているような磁性膜について恒温恒湿試験や塩水噴霧
試験により膜の耐食性を評価した結果、センダスト合金
以外の上記磁性膜では耐食性に問題があり、磁気ヘッド
作製プロセス中に腐食したりあるいは長期にわたり記録
再生試験を行うと再生出力が低下する等、膜の腐食に関
連する問題が生ずることが明らかとなった。これに対し
センダスト合金は優れた耐食性を示すが、飽和磁束密度
は最大で１.３〜１.４Ｔと比較的低い。
【０００４】本発明の目的は、膜の耐食性がセンダスト
合金なみに優れ、しかもセンダスト合金よりも高い飽和
磁束密度を有する磁性膜およびこれを用いた高密度磁気
記録用の磁気ヘッドを提供することにある。
合金なみに優れ、しかもセンダスト合金よりも高い飽和
磁束密度を有する磁性膜およびこれを用いた高密度磁気
記録用の磁気ヘッドを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等はＦｅ系の強
磁性金属膜中にＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗから
なる酸化物とまたＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗか
らなる炭化物，窒化物，硼化物のいずれかの微結晶が同
時に存在し、しかもＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれ
る少なくとも１種以上の元素が一部酸化物状態で存在す
ることにより、高飽和磁束密度で優れた耐食性を有する
磁性膜が得られることを明らかにした。また、本発明の
磁性膜を磁気ヘッドの磁気回路の少なくとも一部に用い
ることにより、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッド
を得ることができた。
磁性金属膜中にＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗから
なる酸化物とまたＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗか
らなる炭化物，窒化物，硼化物のいずれかの微結晶が同
時に存在し、しかもＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれ
る少なくとも１種以上の元素が一部酸化物状態で存在す
ることにより、高飽和磁束密度で優れた耐食性を有する
磁性膜が得られることを明らかにした。また、本発明の
磁性膜を磁気ヘッドの磁気回路の少なくとも一部に用い
ることにより、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッド
を得ることができた。
【０００６】
【作用】上述のように、Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍ
ｏ，Ｗからなる酸化物とまたＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｗからなる炭化物，窒化物，硼化物のいずれかの
微結晶が同時に存在するような組成の膜において高い飽
和磁束密度を有し、しかも優れた軟磁気特性を示すＦｅ
系の磁性膜が得られ、さらに膜中にＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，
Ｃｕより選ばれる少なくとも１種以上の元素を適量添加
することにより、高温まで軟磁気特性が保たれ、しかも
優れた耐食性を示す膜が得られた。膜中へのＣｒ，Ｒ
ｕ，Ｒｈ，Ｃｕの添加により耐食性が向上するメカニズ
ムについては必ずしも十分明らかではないが、本発明者
等は鋭意検討を行った結果、耐食性が向上した膜ではＣ
ｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕからなる酸化物が膜中に存在した
のに対し、Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕを添加しても耐食性
向上の効果が見られなかった膜では上記のような酸化物
は観察されなかった。このため、膜中でＣｒ，Ｒｕ，Ｒ
ｈ，Ｃｕ等の元素の少なくとも一部が酸化物状態で存在
することあるいはそのような組成が耐食性向上に寄与す
るものと考えられる。高飽和磁束密度で優れた軟磁気特
性を示し、しかも優れた耐食性を示す膜組成領域につい
て検討した結果、Ｆｅを主成分とする強磁性膜にIVａ〜
VIａ族のＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗから選ばれ
る元素の膜中での総濃度が０.５ から６ａｔ％、Ｃｒ，
Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれる元素の膜中での総濃度が
０.５ から１０ａｔ％で、さらに０.５ から４ａｔ％の
酸素と膜中での総濃度が０.５ から８ａｔ％となるよう
に炭素，窒素，硼素等を適宜添加することにより、良好
な特性の材料を得ることができた。
ｏ，Ｗからなる酸化物とまたＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｗからなる炭化物，窒化物，硼化物のいずれかの
微結晶が同時に存在するような組成の膜において高い飽
和磁束密度を有し、しかも優れた軟磁気特性を示すＦｅ
系の磁性膜が得られ、さらに膜中にＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，
Ｃｕより選ばれる少なくとも１種以上の元素を適量添加
することにより、高温まで軟磁気特性が保たれ、しかも
優れた耐食性を示す膜が得られた。膜中へのＣｒ，Ｒ
ｕ，Ｒｈ，Ｃｕの添加により耐食性が向上するメカニズ
ムについては必ずしも十分明らかではないが、本発明者
等は鋭意検討を行った結果、耐食性が向上した膜ではＣ
ｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕからなる酸化物が膜中に存在した
のに対し、Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕを添加しても耐食性
向上の効果が見られなかった膜では上記のような酸化物
は観察されなかった。このため、膜中でＣｒ，Ｒｕ，Ｒ
ｈ，Ｃｕ等の元素の少なくとも一部が酸化物状態で存在
することあるいはそのような組成が耐食性向上に寄与す
るものと考えられる。高飽和磁束密度で優れた軟磁気特
性を示し、しかも優れた耐食性を示す膜組成領域につい
て検討した結果、Ｆｅを主成分とする強磁性膜にIVａ〜
VIａ族のＨｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗから選ばれ
る元素の膜中での総濃度が０.５ から６ａｔ％、Ｃｒ，
Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれる元素の膜中での総濃度が
０.５ から１０ａｔ％で、さらに０.５ から４ａｔ％の
酸素と膜中での総濃度が０.５ から８ａｔ％となるよう
に炭素，窒素，硼素等を適宜添加することにより、良好
な特性の材料を得ることができた。
【０００７】
【実施例】以下に表を用いて本発明を説明する。
【０００８】実施例１
磁性膜の作製にはＲＦスパッタリング装置を用いた。ス
パッタリングは以下の条件で行った。
パッタリングは以下の条件で行った。
【０００９】
イオンガス Ａｒ，Ａｒ＋Ｏ2，Ａｒ＋Ｎ2，Ａｒ＋ＣＨ3
スパッタリング時のガス圧 ６.６×１０-1Ｐａ
高周波電力 ４００Ｗ
ターゲット基板間距離 ５０mm
基板温度 １００〜２００℃（水冷）
本実施例ではＦｅターゲット上に添加元素（Ｈｆ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕ）
のチップを貼付た複合ターゲットを用いて膜作製を行な
った。基板には直径１０mmの結晶化ガラスを用いた。膜
厚２μｍの種々の組成の膜を作製し、Ａｒガス中で５５
０℃、１時間熱処理を行った膜についての保磁力と耐食
性試験の結果を表１に示す。表中、磁性膜の組成はＥＰ
ＭＡ法により求めた結果である。特に、酸素および窒素
については高温加熱分解法等の他の手法を併用し確認を
行ったが、若干の誤差が含まれるものと考えられる。保
磁力はＢ−Ｈカ−ブトレ−サ，飽和磁束密度はＶＳＭに
より求め、また耐食性の評価は塩水噴霧試験（１ａｔ％
ＮａＣｌ水溶液，温度：３５±２℃）により膜の磁化が
１０％減少した時間で表わした。
ｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕ）
のチップを貼付た複合ターゲットを用いて膜作製を行な
った。基板には直径１０mmの結晶化ガラスを用いた。膜
厚２μｍの種々の組成の膜を作製し、Ａｒガス中で５５
０℃、１時間熱処理を行った膜についての保磁力と耐食
性試験の結果を表１に示す。表中、磁性膜の組成はＥＰ
ＭＡ法により求めた結果である。特に、酸素および窒素
については高温加熱分解法等の他の手法を併用し確認を
行ったが、若干の誤差が含まれるものと考えられる。保
磁力はＢ−Ｈカ−ブトレ−サ，飽和磁束密度はＶＳＭに
より求め、また耐食性の評価は塩水噴霧試験（１ａｔ％
ＮａＣｌ水溶液，温度：３５±２℃）により膜の磁化が
１０％減少した時間で表わした。
【００１０】
【表１】
【００１１】この結果、番号６から１１の組成の膜にお
いて高飽和磁束密度、低保磁力で、しかもセンダスト合
金なみあるいはそれ以上の優れた耐食性を示すことが明
らかとなった。表１から、酸素を添加した膜（番号５を
除く）では高飽和磁束密度で低保磁力の膜が得られ易い
ことが分かる。これは膜形成時にIVａ〜VIａ族元素（Ｈ
ｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）の微結晶酸化物が形
成され、これが熱処理時のＦｅ結晶粒の粒成長を抑制す
るために、熱処理後においても優れた軟磁気特性が得ら
れ、しかも少量の添加元素量で粒成長の抑制効果が得ら
れるためと考えられる。このため番号５に示されるよう
なIVａ〜VIａ族元素を含まない膜では、熱処理により結
晶粒成長が起こりやすくなり、軟磁気特性は劣化する。
耐食性に関してはＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕを添加した番
号５から１１の組成の膜で良好な結果が得られた。これ
に対し、同様にＲｕ，Ｒｈを添加した番号２および３の
膜では良好な結果は得られなかった。そこで耐食性試験
後の試料についてＸＰＳ法で分析した結果、番号５から
１１の膜ではＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕと酸素元素の結合
が観察され、少なくともＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕ元素の
一部が酸化物となっていることが確認された。これに対
し、番号２および３の膜ではＲｕ，Ｒｈと酸素元素の結
合は観察されなかった。この結果、膜中でＣｒ，Ｒｕ，
Ｒｈ，Ｃｕ等の元素の少なくとも一部が酸化物状態で存
在することあるいはこのような組成が耐食性向上に寄与
するものと考えられる。また、良好な結果が得られた番
号６から１１の組成の膜についてＸ線回折法および電子
線回折法により構造解析を行った結果、上述した酸化物
以外に、IVａ〜VIａ族元素（Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｗ）の炭化物，窒化物，硼化物なども体心立方構
造のＦｅの回折ピークとともに観察された。
いて高飽和磁束密度、低保磁力で、しかもセンダスト合
金なみあるいはそれ以上の優れた耐食性を示すことが明
らかとなった。表１から、酸素を添加した膜（番号５を
除く）では高飽和磁束密度で低保磁力の膜が得られ易い
ことが分かる。これは膜形成時にIVａ〜VIａ族元素（Ｈ
ｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）の微結晶酸化物が形
成され、これが熱処理時のＦｅ結晶粒の粒成長を抑制す
るために、熱処理後においても優れた軟磁気特性が得ら
れ、しかも少量の添加元素量で粒成長の抑制効果が得ら
れるためと考えられる。このため番号５に示されるよう
なIVａ〜VIａ族元素を含まない膜では、熱処理により結
晶粒成長が起こりやすくなり、軟磁気特性は劣化する。
耐食性に関してはＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕを添加した番
号５から１１の組成の膜で良好な結果が得られた。これ
に対し、同様にＲｕ，Ｒｈを添加した番号２および３の
膜では良好な結果は得られなかった。そこで耐食性試験
後の試料についてＸＰＳ法で分析した結果、番号５から
１１の膜ではＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕと酸素元素の結合
が観察され、少なくともＣｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕ元素の
一部が酸化物となっていることが確認された。これに対
し、番号２および３の膜ではＲｕ，Ｒｈと酸素元素の結
合は観察されなかった。この結果、膜中でＣｒ，Ｒｕ，
Ｒｈ，Ｃｕ等の元素の少なくとも一部が酸化物状態で存
在することあるいはこのような組成が耐食性向上に寄与
するものと考えられる。また、良好な結果が得られた番
号６から１１の組成の膜についてＸ線回折法および電子
線回折法により構造解析を行った結果、上述した酸化物
以外に、IVａ〜VIａ族元素（Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｗ）の炭化物，窒化物，硼化物なども体心立方構
造のＦｅの回折ピークとともに観察された。
【００１２】実施例２
実施例１の表１に示された膜の中から代表的なものにつ
いて磁気ヘッドを試作し、保磁力２０００Ｏｅのメタル
テープを用いて長期にわたる記録再生試験を行った。実
験は８０℃，９０％の恒温恒湿試験を行いながら、定期
的に上記の測定系により記録再生特性の測定を行い、再
生出力の変化について調べた。磁気ヘッドには特開昭62
−60113 号に示されたフェライト基板上に上記強磁性膜
を形成した構造のものを用いた。磁性膜膜厚はいずれも
６μｍである。表２に恒温恒湿試験時間に対する再生出
力(ｍＶp-p）の測定結果を示す。
いて磁気ヘッドを試作し、保磁力２０００Ｏｅのメタル
テープを用いて長期にわたる記録再生試験を行った。実
験は８０℃，９０％の恒温恒湿試験を行いながら、定期
的に上記の測定系により記録再生特性の測定を行い、再
生出力の変化について調べた。磁気ヘッドには特開昭62
−60113 号に示されたフェライト基板上に上記強磁性膜
を形成した構造のものを用いた。磁性膜膜厚はいずれも
６μｍである。表２に恒温恒湿試験時間に対する再生出
力(ｍＶp-p）の測定結果を示す。
【００１３】
【表２】
【００１４】表２に示すように、本発明の強磁性金属膜
を用いた磁気ヘッドでは、２００日間の８０℃，９０％
の恒温恒湿試験後においても再生出力は２０％程度低下
するだけであるのに対し、従来から知られているセンダ
スト合金では約３０％、また比較的高飽和磁束密度材料
として注目されているＦｅ77Ｔａ8Ｃ11Ｒｈ4合金では１
／１０以下に再生出力が低下した。このような磁気ヘッ
ドにおける評価からも本発明は優れた耐食性を有してい
ることが確認された。表２において、試験前の再生出力
の違いの原因は用いた磁気テープの保磁力が約２０００
Ｏｅと高いため飽和磁束密度の低いセンダスト合金やＦ
ｅ77Ｔａ8Ｃ11Ｒｈ4合金では十分な記録が行われていな
いためで、これに対し本発明の強磁性金属膜を用いた磁
気ヘッドでは飽和記録が行われていることが確認されて
いる。
を用いた磁気ヘッドでは、２００日間の８０℃，９０％
の恒温恒湿試験後においても再生出力は２０％程度低下
するだけであるのに対し、従来から知られているセンダ
スト合金では約３０％、また比較的高飽和磁束密度材料
として注目されているＦｅ77Ｔａ8Ｃ11Ｒｈ4合金では１
／１０以下に再生出力が低下した。このような磁気ヘッ
ドにおける評価からも本発明は優れた耐食性を有してい
ることが確認された。表２において、試験前の再生出力
の違いの原因は用いた磁気テープの保磁力が約２０００
Ｏｅと高いため飽和磁束密度の低いセンダスト合金やＦ
ｅ77Ｔａ8Ｃ11Ｒｈ4合金では十分な記録が行われていな
いためで、これに対し本発明の強磁性金属膜を用いた磁
気ヘッドでは飽和記録が行われていることが確認されて
いる。
【００１５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は飽和磁束密
度や軟磁気特性をほとんど劣化させることなく強磁性金
属膜の耐食性を向上させるのに効果がある。また本発明
の強磁性金属膜を磁気ヘッドコアあるいは磁気ヘッドコ
アの一部に用いることにより、記録再生特性に優れ、し
かも優れた耐食性を有する磁気ヘッドを得るのに効果が
ある。
度や軟磁気特性をほとんど劣化させることなく強磁性金
属膜の耐食性を向上させるのに効果がある。また本発明
の強磁性金属膜を磁気ヘッドコアあるいは磁気ヘッドコ
アの一部に用いることにより、記録再生特性に優れ、し
かも優れた耐食性を有する磁気ヘッドを得るのに効果が
ある。
Claims (5)
- 【請求項１】Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗから選
ばれる少なくとも１種以上の元素と前記Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗから選ばれる少なくとも１種以上の
元素の酸化物、さらには前記Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｗから選ばれる少なくとも１種以上の元素の炭化
物，窒化物，硼化物のいずれかの微結晶が同時に存在す
る鉄を主成分とする強磁性金属膜中にＣｒ，Ｒｕ，Ｒ
ｈ，Ｃｕより選ばれる少なくとも１種以上の元素を同時
に存在せしめたことを特徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項２】前記Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗよ
り選ばれる元素の強磁性金属膜中の総濃度が０.５ から
６ａｔ％、前記Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｃｕより選ばれる元
素の強磁性金属膜中の総濃度が０.５ から１０ａｔ％で
あることを特徴とする請求項１記載の耐食性磁性膜。 - 【請求項３】強磁性金属膜中の酸素濃度が０.５ から４
ａｔ％で、炭素，窒素，硼素より選ばれる元素の強磁性
金属膜中での総濃度が０.５ から８ａｔ％であることを
特徴とする請求項１記載の耐食性磁性膜。 - 【請求項４】強磁性金属膜中に前記Ｃｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，
Ｃｕより選ばれる少なくとも１種以上の元素の酸化物が
存在することを特徴とする請求項１記載の耐食性磁性
膜。 - 【請求項５】請求項１から請求項４のうちいずれかに記
載した高耐食性磁性膜を磁気ヘッドコアあるいは磁気ヘ
ッドコアの一部に用いたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18074791A JPH0529139A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18074791A JPH0529139A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0529139A true JPH0529139A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16088610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18074791A Pending JPH0529139A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0529139A (ja) |
-
1991
- 1991-07-22 JP JP18074791A patent/JPH0529139A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07302711A (ja) | 軟磁性合金薄膜及びその製造方法 | |
| JP2698814B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| KR970011188B1 (ko) | 내식성 자성막 및 그것을 사용한 자기헤드 | |
| JPH08288138A (ja) | 軟磁性薄膜及びそれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH04214206A (ja) | 強磁性薄膜とその製造方法 | |
| JP2775770B2 (ja) | 軟磁性薄膜の製造方法 | |
| JPS59207608A (ja) | 高透磁率磁性薄膜 | |
| JPS58118015A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3279591B2 (ja) | 強磁性薄膜とその製造方法 | |
| JPH04252006A (ja) | 耐食軟磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド | |
| JP3386270B2 (ja) | 磁気ヘッド及び磁気記録装置 | |
| JPH05315133A (ja) | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JP2707213B2 (ja) | 磁気ヘッド用鉄系軟磁性薄膜合金及びその製造方法 | |
| JPH0617244A (ja) | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH05251234A (ja) | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH05290330A (ja) | 耐食性磁性膜用ターゲットおよびこれを用いた磁気ヘッド | |
| JP2727274B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JPH07249519A (ja) | 軟磁性合金膜と磁気ヘッドおよび軟磁性合金膜の熱膨張係数の調整方法 | |
| JPH08107036A (ja) | 軟磁性薄膜及びそれを用いた磁気記録装置 | |
| JPH03292705A (ja) | 強磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH09283333A (ja) | 軟磁性薄膜及びそれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH0488605A (ja) | 高耐食軟磁性材料 | |
| JPH05239601A (ja) | 軟磁性合金薄膜とその製造方法 | |
| JPH07288208A (ja) | 軟磁性薄膜及びそれを用いた磁気ヘッド | |
| JPH06228716A (ja) | 軟磁性合金膜 |