JPH05293426A - 有機溶剤系塗布液の塗布方法 - Google Patents
有機溶剤系塗布液の塗布方法Info
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- JPH05293426A JPH05293426A JP4122614A JP12261492A JPH05293426A JP H05293426 A JPH05293426 A JP H05293426A JP 4122614 A JP4122614 A JP 4122614A JP 12261492 A JP12261492 A JP 12261492A JP H05293426 A JPH05293426 A JP H05293426A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機溶剤系塗布液の薄層塗布において、表面
張力が高い場合も含めて、スジ等の欠陥の少ない高速塗
布を可能とする塗布方法を提供する。 【構成】 有機溶剤系の塗布液を走行する可撓性支持体
Ｗ上に塗布するときに、予め洗浄液を前記支持体に過剰
量塗布し、該洗浄液を第一掻き落とし部１にて掻き取
り、この掻き取り後に前記支持体にとどまった洗浄液残
分が未乾燥状態のうちにその上に前記塗布液を過剰量塗
布したのちに、第二掻き落とし部４０にて前記塗布液の
表面側の一部分を掻き取って該塗布液の塗布量を計量塗
布することを特徴とする有機溶剤系塗布液の塗布方法で
ある。前記塗布液の粘度が１０ｃｐで前記洗浄液の表面
張力をσｃ（ｄｙｎｅ／ｃｍ），前記塗布液の表面張力
σｌ（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とした場合において、前記洗浄
液の表面張力がσｌ−７≦σｃ≦σｌなる関係を満足す
る塗布方法である。
張力が高い場合も含めて、スジ等の欠陥の少ない高速塗
布を可能とする塗布方法を提供する。 【構成】 有機溶剤系の塗布液を走行する可撓性支持体
Ｗ上に塗布するときに、予め洗浄液を前記支持体に過剰
量塗布し、該洗浄液を第一掻き落とし部１にて掻き取
り、この掻き取り後に前記支持体にとどまった洗浄液残
分が未乾燥状態のうちにその上に前記塗布液を過剰量塗
布したのちに、第二掻き落とし部４０にて前記塗布液の
表面側の一部分を掻き取って該塗布液の塗布量を計量塗
布することを特徴とする有機溶剤系塗布液の塗布方法で
ある。前記塗布液の粘度が１０ｃｐで前記洗浄液の表面
張力をσｃ（ｄｙｎｅ／ｃｍ），前記塗布液の表面張力
σｌ（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とした場合において、前記洗浄
液の表面張力がσｌ−７≦σｃ≦σｌなる関係を満足す
る塗布方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布方法に関し、特に有
機溶剤系の塗布液で例えば磁気記録媒体の下塗液、バッ
ク層塗布液、表面処理液等の低粘度塗布液を走行中のプ
ラスチックフィルム等の可撓性支持体に高速薄層塗布す
る有機溶剤系塗布液の塗布方法に関する。
機溶剤系の塗布液で例えば磁気記録媒体の下塗液、バッ
ク層塗布液、表面処理液等の低粘度塗布液を走行中のプ
ラスチックフィルム等の可撓性支持体に高速薄層塗布す
る有機溶剤系塗布液の塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体等の製造工程において、磁
性塗布液の下塗液やバック層塗布液、表面処理液等の低
粘度の塗布液を塗布することが行われている。これらの
低粘度塗布液としては有機溶剤系塗布液であり、この塗
布液をプラスチックフィルム等の可撓性の支持体の上に
薄層塗布する塗布方式としては、各種ロッドコータ、ワ
イヤーバーコータ、ブレードコータ、エクストルージョ
ンコータ等が知られている。
性塗布液の下塗液やバック層塗布液、表面処理液等の低
粘度の塗布液を塗布することが行われている。これらの
低粘度塗布液としては有機溶剤系塗布液であり、この塗
布液をプラスチックフィルム等の可撓性の支持体の上に
薄層塗布する塗布方式としては、各種ロッドコータ、ワ
イヤーバーコータ、ブレードコータ、エクストルージョ
ンコータ等が知られている。
【０００３】これらの塗布方法において、１０cp以下の
低粘度の塗布液を塗布する方法や装置の代表的なものと
しては、例えば特開昭５７−１５６０６６号公報には過
剰塗布した塗布液をロッド部材にワイヤーを巻きつけた
ワイヤーバーコータと称される装置を用いた計量塗布方
法が開示され、特開昭６２−６０７５０号公報には、回
転するロッド部材に溶剤等を付着させながら溶剤ととも
に除塵するロッドコータ型の除塵方法が開示されてお
り、また、特開平３−１３１３６４号公報においては、
支持体加圧型のドクターブレードの塗布装置等が支持体
上や塗布液中の異物を掻き落とすとともに、所定量の塗
布液を残すようにする薄層塗布方法が知られている。こ
れらの塗布方法および装置はかなり多量の塗布液により
形成された塗膜により、効果的な除塵ができることか
ら、支持体に擦り傷を付けにくいだけでなく、残った塗
布液にスジの発生が少なく、良好な薄層塗布方式として
知られている。
低粘度の塗布液を塗布する方法や装置の代表的なものと
しては、例えば特開昭５７−１５６０６６号公報には過
剰塗布した塗布液をロッド部材にワイヤーを巻きつけた
ワイヤーバーコータと称される装置を用いた計量塗布方
法が開示され、特開昭６２−６０７５０号公報には、回
転するロッド部材に溶剤等を付着させながら溶剤ととも
に除塵するロッドコータ型の除塵方法が開示されてお
り、また、特開平３−１３１３６４号公報においては、
支持体加圧型のドクターブレードの塗布装置等が支持体
上や塗布液中の異物を掻き落とすとともに、所定量の塗
布液を残すようにする薄層塗布方法が知られている。こ
れらの塗布方法および装置はかなり多量の塗布液により
形成された塗膜により、効果的な除塵ができることか
ら、支持体に擦り傷を付けにくいだけでなく、残った塗
布液にスジの発生が少なく、良好な薄層塗布方式として
知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいて、例えば磁気記録媒体の製造工程で下塗り液とし
て前記塗布液が塗られた場合、前記塗布液を塗布すると
き乾燥状態の支持体に該塗布液を開放状態で過剰量の塗
布するために、塗布速度を上げることが難しいだけでな
く、異物除去性能を高めるために過剰量を多くしていく
と、その計量性に問題が生じたり、また、該塗布液の必
要量が多くなりランニングコストがかかるなどの問題が
あった。また、特に前記塗布液の表面張力が高い場合に
は、その塗り付け性が極端に低下し、高速塗布ができな
いという欠点があった。特に近年においては、磁気記録
媒体の磁性塗布液の高速塗布速度が可能になってきてい
るために、従来ではさほど問題にならなかった下塗り液
等の塗布速度の高速化が必要となってきた。
おいて、例えば磁気記録媒体の製造工程で下塗り液とし
て前記塗布液が塗られた場合、前記塗布液を塗布すると
き乾燥状態の支持体に該塗布液を開放状態で過剰量の塗
布するために、塗布速度を上げることが難しいだけでな
く、異物除去性能を高めるために過剰量を多くしていく
と、その計量性に問題が生じたり、また、該塗布液の必
要量が多くなりランニングコストがかかるなどの問題が
あった。また、特に前記塗布液の表面張力が高い場合に
は、その塗り付け性が極端に低下し、高速塗布ができな
いという欠点があった。特に近年においては、磁気記録
媒体の磁性塗布液の高速塗布速度が可能になってきてい
るために、従来ではさほど問題にならなかった下塗り液
等の塗布速度の高速化が必要となってきた。
【０００５】このような前記塗布液の塗着に際し、該塗
布液の塗布性能（濡れ性能）を高める方法として、従来
においては、前記支持体の表面にコロナ放電処理等を施
す方法が多く用いられていた。しかし、前記支持体のこ
の種の表面処理には、大きな設備と多大の設備費用を必
要とする割りにはその効果は期待する程にあがっていな
いのが現状であった。さらに、前記塗布液の塗布に際し
て、そのランニングコストを低減すべく、又、高速塗布
性を高めるべく例えば１０ｃｃ／ｍ2 以下のような薄層
塗布を行なう場合には、該塗布層（下塗り液）におい
て、前記のような異物によるスジ発生の問題が無視しで
きなくなってきた。
布液の塗布性能（濡れ性能）を高める方法として、従来
においては、前記支持体の表面にコロナ放電処理等を施
す方法が多く用いられていた。しかし、前記支持体のこ
の種の表面処理には、大きな設備と多大の設備費用を必
要とする割りにはその効果は期待する程にあがっていな
いのが現状であった。さらに、前記塗布液の塗布に際し
て、そのランニングコストを低減すべく、又、高速塗布
性を高めるべく例えば１０ｃｃ／ｍ2 以下のような薄層
塗布を行なう場合には、該塗布層（下塗り液）におい
て、前記のような異物によるスジ発生の問題が無視しで
きなくなってきた。
【０００６】本発明は上記問題に鑑みてなられたもので
あり、その目的とするところは、上記の如き低粘度の有
機溶剤系塗布液を薄層塗布するときに、該塗布液の表面
張力が高い場合であても、スジ等の欠陥の少ない高速塗
布を可能とする塗布方法を提供することにある。
あり、その目的とするところは、上記の如き低粘度の有
機溶剤系塗布液を薄層塗布するときに、該塗布液の表面
張力が高い場合であても、スジ等の欠陥の少ない高速塗
布を可能とする塗布方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、有
機溶剤系の塗布液を走行する可撓性支持体上に塗布する
ときに、予め洗浄液を前記支持体に過剰量塗布し、該洗
浄液を第一掻き落とし部にて掻き取り、この掻き取り後
に前記支持体にとどまった洗浄液残分が未乾燥状態のう
ちにその上に前記塗布液を過剰量塗布したのちに、第二
掻き落とし部にて前記塗布液の表面側の一部分を掻き取
って該塗布液の塗布量を計量塗布することを特徴とする
有機溶剤系塗布液の塗布方法によって達成される。ま
た、上記方法において、前記洗浄液の表面張力をσｃ
（ｄｙｎｅ／ｃｍ），前記塗布液の表面張力σｌ（ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ）とした場合において、前記洗浄液の表面張
力がσｌ−７≦σｃ≦σｌなる関係を満足する塗布方法
によっても同様の目的を達成することができる。
機溶剤系の塗布液を走行する可撓性支持体上に塗布する
ときに、予め洗浄液を前記支持体に過剰量塗布し、該洗
浄液を第一掻き落とし部にて掻き取り、この掻き取り後
に前記支持体にとどまった洗浄液残分が未乾燥状態のう
ちにその上に前記塗布液を過剰量塗布したのちに、第二
掻き落とし部にて前記塗布液の表面側の一部分を掻き取
って該塗布液の塗布量を計量塗布することを特徴とする
有機溶剤系塗布液の塗布方法によって達成される。ま
た、上記方法において、前記洗浄液の表面張力をσｃ
（ｄｙｎｅ／ｃｍ），前記塗布液の表面張力σｌ（ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ）とした場合において、前記洗浄液の表面張
力がσｌ−７≦σｃ≦σｌなる関係を満足する塗布方法
によっても同様の目的を達成することができる。
【０００８】
【実施態様】以下、本発明の有機溶剤系塗布液の塗布方
法の一実施態様について図１を参照して説明するが、本
実施態様は磁気記録媒体を製造する設備に本発明の方法
を適用したものである。図１に示す磁気記録媒体の製造
設備は、支持体Ｗの走行方向（矢印Ａ）の上流側から、
洗浄液２８を塗布する洗浄液塗布部２０、第一掻き取り
部１、下塗り液塗布部３０、第二掻き取り部４０が順次
配置されている。前記洗浄液塗布部２０は開放型の容器
２４中に前記洗浄液２８が入っており、該洗浄液２８に
塗布ローラ２７が浸漬される一方、該塗布ローラ２７は
搬送ローラ２３、２５間の掛け渡された前記支持体Ｗに
当接する構造となている。したがって、前記支持体Ｗと
同期した前記塗布ローラ２７の回転により所定量の前記
洗浄液２８を支持体上に塗布することができる。
法の一実施態様について図１を参照して説明するが、本
実施態様は磁気記録媒体を製造する設備に本発明の方法
を適用したものである。図１に示す磁気記録媒体の製造
設備は、支持体Ｗの走行方向（矢印Ａ）の上流側から、
洗浄液２８を塗布する洗浄液塗布部２０、第一掻き取り
部１、下塗り液塗布部３０、第二掻き取り部４０が順次
配置されている。前記洗浄液塗布部２０は開放型の容器
２４中に前記洗浄液２８が入っており、該洗浄液２８に
塗布ローラ２７が浸漬される一方、該塗布ローラ２７は
搬送ローラ２３、２５間の掛け渡された前記支持体Ｗに
当接する構造となている。したがって、前記支持体Ｗと
同期した前記塗布ローラ２７の回転により所定量の前記
洗浄液２８を支持体上に塗布することができる。
【０００９】前記ロッド３の上端表面と支持体表面間の
間隙は、プレコートされた洗浄液の粘度が低い程小さく
なり、異物除去精度が向上するため、粘度は小さいこと
がが望ましい。又、前記洗浄液２８は、例えばメチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル、酢
酸イソブチル、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン
等を主成分とすることができ、必要に応じて界面活性剤
や異物の溶解能を持つ物質を添加し、物理的剥離作用に
化学的な異物除去作用を加えて洗浄効果を助長すること
もできる。
間隙は、プレコートされた洗浄液の粘度が低い程小さく
なり、異物除去精度が向上するため、粘度は小さいこと
がが望ましい。又、前記洗浄液２８は、例えばメチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル、酢
酸イソブチル、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン
等を主成分とすることができ、必要に応じて界面活性剤
や異物の溶解能を持つ物質を添加し、物理的剥離作用に
化学的な異物除去作用を加えて洗浄効果を助長すること
もできる。
【００１０】なお、本発明における前記支持体Ｗとは、
一般に巾が数ｃｍ乃至数ｍ、長さが数１０ｍ以上、厚さ
が数μｍ乃至数１００μｍのポリエチレンテレフタレー
ト、ホリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロース
ダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロー
スプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、等の
プラスチックフイルム；紙にポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０の
α−ポリオレフイン類を塗布又はラミネートした紙；ア
ルミニウム、銅、錫等の金属箔からなる可撓性帯状物、
あるいは該帯状物を基材としてその表面に予備的な加工
層を形成せしめてある帯状物が含まれる。
一般に巾が数ｃｍ乃至数ｍ、長さが数１０ｍ以上、厚さ
が数μｍ乃至数１００μｍのポリエチレンテレフタレー
ト、ホリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロース
ダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロー
スプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、等の
プラスチックフイルム；紙にポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０の
α−ポリオレフイン類を塗布又はラミネートした紙；ア
ルミニウム、銅、錫等の金属箔からなる可撓性帯状物、
あるいは該帯状物を基材としてその表面に予備的な加工
層を形成せしめてある帯状物が含まれる。
【００１１】図１に示す第一掻き落とし部１は、種々の
装置を利用できるがここにはブレードの一例を示す。こ
の図においてはバックアップロールにより支持されてい
ない前記支持体Ｗをブレード４が加圧接触（実際には洗
浄液により被接触である）した状態で、該支持体上の付
着物除去の様子を示す。ここで掻き落とされた前記洗浄
液２８は図示しない送液系により適宜フィルタを通過す
る等して前記洗浄液塗布部２０に還流させることができ
る。前記ブレード４は前記支持体Ｗと対峙するブレード
面１２が、例えば２ｍｍ〜３０ｍｍの曲率γでわん曲し
た構成である。そして、前記支持体Ｗを前記ブレード面
１２のわん曲面に対して支持体進入角度等を調整して適
宜ラップさせると共に、支持体張力を適宜調節すること
により所望する異物の掻き落としと共に、前記洗浄液２
８の薄膜層を形成することができる。
装置を利用できるがここにはブレードの一例を示す。こ
の図においてはバックアップロールにより支持されてい
ない前記支持体Ｗをブレード４が加圧接触（実際には洗
浄液により被接触である）した状態で、該支持体上の付
着物除去の様子を示す。ここで掻き落とされた前記洗浄
液２８は図示しない送液系により適宜フィルタを通過す
る等して前記洗浄液塗布部２０に還流させることができ
る。前記ブレード４は前記支持体Ｗと対峙するブレード
面１２が、例えば２ｍｍ〜３０ｍｍの曲率γでわん曲し
た構成である。そして、前記支持体Ｗを前記ブレード面
１２のわん曲面に対して支持体進入角度等を調整して適
宜ラップさせると共に、支持体張力を適宜調節すること
により所望する異物の掻き落としと共に、前記洗浄液２
８の薄膜層を形成することができる。
【００１２】このようにして前記支持体Ｗの表面に付着
した異物を除去したのちは、前記洗浄液２８の薄膜層が
形成されている。そして、引き続いてこの薄膜層が乾燥
する前に搬送ローラ３３と３４との間において、前記下
塗り液塗布部３０の塗布ヘッド３１により下塗り液３２
を後で掻き落とすことを想定して過剰に塗布する。な
お、前記塗布ヘッド３１には図示しない給液系により前
記下塗り液３２がポケットに供給されている。このよう
に、前記洗浄液２８により濡れている面に前記下塗り液
３２を塗布することは、該下塗り液３２が前記支持体上
への濡れ性が飛躍的に向上され、該下塗り液３２の高速
塗布性を極めて向上することができる。前記洗浄液２８
に界面活性剤が含まれている場合にも、濡れ性が向上す
る。
した異物を除去したのちは、前記洗浄液２８の薄膜層が
形成されている。そして、引き続いてこの薄膜層が乾燥
する前に搬送ローラ３３と３４との間において、前記下
塗り液塗布部３０の塗布ヘッド３１により下塗り液３２
を後で掻き落とすことを想定して過剰に塗布する。な
お、前記塗布ヘッド３１には図示しない給液系により前
記下塗り液３２がポケットに供給されている。このよう
に、前記洗浄液２８により濡れている面に前記下塗り液
３２を塗布することは、該下塗り液３２が前記支持体上
への濡れ性が飛躍的に向上され、該下塗り液３２の高速
塗布性を極めて向上することができる。前記洗浄液２８
に界面活性剤が含まれている場合にも、濡れ性が向上す
る。
【００１３】この下塗り液は粘度が１０ｃｐ以下、望ま
しくは５ｃｐ以下の有機溶剤系の塗布液であり、有機溶
剤を８０％以上含んだものであり、この有機溶剤として
は、例えばメチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレ
ン、シクロヘキサノン等を挙げることができ、有機溶剤
以外の物質としては例えばアニオン系、カチオン系の界
面活性剤等を含んでもかまわない。
しくは５ｃｐ以下の有機溶剤系の塗布液であり、有機溶
剤を８０％以上含んだものであり、この有機溶剤として
は、例えばメチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレ
ン、シクロヘキサノン等を挙げることができ、有機溶剤
以外の物質としては例えばアニオン系、カチオン系の界
面活性剤等を含んでもかまわない。
【００１４】これは、本発明において粘度が１０ｃｐ以
下の前記下塗り液３２、特に５ｃｐ以下の下塗り液を前
記支持体Ｗに塗布する場合の塗り付けには、前記下塗り
液３２の粘度より濡れ性が支配的となる結果、前記洗浄
液２８の未乾燥の薄膜層により前記支持体Ｗの表面が実
質的に改質され、前記下塗り液３２の高速薄層性が向上
することになる。また、一般的には、濡れの古典的な理
論によると、有機液体がすでに濡れ拡がっている別の有
機液体上に拡がるためには、先に塗布されている液体の
表面張力がその上に塗布する表面張力よりも低いことが
必要とされているが、本発明者らの検討によると必ずし
もその必要はなく、前記洗浄液２８の表面張力をσｃ
（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とし、前記下塗り液３２の表面張力
σｌ（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とした場合、σｌ−７≦σｃ≦
σｌなる関係を満足する範囲にすることにより、前記下
塗り液２８（塗布液）の高速薄層性を極めて良好に保つ
ことができた。
下の前記下塗り液３２、特に５ｃｐ以下の下塗り液を前
記支持体Ｗに塗布する場合の塗り付けには、前記下塗り
液３２の粘度より濡れ性が支配的となる結果、前記洗浄
液２８の未乾燥の薄膜層により前記支持体Ｗの表面が実
質的に改質され、前記下塗り液３２の高速薄層性が向上
することになる。また、一般的には、濡れの古典的な理
論によると、有機液体がすでに濡れ拡がっている別の有
機液体上に拡がるためには、先に塗布されている液体の
表面張力がその上に塗布する表面張力よりも低いことが
必要とされているが、本発明者らの検討によると必ずし
もその必要はなく、前記洗浄液２８の表面張力をσｃ
（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とし、前記下塗り液３２の表面張力
σｌ（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とした場合、σｌ−７≦σｃ≦
σｌなる関係を満足する範囲にすることにより、前記下
塗り液２８（塗布液）の高速薄層性を極めて良好に保つ
ことができた。
【００１５】上述のように前記下塗り液３２が塗布され
たのちに、引き続いて前記下塗り液３２（層）が乾燥す
る前に搬送ローラ３４と３５との間において、前記第二
掻き落とし部４０により余剰分を掻き落とす。前記掻き
落とし部４０は、例えば図示の如く磁性塗布液４２を塗
布する塗布ヘッド４１により構成することができる。す
なわち、前記塗布ヘッド４１はそのフロントエッジ４３
（支持体走行方向の上流側のエッジをいう）により前記
下塗り液３２を掻き落とし計量して所定に膜厚にすると
共に、該フロントエッジ４３とバックエッジ４４（支持
体走行方向の下流側のエッジをいう）とにより構成され
たスリットから前記磁性塗布液４２が塗布される。な
お、前記塗布ヘッド４１には図示しない給液系により前
記磁性塗布液４２がポケットに供給されている。このよ
うに塗布工程が終了したのちは、例えば乾燥工程やカレ
ンダー工程等を経たのち適宜巻き取られる。
たのちに、引き続いて前記下塗り液３２（層）が乾燥す
る前に搬送ローラ３４と３５との間において、前記第二
掻き落とし部４０により余剰分を掻き落とす。前記掻き
落とし部４０は、例えば図示の如く磁性塗布液４２を塗
布する塗布ヘッド４１により構成することができる。す
なわち、前記塗布ヘッド４１はそのフロントエッジ４３
（支持体走行方向の上流側のエッジをいう）により前記
下塗り液３２を掻き落とし計量して所定に膜厚にすると
共に、該フロントエッジ４３とバックエッジ４４（支持
体走行方向の下流側のエッジをいう）とにより構成され
たスリットから前記磁性塗布液４２が塗布される。な
お、前記塗布ヘッド４１には図示しない給液系により前
記磁性塗布液４２がポケットに供給されている。このよ
うに塗布工程が終了したのちは、例えば乾燥工程やカレ
ンダー工程等を経たのち適宜巻き取られる。
【００１６】前記実施態様においては前記第一掻き取り
部１にブレードタイプの装置を用いたが、本発明は図２
に示すように変更することができる。なお、図２に示す
装置は図１における搬送ローラ２５と３３との間に配置
するもので、この場合、前記洗浄液塗布部２０を後述す
るように省略することができる。図２に示す前記第一掻
き取り部１は、搬送ローラ２５，３３間において前記支
持体Ｗの除塵すべき表面と若干のラップ角を以って接触
可能（支持体裏面はバックアップロール１９により適宜
支持されている）にロッド３が配置されている。前記ロ
ッド３は前記支持体Ｗの走行方向Ａと反対方向Ｂに適宜
速度、例えば０．１ｃｍ／ｓｅｃ程度の速度にて回転す
るように構成されてしる。尚、前記ロッド３の回転駆動
源は、低速度の回転出力が得られるものであれば何れの
タイプでも良いが、溶剤ガス濃度等の環境安全性を考慮
すれば油圧または空圧のモータが好ましい。
部１にブレードタイプの装置を用いたが、本発明は図２
に示すように変更することができる。なお、図２に示す
装置は図１における搬送ローラ２５と３３との間に配置
するもので、この場合、前記洗浄液塗布部２０を後述す
るように省略することができる。図２に示す前記第一掻
き取り部１は、搬送ローラ２５，３３間において前記支
持体Ｗの除塵すべき表面と若干のラップ角を以って接触
可能（支持体裏面はバックアップロール１９により適宜
支持されている）にロッド３が配置されている。前記ロ
ッド３は前記支持体Ｗの走行方向Ａと反対方向Ｂに適宜
速度、例えば０．１ｃｍ／ｓｅｃ程度の速度にて回転す
るように構成されてしる。尚、前記ロッド３の回転駆動
源は、低速度の回転出力が得られるものであれば何れの
タイプでも良いが、溶剤ガス濃度等の環境安全性を考慮
すれば油圧または空圧のモータが好ましい。
【００１７】前記ロッド３は通常、直径１ｍｍφ〜５０
ｍｍφの少くともその表面材質が超硬合金（例えばＷＣ
−ＴＡＣ）、又は硬質体〔ファインセラミックス（例え
ば、アルミナＡ−１５０、ジルコニア）〕をＲｍａｘで
１．０μｍ〜０．０５μｍの表面あらさに仕上げたもの
を用いることができる。また、前記ロッド３の面長は前
記支持体Ｗの全幅よりも当然大きく設定されている。
又、前記ロッド３は、該ロッド３の面長とほぼ同等の幅
を有したブロック５によって回転自在に保持されてい
る。前記ブロック５は、その内部を二つに分けるスリッ
ト６，７が隔壁８，９，１０により画成されている。前
記隔壁９及び１０の上端面は前記ロッド３を保持するた
め、その上端部分が前記ロッドとほゞ同等の半径を以っ
て湾曲面化され、更に下流側の隔壁１０はその湾曲上端
面よりも下方に液出口１１が適当な間隔で幅方向に複数
個透設されている。前記隔壁１０の外側には外壁によっ
て画成された液溜め１３が設けられている。
ｍｍφの少くともその表面材質が超硬合金（例えばＷＣ
−ＴＡＣ）、又は硬質体〔ファインセラミックス（例え
ば、アルミナＡ−１５０、ジルコニア）〕をＲｍａｘで
１．０μｍ〜０．０５μｍの表面あらさに仕上げたもの
を用いることができる。また、前記ロッド３の面長は前
記支持体Ｗの全幅よりも当然大きく設定されている。
又、前記ロッド３は、該ロッド３の面長とほぼ同等の幅
を有したブロック５によって回転自在に保持されてい
る。前記ブロック５は、その内部を二つに分けるスリッ
ト６，７が隔壁８，９，１０により画成されている。前
記隔壁９及び１０の上端面は前記ロッド３を保持するた
め、その上端部分が前記ロッドとほゞ同等の半径を以っ
て湾曲面化され、更に下流側の隔壁１０はその湾曲上端
面よりも下方に液出口１１が適当な間隔で幅方向に複数
個透設されている。前記隔壁１０の外側には外壁によっ
て画成された液溜め１３が設けられている。
【００１８】一方、前記スリット６及び７は、前記洗浄
液２８と同じ液の供給タンク１５，加圧ポンプ１６，フ
ィルタ１７から成る溶剤供給系に連通し、その内部を溶
剤で満たし、その大部分の溶剤は前記スリット６上部及
び前記液出口１１から前記液溜め１３に排出され、必要
に応じ前記溶剤供給タンク１５に回収される。以上の様
に構成される装置は、前記支持体１を矢印Ａ方向に走行
させると除塵すべき前記支持体１の表面付着物１８は、
該支持体１と反対方向Ｂに回転する前記ロッド３の表面
に近接すると、該ロッド３の回転とスリット６より支持
体に塗布された溶剤の作用により前記支持体１の表面か
ら分離して、前記ロッド３の表面に転着し、更に前記ロ
ッド３の回転によって前記スリット６の上端部まで運ば
れる。
液２８と同じ液の供給タンク１５，加圧ポンプ１６，フ
ィルタ１７から成る溶剤供給系に連通し、その内部を溶
剤で満たし、その大部分の溶剤は前記スリット６上部及
び前記液出口１１から前記液溜め１３に排出され、必要
に応じ前記溶剤供給タンク１５に回収される。以上の様
に構成される装置は、前記支持体１を矢印Ａ方向に走行
させると除塵すべき前記支持体１の表面付着物１８は、
該支持体１と反対方向Ｂに回転する前記ロッド３の表面
に近接すると、該ロッド３の回転とスリット６より支持
体に塗布された溶剤の作用により前記支持体１の表面か
ら分離して、前記ロッド３の表面に転着し、更に前記ロ
ッド３の回転によって前記スリット６の上端部まで運ば
れる。
【００１９】なお、前記洗浄剤塗布部２０で塗布した前
記洗浄液２８によって、支持体表面に付着していた異物
は浮き上がり、洗浄液によってその表面が湿潤化された
前記ロッド３は、回転を続けることにより湿潤化した表
面に付着物を巻き込む作用によって、支持体表面に傷等
を付けることなく効果的に該付着物（異物）を除去でき
る。一方，前記ロッド３の表面に転着した付着物１８
は、前記スリット６及び７の端部を通過している間に、
該スリット６及び７内に供給されている溶剤の洗浄作用
によって前記ロッド３の表面から分離し、前記スリット
６の下部及び前記液出口１１を経て外部に排出される。
この異物を含んだ洗浄液は、例えば図示のように前記供
給タンク１５にポンプ１４等を介して戻したり、或は適
当なフィルタにより異物除去をして前記容器１４に供給
したすることができる。
記洗浄液２８によって、支持体表面に付着していた異物
は浮き上がり、洗浄液によってその表面が湿潤化された
前記ロッド３は、回転を続けることにより湿潤化した表
面に付着物を巻き込む作用によって、支持体表面に傷等
を付けることなく効果的に該付着物（異物）を除去でき
る。一方，前記ロッド３の表面に転着した付着物１８
は、前記スリット６及び７の端部を通過している間に、
該スリット６及び７内に供給されている溶剤の洗浄作用
によって前記ロッド３の表面から分離し、前記スリット
６の下部及び前記液出口１１を経て外部に排出される。
この異物を含んだ洗浄液は、例えば図示のように前記供
給タンク１５にポンプ１４等を介して戻したり、或は適
当なフィルタにより異物除去をして前記容器１４に供給
したすることができる。
【００２０】前記実施態様においては、前記第二掻き落
とし部４０に塗布ヘッド４１を用いた構成としたが、本
発明における第二下記落とし部の構成は、前記下塗り液
３２を掻き落として計量する機能を有していればよく、
単なるブレード状の掻き落とし手段でもよい。なお、前
記第二掻き落とし部４０が単なるブレード状の掻き落と
し手段にて構成された場合は、前記下塗り液３２が計量
されて未乾燥な状態において前記磁性塗布液４２を塗布
したり、或は乾燥後塗布することができる。また、本発
明における第一掻き落とし部の態様は図１及び図２に示
すような実施態様に限定されるものではなく、例えば図
３に示すような装置を用いることが出来る。
とし部４０に塗布ヘッド４１を用いた構成としたが、本
発明における第二下記落とし部の構成は、前記下塗り液
３２を掻き落として計量する機能を有していればよく、
単なるブレード状の掻き落とし手段でもよい。なお、前
記第二掻き落とし部４０が単なるブレード状の掻き落と
し手段にて構成された場合は、前記下塗り液３２が計量
されて未乾燥な状態において前記磁性塗布液４２を塗布
したり、或は乾燥後塗布することができる。また、本発
明における第一掻き落とし部の態様は図１及び図２に示
すような実施態様に限定されるものではなく、例えば図
３に示すような装置を用いることが出来る。
【００２１】又、図３に示す構造の場合は、バックアッ
プロールがない場合で基本的には図１と同様な原理によ
る掻き落としである。この場合、スリット７より供給さ
れる例えば洗浄液が前記支持体Ｗの進行方向と逆に回転
するロッド３によって殆ど除かれ、薄層塗布状態に計量
塗布せられ掻き取った液が上流側の隔壁９の斜面を伝っ
て流出する状況を示している。なお、前記ロッド３は下
流側の隔壁１０の頂上において適宜支えられ回転可能に
なっている。
プロールがない場合で基本的には図１と同様な原理によ
る掻き落としである。この場合、スリット７より供給さ
れる例えば洗浄液が前記支持体Ｗの進行方向と逆に回転
するロッド３によって殆ど除かれ、薄層塗布状態に計量
塗布せられ掻き取った液が上流側の隔壁９の斜面を伝っ
て流出する状況を示している。なお、前記ロッド３は下
流側の隔壁１０の頂上において適宜支えられ回転可能に
なっている。
【００２２】また、本発明においては、上記図１乃至図
３に示した第一掻き落とし部は、当然のことながら第二
掻き落とし部として使用することができるものである。
本発明における有機溶剤系の塗布液としては冒頭に述べ
たように、上記の如く磁気記録媒体の製造時の下塗り
液、支持体路面側に塗布するバック層塗布液、表面処理
液等の種々のものを意味するものである。
３に示した第一掻き落とし部は、当然のことながら第二
掻き落とし部として使用することができるものである。
本発明における有機溶剤系の塗布液としては冒頭に述べ
たように、上記の如く磁気記録媒体の製造時の下塗り
液、支持体路面側に塗布するバック層塗布液、表面処理
液等の種々のものを意味するものである。
【００２３】本発明を実施できる装置としては、上述の
ように各種装置を利用できるが、前記実施態様に図示し
た以外に、冒頭にも述べたように、特開昭５７−１５６
０６６号公報に開示された装置、特開昭５９−１５０５
７１号公報に開示された装置等を利用することもきる。
また、洗浄液の塗布装置についても、図１に示す装置に
限定するものではなく、従来しられている種々の装置を
利用することができるものである。
ように各種装置を利用できるが、前記実施態様に図示し
た以外に、冒頭にも述べたように、特開昭５７−１５６
０６６号公報に開示された装置、特開昭５９−１５０５
７１号公報に開示された装置等を利用することもきる。
また、洗浄液の塗布装置についても、図１に示す装置に
限定するものではなく、従来しられている種々の装置を
利用することができるものである。
【００２４】
【発明の効果】以上のべたように、本発明は、有機溶剤
系の塗布液を走行する可撓性支持体上に塗布するとき
に、予め洗浄液を前記支持体に過剰量塗布し、該洗浄液
を第一掻き落とし部にて掻き取り、この掻き取り後に前
記支持体にとどまった洗浄液残分が未乾燥状態のうちに
その上に前記塗布液を塗布するので、すなわち前記塗布
液を塗布する面が前記洗浄液により濡れているので、前
記支持体上への濡れ性が飛躍的に向上され、該塗布液の
高速塗布性を極めて向上すると共に、この塗り付け性の
向上によって塗布厚みの均一化並びに塗布ズジ等の欠陥
の低減ができるので、その後の前記塗布液を第二掻き落
とし部において該塗布液の表面側の一部分を掻き取ると
きの該塗布液の計量塗布が安定し、正確にできる。した
がって、前記塗布液の上に例えば磁性塗布液をさらに塗
着する場合、該磁性塗布液の塗布の安定化に寄与するこ
とができる。
系の塗布液を走行する可撓性支持体上に塗布するとき
に、予め洗浄液を前記支持体に過剰量塗布し、該洗浄液
を第一掻き落とし部にて掻き取り、この掻き取り後に前
記支持体にとどまった洗浄液残分が未乾燥状態のうちに
その上に前記塗布液を塗布するので、すなわち前記塗布
液を塗布する面が前記洗浄液により濡れているので、前
記支持体上への濡れ性が飛躍的に向上され、該塗布液の
高速塗布性を極めて向上すると共に、この塗り付け性の
向上によって塗布厚みの均一化並びに塗布ズジ等の欠陥
の低減ができるので、その後の前記塗布液を第二掻き落
とし部において該塗布液の表面側の一部分を掻き取ると
きの該塗布液の計量塗布が安定し、正確にできる。した
がって、前記塗布液の上に例えば磁性塗布液をさらに塗
着する場合、該磁性塗布液の塗布の安定化に寄与するこ
とができる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明の効果を実施例を用いて更に明
らかにすることができる。 （実施例−１） ◎洗浄液塗布部兼第一掻き落とし部として用いた洗浄装
置は、図３に示したロッドバーコータ型のもので、この
ロッドバー３の直径は１．０ｍｍ、回転は反支持体走行
方向５０ｒｐｍである。また、塗布液（下塗り液）を塗
布する塗布装置（第二掻き落とし部）も、図３のロッド
バーコータで、ロッドバー３の直径は４．０ｍｍ、回転
は反支持体走行方向５０ｒｐｍである。 ◎ 支持体； 材質 ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム 厚さ １０μｍ 幅 ３００ｍｍ 張力 ５ｋｇｗ／３００ｍｍ ◎ 洗浄液； シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ンの混合液。両者の成分比によって表面張力を調整し
た。なお表面張力の数値は溶剤ハンドブック（浅原照三
他編、講談社、昭和５１年度版）記載のものを用い、混
合液の値については両溶媒のそれを体積平均した。粘度
は成分比により０．４〜２．２ｃｐとなった。 ◎ 塗布液； ポリエステル（富士フィルム製スタフ
ィックス）４重量％をシクロヘキサノン、メチルエチル
ケトンの混合溶媒に溶解した。表面張力の調整と数値の
扱いは洗浄液同様。 なお、前記塗布液の粘度を調整して塗布したところ、粘
度が１０ｃｐ以上である塗布ができなかった。又、塗布
厚みは１０ｃｃ／ｍ2 とした。洗浄液の表面張力及び塗
布液の表面張力の測定範囲は共に２４〜３４（ｄｙｎｅ
／ｃｍ）の範囲とした。この結果を表２に示す。又、比
較例として実施例の効果をみるために支持体塗布面が乾
燥状態における前記塗布液の塗布上限速度を測定した。
このときに塗布液の粘度は５ｃｐであり、また表面張力
は２４〜３４（ｄｙｎｅ／ｃｍ）の範囲について行っ
た。この結果を表１に示す。
らかにすることができる。 （実施例−１） ◎洗浄液塗布部兼第一掻き落とし部として用いた洗浄装
置は、図３に示したロッドバーコータ型のもので、この
ロッドバー３の直径は１．０ｍｍ、回転は反支持体走行
方向５０ｒｐｍである。また、塗布液（下塗り液）を塗
布する塗布装置（第二掻き落とし部）も、図３のロッド
バーコータで、ロッドバー３の直径は４．０ｍｍ、回転
は反支持体走行方向５０ｒｐｍである。 ◎ 支持体； 材質 ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム 厚さ １０μｍ 幅 ３００ｍｍ 張力 ５ｋｇｗ／３００ｍｍ ◎ 洗浄液； シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ンの混合液。両者の成分比によって表面張力を調整し
た。なお表面張力の数値は溶剤ハンドブック（浅原照三
他編、講談社、昭和５１年度版）記載のものを用い、混
合液の値については両溶媒のそれを体積平均した。粘度
は成分比により０．４〜２．２ｃｐとなった。 ◎ 塗布液； ポリエステル（富士フィルム製スタフ
ィックス）４重量％をシクロヘキサノン、メチルエチル
ケトンの混合溶媒に溶解した。表面張力の調整と数値の
扱いは洗浄液同様。 なお、前記塗布液の粘度を調整して塗布したところ、粘
度が１０ｃｐ以上である塗布ができなかった。又、塗布
厚みは１０ｃｃ／ｍ2 とした。洗浄液の表面張力及び塗
布液の表面張力の測定範囲は共に２４〜３４（ｄｙｎｅ
／ｃｍ）の範囲とした。この結果を表２に示す。又、比
較例として実施例の効果をみるために支持体塗布面が乾
燥状態における前記塗布液の塗布上限速度を測定した。
このときに塗布液の粘度は５ｃｐであり、また表面張力
は２４〜３４（ｄｙｎｅ／ｃｍ）の範囲について行っ
た。この結果を表１に示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】ここで、表１の塗布上限速度を基準にし
て、表２における塗布上限速度をの向上（効果）をしら
べた。この結果、表２中にボーダーラインＢ１とボーダ
ーラインＢ２とによって挟まれた領域において、塗布可
能な上限速度の向上をみることができた。この結果を表
面張力の式で表すと、σｌ−７≦σｃ≦σｌの条件下で
表１よりも高速塗布が可能であることがわかる。
て、表２における塗布上限速度をの向上（効果）をしら
べた。この結果、表２中にボーダーラインＢ１とボーダ
ーラインＢ２とによって挟まれた領域において、塗布可
能な上限速度の向上をみることができた。この結果を表
面張力の式で表すと、σｌ−７≦σｃ≦σｌの条件下で
表１よりも高速塗布が可能であることがわかる。
【００２９】（実施例−２）支持体の材質をポリエチレ
ンナフタレートフィルムとし、これ以外は実施例−１と
同一態様で同様の実験を行なった。この条件において洗
浄液、塗布液の表面張力に対する塗布可能な上限塗布速
度を表４に示す。
ンナフタレートフィルムとし、これ以外は実施例−１と
同一態様で同様の実験を行なった。この条件において洗
浄液、塗布液の表面張力に対する塗布可能な上限塗布速
度を表４に示す。
【００３０】
【表３】
【００３１】ここでも、表１の塗布上限速度を基準にし
て、表３における塗布上限速度をの向上をしらべた。こ
の結果、表３中にボーダーラインＢ１とボーダーライン
Ｂ２とによって挟まれた領域において、塗布可能な上限
速度の向上をみることができた。この結果を表面張力の
式で表すと、実施例１と同様にσｌ−７≦σｃ≦σｌの
条件下で表１よりも高速塗布が可能であることがわか
る。
て、表３における塗布上限速度をの向上をしらべた。こ
の結果、表３中にボーダーラインＢ１とボーダーライン
Ｂ２とによって挟まれた領域において、塗布可能な上限
速度の向上をみることができた。この結果を表面張力の
式で表すと、実施例１と同様にσｌ−７≦σｃ≦σｌの
条件下で表１よりも高速塗布が可能であることがわか
る。
【００３２】（実施例−３）洗浄液をシクロヘキサノ
ン、エタノールの混合液とし、粘度が１．１〜２．２ｃ
ｐの場合であり、これ以外は実施例−１と同一態様で同
様の実験を行なった。この条件における洗浄液、塗布液
の表面張力に対する塗布可能な上限塗布速度を表４に示
す。
ン、エタノールの混合液とし、粘度が１．１〜２．２ｃ
ｐの場合であり、これ以外は実施例−１と同一態様で同
様の実験を行なった。この条件における洗浄液、塗布液
の表面張力に対する塗布可能な上限塗布速度を表４に示
す。
【００３３】
【表４】
【００３４】ここでも、表１の塗布上限速度を基準にし
て、表４における塗布上限速度をの向上をしらべた。こ
の結果、表４中にボーダーラインＢ１とボーダーライン
Ｂ２とによって挟まれた領域において、塗布可能な上限
速度の向上をみることができた。この結果を表面張力の
式で表すと、実施例１と同様にσｌ−７≦σｃ≦σｌの
条件下で表１よりも高速塗布が可能であることがわか
る。
て、表４における塗布上限速度をの向上をしらべた。こ
の結果、表４中にボーダーラインＢ１とボーダーライン
Ｂ２とによって挟まれた領域において、塗布可能な上限
速度の向上をみることができた。この結果を表面張力の
式で表すと、実施例１と同様にσｌ−７≦σｃ≦σｌの
条件下で表１よりも高速塗布が可能であることがわか
る。
【図１】本発明の塗布方法を適用した一実施態様の塗布
設備の概略図である。
設備の概略図である。
【図２】本発明に第一掻き落とし部或は第二掻き落とし
部に適用する装置の概略図である。
部に適用する装置の概略図である。
【図３】本発明に第一掻き落とし部或は第二掻き落とし
部に適用する他の装置の概略図である。
部に適用する他の装置の概略図である。
１ 支持体 ３ ロッド ４ ブレード ５ ブロック ６，７，スリット ８，９，１０ 隔壁 １１ 液出口 １２ ブレード面 １３ 液溜め １４ ポンプ １５ 供給タンク １６ 加圧ポンプ １７ フイルタ ２３、２５、３３、３４、３５ 搬送ローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/842 Ｚ 7303−5Ｄ // Ｂ０５Ｃ 5/02 9045−4Ｄ 11/04 6804−4Ｄ
Claims (2)
- 【請求項１】 有機溶剤系の塗布液を走行する可撓性支
持体上に塗布するときに、予め洗浄液を前記支持体に過
剰量塗布し、該洗浄液を第一掻き落とし部にて掻き取
り、この掻き取り後に前記支持体にとどまった洗浄液残
分が未乾燥状態のうちにその上に前記塗布液を過剰量塗
布したのちに、第二掻き落とし部にて前記塗布液の表面
側の一部分を掻き取って該塗布液の塗布量を計量塗布す
ることを特徴とする有機溶剤系塗布液の塗布方法。 - 【請求項２】 前記有機溶剤が１０ｃｐ以下の粘度であ
り、前記洗浄液の表面張力をσｃ（ｄｙｎｅ／ｃｍ），
前記塗布液の表面張力σｌ（ｄｙｎｅ／ｃｍ）とした場
合において、前記洗浄液の表面張力がσｌ−７≦σｃ≦
σｌなる関係を満足することを特徴とする請求項１記載
の有機溶剤系塗布液の塗布方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04122614A JP3097786B2 (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 有機溶剤系塗布液の塗布方法 |
| US08/045,251 US5306523A (en) | 1992-04-16 | 1993-04-13 | Method of applying organic solvent-based coating solution |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04122614A JP3097786B2 (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 有機溶剤系塗布液の塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05293426A true JPH05293426A (ja) | 1993-11-09 |
| JP3097786B2 JP3097786B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=14840315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04122614A Expired - Fee Related JP3097786B2 (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 有機溶剤系塗布液の塗布方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5306523A (ja) |
| JP (1) | JP3097786B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001019534A1 (en) * | 1999-09-10 | 2001-03-22 | Tdk Corporation | Coating method |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3282062B2 (ja) * | 1994-12-16 | 2002-05-13 | コニカ株式会社 | 塗布方法 |
| JPH0975814A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
| JP3254574B2 (ja) | 1996-08-30 | 2002-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及びその装置 |
| JP4046808B2 (ja) * | 1997-07-16 | 2008-02-13 | 富士フイルム株式会社 | ベースフィルムの除塵方法及び装置 |
| ATE289424T1 (de) * | 1998-10-27 | 2005-03-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Beschichtungsverfahren |
| WO2001036111A2 (de) * | 1999-11-13 | 2001-05-25 | Citius Bürotechnik Gmbh | Verfahren zur herstellung eines mit einem klebstoff beschichteten folienartigen trägermaterials |
| US6326319B1 (en) | 2000-07-03 | 2001-12-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for coating ultra-thin resist films |
| JP2002059062A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-02-26 | Konica Corp | エクストルージョン塗布方法、エクストルージョン塗布装置 |
| DE10141514A1 (de) | 2000-08-25 | 2002-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabbeschichtungsverfahren und -vorrichtung |
| JP2002182375A (ja) * | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版製造方法及び平版印刷版製造装置 |
| IT1319728B1 (it) * | 2000-12-22 | 2003-11-03 | Tocchio S R L | Metodo e apparecchiatura per la realizzazione di rivestimentiprotettivi ad elevata resistenza all'abrasione, in particolare per il |
| US7329437B2 (en) * | 2001-08-17 | 2008-02-12 | Fujifilm Corporation | Coating method and coating apparatus |
| US7344786B2 (en) * | 2001-10-29 | 2008-03-18 | Fujifilm Corporation | Magnetic recording medium including a smooth coating layer on one side of the support |
| US6818062B2 (en) * | 2001-10-29 | 2004-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and apparatus |
| JP2003251256A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
| US7354479B2 (en) * | 2002-06-12 | 2008-04-08 | Fujifilm Corporation | Coating device, and coating method using said device |
| EP1424689B1 (en) * | 2002-11-27 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
| JP2007038079A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Fujifilm Holdings Corp | 塗布方法及び装置 |
| US8852357B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-10-07 | Ppg Industries Ohio, Inc | Rheology modified pretreatment compositions and associated methods of use |
| EP2830785A1 (en) * | 2012-03-28 | 2015-02-04 | Tarkett GDL | Multilayer surface covering |
| EP3851210B1 (en) * | 2020-01-14 | 2025-12-24 | Jesús Francisco Barberan Latorre | Applicator roller |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59195320A (ja) * | 1983-04-21 | 1984-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2687245B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1997-12-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1992
- 1992-04-16 JP JP04122614A patent/JP3097786B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-04-13 US US08/045,251 patent/US5306523A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001019534A1 (en) * | 1999-09-10 | 2001-03-22 | Tdk Corporation | Coating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3097786B2 (ja) | 2000-10-10 |
| US5306523A (en) | 1994-04-26 |
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