JPS6265872A - 可撓性支持体の表面付着物除去方法及び装置 - Google Patents
可撓性支持体の表面付着物除去方法及び装置Info
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Landscapes
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- Coating Apparatus (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は可撓性支持体く以下「支持体」という)の表面
付着物を除去する方法及び装置に関するものである。
付着物を除去する方法及び装置に関するものである。
なお、本発明で言う「支持体」とは、一般に、その幅が
数α乃至数m、長さが数10m以上、厚さが数μm乃至
数100μmのポリエチレンテレフタレート、ボリエナ
レンー2.6−ナフタレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
グロビオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、等のプ
ラスチックフィルム;紙にポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレンブテン共重合体、等の炭素数が2〜10の
α−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートシた紙;ア
ルミニウム、銅、錫、等の金属箔;等から成る可撓性帯
状物、あるいは該帯状物を基材としてその表面に予備的
な加工層を形成せしめである帯状物が含まれる。
数α乃至数m、長さが数10m以上、厚さが数μm乃至
数100μmのポリエチレンテレフタレート、ボリエナ
レンー2.6−ナフタレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
グロビオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、等のプ
ラスチックフィルム;紙にポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレンブテン共重合体、等の炭素数が2〜10の
α−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートシた紙;ア
ルミニウム、銅、錫、等の金属箔;等から成る可撓性帯
状物、あるいは該帯状物を基材としてその表面に予備的
な加工層を形成せしめである帯状物が含まれる。
更に、前述した支持体は、その用途に応じた塗布液例え
ば写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護、帯電防止
あるいは滑性用塗布液、等がその表面に塗布され、乾燥
し九後、所望する幅及び長さに裁断されるものであシ、
その代表的な製品として各種写真フィルム、印画紙、磁
気テープ、磁気ディスク等が挙げられる。
ば写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護、帯電防止
あるいは滑性用塗布液、等がその表面に塗布され、乾燥
し九後、所望する幅及び長さに裁断されるものであシ、
その代表的な製品として各種写真フィルム、印画紙、磁
気テープ、磁気ディスク等が挙げられる。
従来、支持体の表面付着物を除去する方法としては、以
下に掲げる方法がよく知られている。
下に掲げる方法がよく知られている。
すなわち、まず、支持体に適当な方法で保持された不織
布或いはブレードを押しつけることにより表面付着物を
不織布或いにブレードで捕捉するという方法や又清浄度
のよい空気を高速で帯状物にぶつけて、付着物を該支持
体表面からはく離させ、近設された吸込み口に導いてゆ
くという方法がある。これらにいずれも乾式であるが、
これに対して湿式除去方法としては、洗浄液槽の中に帯
状物を導入し、こ\で超音波撮動によシ付着物をまく離
させる方法や、支持体に洗浄液を供給した後に高速空気
の吹き付けと吸引を行なう方法(特公昭49−+302
0号公報診照)等が知らnている。
布或いはブレードを押しつけることにより表面付着物を
不織布或いにブレードで捕捉するという方法や又清浄度
のよい空気を高速で帯状物にぶつけて、付着物を該支持
体表面からはく離させ、近設された吸込み口に導いてゆ
くという方法がある。これらにいずれも乾式であるが、
これに対して湿式除去方法としては、洗浄液槽の中に帯
状物を導入し、こ\で超音波撮動によシ付着物をまく離
させる方法や、支持体に洗浄液を供給した後に高速空気
の吹き付けと吸引を行なう方法(特公昭49−+302
0号公報診照)等が知らnている。
これらの方法においては、各々問題点を含んでいる。例
えば、不織布或いはブレードで捕捉する方法においては
摩擦による支持体のスリ湯発生、静電気発生、及び不織
布による場合には不織布の9維自身の脱落による支持体
表面への付着故障の発生がある。
えば、不織布或いはブレードで捕捉する方法においては
摩擦による支持体のスリ湯発生、静電気発生、及び不織
布による場合には不織布の9維自身の脱落による支持体
表面への付着故障の発生がある。
高速空気吹き付は法は、数十ミクロン以上の比較的大き
な付着物の捕捉#/cは効果があるが、小さい付着物、
或いは付着力の強い付着物については、はとんど効果が
認められない。又、上述の湿式除去法については、設備
が非常に大きくなること及び高速で走行する帯状物の付
着物除去に際しては、ミストの発生が激しく、このミス
トが周囲の設備のみならず、付着物除去後の支持体に付
着してしまう結果を招いている。
な付着物の捕捉#/cは効果があるが、小さい付着物、
或いは付着力の強い付着物については、はとんど効果が
認められない。又、上述の湿式除去法については、設備
が非常に大きくなること及び高速で走行する帯状物の付
着物除去に際しては、ミストの発生が激しく、このミス
トが周囲の設備のみならず、付着物除去後の支持体に付
着してしまう結果を招いている。
また、支持体付着物の除去能力は、一般に鋭利なブレー
ドで掻きとる方法が最も大きいが、固定の前記ブレード
のみでは該支持体にスリ傷を作シ易く、又静電気によυ
ブレード先へに付着物が固着したシ、粘着したシして実
用的には付着物除去能力として限界がらつ九。また、本
出願人は先に、ブレードによる支持体付着物の除去の改
良方法として、支持体表面に溶剤を塗布した後に2つの
プレート(ブレード)によって付着物除去後法を提案し
た(特開昭59−150571号公報〕。
ドで掻きとる方法が最も大きいが、固定の前記ブレード
のみでは該支持体にスリ傷を作シ易く、又静電気によυ
ブレード先へに付着物が固着したシ、粘着したシして実
用的には付着物除去能力として限界がらつ九。また、本
出願人は先に、ブレードによる支持体付着物の除去の改
良方法として、支持体表面に溶剤を塗布した後に2つの
プレート(ブレード)によって付着物除去後法を提案し
た(特開昭59−150571号公報〕。
この方法によると、前記の従来方法の欠点を解消するこ
とができたが、支持体のブレードへの進入方向が支持体
進入側のブレードエツジの接線方向であったため付着物
の一部がブレードの上端面に入シこみ、付着物が除去し
きれず一部支持体に残ることもめつ次。
とができたが、支持体のブレードへの進入方向が支持体
進入側のブレードエツジの接線方向であったため付着物
の一部がブレードの上端面に入シこみ、付着物が除去し
きれず一部支持体に残ることもめつ次。
従って、本発明の目的は、上記方法をさらに改良し、可
撓性支持体表面の付着物をより効果的に除去する方法及
び装置を提供することKめる。
撓性支持体表面の付着物をより効果的に除去する方法及
び装置を提供することKめる。
〔2問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、先の溶剤塗布とブレードの使用による支
持体の付層物除去方法についてさらに植々の検討を重ね
た結果、以下にのべる本発明によって前記目的が達成で
きることを見出した。
持体の付層物除去方法についてさらに植々の検討を重ね
た結果、以下にのべる本発明によって前記目的が達成で
きることを見出した。
すなわち、本発明は、取り除きたい付着物を表面に有す
る可撓性支持体に溶剤を塗布した後、溶剤が蒸発してし
まう前に該支持体面に下記の条件を満たす1枚のブレー
ドを押しつけることによシ前記俗剤の一部と共に前記付
着物を除去することを特徴とする可撓性支持体の表面付
着物除去方法1)該ブレードが該支持体の進行方向とほ
ぼ直角に配置され、 2)該ブレードは該支持体の幅方向にはその幅よシ長く
、走行方向には短かい、支持体に対峙する面を有し、 3ノ 該ブレードの該支持体と対峙する面にわん曲して
おシ、そO曲率rは2〜3011IBである、4)該ブ
レードは該支持体に対して、該支持体のブレードに進入
する角度がブレード面の進入側エツジ先端における接線
に対しく1.5〜2°の範囲で深く支持体をラップさせ
る関係にろシ、5)該ブレードの支持体進入側端エツジ
の角度が90’以下である、及び 6)該プレー・ドが超硬質合金又は硬質体又はこの材料
で少くとも表面部分を被覆し九部材よりなシ、該表面が
RmaXで0.5μm以下のあらさである。
る可撓性支持体に溶剤を塗布した後、溶剤が蒸発してし
まう前に該支持体面に下記の条件を満たす1枚のブレー
ドを押しつけることによシ前記俗剤の一部と共に前記付
着物を除去することを特徴とする可撓性支持体の表面付
着物除去方法1)該ブレードが該支持体の進行方向とほ
ぼ直角に配置され、 2)該ブレードは該支持体の幅方向にはその幅よシ長く
、走行方向には短かい、支持体に対峙する面を有し、 3ノ 該ブレードの該支持体と対峙する面にわん曲して
おシ、そO曲率rは2〜3011IBである、4)該ブ
レードは該支持体に対して、該支持体のブレードに進入
する角度がブレード面の進入側エツジ先端における接線
に対しく1.5〜2°の範囲で深く支持体をラップさせ
る関係にろシ、5)該ブレードの支持体進入側端エツジ
の角度が90’以下である、及び 6)該プレー・ドが超硬質合金又は硬質体又はこの材料
で少くとも表面部分を被覆し九部材よりなシ、該表面が
RmaXで0.5μm以下のあらさである。
又本発明は取り除き九い付層物を表面に有する可撓性支
持体の表面に溶剤を塗布する装置と、塗布された溶剤が
蒸発してしまう前に該支持体面に押し付けられ、該付着
物を前記溶剤の一部と共に除去する1枚のブレードとよ
りなり、該ブレードが次の条件を満之していることを特
徴とする可撓性支持体の表面付着物除去装置である。
持体の表面に溶剤を塗布する装置と、塗布された溶剤が
蒸発してしまう前に該支持体面に押し付けられ、該付着
物を前記溶剤の一部と共に除去する1枚のブレードとよ
りなり、該ブレードが次の条件を満之していることを特
徴とする可撓性支持体の表面付着物除去装置である。
1)該ブレードが該支持体の進行方向とほぼ直角に配置
さnl 2)該ブレードに該支持体の幅方向にはその暢より長く
、走行方向には短かい、支持体に対峙する面を有し、 3)該ブレードの該支持体と対峙する面ば2〜30露の
曲率rでわん曲しており、 4)該ブレードは該支持体に対して、該支持体のブレー
ドに進入する角度がブレード面の進入側エツジ先端にお
ける接線に対し0.5〜2°の範囲で深く支持体をラッ
プさせる関係にあり、5) 該ブレードの支持体進入側
端エツジの角度が90°以下であり、 6)該ブレードが超硬質合金又は硬質体又はこの材料で
少くとも表面部分1に被覆した部材よシなシ、該表面が
RmaXで15μm以下のめらさである。
さnl 2)該ブレードに該支持体の幅方向にはその暢より長く
、走行方向には短かい、支持体に対峙する面を有し、 3)該ブレードの該支持体と対峙する面ば2〜30露の
曲率rでわん曲しており、 4)該ブレードは該支持体に対して、該支持体のブレー
ドに進入する角度がブレード面の進入側エツジ先端にお
ける接線に対し0.5〜2°の範囲で深く支持体をラッ
プさせる関係にあり、5) 該ブレードの支持体進入側
端エツジの角度が90°以下であり、 6)該ブレードが超硬質合金又は硬質体又はこの材料で
少くとも表面部分1に被覆した部材よシなシ、該表面が
RmaXで15μm以下のめらさである。
本発明では溶剤膜を支持体表面に形成した後1枚のわん
曲した端面を有するブレードで付着物と共に該溶剤膜の
一部をかき落す方式において、該付着物をブレード端面
に入りこませないように支持体のブレードへの進入角度
を前記のように規定した。この支持体のブレードへの進
入角度について発明者らは顕微鏡を用いてブレードと支
持体の対峙する面の断面よυつぶさに観察した結果、支
持体自身は剛性を持っているものであり、ブレードの支
持体進入側のエツジのわん曲の接線方向より計算上支持
体を進入させた筈でも、支持体はその剛性のために前記
接線方向よυ前エツジ先端部で浮き上って進入すること
が明らかになった。
曲した端面を有するブレードで付着物と共に該溶剤膜の
一部をかき落す方式において、該付着物をブレード端面
に入りこませないように支持体のブレードへの進入角度
を前記のように規定した。この支持体のブレードへの進
入角度について発明者らは顕微鏡を用いてブレードと支
持体の対峙する面の断面よυつぶさに観察した結果、支
持体自身は剛性を持っているものであり、ブレードの支
持体進入側のエツジのわん曲の接線方向より計算上支持
体を進入させた筈でも、支持体はその剛性のために前記
接線方向よυ前エツジ先端部で浮き上って進入すること
が明らかになった。
その結果、前記接線方向より深くα5°〜2゜の範囲の
角度で支持体をラップさせることによシ該支持体を前記
エツジ先端に接線方向で進入させ得ることが判明した。
角度で支持体をラップさせることによシ該支持体を前記
エツジ先端に接線方向で進入させ得ることが判明した。
また、それ以上の角度で支持体をラップさせると、ブレ
ードの進入側で支持体が直接ブレードに接触し、すり傷
を発生する原因となることも明かになった。また、本発
明においてラップの範囲が0.5°〜2°の範囲である
のは、支持体の厚みによシその剛性が変化し九り、ブレ
ードの曲率によシ支持体のエツジ先端部の浮き上がり量
が変化するためでるることもわかった。
ードの進入側で支持体が直接ブレードに接触し、すり傷
を発生する原因となることも明かになった。また、本発
明においてラップの範囲が0.5°〜2°の範囲である
のは、支持体の厚みによシその剛性が変化し九り、ブレ
ードの曲率によシ支持体のエツジ先端部の浮き上がり量
が変化するためでるることもわかった。
従って、接線方向に対し0.5°〜2°栗い範囲の角度
で支持体をブレードエツジ先端部VC進入させることに
よシ付宥物を俗剤膜と共にかきおとし、支持体に傷をつ
けることなく付着物の除去が可能となった。
で支持体をブレードエツジ先端部VC進入させることに
よシ付宥物を俗剤膜と共にかきおとし、支持体に傷をつ
けることなく付着物の除去が可能となった。
又支持体に付着物が多いと思われる場合は、該付着物が
ブレード入射側エツジの同一位置に蓄積し、ブレードと
支持体の間隙が局部的に増大するCとをなくすため、ブ
レードを支持体の幅方向に摺動づせる必要があり、本発
明におけるブレードの支持体の幅方向の長さは、この知
見においても支持体幅よりも適当に長いことが必要であ
る。
ブレード入射側エツジの同一位置に蓄積し、ブレードと
支持体の間隙が局部的に増大するCとをなくすため、ブ
レードを支持体の幅方向に摺動づせる必要があり、本発
明におけるブレードの支持体の幅方向の長さは、この知
見においても支持体幅よりも適当に長いことが必要であ
る。
また、ブレードは後記するように支持体と対峙する面を
有し、その面は2〜50■の曲率rでわん曲している。
有し、その面は2〜50■の曲率rでわん曲している。
対峙面の曲率をこの範囲に選んだのは支持体の厚みによ
シ剛性が異なるので、支持体のラップ状態がブレードの
彎曲面になじませる必要があるからである。例えば、支
持体の厚みが5μm近傍の場合はブレードの曲率は2〜
3mが好ましく同支持体の厚みが100μ近傍の場合は
20〜30鱈のブレードの曲率が好ましい。本発明にお
けるブレードの支持体進入側端のエツジの角度は90°
以下、好ましくは80°〜50°で90°よ勺大である
と支持体がブレード入射側で浮き上がシ易く付着物がブ
レード上に進入しゃすい六めである。
シ剛性が異なるので、支持体のラップ状態がブレードの
彎曲面になじませる必要があるからである。例えば、支
持体の厚みが5μm近傍の場合はブレードの曲率は2〜
3mが好ましく同支持体の厚みが100μ近傍の場合は
20〜30鱈のブレードの曲率が好ましい。本発明にお
けるブレードの支持体進入側端のエツジの角度は90°
以下、好ましくは80°〜50°で90°よ勺大である
と支持体がブレード入射側で浮き上がシ易く付着物がブ
レード上に進入しゃすい六めである。
また、前記ブレードはwe−’rAcの如き超硬合金ま
たはファインセラミックス、アルミナA−150、ジル
コニア等の硬質体か、少くとも表面部分をこれらの材料
で被覆した部材よりなり、その表面はRmaxで15μ
m以下のあらさ、すなわち、高度の平滑性を有している
。
たはファインセラミックス、アルミナA−150、ジル
コニア等の硬質体か、少くとも表面部分をこれらの材料
で被覆した部材よりなり、その表面はRmaxで15μ
m以下のあらさ、すなわち、高度の平滑性を有している
。
以下図に従って本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一例を示す斜視図〔溶剤塗布部は省略
〕である。第1図において付着物2を有する支持体1は
、溶剤膜6が塗布され友後、支持体搬送装置によりロー
ラー5.6を迂回させられる。又、ローラー5とローラ
ー6の間にブレード4がほぼ支持体1の巾方向に市って
支持体の進行方向と直角に並べられている。上記ブレー
ド4を支持体に押しつけて、支持体1の表面から前記溶
剤膜301部と付着物2を掻き落とす。
〕である。第1図において付着物2を有する支持体1は
、溶剤膜6が塗布され友後、支持体搬送装置によりロー
ラー5.6を迂回させられる。又、ローラー5とローラ
ー6の間にブレード4がほぼ支持体1の巾方向に市って
支持体の進行方向と直角に並べられている。上記ブレー
ド4を支持体に押しつけて、支持体1の表面から前記溶
剤膜301部と付着物2を掻き落とす。
第2図は本発明におけるブレードの一例を示す断面略図
であり、付着物除去の様子を示す。ブレード4の支持体
1と対峙する面11は前記したように2瓢〜30mの曲
率rでわん曲している。支持体1をブレード面のわん曲
の接線方向nより角度α’!l−0,5°〜2°ラツプ
した状態で進入させる。
であり、付着物除去の様子を示す。ブレード4の支持体
1と対峙する面11は前記したように2瓢〜30mの曲
率rでわん曲している。支持体1をブレード面のわん曲
の接線方向nより角度α’!l−0,5°〜2°ラツプ
した状態で進入させる。
1枚のブレード4を上記の曲率でわん曲させることによ
り通過する溶剤量を微少におさえ支持体1とブレード4
0間隙を2μm以下におさえることが可能になった。又
支持体1をブレード面の接1澹方向よシα5°〜2°ラ
ップさせて進入させることにより付着物がブレード4上
にはいりこみにくい構造となった。以上2点よシ付着物
除去効果としては数ミクロンオーダーの付着物1が除去
可能になつ九。
り通過する溶剤量を微少におさえ支持体1とブレード4
0間隙を2μm以下におさえることが可能になった。又
支持体1をブレード面の接1澹方向よシα5°〜2°ラ
ップさせて進入させることにより付着物がブレード4上
にはいりこみにくい構造となった。以上2点よシ付着物
除去効果としては数ミクロンオーダーの付着物1が除去
可能になつ九。
又、ブレード4の支持体1の進入側端エツジの角度βは
90°以下である。
90°以下である。
又、この工程に使用する溶剤とは基本的には支持体上に
安定に液膜を形成するものでメ汎ばよく、付着物を溶解
する能力は必要ない。但し、支持体表面に品質上の支障
をきたさない溶剤を選ぶのは当然必要である。溶剤とし
ては、キシ0−ル、酢散ブチル等が用いられる。掻落し
溶剤を循環使用するかしないか或いは上述工程の後で加
熱蒸発を行なうか行なわないかは、適宜法めれはよい。
安定に液膜を形成するものでメ汎ばよく、付着物を溶解
する能力は必要ない。但し、支持体表面に品質上の支障
をきたさない溶剤を選ぶのは当然必要である。溶剤とし
ては、キシ0−ル、酢散ブチル等が用いられる。掻落し
溶剤を循環使用するかしないか或いは上述工程の後で加
熱蒸発を行なうか行なわないかは、適宜法めれはよい。
以上の方法により従来技術のもつ欠点を取り除く事が出
来、支持体表面に品質上の問題を生ずる事なく効果的な
付着物除去を行なうことが出来る。
来、支持体表面に品質上の問題を生ずる事なく効果的な
付着物除去を行なうことが出来る。
以下に本発明を磁気テープの支持体に適用した実施例に
て更に具体的に説明する。その実施態様の略図は第6図
に示す。ブレード部の略図は第2図と同じである。ブレ
ード4のブレード面11曲率ri12mであり支持体入
射側エツジ角度は70°である。ブレード4の接線方向
は水平に対し±Doであり支持体の進入角は水平に対し
19゜(α=1°)である。ロール5と6の間隔は40
0謳でありブレードはその中間にある。
て更に具体的に説明する。その実施態様の略図は第6図
に示す。ブレード部の略図は第2図と同じである。ブレ
ード4のブレード面11曲率ri12mであり支持体入
射側エツジ角度は70°である。ブレード4の接線方向
は水平に対し±Doであり支持体の進入角は水平に対し
19゜(α=1°)である。ロール5と6の間隔は40
0謳でありブレードはその中間にある。
他の条件は以下の通りである。
支持体:材質ポリエチレンテレフタレート厚味 58μ
巾 500m+
溶 剤:キンロール
磁気テープの塗布工程において、磁性液を塗布する前に
上述の付着物除去装置を設け、走行速度150m/分、
テン7ョン20ゆ1500−で走行している前記支持体
の片面にロールコータ−7にてキジロール8を100
(X、7m”で一様に塗布した後、上記の付着物除去装
置部を通過させ、引き続いて長さ5mの溶剤熱風蒸発部
で溶剤を完全に除去し次。その後、第4図に示す様な塗
布装置9を用い特願昭59−94657号公報に記載の
方法にて磁性液10を液状で上記支持体1に7μm11
0μm120μm、30μmの厚さにそれぞれ塗布し、
その時の塗布ぬけの発生状況を調べた。こ\でいう塗布
ぬけとにピンホール状及びすじ状の完全な塗布ぬけの他
、規定厚味の50%以下の塗布厚味を持つ薄塗9部分も
含んでいる。すし状の塗布ぬけについては約100m連
続して発生したら、その時点で磁性層塗布の、み一旦中
止した後再塗シ付けを行ない良好な状態の戻した後、調
査を続行した。又塗布ぬけ部分の検出は巻取る前に欠陥
検出器を用いて連続的に行ない、発生頻度をピンホール
とすじ状のものに分けて把握した。
上述の付着物除去装置を設け、走行速度150m/分、
テン7ョン20ゆ1500−で走行している前記支持体
の片面にロールコータ−7にてキジロール8を100
(X、7m”で一様に塗布した後、上記の付着物除去装
置部を通過させ、引き続いて長さ5mの溶剤熱風蒸発部
で溶剤を完全に除去し次。その後、第4図に示す様な塗
布装置9を用い特願昭59−94657号公報に記載の
方法にて磁性液10を液状で上記支持体1に7μm11
0μm120μm、30μmの厚さにそれぞれ塗布し、
その時の塗布ぬけの発生状況を調べた。こ\でいう塗布
ぬけとにピンホール状及びすじ状の完全な塗布ぬけの他
、規定厚味の50%以下の塗布厚味を持つ薄塗9部分も
含んでいる。すし状の塗布ぬけについては約100m連
続して発生したら、その時点で磁性層塗布の、み一旦中
止した後再塗シ付けを行ない良好な状態の戻した後、調
査を続行した。又塗布ぬけ部分の検出は巻取る前に欠陥
検出器を用いて連続的に行ない、発生頻度をピンホール
とすじ状のものに分けて把握した。
比較として支持体の付着物除去を行なわずに磁性層を上
記と同一条件で塗布したものと特開昭59−15057
1に示した付着物除去装置をもちいたものについて、そ
の発生頻度を調査した。尚、上記の実験に使用した磁性
塗布液は以下のものである。
記と同一条件で塗布したものと特開昭59−15057
1に示した付着物除去装置をもちいたものについて、そ
の発生頻度を調査した。尚、上記の実験に使用した磁性
塗布液は以下のものである。
第1表に示す組成の各成分をボールミルに入nて十分に
混合分散させたのち、エポキシ樹刀盲(エポキシ当t5
00)を50重僧都を加えて均一に混合分散さ−[tて
磁性塗布液とした。
混合分散させたのち、エポキシ樹刀盲(エポキシ当t5
00)を50重僧都を加えて均一に混合分散さ−[tて
磁性塗布液とした。
第1表
こうしてイ(すられた磁性並薄液の平黄枯匣を島津製作
所製の島津レオメータRM−1により6)す定したとこ
ろ剪断速就が108θc−’icふ・いては8囚1θe
1又500θθC−1においては1 poiseを示し
た。
所製の島津レオメータRM−1により6)す定したとこ
ろ剪断速就が108θc−’icふ・いては8囚1θe
1又500θθC−1においては1 poiseを示し
た。
各水準共、長さ4000mの原反ベース10本について
データを採った。その結果を第2表に示す。第2表の数
値は原反ベース1本当りの平均発生度数を表わしている
。
データを採った。その結果を第2表に示す。第2表の数
値は原反ベース1本当りの平均発生度数を表わしている
。
第2表
〔発明の効果]
本発明によるときは、支持体にスリ傷等を生ずることな
く、小さな付着物までほぼ完全に除去することができる
。
く、小さな付着物までほぼ完全に除去することができる
。
第1図は本発明の一例を示す斜視図(芯剤塗布部は省略
)第2図は本発明におけるブレード部の概略断面図、第
5図は本発明の一実施態様を示す説明図、第4図は実施
例で支持体の表面性の評価に用いた磁性層塗布装置であ
る。 1・・・支持体、2・・・支持体の付着物、3・・・溶
剤層、4・・・ブレード、5・・・上流側迂回ローラー
、6・・・下fi 1ll(11迂回ローラー、7・・
・ロールコータ+、8・・・キンロール、9・・・塗布
装置、10・・・磁性塗布液手続補正書 昭和60年11月 50
)第2図は本発明におけるブレード部の概略断面図、第
5図は本発明の一実施態様を示す説明図、第4図は実施
例で支持体の表面性の評価に用いた磁性層塗布装置であ
る。 1・・・支持体、2・・・支持体の付着物、3・・・溶
剤層、4・・・ブレード、5・・・上流側迂回ローラー
、6・・・下fi 1ll(11迂回ローラー、7・・
・ロールコータ+、8・・・キンロール、9・・・塗布
装置、10・・・磁性塗布液手続補正書 昭和60年11月 50
Claims (2)
- (1)取り除きたい付着物を表面に有する可撓性支持体
に溶剤を塗布した後、溶剤が蒸発してしまう前に該支持
体面に下記の条件を満たす1枚のブレードを押しつける
ことにより前記溶剤の一部と共に前記付着物を除去する
ことを特徴とする可撓性支持体の表面付着物除去方法 1)該ブレードが該支持体の進行方向とほぼ直角に配置
され、 2)該ブレードは該支持体の幅方向にはその幅より長く
、走行方向には短かい、支持体に対峙する面を有し、 3)該ブレードの該支持体と対峙する面はわん曲してお
り、その曲率rは2〜30mmである、4)該ブレード
は該支持体に対して、該支持体のブレードに進入する角
度がブレード面の進入側エッジ先端における接線に対し
0.5〜2°の範囲で深く支持体をラップさせる関係に
あり、 5)該ブレードの支持体進入側端エッジの角度が90°
以下である、及び 6)該ブレードが超硬質合金又は硬質体又はこの材料で
少くとも表面部分を被覆した部材よりなり、該表面がR
_m_a_xで0.5μm以下のあらさである。 - (2)取り除きたい付着物を表面に有する可撓性支持体
の表面に溶剤を塗布する装置と、塗布された溶剤が蒸発
してしまう前に該支持体面に押し付けられ、該付着物を
前記溶剤の一部と共に除去する1枚のブレードとよりな
り、該ブレードが次の条件を満たしていることを特徴と
する可撓性支持体の表面付着物除去装置 1)該ブレードが該支持体の進行方向とほぼ直角に配置
され、 2)該ブレード該支持体の幅方向にはその幅より長く、
走行方向には短かい、支持体に対峙する面を有し、 3)該ブレードの該支持体と対峙する面は2〜30mm
の曲率rでわん曲しており、 4)該ブレードは該支持体に対して、該支持体のブレー
ドに進入する角度がブレード面の進入側エッジ先端にお
ける接線に対し0.5〜2°の範囲で深く支持体をラッ
プさせる関係にあり、 5)該ブレードの支持体進入側端エッジの角度が90°
以下であり、 6)該ブレードが超硬質合金又は硬質体又はこの材料で
少くとも表面部分を被覆した部材よりなり、該表面がR
_m_a_xで0.5μm以下のあらさである。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20066485A JPS6265872A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 可撓性支持体の表面付着物除去方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20066485A JPS6265872A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 可撓性支持体の表面付着物除去方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6265872A true JPS6265872A (ja) | 1987-03-25 |
Family
ID=16428171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20066485A Pending JPS6265872A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 可撓性支持体の表面付着物除去方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6265872A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03131364A (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置及び方法 |
| US6176245B1 (en) | 1997-09-04 | 2001-01-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Web cleaning and destaticizing apparatus |
| US6503332B1 (en) | 1999-07-29 | 2003-01-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Web particle removal method and apparatus |
| US6812982B2 (en) | 2000-05-12 | 2004-11-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical compensatory sheet producing method and apparatus, thermal treating method and apparatus, and dust removing method and apparatus |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP20066485A patent/JPS6265872A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03131364A (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置及び方法 |
| US6176245B1 (en) | 1997-09-04 | 2001-01-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Web cleaning and destaticizing apparatus |
| US6503332B1 (en) | 1999-07-29 | 2003-01-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Web particle removal method and apparatus |
| US6812982B2 (en) | 2000-05-12 | 2004-11-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical compensatory sheet producing method and apparatus, thermal treating method and apparatus, and dust removing method and apparatus |
| US7575773B2 (en) | 2000-05-12 | 2009-08-18 | Fujifilm Corporation | Optical compensatory sheet producing method and apparatus, thermal treating method and apparatus, and dust removing method and apparatus |
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