JPH05295587A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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- JPH05295587A JPH05295587A JP12290892A JP12290892A JPH05295587A JP H05295587 A JPH05295587 A JP H05295587A JP 12290892 A JP12290892 A JP 12290892A JP 12290892 A JP12290892 A JP 12290892A JP H05295587 A JPH05295587 A JP H05295587A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シャドウマスクを連続的にかつ変形させ
ることなく製造する方法の提供を目的とする。 【構成】 導体表面上に各々のシャドウマスクが接
触せずに形成されるような間隔で、レジストを用いてシ
ャドウマスクのパターンを形成し、次いで所望の厚さに
なるまで電解めっきしてめっき膜を得、次いで該めっき
膜と導体とを剥離し、得ためっき膜をシャドウマスクと
するものであり、好ましくは上記導体が長尺の導体であ
るものである。 【効果】 従来困難であったシャドウマスクを連続
的に、かつ変形させることなく得ることが可能となり、
製造コストを大幅に低下させることが可能となる。
ることなく製造する方法の提供を目的とする。 【構成】 導体表面上に各々のシャドウマスクが接
触せずに形成されるような間隔で、レジストを用いてシ
ャドウマスクのパターンを形成し、次いで所望の厚さに
なるまで電解めっきしてめっき膜を得、次いで該めっき
膜と導体とを剥離し、得ためっき膜をシャドウマスクと
するものであり、好ましくは上記導体が長尺の導体であ
るものである。 【効果】 従来困難であったシャドウマスクを連続
的に、かつ変形させることなく得ることが可能となり、
製造コストを大幅に低下させることが可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シャドウマスク型カラ
ー受像菅に組込まれるシャドウマスクの製造方法に関す
る。
ー受像菅に組込まれるシャドウマスクの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】シャドウマスク型カラー受像菅に組込ま
れるシャドウマスクには、電子ビーム通過孔が円形のも
のや矩形のものがある。そして、これらの孔のピッチは
一般家庭用カラーテレビ用シャドウマスクにあっては 6
00 〜 700 μm、高品位テレビ用シャドウマスクにあっ
ては 300 μm以下である。
れるシャドウマスクには、電子ビーム通過孔が円形のも
のや矩形のものがある。そして、これらの孔のピッチは
一般家庭用カラーテレビ用シャドウマスクにあっては 6
00 〜 700 μm、高品位テレビ用シャドウマスクにあっ
ては 300 μm以下である。
【０００３】このようなシャドウマスクは厚さ 100 〜
200 μm程度の軟鋼板を所定の大きさに切断し、得た軟
鋼板の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥し、所望の
形状のマスクを密接し、露光し、現像し、乾燥し、次い
で塩化第 2 鉄水溶液等によって軟鋼板をエッチング処
理し、レジスト層を剥離することによって得られてい
る。その後、必要に応じてシャドウマスク表面に照射し
た電子ビームの乱反射を防止するために、又、受像菅使
用時のシャドウマスクの温度上昇を最小限に止めるため
にシャドウマスク表面に四三酸化鉄の被覆を形成する。
200 μm程度の軟鋼板を所定の大きさに切断し、得た軟
鋼板の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥し、所望の
形状のマスクを密接し、露光し、現像し、乾燥し、次い
で塩化第 2 鉄水溶液等によって軟鋼板をエッチング処
理し、レジスト層を剥離することによって得られてい
る。その後、必要に応じてシャドウマスク表面に照射し
た電子ビームの乱反射を防止するために、又、受像菅使
用時のシャドウマスクの温度上昇を最小限に止めるため
にシャドウマスク表面に四三酸化鉄の被覆を形成する。
【０００４】上記エッチング法により得られたシャドウ
マスクは既に一般家庭用カラーテレビに使用され、実用
化されている。しかしながら、上記製造方法はバッチ処
理であり、生産性に欠けるという問題がある。この問題
点を解消すべく長尺の軟鋼板を用いてレジスト層の剥離
までを連続化し、その後プレス等により個々に分断する
方法が検討されているものの、この方法では、プレス等
による分断時にシャドウマスクが変形するという別の問
題が生じる。
マスクは既に一般家庭用カラーテレビに使用され、実用
化されている。しかしながら、上記製造方法はバッチ処
理であり、生産性に欠けるという問題がある。この問題
点を解消すべく長尺の軟鋼板を用いてレジスト層の剥離
までを連続化し、その後プレス等により個々に分断する
方法が検討されているものの、この方法では、プレス等
による分断時にシャドウマスクが変形するという別の問
題が生じる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、シャドウマ
スクを連続的にかつ変形させることなく製造する方法の
提供を目的とする。
スクを連続的にかつ変形させることなく製造する方法の
提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは種々検討し
た結果、いわゆる電鋳法を用いることにより上記課題を
解決できることを見出し本発明に至った。即ち、上記課
題を解決する本発明の方法は、導体表面上に各々のシャ
ドウマスクが接触せずに形成されるような間隔で、レジ
ストを用いてシャドウマスクのパターンを形成し、次い
で所望の厚さになるまで電解めっきしてめっき膜を得、
次いで該めっき膜と導体とを剥離し、得ためっき膜をシ
ャドウマスクとするものであり、好ましくは上記導体が
長尺の導体であるものである。
た結果、いわゆる電鋳法を用いることにより上記課題を
解決できることを見出し本発明に至った。即ち、上記課
題を解決する本発明の方法は、導体表面上に各々のシャ
ドウマスクが接触せずに形成されるような間隔で、レジ
ストを用いてシャドウマスクのパターンを形成し、次い
で所望の厚さになるまで電解めっきしてめっき膜を得、
次いで該めっき膜と導体とを剥離し、得ためっき膜をシ
ャドウマスクとするものであり、好ましくは上記導体が
長尺の導体であるものである。
【０００７】
【作用】本発明では、導体上に形成されたシャドウマス
クを剥離するため、導体としてはめっき金属層と強固に
密着するようなものは好ましくはない。しかし、表面に
不動態層を有するステンレス板やクロム酸等で不動態化
処理をしたアルミニウム合金板等の特殊な導体に限られ
るものではない。というのは、めっき条件を制御するこ
とにより導体と剥離しやすい金属層を得ることは可能で
あるからである。本発明の目的の一つである連続操業を
確保するために各工程をコンベア等を用いて結合し、連
続化すれば良いが、導体自体を長尺とすれば一層効果的
である。
クを剥離するため、導体としてはめっき金属層と強固に
密着するようなものは好ましくはない。しかし、表面に
不動態層を有するステンレス板やクロム酸等で不動態化
処理をしたアルミニウム合金板等の特殊な導体に限られ
るものではない。というのは、めっき条件を制御するこ
とにより導体と剥離しやすい金属層を得ることは可能で
あるからである。本発明の目的の一つである連続操業を
確保するために各工程をコンベア等を用いて結合し、連
続化すれば良いが、導体自体を長尺とすれば一層効果的
である。
【０００８】また、レジストはめっき時に変形、溶解や
導体からの剥離を起こさない限りにおいて選択は自由で
ある。シャドウマスクのパターンは、例えばレジストと
してフォトレジストを用い、露光し、現像することによ
り得てもよく、又例えばスクリーン印刷法によって得て
もよい。しかし、隣接するパターンが接触するようにし
てはならない。というのは、シャドウマスクを導体より
分離する場合に確実に個別に回収可能とするためであ
り、そうでない場合には、個別に回収するための切断工
程が必要となり、この切断工程でシャドウマスクに変形
が生ずるからである。
導体からの剥離を起こさない限りにおいて選択は自由で
ある。シャドウマスクのパターンは、例えばレジストと
してフォトレジストを用い、露光し、現像することによ
り得てもよく、又例えばスクリーン印刷法によって得て
もよい。しかし、隣接するパターンが接触するようにし
てはならない。というのは、シャドウマスクを導体より
分離する場合に確実に個別に回収可能とするためであ
り、そうでない場合には、個別に回収するための切断工
程が必要となり、この切断工程でシャドウマスクに変形
が生ずるからである。
【０００９】めっき層と導体とを剥離する方法は特に限
定されない。例えば、導体をわずかに反らせることによ
り剥離してもよく、剥離機等の治具を使用してもよい。
なお、本発明の方法は、エッチング法により製造するリ
ードフレームや１層ＴＡＢといった電子部品の製造にも
適用可能である。
定されない。例えば、導体をわずかに反らせることによ
り剥離してもよく、剥離機等の治具を使用してもよい。
なお、本発明の方法は、エッチング法により製造するリ
ードフレームや１層ＴＡＢといった電子部品の製造にも
適用可能である。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について述べる （実施例１）レジスト層形成工程と、パターン形成工程
と、めっき工程とを結合した連続シャドウマスク製造装
置を用い、幅 1 ｍ、長さ 200 ｍの長尺のステンレス板
の表面に東京応化工業製ネガ型フォトレジスト PMER HC
-600 を厚さ 45 μmに均一に塗布し、乾燥し、次いで幅
50 μm、長さ 574 mm のスリットが 200 μm間隔で296
8 本設けられた 37 インチシャドウマスクのパターンが
それぞれ 10 ｍｍの間隔をおいて連続的に形成されるよ
うにマスクングを行い、1000 mJ/cm2 の強さの紫外線を
用いて露光し、次いで現像し、露出したステンレス表面
に以下に示す条件で電気鉄めっきを施し、厚さ 35 μm
のめっき膜を得、次いでステンレス板をわずかに反らせ
ることにより得られためっき膜を一枚づつ連続的に剥離
した。 （めっき液の組成） 塩化第一鉄 ： 450 ｇ／ｌ 塩化カルシウム ： 20 ｇ／ｌ （めっき条件） 温度 ： 90 ゜C 陰極電流密度 ： 5 Ａ／ｄｍ2 陽極 ： 白金 めっき時間 ： 30 分 次に、得られためっき膜をフレームに張り付けた後、水
蒸気と一酸化炭素との混合雰囲気下で 450 ゜C、30 分間
加熱したところ、表面に四三酸化鉄被膜を有する厚さ 3
5 μmの良好なシャドウマスクを得ることができた。
と、めっき工程とを結合した連続シャドウマスク製造装
置を用い、幅 1 ｍ、長さ 200 ｍの長尺のステンレス板
の表面に東京応化工業製ネガ型フォトレジスト PMER HC
-600 を厚さ 45 μmに均一に塗布し、乾燥し、次いで幅
50 μm、長さ 574 mm のスリットが 200 μm間隔で296
8 本設けられた 37 インチシャドウマスクのパターンが
それぞれ 10 ｍｍの間隔をおいて連続的に形成されるよ
うにマスクングを行い、1000 mJ/cm2 の強さの紫外線を
用いて露光し、次いで現像し、露出したステンレス表面
に以下に示す条件で電気鉄めっきを施し、厚さ 35 μm
のめっき膜を得、次いでステンレス板をわずかに反らせ
ることにより得られためっき膜を一枚づつ連続的に剥離
した。 （めっき液の組成） 塩化第一鉄 ： 450 ｇ／ｌ 塩化カルシウム ： 20 ｇ／ｌ （めっき条件） 温度 ： 90 ゜C 陰極電流密度 ： 5 Ａ／ｄｍ2 陽極 ： 白金 めっき時間 ： 30 分 次に、得られためっき膜をフレームに張り付けた後、水
蒸気と一酸化炭素との混合雰囲気下で 450 ゜C、30 分間
加熱したところ、表面に四三酸化鉄被膜を有する厚さ 3
5 μmの良好なシャドウマスクを得ることができた。
【００１１】（比較例１）各シャドウマスクのパターン
が接触するようにした以外は実施例１と同様にして電気
めっき膜を得た。その後ステンレス板をわずかに反らせ
てめっき被膜をステンレス板よりはく離し、各シャドウ
マスクを分離するためにプレスによる打抜きを行ったと
ころシャドウマスクが変形し、電子ビームを正しく透過
できないものとなった。
が接触するようにした以外は実施例１と同様にして電気
めっき膜を得た。その後ステンレス板をわずかに反らせ
てめっき被膜をステンレス板よりはく離し、各シャドウ
マスクを分離するためにプレスによる打抜きを行ったと
ころシャドウマスクが変形し、電子ビームを正しく透過
できないものとなった。
【００１２】
【発明の効果】本発明の方法によれば、従来困難であっ
たシャドウマスクを連続的に、かつ変形させることなく
得ることが可能となり、製造コストを大幅に低下させる
ことが可能となる。
たシャドウマスクを連続的に、かつ変形させることなく
得ることが可能となり、製造コストを大幅に低下させる
ことが可能となる。
Claims (2)
- 【請求項１】 導体表面上に各々のシャドウマスクが
接触せずに形成されるような間隔で、レジストを用いて
シャドウマスクのパターンを形成し、次いで所望の厚さ
になるまで電解めっきしてめっき膜を得、次いで該めっ
き膜と導体とを剥離し、得ためっき膜をシャドウマスク
とすることを特徴とするシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の方法において、用いる
導体が長尺であることを特徴とするシャドウマスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12290892A JPH05295587A (ja) | 1992-04-17 | 1992-04-17 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12290892A JPH05295587A (ja) | 1992-04-17 | 1992-04-17 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05295587A true JPH05295587A (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=14847594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12290892A Pending JPH05295587A (ja) | 1992-04-17 | 1992-04-17 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05295587A (ja) |
-
1992
- 1992-04-17 JP JP12290892A patent/JPH05295587A/ja active Pending
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