JPH05298663A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、ディジタル媒体として必要な
高CN比やオーバーライト特性を有すると共に、高温多
湿下及びNO2 環境下での耐蝕性に優れた磁磁気記録
媒体を提供することである。 【構成】本発明は、非磁性支持体上に、複数の層を形成
し、最上層の磁性層の膜厚が0.8μm以下であり、そ
れらの層の内の少なくとも1層の結合剤として、エステ
ル結合を有しないポリカーボネートポリウレタンを含有
し、最上層以外の少なくとも1層が非磁性粉末又は高透
磁率材料を含む層であることを特徴とする磁気記録媒体
である。
高CN比やオーバーライト特性を有すると共に、高温多
湿下及びNO2 環境下での耐蝕性に優れた磁磁気記録
媒体を提供することである。 【構成】本発明は、非磁性支持体上に、複数の層を形成
し、最上層の磁性層の膜厚が0.8μm以下であり、そ
れらの層の内の少なくとも1層の結合剤として、エステ
ル結合を有しないポリカーボネートポリウレタンを含有
し、最上層以外の少なくとも1層が非磁性粉末又は高透
磁率材料を含む層であることを特徴とする磁気記録媒体
である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体に関する。
詳しくは、ディジタル媒体として必要な高CN比やオー
バーライト特性を有すると共に、高温多湿下及びNO2
環境下での耐蝕性に優れた磁気記録媒体に関する。
詳しくは、ディジタル媒体として必要な高CN比やオー
バーライト特性を有すると共に、高温多湿下及びNO2
環境下での耐蝕性に優れた磁気記録媒体に関する。
【0002】
【発明の背景】特公平3−698号、特開昭61−26
4509号において、ポリカーボネートポリウレタンを
使用した磁気記録媒体が開示されている。
4509号において、ポリカーボネートポリウレタンを
使用した磁気記録媒体が開示されている。
【0003】しかし、本発明者の研究によれば、上記何
れにおいても、塗膜が磁性層であり、最上層の膜厚が比
較的厚いため、膜厚損失や、自己減磁損失が発生し、デ
ィジタル媒体として必要な高CN比やオーバーライト特
性が得られなかった。また、最上層の磁性層の膜厚が薄
くなるにつれて、高温多湿下(40℃、90%RH)、
NO2 (10ppm)環境下での耐蝕性も悪化してき
た。
れにおいても、塗膜が磁性層であり、最上層の膜厚が比
較的厚いため、膜厚損失や、自己減磁損失が発生し、デ
ィジタル媒体として必要な高CN比やオーバーライト特
性が得られなかった。また、最上層の磁性層の膜厚が薄
くなるにつれて、高温多湿下(40℃、90%RH)、
NO2 (10ppm)環境下での耐蝕性も悪化してき
た。
【0004】
【発明の目的】そこで本発明の目的は、ディジタル媒体
として必要な高CN比やオーバーライト特性を有すると
共に、高温多湿下及びNO2 環境下での耐蝕性にも優れ
た磁気記録媒体を提供することを目的とする。
として必要な高CN比やオーバーライト特性を有すると
共に、高温多湿下及びNO2 環境下での耐蝕性にも優れ
た磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【0005】
【目的を達成するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、複
数の層を形成し、最上層の磁性層の膜厚が0.8μm以
下であり、それらの層の内の少なくとも1層の結合剤と
して、エステル結合を有しないポリカーボネートポリウ
レタンを含有し、最上層以外の少なくとも1層が非磁性
粉末又は高透磁率材料を含む層であることを特徴とす
る。
の本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、複
数の層を形成し、最上層の磁性層の膜厚が0.8μm以
下であり、それらの層の内の少なくとも1層の結合剤と
して、エステル結合を有しないポリカーボネートポリウ
レタンを含有し、最上層以外の少なくとも1層が非磁性
粉末又は高透磁率材料を含む層であることを特徴とす
る。
【0006】
【発明の具体的構成】CN比やオーバーライト特性を向
上させるためには、最上層の磁性層の膜厚は0.8μm
以下であり、特に0.5μm未満、より好ましくは0.
1〜0.4μmである。また極性基を含有するポリカー
ボネートポリウレタンを用いることが好ましく、好まし
い極性基としては、−SO3 M、−OSO3 M、−CO
OM、−PO(OM1 )2 、−OPO(OM1 )2 等が
ある(Mは水素原子或いはNa、K、Li等のアルカリ
金属を表し、またM1 は水素原子、Na、K、Li等の
アルカリ金属或いはアルキル基を表す。)。
上させるためには、最上層の磁性層の膜厚は0.8μm
以下であり、特に0.5μm未満、より好ましくは0.
1〜0.4μmである。また極性基を含有するポリカー
ボネートポリウレタンを用いることが好ましく、好まし
い極性基としては、−SO3 M、−OSO3 M、−CO
OM、−PO(OM1 )2 、−OPO(OM1 )2 等が
ある(Mは水素原子或いはNa、K、Li等のアルカリ
金属を表し、またM1 は水素原子、Na、K、Li等の
アルカリ金属或いはアルキル基を表す。)。
【0007】前記極性基の量は通常0.001〜1.0
mmol/g、好ましくは0.005〜0.5mmol
/g、より好ましくは0.01〜0.2mmol/gで
ある。
mmol/g、好ましくは0.005〜0.5mmol
/g、より好ましくは0.01〜0.2mmol/gで
ある。
【0008】本発明で使用されるエステル結合を有しな
いポリカーボネートポリウレタンについては、特公平3
−698号のカラム3〜9において詳細に説明されてお
り、本発明にも適用することができる。
いポリカーボネートポリウレタンについては、特公平3
−698号のカラム3〜9において詳細に説明されてお
り、本発明にも適用することができる。
【0009】本発明に用いられるポリカーボネートポリ
ウレタンの数平均分子量は、通常5000〜5000
0、好ましくは8000〜30000、より好ましくは
10000〜20000である。ガラス転移点(Tg)
は、通常−40℃〜50℃、好ましくは−20℃〜40
℃、より好ましくは0℃〜30℃である。
ウレタンの数平均分子量は、通常5000〜5000
0、好ましくは8000〜30000、より好ましくは
10000〜20000である。ガラス転移点(Tg)
は、通常−40℃〜50℃、好ましくは−20℃〜40
℃、より好ましくは0℃〜30℃である。
【0010】(層構成)本発明の磁気記録媒体は、基本
的に、非磁性支持体上に、最上層である磁性層と、その
磁性層と非磁性支持体との間に存在する少なくとも一層
とを形成してなる。なお、非磁性支持体上の上記磁性層
が設けられていない面(裏面)には、磁気記録媒体の走
行性の向上、帯電防止および転写防止などを目的とし
て、バックコート層を設けるのが好ましく、また磁性層
と非磁性支持体との間には、下引き層を設けることもで
きる。
的に、非磁性支持体上に、最上層である磁性層と、その
磁性層と非磁性支持体との間に存在する少なくとも一層
とを形成してなる。なお、非磁性支持体上の上記磁性層
が設けられていない面(裏面)には、磁気記録媒体の走
行性の向上、帯電防止および転写防止などを目的とし
て、バックコート層を設けるのが好ましく、また磁性層
と非磁性支持体との間には、下引き層を設けることもで
きる。
【0011】(非磁性支持体)前記非磁性支持体を形成
する材料としては、たとえばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−2、6−ナフタレート等のポリエス
テル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネート等のプ
ラスチックなどを挙げることができる。
する材料としては、たとえばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−2、6−ナフタレート等のポリエス
テル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネート等のプ
ラスチックなどを挙げることができる。
【0012】前記非磁性支持体の形態は特に制限はな
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。
【0013】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常3〜1
00μm、好ましくは5〜50μmであり、ディスクや
カード状の場合は30μm〜10mm程度、ドラム状の
場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常3〜1
00μm、好ましくは5〜50μmであり、ディスクや
カード状の場合は30μm〜10mm程度、ドラム状の
場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。
【0014】尚、この非磁性支持体は単独構造のもので
あっても多層構造のものであってもよい。また、この非
磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理を
施されたものであってもよい。
あっても多層構造のものであってもよい。また、この非
磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理を
施されたものであってもよい。
【0015】なお又、非磁性支持体上の上記磁性層が設
けられていない面(表面)には、磁気記録媒体の走行性
の向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バ
ックコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁
性支持体との間には、下引き層を設けることができるこ
とは前記したとおりである。
けられていない面(表面)には、磁気記録媒体の走行性
の向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バ
ックコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁
性支持体との間には、下引き層を設けることができるこ
とは前記したとおりである。
【0016】(磁性層)本発明においては、最上層が磁
性層である。この磁性層は、基本的には磁性粉をバイン
ダー樹脂中に分散せしめてなる。
性層である。この磁性層は、基本的には磁性粉をバイン
ダー樹脂中に分散せしめてなる。
【0017】この最上層の磁性層には、強磁性金属粉末
および/または六方晶系磁性粉を含有する。また、最上
層の膜厚が0.8μm以下、好ましくは0.5μm未満
であり、より好ましくは0.1〜0.4μmである。こ
れらの条件を満足することによって、本発明の磁気記録
媒体は、本発明の目的を達成することができる。
および/または六方晶系磁性粉を含有する。また、最上
層の膜厚が0.8μm以下、好ましくは0.5μm未満
であり、より好ましくは0.1〜0.4μmである。こ
れらの条件を満足することによって、本発明の磁気記録
媒体は、本発明の目的を達成することができる。
【0018】最上層に好ましく用いられる強磁性金属粉
末としては、Fe、Coをはじめ、Fe−Al系、Fe
−Al−Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−C
o系、Fe−Al−Ca系、Fe−Ni系、Fe−Ni
−Al系、Fe−Ni−Co系、Fe−Ni−Si−A
l−Mn系、Fe−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−
Al−Si系、Fe−Ni−Zn系、Fe−Ni−Mn
系、Fe−Ni−Si系、Fe−Mn−Zn系、Fe−
Co−Ni−P系、Ni−Co系、Fe、Ni、Co等
を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙げられ
る。中でも、Fe系金属粉が電気的特性に優れる。
末としては、Fe、Coをはじめ、Fe−Al系、Fe
−Al−Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−C
o系、Fe−Al−Ca系、Fe−Ni系、Fe−Ni
−Al系、Fe−Ni−Co系、Fe−Ni−Si−A
l−Mn系、Fe−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−
Al−Si系、Fe−Ni−Zn系、Fe−Ni−Mn
系、Fe−Ni−Si系、Fe−Mn−Zn系、Fe−
Co−Ni−P系、Ni−Co系、Fe、Ni、Co等
を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙げられ
る。中でも、Fe系金属粉が電気的特性に優れる。
【0019】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Fe−Al系、Fe−Al−Ca系、Fe−Al−
Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−Co系、F
e−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−Ni−Si−A
l−Mn系などのFe−Al系金属粉が好ましい。
と、Fe−Al系、Fe−Al−Ca系、Fe−Al−
Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−Co系、F
e−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−Ni−Si−A
l−Mn系などのFe−Al系金属粉が好ましい。
【0020】特に、本発明の目的に好ましい強磁性金属
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、Alまた
は、AlおよびCaを、Alについては重量比でFe:
Al=100:0.5〜100:20、Caについては
重量比でFe:Ca=100:0.1〜100:10の
範囲で含有するのが望ましい。
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、Alまた
は、AlおよびCaを、Alについては重量比でFe:
Al=100:0.5〜100:20、Caについては
重量比でFe:Ca=100:0.1〜100:10の
範囲で含有するのが望ましい。
【0021】Fe:Alの比率をこのような範囲にする
ことで耐蝕性が著しく改良され、またFe:Caの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。
ことで耐蝕性が著しく改良され、またFe:Caの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。
【0022】本発明に好ましく用いられる強磁性金属粉
末は、その平均長軸長が0.25μm未満、特に0.1
0〜0.22μm、より好ましくは0.10〜0.17
μmでかつ結晶サイズが200Å未満、特に100〜1
80Åであることが好ましい。又軸比(平均長軸長/平
均短軸長)が12以下、好ましくは10以下、さらに好
ましくは5〜9であるのが良い。強磁性金属粉末の平均
長軸長および結晶サイズ、軸比が前記範囲内にあるとさ
らに電磁変換特性の向上を図ることができる。
末は、その平均長軸長が0.25μm未満、特に0.1
0〜0.22μm、より好ましくは0.10〜0.17
μmでかつ結晶サイズが200Å未満、特に100〜1
80Åであることが好ましい。又軸比(平均長軸長/平
均短軸長)が12以下、好ましくは10以下、さらに好
ましくは5〜9であるのが良い。強磁性金属粉末の平均
長軸長および結晶サイズ、軸比が前記範囲内にあるとさ
らに電磁変換特性の向上を図ることができる。
【0023】強磁性金属粉末は、その保磁力(Hc)が
通常600〜5,000 Oeの範囲にあることが好ま
しい。この保磁力が600 Oe未満であると、電磁変
換特性が劣化することがあり、また保磁力が5,000
Oeを超えると、通常のヘッドでは記録不能になるこ
とがあるので好ましくない。
通常600〜5,000 Oeの範囲にあることが好ま
しい。この保磁力が600 Oe未満であると、電磁変
換特性が劣化することがあり、また保磁力が5,000
Oeを超えると、通常のヘッドでは記録不能になるこ
とがあるので好ましくない。
【0024】また、上記強磁性粉末は、磁気特性である
飽和磁化量(σs)が通常、70emu/g以上である
ことが好ましい。この飽和磁化量が70emu/g未満
であると、電磁変換特性が劣化することがある。
飽和磁化量(σs)が通常、70emu/g以上である
ことが好ましい。この飽和磁化量が70emu/g未満
であると、電磁変換特性が劣化することがある。
【0025】さらに本発明においては、記録の高密度化
に応じて、BET法による比表面積で30m2 /g以
上、特に45m2 /g以上の強磁性金属粉末が好ましく
用いられる。
に応じて、BET法による比表面積で30m2 /g以
上、特に45m2 /g以上の強磁性金属粉末が好ましく
用いられる。
【0026】この比表面積ならびにその測定方法につい
ては、「粉体の測定」(J.M.Dallavell
e,Clyeorr Jr.共著、牟田その他訳:産業
図書社刊)に詳述されており、また「化学便覧」応用編
P1170〜1171(日本化学会編:丸善(株)昭和
41年4月30日発行)にも記載されている。
ては、「粉体の測定」(J.M.Dallavell
e,Clyeorr Jr.共著、牟田その他訳:産業
図書社刊)に詳述されており、また「化学便覧」応用編
P1170〜1171(日本化学会編:丸善(株)昭和
41年4月30日発行)にも記載されている。
【0027】比表面積の測定は、たとえば粉末を105
℃前後で13分間加熱処理しながら脱気して粉末に吸着
されているもの除去し、その後、この粉末を測定装置に
導入して窒素の初期圧力を0.5kg/m2 に設定し、
窒素により液体窒素温度(−105℃)で10分間測定
を行なう。
℃前後で13分間加熱処理しながら脱気して粉末に吸着
されているもの除去し、その後、この粉末を測定装置に
導入して窒素の初期圧力を0.5kg/m2 に設定し、
窒素により液体窒素温度(−105℃)で10分間測定
を行なう。
【0028】測定装置は例えばカウンターソープ(湯浅
アイオニクス(株)製)を使用する。
アイオニクス(株)製)を使用する。
【0029】さらに、好ましい強磁性粉末の構造として
は、該強磁性粉末に含有されているFe原子とAl原子
との含有量比が原子数比でFe:Al=100:1〜1
00:20であり、且つ該強磁性粉末のESCAによる
分析深度で100Å以下の表面域に存在するFe原子と
Al原子との含有量比が原子数比でFe:Al=30:
70〜70:30である構造を有するものである。或い
は、Fe原子とNi原子とAl原子とSi原子とが強磁
性粉末に含有され、さらにZn原子とMn原子との少な
くとも一方が該強磁性粉末に含有され、Fe原子の含有
量が90原子%以上、Ni原子の含有量が1原子%以
上、10原子%未満、Al原子の含有量が0.1原子%
以上、5原子%未満、Si原子の含有量が0.1原子%
以上、5原子%未満、Zn原子の含有量および/または
Mn原子の含有量(但し、Zn原子とMn原子との両方
を含有する場合はこの合計量)が0.1原子%以上、5
原子%未満であり、前記強磁性粉末のESCAによる分
析深度で100Å以下の表面域に存在するFe原子とN
i原子とAl原子とSi原子とZn原子および/または
Mn原子の含有量比が原子数比でFe:Ni:Al:S
i(Znおよび/またはMn)=100:(4以下):
(10〜60):(10〜70):(20〜80)であ
る構造を有する強磁性粉末等が挙げられる。
は、該強磁性粉末に含有されているFe原子とAl原子
との含有量比が原子数比でFe:Al=100:1〜1
00:20であり、且つ該強磁性粉末のESCAによる
分析深度で100Å以下の表面域に存在するFe原子と
Al原子との含有量比が原子数比でFe:Al=30:
70〜70:30である構造を有するものである。或い
は、Fe原子とNi原子とAl原子とSi原子とが強磁
性粉末に含有され、さらにZn原子とMn原子との少な
くとも一方が該強磁性粉末に含有され、Fe原子の含有
量が90原子%以上、Ni原子の含有量が1原子%以
上、10原子%未満、Al原子の含有量が0.1原子%
以上、5原子%未満、Si原子の含有量が0.1原子%
以上、5原子%未満、Zn原子の含有量および/または
Mn原子の含有量(但し、Zn原子とMn原子との両方
を含有する場合はこの合計量)が0.1原子%以上、5
原子%未満であり、前記強磁性粉末のESCAによる分
析深度で100Å以下の表面域に存在するFe原子とN
i原子とAl原子とSi原子とZn原子および/または
Mn原子の含有量比が原子数比でFe:Ni:Al:S
i(Znおよび/またはMn)=100:(4以下):
(10〜60):(10〜70):(20〜80)であ
る構造を有する強磁性粉末等が挙げられる。
【0030】本発明に好ましく用いられる六方晶系の磁
性粉としては、たとえば、六方晶系フェライトを挙げる
ことができる。このような六方晶系フェライトは、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等からな
り、鉄元素の一部が他の元素(たとえば、Ti、Co、
Zn、In、Mn、Ge、Hb等)で置換されていても
良い。このフェライト磁性体については、IEEE T
rans,on MAG−18 16(1982)に詳
しく述べられている。
性粉としては、たとえば、六方晶系フェライトを挙げる
ことができる。このような六方晶系フェライトは、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等からな
り、鉄元素の一部が他の元素(たとえば、Ti、Co、
Zn、In、Mn、Ge、Hb等)で置換されていても
良い。このフェライト磁性体については、IEEE T
rans,on MAG−18 16(1982)に詳
しく述べられている。
【0031】本発明において、特に好ましい六方晶系の
磁性粉としては、バリウムフェライト(以下Ba−フェ
ライトと記す)磁性粉を挙げることができる。
磁性粉としては、バリウムフェライト(以下Ba−フェ
ライトと記す)磁性粉を挙げることができる。
【0032】本発明で用いることのできる好ましいBa
−フェライト磁性粉は、Ba−フェライト粉の、Feの
一部が少なくともCoおよびZnで置換された平均粒径
(六方晶系フェライトの板面の対角線の高さ)400〜
900Å、板状比(六方晶系フェライトの板面の対角線
の長さを板厚で除した値)2.0〜10.0、より好ま
しくは2.0〜6.0、保磁力(Hc)450〜150
0のBa−フェライトである。
−フェライト磁性粉は、Ba−フェライト粉の、Feの
一部が少なくともCoおよびZnで置換された平均粒径
(六方晶系フェライトの板面の対角線の高さ)400〜
900Å、板状比(六方晶系フェライトの板面の対角線
の長さを板厚で除した値)2.0〜10.0、より好ま
しくは2.0〜6.0、保磁力(Hc)450〜150
0のBa−フェライトである。
【0033】Ba−フェライト粉は、FeをCoで一部
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにZnで一部置換することにより、Co置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにFeの一部をNbで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明に
用いられるBa−フェライトは、さらにFeの一部がT
i、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の遷移金属で置換
されていても差支えない。
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにZnで一部置換することにより、Co置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにFeの一部をNbで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明に
用いられるBa−フェライトは、さらにFeの一部がT
i、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の遷移金属で置換
されていても差支えない。
【0034】なお、本発明に使用するBa−フェライト
は次の一般式で表される。 BaOn((Fe1-m Mm )2 O3 ) [ただし、m>0.36(ただし、Co+Zn=0.0
8〜0.3、Co/Zn=0.5〜10)であり、nは
5.4〜11.0であり、好ましくは5.4〜6.0で
あり、Mは置換金属を表し、平均個数が3となる2種以
上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。] 本発明において、Ba−フェライトの平均粒径、板状
比、保磁力が前記好ましい範囲内にあると好ましい理由
は、次の通りである。すなわち、平均粒径400Å未満
の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出力が不十分
となり、逆に900Åを超えると、磁気記録媒体とした
ときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベルが高く
なりすぎることがあり、また、板状比が2.0未満で
は、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した垂直
配向率が得られず、逆に板状比が10.0を越えると磁
気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノ
イズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が350
Oe未満の場合には、記録信号の保持が困難になり、2
000 Oeを越えると、ヘッドが飽和現象を起こし記
録が困難になることがあるからである。
は次の一般式で表される。 BaOn((Fe1-m Mm )2 O3 ) [ただし、m>0.36(ただし、Co+Zn=0.0
8〜0.3、Co/Zn=0.5〜10)であり、nは
5.4〜11.0であり、好ましくは5.4〜6.0で
あり、Mは置換金属を表し、平均個数が3となる2種以
上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。] 本発明において、Ba−フェライトの平均粒径、板状
比、保磁力が前記好ましい範囲内にあると好ましい理由
は、次の通りである。すなわち、平均粒径400Å未満
の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出力が不十分
となり、逆に900Åを超えると、磁気記録媒体とした
ときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベルが高く
なりすぎることがあり、また、板状比が2.0未満で
は、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した垂直
配向率が得られず、逆に板状比が10.0を越えると磁
気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノ
イズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が350
Oe未満の場合には、記録信号の保持が困難になり、2
000 Oeを越えると、ヘッドが飽和現象を起こし記
録が困難になることがあるからである。
【0035】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉は、
磁気特性である飽和磁化量(σs)が通常、50emu
/g以上であることが望ましい。この飽和磁化量が50
emu/g未満であると、電磁変換特性が劣化すること
がある。
磁気特性である飽和磁化量(σs)が通常、50emu
/g以上であることが望ましい。この飽和磁化量が50
emu/g未満であると、電磁変換特性が劣化すること
がある。
【0036】本発明に用いられるBa−フェライトの好
ましい一具体例としては、Co−置換Baフェライトを
挙げることができる。
ましい一具体例としては、Co−置換Baフェライトを
挙げることができる。
【0037】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉を製
造する方法としては、たとえば目的とするBa−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするBa−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。
造する方法としては、たとえば目的とするBa−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするBa−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。
【0038】なお、本発明においては、強磁性金属粉末
と六方晶系の磁性粉とを混合して使用することもでき
る。
と六方晶系の磁性粉とを混合して使用することもでき
る。
【0039】この磁性層中の強磁性金属粉末および/ま
たは六方晶系の磁性粉の含有量は通常、50〜99重量
%であり、好ましくは60〜99重量%であり、特に好
ましくは75〜90重量%である。
たは六方晶系の磁性粉の含有量は通常、50〜99重量
%であり、好ましくは60〜99重量%であり、特に好
ましくは75〜90重量%である。
【0040】ところで、最上層である磁性層以外の、非
磁性粉末を含有する層は、磁性層の膜厚が0.8μm以
下であるので、最上層である磁性層に対して潤滑剤を補
給する層として機能する。磁性層に対して下層となる層
が潤滑剤補給層として良く機能するために、磁性層の下
の層に含まれる非磁性粉末は、その吸油量ができるだけ
少ないことが好ましく、通常200ミリリットル/10
0g以下、好ましくは100ミリリットル/100g以
下である。
磁性粉末を含有する層は、磁性層の膜厚が0.8μm以
下であるので、最上層である磁性層に対して潤滑剤を補
給する層として機能する。磁性層に対して下層となる層
が潤滑剤補給層として良く機能するために、磁性層の下
の層に含まれる非磁性粉末は、その吸油量ができるだけ
少ないことが好ましく、通常200ミリリットル/10
0g以下、好ましくは100ミリリットル/100g以
下である。
【0041】[最上層以外の非磁性粉末を含む層又は高
透磁率材料を含む層]本発明においては、非磁性支持体
の上に複数の層が形成されており、最上層以外の少なく
とも一層、好ましくは最上層に隣接する層には、非磁性
粉末又は高透磁率材料が含有されている。
透磁率材料を含む層]本発明においては、非磁性支持体
の上に複数の層が形成されており、最上層以外の少なく
とも一層、好ましくは最上層に隣接する層には、非磁性
粉末又は高透磁率材料が含有されている。
【0042】(非磁性粉末)本発明における非磁性粉末
としては、この種磁気記録媒体に使用される公知の各種
の非磁性粉末から、適宜に選択して使用することができ
る。この非磁性粉末としては、例えば、カーボンブラッ
ク、グラファイト、酸化チタン、硫酸バリウム、Zn
S、MgCo3 、CaCO3 、ZnO、CaO,二硫化
タングステン、二硫化モリブデン、窒化ホウ酸、Mg
O、SnO2 、SiO2 、Cr2 O3 、α−Al2 O
3 、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモ
ンド、α−酸化鉄、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、窒
化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、炭化モリブデン、
炭化ホウ素、炭化タングステン、チタンカーバイド、ト
リポリ、ケイソウ土、ドロマイトや、ポリエチレン等の
ポリマー粉末等を挙げることができる。
としては、この種磁気記録媒体に使用される公知の各種
の非磁性粉末から、適宜に選択して使用することができ
る。この非磁性粉末としては、例えば、カーボンブラッ
ク、グラファイト、酸化チタン、硫酸バリウム、Zn
S、MgCo3 、CaCO3 、ZnO、CaO,二硫化
タングステン、二硫化モリブデン、窒化ホウ酸、Mg
O、SnO2 、SiO2 、Cr2 O3 、α−Al2 O
3 、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモ
ンド、α−酸化鉄、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、窒
化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、炭化モリブデン、
炭化ホウ素、炭化タングステン、チタンカーバイド、ト
リポリ、ケイソウ土、ドロマイトや、ポリエチレン等の
ポリマー粉末等を挙げることができる。
【0043】これらの中でも好ましいのは、カーボンブ
ラック、CaCO3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−
Al2 O3 、α−酸化鉄、等の無機粉末やポリエチレン
等のポリマー粉末等である。
ラック、CaCO3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−
Al2 O3 、α−酸化鉄、等の無機粉末やポリエチレン
等のポリマー粉末等である。
【0044】前記非磁性粉末の平均粒径としては、通常
1〜300nmであり、好ましくは1〜100nmであ
り、特に好ましくは1〜50nmである。前記範囲の平
均粒径を有する非磁性粉末を使用すると、非磁性層中の
非磁性粉末による磁性層の表面性に悪影響が生じない点
で好ましい。
1〜300nmであり、好ましくは1〜100nmであ
り、特に好ましくは1〜50nmである。前記範囲の平
均粒径を有する非磁性粉末を使用すると、非磁性層中の
非磁性粉末による磁性層の表面性に悪影響が生じない点
で好ましい。
【0045】前記非磁性粉末の非磁性層中における含有
量としては、非磁性層を構成する全成分の合計に対して
5〜99重量%、好ましくは60〜95重量%、特に好
ましくは75〜95重量%である。非磁性粉末の含有量
が前記範囲内にあると、磁性層からなる最上層の表面の
状態を良好にすることができる。 (高透磁率材料)この高透磁率材料としては、その保磁
力Hcが0<Hc≦1.0×104 [A/m]、好まし
くは0<Hc≦5.0×103 [A/m]である。保磁
力が前記範囲内にあると、高透磁率材料として最上層の
磁化領域の安定化の効果が発揮される。保磁力が前記範
囲を超えると、磁性材料としての特性が発現することに
より所望の特性が得られなくなることがあるので好まし
くない。
量としては、非磁性層を構成する全成分の合計に対して
5〜99重量%、好ましくは60〜95重量%、特に好
ましくは75〜95重量%である。非磁性粉末の含有量
が前記範囲内にあると、磁性層からなる最上層の表面の
状態を良好にすることができる。 (高透磁率材料)この高透磁率材料としては、その保磁
力Hcが0<Hc≦1.0×104 [A/m]、好まし
くは0<Hc≦5.0×103 [A/m]である。保磁
力が前記範囲内にあると、高透磁率材料として最上層の
磁化領域の安定化の効果が発揮される。保磁力が前記範
囲を超えると、磁性材料としての特性が発現することに
より所望の特性が得られなくなることがあるので好まし
くない。
【0046】本発明においては、高透磁率材料として、
前記保磁力の範囲内にある材料を適宜に選択するのが好
ましい。そのような高透磁率材料としては、例えば、金
属軟質磁性材料、酸化物軟質磁性材料等を挙げることが
できる。前記金属軟質磁性材料としては、Fe−Si合
金、Fe−Al合金(Alperm、Alfemol、
Alfer),パーマロイ(Ni−Fe系二元合金、お
よびこれにMo、Cu、Crなどを添加した多元系合
金)、センダスト(Fe−Si−Al[9.6重量%の
Si、5.4%のAl、残りがFeである組成])、F
e−Co合金等を挙げることができる。これらの中でも
好ましい金属軟質磁性材料としてはセンダストが好まし
い。なお、高透磁率材料としての金属軟質磁性材料とし
ては以上に例示したものに限定されず、その他の金属軟
質磁性材料を使用することができる。高透磁率材料は、
その一種を単独で使用することもできるし、又その二種
以上を併用することもできる。
前記保磁力の範囲内にある材料を適宜に選択するのが好
ましい。そのような高透磁率材料としては、例えば、金
属軟質磁性材料、酸化物軟質磁性材料等を挙げることが
できる。前記金属軟質磁性材料としては、Fe−Si合
金、Fe−Al合金(Alperm、Alfemol、
Alfer),パーマロイ(Ni−Fe系二元合金、お
よびこれにMo、Cu、Crなどを添加した多元系合
金)、センダスト(Fe−Si−Al[9.6重量%の
Si、5.4%のAl、残りがFeである組成])、F
e−Co合金等を挙げることができる。これらの中でも
好ましい金属軟質磁性材料としてはセンダストが好まし
い。なお、高透磁率材料としての金属軟質磁性材料とし
ては以上に例示したものに限定されず、その他の金属軟
質磁性材料を使用することができる。高透磁率材料は、
その一種を単独で使用することもできるし、又その二種
以上を併用することもできる。
【0047】前記酸化物軟質磁性材料としては、スピネ
ル型フェライトであるMnFe2 O4 、Fe3 O4 、C
oFe2 O4 、NiFe2 O4 、MgFe2 O4 、Li
0.5Fe2.5 O4 や、Mn−Zn系フェライト、Ni−
Zn系フェライト、Ni−Cu系フェライト、Cu−Z
n系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Li−Zn
系フェライト等を挙げることができる。これらの中で
も、Mn−Zn系フェライト及びNi−Zn系フェライ
トが好ましい。なお、これらの酸化物軟質磁性材料はそ
の一種を単独で使用することもできるが、その二種以上
を併用することもできる。
ル型フェライトであるMnFe2 O4 、Fe3 O4 、C
oFe2 O4 、NiFe2 O4 、MgFe2 O4 、Li
0.5Fe2.5 O4 や、Mn−Zn系フェライト、Ni−
Zn系フェライト、Ni−Cu系フェライト、Cu−Z
n系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Li−Zn
系フェライト等を挙げることができる。これらの中で
も、Mn−Zn系フェライト及びNi−Zn系フェライ
トが好ましい。なお、これらの酸化物軟質磁性材料はそ
の一種を単独で使用することもできるが、その二種以上
を併用することもできる。
【0048】この高透磁率材料はボールミルやその他の
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径が1〜300
nm、好ましくは1〜100nm、特に1〜50nmで
あるのが好ましい。このような微細な粉末を得るため
に、金属軟質磁性材料においては、溶融した合金を真空
雰囲気下に噴霧することにより得ることができる。又、
酸化物軟質磁性材料においては、ガラス結晶化法、共沈
焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコシキシド
法、プラズマジェット法等により微細粉末にすることで
きる。
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径が1〜300
nm、好ましくは1〜100nm、特に1〜50nmで
あるのが好ましい。このような微細な粉末を得るため
に、金属軟質磁性材料においては、溶融した合金を真空
雰囲気下に噴霧することにより得ることができる。又、
酸化物軟質磁性材料においては、ガラス結晶化法、共沈
焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコシキシド
法、プラズマジェット法等により微細粉末にすることで
きる。
【0049】この高透磁率材料を含有する層において
は、高透磁率材料の含有量は、通常5〜99重量%、好
ましくは50〜95重量%、更に好ましくは60〜95
重量%である。高透滋率材料の含有量が前記範囲内にあ
ると、最上層の磁化の安定化の効果が十分に得られる。
又、高透磁率材料が5重量%未満であると、高透磁性層
としての効果が得られなくなることがあるので好ましく
ない。
は、高透磁率材料の含有量は、通常5〜99重量%、好
ましくは50〜95重量%、更に好ましくは60〜95
重量%である。高透滋率材料の含有量が前記範囲内にあ
ると、最上層の磁化の安定化の効果が十分に得られる。
又、高透磁率材料が5重量%未満であると、高透磁性層
としての効果が得られなくなることがあるので好ましく
ない。
【0050】なお、この高透磁率材料を含有する層に
は、非磁性の粒子を含有していても良い。
は、非磁性の粒子を含有していても良い。
【0051】この本発明の磁気記録媒体は導電性粉末を
含有していることが好ましい。この導電性粉末として
は、カーボンブラック、グラファイト、酸化錫、銀粉、
酸化銀、硝酸銀、銀の有機化合物、銅粉等の金属粒子
等、酸化亜鉛、硝酸バリウム、酸化チタン等の金属酸化
物等の顔料を酸化錫被膜、又はアンチモン固溶酸化被膜
等の導電性物質でコーティング処理したもの等がある。
含有していることが好ましい。この導電性粉末として
は、カーボンブラック、グラファイト、酸化錫、銀粉、
酸化銀、硝酸銀、銀の有機化合物、銅粉等の金属粒子
等、酸化亜鉛、硝酸バリウム、酸化チタン等の金属酸化
物等の顔料を酸化錫被膜、又はアンチモン固溶酸化被膜
等の導電性物質でコーティング処理したもの等がある。
【0052】(バインダー)最上層である磁性層及び/
又はこの磁性層以外の層を形成するのに使用されるバイ
ンダー(結合剤)としては、前記エステル結合を有しな
いポリカーボネートウレタンが用いられるが、本発明の
効果を損なわない範囲で、他の結合剤、例えば、他のポ
リウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の
塩化ビニル系樹脂等が用いられてもよく、これらの樹脂
は−SO3 M、−OSO3 M、−COOMおよび−PO
(OM1 )2 、−OPO(OM1)2 から選ばれた少
なくとも一種の極性基を有する繰り返し単位を含むこと
が好ましい。
又はこの磁性層以外の層を形成するのに使用されるバイ
ンダー(結合剤)としては、前記エステル結合を有しな
いポリカーボネートウレタンが用いられるが、本発明の
効果を損なわない範囲で、他の結合剤、例えば、他のポ
リウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の
塩化ビニル系樹脂等が用いられてもよく、これらの樹脂
は−SO3 M、−OSO3 M、−COOMおよび−PO
(OM1 )2 、−OPO(OM1)2 から選ばれた少
なくとも一種の極性基を有する繰り返し単位を含むこと
が好ましい。
【0053】ただし、上記極性基において、Mは水素原
子あるいはNa、K、Li等のアルカリ金属を表わし、
またM1 は水素原子、Na、K、Li等のアルカリ原子
あるいはアルキル基を表す。
子あるいはNa、K、Li等のアルカリ金属を表わし、
またM1 は水素原子、Na、K、Li等のアルカリ原子
あるいはアルキル基を表す。
【0054】上記極性基は強磁性粉末の分散性を向上さ
せる作用があり、各樹脂中の含有率は0.1〜8.0モ
ル%、好ましくは0.5〜6.0モル%である。この含
有率が0.1モル%未満であると、強磁性粉末の分散性
が低下し、また含有率が8.0モル%を超えると、磁性
塗料がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均
分子量は、例えば15,000〜50,000の範囲で
ある。
せる作用があり、各樹脂中の含有率は0.1〜8.0モ
ル%、好ましくは0.5〜6.0モル%である。この含
有率が0.1モル%未満であると、強磁性粉末の分散性
が低下し、また含有率が8.0モル%を超えると、磁性
塗料がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均
分子量は、例えば15,000〜50,000の範囲で
ある。
【0055】結合剤(バインダー)の磁性層における含
有率は、強磁性粉末100重量部に対して通常、10〜
40重量部、好ましくは15〜30重量部である。
有率は、強磁性粉末100重量部に対して通常、10〜
40重量部、好ましくは15〜30重量部である。
【0056】結合剤(バインダー)は一種単独に限ら
ず、二種以上を組み合わせて用いることができるが、こ
の場合、本発明のポリウレタンと本発明の塩化ビニル系
樹脂との比は、重量比で通常、90:10〜10:90
であり、好ましくは70:30〜30:70の範囲であ
る。
ず、二種以上を組み合わせて用いることができるが、こ
の場合、本発明のポリウレタンと本発明の塩化ビニル系
樹脂との比は、重量比で通常、90:10〜10:90
であり、好ましくは70:30〜30:70の範囲であ
る。
【0057】本発明に結合剤として、必要に応じて用い
られる極性基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩
化ビニル−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有
する共重合体と下記の極性基および塩素原子を有する化
合物との付加反応により合成することができる。
られる極性基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩
化ビニル−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有
する共重合体と下記の極性基および塩素原子を有する化
合物との付加反応により合成することができる。
【0058】Cl−CH2 CH2 SO3 M、Cl−CH
2 CH2 OSO3 M、Cl−CH2COOM、Cl−C
H2 −P(=0)(OM1 )2 これらの化合物からCl−CH2 CH2 SO3 Naを例
にとり、上記反応を説明すると、次のようになる。
2 CH2 OSO3 M、Cl−CH2COOM、Cl−C
H2 −P(=0)(OM1 )2 これらの化合物からCl−CH2 CH2 SO3 Naを例
にとり、上記反応を説明すると、次のようになる。
【0059】−CH2 C(OH)H−+ClCH2 CH
2 SO3 Na→−CH2 C(OCH2 CH2 SO3 N
a)H−。
2 SO3 Na→−CH2 C(OCH2 CH2 SO3 N
a)H−。
【0060】また、極性基含有塩化ビニル系共重合体
は、極性基を含む繰り返し単位が導入される不飽和結合
を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等の反
応容器に仕込み、一般的な重合開始剤、たとえばBPO
(ベンゾイルパーオキシド)、AIBN(アゾビスイソ
ブチロニトリル)等のラジカル重合開始剤、レドックス
重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いて重合反応
を行なうことにより、得ることができる。
は、極性基を含む繰り返し単位が導入される不飽和結合
を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等の反
応容器に仕込み、一般的な重合開始剤、たとえばBPO
(ベンゾイルパーオキシド)、AIBN(アゾビスイソ
ブチロニトリル)等のラジカル重合開始剤、レドックス
重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いて重合反応
を行なうことにより、得ることができる。
【0061】スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。
【0062】カルボン酸もしくはその塩を導入するとき
は、例えば(メタ)アクリル酸やマレイン酸等を用い、
リン酸もしくはその塩を導入するときは、例えば(メ
タ)アクリル酸−2−リン酸エステルを用いればよい。
は、例えば(メタ)アクリル酸やマレイン酸等を用い、
リン酸もしくはその塩を導入するときは、例えば(メ
タ)アクリル酸−2−リン酸エステルを用いればよい。
【0063】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。
【0064】エポキシ基を導入する場合、エボキシ基を
有する繰り返し単位の共重合体中における含有率は、1
〜30モル%が好ましく、1〜20モル%がより好まし
い。エポキシ基を導入するためのモノマーとしては、た
とえばクリシジルアクリレートが好ましい。
有する繰り返し単位の共重合体中における含有率は、1
〜30モル%が好ましく、1〜20モル%がより好まし
い。エポキシ基を導入するためのモノマーとしては、た
とえばクリシジルアクリレートが好ましい。
【0065】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭57−44227号、同5
8−108052号、同59−8127号、同60−1
01161号、同60−235814号、同60−23
8306号、同60−238371号、同62−121
923号、同62−146432号、同62−1464
33号等の公報に記載があり、本発明においてもこれら
を利用することができる。
導入技術に関しては、特開昭57−44227号、同5
8−108052号、同59−8127号、同60−1
01161号、同60−235814号、同60−23
8306号、同60−238371号、同62−121
923号、同62−146432号、同62−1464
33号等の公報に記載があり、本発明においてもこれら
を利用することができる。
【0066】本発明においては、結合剤として下記の樹
脂を(好ましくは、全結合剤の20重量%以下の使用量
で)併用することができる。
脂を(好ましくは、全結合剤の20重量%以下の使用量
で)併用することができる。
【0067】その樹脂としては、重量平均分子量が1
0,000〜200,000である、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体(ニトロセルロー
ス等)、スチレン−ブタジエン共重合体、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキ
シ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルム
アミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げられる。 (その他の成分)本発明では、磁性層の耐久性を向上さ
せるために、ポリイソシアネートを磁性層に含有させる
ことが望ましい。
0,000〜200,000である、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体(ニトロセルロー
ス等)、スチレン−ブタジエン共重合体、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキ
シ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルム
アミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げられる。 (その他の成分)本発明では、磁性層の耐久性を向上さ
せるために、ポリイソシアネートを磁性層に含有させる
ことが望ましい。
【0068】ポリイソシアネートとしては、たとえばジ
フェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレン
ジイソシアネート(TDI)等と活性水素化合物との付
加体などの芳香族ポリイソシアネートと、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート(HMDI)等と活性水素化合物と
の付加体などの脂肪族ポリイソシアネートがある。ポリ
イソシアネートの重量平均分子量は、100〜3,00
0の範囲にあることが望ましい。
フェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレン
ジイソシアネート(TDI)等と活性水素化合物との付
加体などの芳香族ポリイソシアネートと、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート(HMDI)等と活性水素化合物と
の付加体などの脂肪族ポリイソシアネートがある。ポリ
イソシアネートの重量平均分子量は、100〜3,00
0の範囲にあることが望ましい。
【0069】本発明では、磁性層に必要に応じて分散
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤および充填剤などの添
加剤を含有させることができる。
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤および充填剤などの添
加剤を含有させることができる。
【0070】まず、分散剤としては、カプリル酸、カプ
リン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸などの炭素数12〜18の脂肪
族;これらのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属
の塩あるいはこれらのアミド:ポリアルキレンオキサイ
ドアルキル酸エステル;レシチン;トリアルキルポリオ
レフィンオキシ第四アンモニウム塩:カルボキシル基お
よびスルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げるこ
とができる。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対し
て0.5〜5重量%の範囲で用いられる。
リン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸などの炭素数12〜18の脂肪
族;これらのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属
の塩あるいはこれらのアミド:ポリアルキレンオキサイ
ドアルキル酸エステル;レシチン;トリアルキルポリオ
レフィンオキシ第四アンモニウム塩:カルボキシル基お
よびスルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げるこ
とができる。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対し
て0.5〜5重量%の範囲で用いられる。
【0071】次に、潤滑剤としては、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを使用することができる。この場
合、脂肪酸の添加量は強磁性粉に対し0.2〜10重量
%が好ましく、0.5〜5重量%がより好ましい。添加
量が0.2重量%未満であると、走行性が低下し易く、
また10重量%を超えると、脂肪酸が磁性層の表面にし
み出したり、出力低下が生じ易くなる。
たは脂肪酸エステルを使用することができる。この場
合、脂肪酸の添加量は強磁性粉に対し0.2〜10重量
%が好ましく、0.5〜5重量%がより好ましい。添加
量が0.2重量%未満であると、走行性が低下し易く、
また10重量%を超えると、脂肪酸が磁性層の表面にし
み出したり、出力低下が生じ易くなる。
【0072】また、脂肪酸エステルの添加量も強磁性粉
に対して0.2〜10重量%が好ましく、0.5〜5重
量%がより好ましい。その添加量が0.2重量%未満で
あると、スチル耐久性が劣化し易く、また10重量%を
超えると、脂肪酸エステルが磁性層の表面にしみ出した
り、出力低下が生じ易くなる。
に対して0.2〜10重量%が好ましく、0.5〜5重
量%がより好ましい。その添加量が0.2重量%未満で
あると、スチル耐久性が劣化し易く、また10重量%を
超えると、脂肪酸エステルが磁性層の表面にしみ出した
り、出力低下が生じ易くなる。
【0073】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で10:90〜90:10が好ましく、より好
ましくは30:70〜70:30である。
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で10:90〜90:10が好ましく、より好
ましくは30:70〜70:30である。
【0074】脂肪酸としては一塩基酸であっても二塩基
酸であってもよく、炭素数は6〜30が好ましく、12
〜22の範囲がより好ましい。
酸であってもよく、炭素数は6〜30が好ましく、12
〜22の範囲がより好ましい。
【0075】脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カ
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1.12−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げ
られる。
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1.12−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げ
られる。
【0076】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、2−エチルヘキシルステアレート、2−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−2
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、2−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、2−エチルヘキシルステアレート、2−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−2
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、2−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。
【0077】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。
【0078】次に、研磨剤の具体例としては、α−アル
ミナ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸
化鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、炭
化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸化亜鉛、酸
化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素などが挙げ
られる。研磨剤の平均粒子径は0.05〜0.6μmが
好ましく、0.1〜0.3μmがより好ましい。
ミナ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸
化鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、炭
化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸化亜鉛、酸
化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素などが挙げ
られる。研磨剤の平均粒子径は0.05〜0.6μmが
好ましく、0.1〜0.3μmがより好ましい。
【0079】次に、帯電防止剤としては、カーボンブラ
ック、グラファイト等の導電性粉末;第四級アミン等の
カチオン界面活性剤;スルホン酸、硫酸、リン酸、リン
酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活
性剤;アミノスルホン酸等の両性界面活性剤;サポニン
等の天然界面活性剤等を挙げることができる。
ック、グラファイト等の導電性粉末;第四級アミン等の
カチオン界面活性剤;スルホン酸、硫酸、リン酸、リン
酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活
性剤;アミノスルホン酸等の両性界面活性剤;サポニン
等の天然界面活性剤等を挙げることができる。
【0080】上述した帯電防止剤は、通常、結合剤に対
して0.01〜40重量%の範囲で添加される。
して0.01〜40重量%の範囲で添加される。
【0081】(磁気記録媒体の製造)本発明の磁気記録
媒体はその製造方法に特に制限はなく、公知の単層また
は複数層構造型の磁気記録媒体の製造に使用される方法
に準じて製造することができる。
媒体はその製造方法に特に制限はなく、公知の単層また
は複数層構造型の磁気記録媒体の製造に使用される方法
に準じて製造することができる。
【0082】たとえば、一般的には強磁性粉、結合剤、
分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等を溶媒中で混練
及び分散して磁性塗料を調整した後、この磁性塗料を非
磁性支持体の表面に塗布する。
分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等を溶媒中で混練
及び分散して磁性塗料を調整した後、この磁性塗料を非
磁性支持体の表面に塗布する。
【0083】上記溶媒としては、たとえばアセトン、メ
チルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン
(MIBK)、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類;メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭素水素等を用い
ることができる。
チルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン
(MIBK)、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類;メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭素水素等を用い
ることができる。
【0084】磁性層形成成分の混練分散にあたっては、
各種の混練分散機を使用することができる。
各種の混練分散機を使用することができる。
【0085】この混練分散機としては、たとえば二本ロ
ールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、
コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグライン
ダー、Sqegvariアトライター、高速インペラー
分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパ
ー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機、オ
ープンニーダー、連続ニーダー、加圧ニーダーなどが挙
げられる。
ールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、
コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグライン
ダー、Sqegvariアトライター、高速インペラー
分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパ
ー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機、オ
ープンニーダー、連続ニーダー、加圧ニーダーなどが挙
げられる。
【0086】上記混練分散機のうち、0.05〜0.5
KW(磁性粉1Kg当たり)の消費電力負荷を提供する
ことのできる混練分散機は、加圧ニーダー、オープンニ
ーダー、連続ニーダー、二本ロールミル、三本ロールミ
ルである。
KW(磁性粉1Kg当たり)の消費電力負荷を提供する
ことのできる混練分散機は、加圧ニーダー、オープンニ
ーダー、連続ニーダー、二本ロールミル、三本ロールミ
ルである。
【0087】非磁性支持体上に磁性層を塗布するには、
本発明の磁気記録媒体の製造に当たっては、特に効果の
点からウェット−オン−ウェット重層塗布方式による同
時重層塗布を行なうのがよい。具体的には、図1に示す
ように、まず供給ロール32から繰出したフィルム状支
持体1に、エクストルージョン方式の押し出しコーター
10、11により、磁性層の各塗料をウェット−オン−
ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂直
配向用磁石33に通過し、乾燥器34に導入し、ここで
上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次
に、乾燥した各塗布層付きの支持体1をカレンダーロー
ル38の組合せからなるスーパーカレンダー装置37に
導き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取りロール
39に巻き取る。このようにして得られた磁性フィルム
を所望幅のテープ状に裁断してたとえば8mmビデオカ
メラ用磁気記録テープを製造することができる。
本発明の磁気記録媒体の製造に当たっては、特に効果の
点からウェット−オン−ウェット重層塗布方式による同
時重層塗布を行なうのがよい。具体的には、図1に示す
ように、まず供給ロール32から繰出したフィルム状支
持体1に、エクストルージョン方式の押し出しコーター
10、11により、磁性層の各塗料をウェット−オン−
ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂直
配向用磁石33に通過し、乾燥器34に導入し、ここで
上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次
に、乾燥した各塗布層付きの支持体1をカレンダーロー
ル38の組合せからなるスーパーカレンダー装置37に
導き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取りロール
39に巻き取る。このようにして得られた磁性フィルム
を所望幅のテープ状に裁断してたとえば8mmビデオカ
メラ用磁気記録テープを製造することができる。
【0088】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター10、
11へと供給してもよい。なお、図中、矢印Dは非磁性
ベースフィルムの搬送方向を示す。押し出しコーター1
0、11には夫々、液溜まり部13、14が設けられ、
各コーターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式
で重ねる。即ち、下層磁性層用塗料の塗布直後(未乾燥
状態のとき)に上層磁性層塗料を重層塗布する。
いインラインミキサーを通して押し出しコーター10、
11へと供給してもよい。なお、図中、矢印Dは非磁性
ベースフィルムの搬送方向を示す。押し出しコーター1
0、11には夫々、液溜まり部13、14が設けられ、
各コーターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式
で重ねる。即ち、下層磁性層用塗料の塗布直後(未乾燥
状態のとき)に上層磁性層塗料を重層塗布する。
【0089】前記コーターヘッドは、図2に示した
(ウ)のヘッドが本願発明においては好ましい。
(ウ)のヘッドが本願発明においては好ましい。
【0090】ウェット−オン−ウェット重層塗布方法
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。
【0091】このウェット−オン−ウェット方式による
重層塗布においては、下層が湿潤状態になったままで上
層の磁性層を塗布するので、下層の表面(即ち、上層と
境界面)が滑らかになるとともに上層の表面性が良好に
なり、かつ、上下層間の接触性も向上する。この結果、
特に高密度記録のために高出力、低ノイズの要求される
たとえば磁気テープとしての要求性能を満たしたものと
なりかつ、高耐久性の性能が要求されることに対しても
膜剥離をなくし、膜強度が向上し、耐久性が十分とな
る。また、ウェット−オン−ウェット重層塗布方式によ
り、ドロップアウトも低減することができ、信頼性も向
上する。
重層塗布においては、下層が湿潤状態になったままで上
層の磁性層を塗布するので、下層の表面(即ち、上層と
境界面)が滑らかになるとともに上層の表面性が良好に
なり、かつ、上下層間の接触性も向上する。この結果、
特に高密度記録のために高出力、低ノイズの要求される
たとえば磁気テープとしての要求性能を満たしたものと
なりかつ、高耐久性の性能が要求されることに対しても
膜剥離をなくし、膜強度が向上し、耐久性が十分とな
る。また、ウェット−オン−ウェット重層塗布方式によ
り、ドロップアウトも低減することができ、信頼性も向
上する。
【0092】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類:メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類:酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類:グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類:ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素:メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類:メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類:酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類:グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類:ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素:メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。
【0093】前記配向磁石あるいは垂直配向用磁石にお
ける磁場は、20〜5,000ガウス程度であり、乾燥
器による乾燥温度は約30〜120℃であり、乾燥時間
は約0.1〜10分間程度である。
ける磁場は、20〜5,000ガウス程度であり、乾燥
器による乾燥温度は約30〜120℃であり、乾燥時間
は約0.1〜10分間程度である。
【0094】次にカレンダリングにより表面平滑化処理
が行なわれる。
が行なわれる。
【0095】その後は、必要に応じてバーニッシュ処理
またはブレード処理を行なってスリッティングされる。
この際、上記表面平滑化処理は、本発明の目的を達成す
るのに効果的である。
またはブレード処理を行なってスリッティングされる。
この際、上記表面平滑化処理は、本発明の目的を達成す
るのに効果的である。
【0096】すなわち、前記したように本発明の必須要
件の一つに磁性層表面の粗さの条件があるが、この条件
を満たすためには、この表面平滑化処理が好ましい。表
面平滑化処理においては、カレンダー条件として温度、
線圧力、C/S(コーティングスピード)等を挙げるこ
とができる。
件の一つに磁性層表面の粗さの条件があるが、この条件
を満たすためには、この表面平滑化処理が好ましい。表
面平滑化処理においては、カレンダー条件として温度、
線圧力、C/S(コーティングスピード)等を挙げるこ
とができる。
【0097】本発明の目的達成のためには、通常、上記
温度を50〜120℃、上記線圧力を50〜400kg
/cm、上記C/Sを20〜600m/分に保持するこ
とが好ましい。これらの数値の範囲を外れると、磁性層
の表面状態を本発明の如く特定することが実施困難にな
るか、あるいはそれが不可能になることがある。
温度を50〜120℃、上記線圧力を50〜400kg
/cm、上記C/Sを20〜600m/分に保持するこ
とが好ましい。これらの数値の範囲を外れると、磁性層
の表面状態を本発明の如く特定することが実施困難にな
るか、あるいはそれが不可能になることがある。
【0098】
【発明の効果】本発明によれば、ディジタル媒体として
必要な高CN比やオーバーライト特性を有すると共に、
高温多湿下及びNO2 環境下での耐蝕性に優れた磁気記
録媒体を得ることができる。
必要な高CN比やオーバーライト特性を有すると共に、
高温多湿下及びNO2 環境下での耐蝕性に優れた磁気記
録媒体を得ることができる。
【0099】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【0100】以下に示す成分、割合、操作順序は本発明
の範囲から逸脱しない範囲において種々変更し得る。な
お、下記の実施例において「部」はすべて重量部であ
る。
の範囲から逸脱しない範囲において種々変更し得る。な
お、下記の実施例において「部」はすべて重量部であ
る。
【0101】実施例1 下記の上層用磁性組成物の各成分をニーダー・サンドミ
ルを用いて混練分散して上層用磁性塗料を調製した。
ルを用いて混練分散して上層用磁性塗料を調製した。
【0102】 [上層用塗料A] Fe−Al系強磁性金属粉末(Fe:Al重量比=100:8、平均長軸長: 0.16μm、Hc:1580 Oe,σs:120emu/g、軸比8、結晶 子サイズ:170Å) 100部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂(日本ゼオン社製、MR−110) 10部 スルホン酸金属塩含有ポリカーボネートポリウレタン樹脂(A)(ジエチルカ ーボネートと1,6−ヘキサンジオールからなるポリカーボネートポリオールと ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)よりなるポリカーボネートポリウ レタン、スルホン酸金属塩濃度0.03mmol/g、数平均分子量(Mn)1 2000、Tg5℃) 5部 アルミナ(α−Al2 O3 、平均粒径:0.2μm) 6部 カーボンブラック(平均粒径40nm) 1部 ステアリン酸 1部 ミリスチン酸 1部 ブチルステアレート 1部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部
【0103】 [下層用塗料C] TiO2 (平均粒径30nm) 90部 カーボンブラック(平均粒径20nm) 10部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル樹脂(日本ゼオン社製、MR−110) 6部 スルホン酸ナトリウム塩含有ポリカーボネートポリウレタン樹脂 3部 アルミナ(α−Al2 O3 、平均粒径:0.2μm) 6部 ミリスチン酸 1部 ブチルステアレート 1部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部
【0104】[上層用塗料B]上層用塗料AにおけるF
e−Al系強磁性金属粉末に変えてCo置換バリウムフ
ェライト(Hc:1100 Oe、BET45m2 /
g、σs:64emu/g、板状比4)を用いた外はA
と同じ。
e−Al系強磁性金属粉末に変えてCo置換バリウムフ
ェライト(Hc:1100 Oe、BET45m2 /
g、σs:64emu/g、板状比4)を用いた外はA
と同じ。
【0105】[下層用塗料D]下層用塗料CにおいてT
iO2 にかえてFe−Si−Alセンダスト合金粉末
(保磁力Hc=40A/m、μi=200H/m、粒径
50nm)を用いた以外はCと同じ。
iO2 にかえてFe−Si−Alセンダスト合金粉末
(保磁力Hc=40A/m、μi=200H/m、粒径
50nm)を用いた以外はCと同じ。
【0106】 [上層用塗料E、F][下層用塗料G、H] 前記塗料A、B、C、Dにおいてスルホン酸金属塩含有
ポリカーボネートポリウレタン樹脂(A)の代わりにス
ルホン酸金属塩含有ポリエステルポリウレタン(Mn:
15000、Tg:−20℃、スルホン酸金属塩濃度
0.03mmol/g)を用いた以外は、塗料A、B、
C、Dと同様である。
ポリカーボネートポリウレタン樹脂(A)の代わりにス
ルホン酸金属塩含有ポリエステルポリウレタン(Mn:
15000、Tg:−20℃、スルホン酸金属塩濃度
0.03mmol/g)を用いた以外は、塗料A、B、
C、Dと同様である。
【0107】[下層用塗料I]前記塗料Cにおいて、T
iO2 90部に代えてCO−rFe2 O3 (平均
粒径0.16μm、結晶子サイズ330Å、Hc:80
0 Oe、σs:78emu/g)90部を用いた以外
は同様である。
iO2 90部に代えてCO−rFe2 O3 (平均
粒径0.16μm、結晶子サイズ330Å、Hc:80
0 Oe、σs:78emu/g)90部を用いた以外
は同様である。
【0108】次に、得られた上層用磁性塗料と下層用塗
料とにそれぞれポリイソシアネート(コロネートL、日
本ポリウレタン工業社製)5部を添加した後、ウェット
・オン・ウェット方式により厚み10μmのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に塗布したのち、塗膜が未
乾燥であるうちに磁場配向処理を行ない、続いて乾燥を
施してから、カレンダーで表面平滑処理を行ない、厚み
2.0μmの下層と、厚み0.3μmの上層とからなる
磁性層を形成した。
料とにそれぞれポリイソシアネート(コロネートL、日
本ポリウレタン工業社製)5部を添加した後、ウェット
・オン・ウェット方式により厚み10μmのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に塗布したのち、塗膜が未
乾燥であるうちに磁場配向処理を行ない、続いて乾燥を
施してから、カレンダーで表面平滑処理を行ない、厚み
2.0μmの下層と、厚み0.3μmの上層とからなる
磁性層を形成した。
【0109】さらに、この磁性層とは反対側の上記ポリ
エチレンフタレートフィルムの面(裏面)に下記の組成
を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、カレンダー
加工をすることによって、厚み0.8μmのバックコー
ト層を形成し、広幅の原反磁気テープを得た。
エチレンフタレートフィルムの面(裏面)に下記の組成
を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、カレンダー
加工をすることによって、厚み0.8μmのバックコー
ト層を形成し、広幅の原反磁気テープを得た。
【0110】 [バックコート層用塗料] カーボンブラック(ラベン1035) 40部 硫酸バリウム(平均粒径300mμ) 10部 ニトロセルロース 25部 ポリウレタン系樹脂(日本ポリウレタン社製、N−2301) 25部 ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、コロネートL)10部 シクロヘキサノン 400部 メチルエチルケトン 250部 トルエン 250部 こうして得られた原反をスリットして8mmビデオ用テ
ープを作成した。
ープを作成した。
【0111】このビデオ用テープの電磁変換特性、塗布
性そして走行耐久性を下記の要領で測定した。その結果
を表1に示す。
性そして走行耐久性を下記の要領で測定した。その結果
を表1に示す。
【0112】(CN特性)9MHzの単一波を記録し、
その信号を再生した際の出力レベルを基準サンプル(比
較例1)との比較で表した。
その信号を再生した際の出力レベルを基準サンプル(比
較例1)との比較で表した。
【0113】(オーバーライト特性)2MHzの信号を
飽和レベルで記録し、その後に9MHzの信号を(上書
き)記録した際の2MHzの信号の残留出力レベルを測
定した。残留出力レベルの低いほどオーバーライト特性
は良好であるとする。
飽和レベルで記録し、その後に9MHzの信号を(上書
き)記録した際の2MHzの信号の残留出力レベルを測
定した。残留出力レベルの低いほどオーバーライト特性
は良好であるとする。
【0114】(耐蝕性評価)高温多湿下(40℃、90
%RH)、NO2 (10ppm) 環境下でサンプル
を30日放置し、予め録画した画を画面に出して目視で
チェックし、以下の基準で評価した。 画面正常 :A 画面やや異常(画面乱れ):B 画面消失 :C
%RH)、NO2 (10ppm) 環境下でサンプル
を30日放置し、予め録画した画を画面に出して目視で
チェックし、以下の基準で評価した。 画面正常 :A 画面やや異常(画面乱れ):B 画面消失 :C
【0115】
【表1】
【図1】ウエット−オン−ウエット塗布方式による磁性
層の同時重層塗布を説明するための図
層の同時重層塗布を説明するための図
【図2】磁性層塗料を塗布するためのコーターヘッドの
図
図
Claims (1)
- 【請求項1】非磁性支持体上に、複数の層を形成し、最
上層の磁性層の膜厚が0.8μm以下であり、それらの
層の内の少なくとも1層の結合剤として、エステル結合
を有しないポリカーボネートポリウレタンを含有し、最
上層以外の少なくとも1層が非磁性粉末又は高透磁率材
料を含む層であることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12003892A JPH05298663A (ja) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12003892A JPH05298663A (ja) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05298663A true JPH05298663A (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=14776371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12003892A Pending JPH05298663A (ja) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05298663A (ja) |
-
1992
- 1992-04-14 JP JP12003892A patent/JPH05298663A/ja active Pending
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