JPH0529966B2 - - Google Patents

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JPH0529966B2
JPH0529966B2 JP2465786A JP2465786A JPH0529966B2 JP H0529966 B2 JPH0529966 B2 JP H0529966B2 JP 2465786 A JP2465786 A JP 2465786A JP 2465786 A JP2465786 A JP 2465786A JP H0529966 B2 JPH0529966 B2 JP H0529966B2
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic disk
substrate holding
holding shaft
substrate
disk substrate
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP2465786A
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English (en)
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JPS62183036A (ja
Inventor
Hidehiro Oohashi
Toshihisa Myazaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chuo Seisakusho KK
Original Assignee
Chuo Seisakusho KK
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Publication date
Application filed by Chuo Seisakusho KK filed Critical Chuo Seisakusho KK
Priority to JP2465786A priority Critical patent/JPS62183036A/ja
Publication of JPS62183036A publication Critical patent/JPS62183036A/ja
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  • Chemically Coating (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気デイスク基板の全外表面に欠陥の
ない無電解めつきを施すために用いられる磁気デ
イスク基板のめつき装置に関するものである。
(従来の技術) 情報処理システムの記憶装置に使用される磁気
デイスクは、アルミニウム合金製の磁気デイスク
基板の上面に下地層として厚さ約10μmのニツケ
ルめつき層を形成した上に磁気記録層を形成し更
にその上面を保護層でカバーしたものであり、こ
のニツケルめつき層の形成には無電解ニツケルめ
つきが広く行われている。ところがこの無電解ニ
ツケルめつき工程中においては化学反応によつて
磁気デイスク基板の表面に水素ガスの気泡が発生
しこれを放置するとめつきむらを生ずるので、従
来は磁気デイスク基板を支持している治具に上下
方向の振動を与えて気泡の除去を図るようにした
めつき装置が用いられていた。
しかし上記のような従来の磁気デイスク基板の
めつき装置においては磁気デイスク基板を確実に
動かすことができず微細な気泡を完全に除去する
ことができないために磁気デイスク基板の表面に
ピツトと呼ばれる微細な凹欠陥が発生する問題が
あり、また磁気デイスク基板とその支持治具との
接触部にめつきを行うことができない問題があつ
た。更にまた、従来の磁気デイスク基板のめつき
装置は小型のものが多く、多量のめつき処理を能
率良く行うことができない問題があつた。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明はこのような従来の問題点を解決して、
多数の磁気デイスク基板の全外表面にピツト等の
欠陥のない無電解めつきを能率良く施すことがで
きる磁気デイスク基板のめつき装置を目的として
完成されたものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は処理層の内部に浸漬される左右一対の
垂直な支持板の内側に、半径方向に延びる長孔を
外周部に備えた一対の回転円板とこれと同軸の太
陽歯車とを設け、これらの長孔間には磁気デイス
ク基板を支持するための多数の溝が形成された軸
部と歯車とを備えた基板保持軸の両端を嵌入保持
させるとともに、前記支持板には上部のみに切欠
きを有するリングを設けて長孔に嵌入保持された
基板保持軸の脱落を防止させたことを特徴とする
ものである。
(実施例) 次に本発明を図示の実施例について詳細に説明
すると、1は内面にポリフツ化エチレンのライニ
ング層2を有するステンレス鋼のような耐食性材
料からなる処理槽、3は該処理槽1の上部にセツ
トされ得るキヤリア本体、4,4は該キヤリア本
体3の両端部下面に垂設された左右一対の垂直な
支持板である。これらの支持板4,4間には水平
な中心軸5が架設されており、該中心軸5上の支
持板4,4の内側部分には一対の回転円板6,7
が取付けられている。この中心軸5の一端にはギ
ア8が固定されており、キヤリア本体3に内蔵さ
れたモータ9によつてベベルギア10及びこれに
噛み合つている駆動ギア11が回転されると、ギ
ア8は中心軸5とともに回転円板6,7を回転さ
せることとなる。また一方の支持板4には中心軸
5と同軸上に太陽歯車12が設けられており、回
転円板6にはこの太陽歯車12と噛み合う遊星歯
車12Aが設けられている。従つて回転円板6,
7が回転するとき各遊星歯車12Aは公転しつつ
自転することとなる。
第2図に示されるように、これらの回転円板
6,7の外周部には半径方向に延びる長孔13が
等間隔に形成されている。そしてこれらの長孔1
3,13間には第1図に示されるように基板保持
軸14の両端が嵌入保持されている。基板保持軸
14は中央部に把手部15と円板状の整流板16
とを備えるとともに、その両側に延びる軸部17
に磁気デイスク基板50を支持するための溝18
を一定ピツチで多数凹設したものである。軸部1
7の外径は磁気デイスク基板50の中心孔の内径
よりも細くしておくものとする。このような基板
保持軸14は両端を回転円板6,7の長孔13,
13に嵌入することにより回転円板6,7間に保
持されているが、長孔13が下向きになつたとき
に長孔13から脱落することを防止するため、支
持板4,4の内側には第2図に示すような上部の
みに切欠き19を有するリング20を設け、基板
保持軸14の両端部をその内面に沿つて案内して
脱落を防止している。基板保持軸14はこの切欠
き19を通して長孔13に出し入れされることと
なる。また基板保持軸14はその一端に前記の遊
星歯車12Aと噛み合う歯車21を備えており、
長孔13に嵌入保持された状態で回転円板6,7
を回転させたとき、基板保持軸14が比較的早い
速度で自転するようになつている。
(作用) このように構成されたものは、基板保持軸14
の軸部17に凹設された多数の溝18に磁気デイ
スク基板50をそれぞれ支持させ、その中央部の
把手部15を握つて基板保持軸14をリング20
の切欠き19を介して回転円板6,7の長孔1
3,13間に嵌入させたうえでキヤリア本体3を
処理槽1の上部にセツトして回転円板6,7を含
む部分全体を処理液中に浸漬させ、モータ9を回
転させて前述のとおり回転円板6,7を垂直面内
で回転させる。この結果、基板保持軸14はリン
グ20の内面に案内されつつ中心軸5のまわりを
公転するとともに各基板保持軸14はその端部の
歯車21が回転円板6の遊星歯車12Aと噛合し
て比較的高速度で自転し、また各磁気デイスク基
板50もその中心孔の内径が溝18の外径よりも
大きいために基板保持軸14に対して回転してそ
の接触点を常に移動させることとなる。このよう
にして各磁気デイスク基板50は処理液中を移動
しつつ無電解ニツケルめつき等を施されることと
なり、この際に磁気デイスク基板50の表面に生
ずる水素ガスは各磁気デイスク基板50間に生ず
る液流によつて除去されるとともに、整流板16
が処理液の乱れを防止するので磁気デイスク基板
50が左右に振動することなく磁気デイスク基板
50の全表面にピツト等の欠陥のない無電解めつ
き層が形成されることとなる。なお、処理槽1の
外側面に超音波振動子を設けて処理液に超音波振
動を与えれば、ピツトの発生を更に確実に防止す
ることができる。
このようにしてめつきが完了した後、多数の磁
気デイスク基板50が取付けられた基板保持軸1
4はリング20の上部の切欠き19の部分から取
外される。かかる基板保持軸14の着脱は一定位
置で行われ、しかも単に長孔13内へ挿入すれば
回転円板6,7の回転につれてリング20により
自動的に脱落が防止され、また取出しの際にも単
に長孔13内から引出すだけで良いので、例えば
簡易ロボツト等の自動機によつて能率良く着脱で
きることとなる。
(発明の効果) 本発明は以上の説明からも明らかなように、磁
気デイスク基板の全外表面にピツト等の欠陥のな
い均一な無電解めつきを施すことができるもので
あり、また基板保持軸に多数の溝を設けて磁気デ
イスク基板を保持させるようにしたので、数百枚
の磁気デイスク基板を同時に処理することができ
るものである。更に、基板保持軸はリングの切欠
き部分を介して長溝内へ挿入し、あるいは長溝か
ら引出すのみで容易に回転円板に着脱できるの
で、取扱いが容易で作業性にも優れたものであ
り、従来の磁気デイスク基板のめつき装置の問題
点を解決したものとして産業に寄与するところは
極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す一部切欠正面
図、第2図はその一部切欠側面図である。 1:処理槽、4:支持板、5:中心軸、6,
7:回転円板、12:太陽歯車、13:長孔、1
4:基板保持軸、17:軸部、18:溝、19:
切欠き、20:リング、21:歯車、50:磁気
デイスク基板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 処理槽1の内部に浸漬される左右一対の垂直
    な支持板4,4の内側に、半径方向に延びる長孔
    13を外周部に備えた一対の回転円板6,7とこ
    れと同軸の太陽歯車12とを設け、これらの長孔
    13,13間には磁気デイスク基板50を支持す
    るための多数の溝18が形成された軸部17と歯
    車21とを備えた基板保持軸14の両端を嵌入保
    持させるとともに、前記支持板4,4には上部の
    みに切欠き19を有するリング20を設けて長孔
    13に嵌入保持された基板保持軸14の脱落を防
    止させたことを特徴とする磁気デイスク基板のめ
    つき装置。
JP2465786A 1986-02-06 1986-02-06 磁気デイスク基板のめつき装置 Granted JPS62183036A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2465786A JPS62183036A (ja) 1986-02-06 1986-02-06 磁気デイスク基板のめつき装置

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2465786A JPS62183036A (ja) 1986-02-06 1986-02-06 磁気デイスク基板のめつき装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62183036A JPS62183036A (ja) 1987-08-11
JPH0529966B2 true JPH0529966B2 (ja) 1993-05-06

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2465786A Granted JPS62183036A (ja) 1986-02-06 1986-02-06 磁気デイスク基板のめつき装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2741312B2 (ja) * 1992-06-30 1998-04-15 昭和アルミニウム株式会社 磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法
US7498062B2 (en) * 2004-05-26 2009-03-03 Wd Media, Inc. Method and apparatus for applying a voltage to a substrate during plating

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JPS62183036A (ja) 1987-08-11

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