JPH05308001A - 正確な低電力抵抗部材 - Google Patents
正確な低電力抵抗部材Info
- Publication number
- JPH05308001A JPH05308001A JP4091167A JP9116792A JPH05308001A JP H05308001 A JPH05308001 A JP H05308001A JP 4091167 A JP4091167 A JP 4091167A JP 9116792 A JP9116792 A JP 9116792A JP H05308001 A JPH05308001 A JP H05308001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistance
- layer
- region
- resistance member
- conductive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 37
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 44
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 44
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 abstract description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000005549 size reduction Methods 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
- H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
- H01C17/242—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material by laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C10/00—Adjustable resistors
- H01C10/30—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element
- H01C10/305—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element consisting of a thick film
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C10/00—Adjustable resistors
- H01C10/30—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element
- H01C10/32—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element the contact moving in an arcuate path
- H01C10/34—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element the contact moving in an arcuate path the contact or the associated conducting structure riding on collector formed as a ring or portion thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C10/00—Adjustable resistors
- H01C10/30—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element
- H01C10/38—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element the contact moving along a straight path
- H01C10/44—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element the contact moving along a straight path the contact bridging and sliding along resistive element and parallel conducting bar or collector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
- H01C17/235—Initial adjustment of potentiometer parts for calibration
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Adjustable Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜抵抗体のように抵抗値の正確な、一つ又
は複数の厚膜抵抗体を得ること。 【構成】 正確な厚膜抵抗体は、基板172上に付着形
成した、厚膜抵抗層174及びこの厚膜抵抗層174に
隣接しかつ接触する厚膜導体層178を備える。導体層
178を二つの部分に分ける約0.05mm程度の幅の
トリミング用のレーザー加工切込み線186aを抵抗層
174中まで伸延させる。切込み線186aが抵抗層1
74中に伸延する程度を変えて、抵抗値を調整・設定す
る。また、厚膜導体層178を連続的に長くして、複数
の厚膜導電(抵抗)素子174−1〜5を形成し得る。
種々の厚膜導電素子174−1〜5間の相互分離は、約
0.05mm幅のレーザー切込み線182a〜dによっ
て成され得る。
は複数の厚膜抵抗体を得ること。 【構成】 正確な厚膜抵抗体は、基板172上に付着形
成した、厚膜抵抗層174及びこの厚膜抵抗層174に
隣接しかつ接触する厚膜導体層178を備える。導体層
178を二つの部分に分ける約0.05mm程度の幅の
トリミング用のレーザー加工切込み線186aを抵抗層
174中まで伸延させる。切込み線186aが抵抗層1
74中に伸延する程度を変えて、抵抗値を調整・設定す
る。また、厚膜導体層178を連続的に長くして、複数
の厚膜導電(抵抗)素子174−1〜5を形成し得る。
種々の厚膜導電素子174−1〜5間の相互分離は、約
0.05mm幅のレーザー切込み線182a〜dによっ
て成され得る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、小さな正確な電子部材
に関する。更に詳しくは本発明は、比較的安価な厚いフ
ィルムの付着によって形成できる細密な抵抗部材および
電導部材に係わり、また、プリント方法で本質的に可能
とされるよりも更に微細なラインおよび間隔を得られる
ようにする技術を使用して厚いフィルムのプリント方法
の使用性を拡張するものである。
に関する。更に詳しくは本発明は、比較的安価な厚いフ
ィルムの付着によって形成できる細密な抵抗部材および
電導部材に係わり、また、プリント方法で本質的に可能
とされるよりも更に微細なラインおよび間隔を得られる
ようにする技術を使用して厚いフィルムのプリント方法
の使用性を拡張するものである。
【0002】
【従来技術】従来技術の抵抗部材は、付着された抵抗材
料と付着された電導体とを組み合わせて、この付着され
た電導体が抵抗体の電気リードを形成するようになされ
ているものが知られている。正確な抵抗値は、抵抗材料
に切り込むようにラインを切込み加工して、これにより
2つのリード間の材料特性を変化させることにより得ら
れる。
料と付着された電導体とを組み合わせて、この付着され
た電導体が抵抗体の電気リードを形成するようになされ
ているものが知られている。正確な抵抗値は、抵抗材料
に切り込むようにラインを切込み加工して、これにより
2つのリード間の材料特性を変化させることにより得ら
れる。
【0003】このような1つの構造が本発明の譲受人に
譲渡された米国特許第4,647,899号に開示され
ている。その構造においては、第1および第2の間隔を
隔てられた電導部材は抵抗材料の層によって結合されて
いる。抵抗体の値はレーザー切込み加工方法によって定
められている。この特許に開示された抵抗体の構造は比
較的複雑な構造を有する。
譲渡された米国特許第4,647,899号に開示され
ている。その構造においては、第1および第2の間隔を
隔てられた電導部材は抵抗材料の層によって結合されて
いる。抵抗体の値はレーザー切込み加工方法によって定
められている。この特許に開示された抵抗体の構造は比
較的複雑な構造を有する。
【0004】他の知られている抵抗体の構造において
は、一般に四角い付着形成された抵抗層は各端部が付着
形成された電導層によって終端される。それ故に2つの
電導層の間にゼロではない抵抗が存在することになる。
は、一般に四角い付着形成された抵抗層は各端部が付着
形成された電導層によって終端される。それ故に2つの
電導層の間にゼロではない抵抗が存在することになる。
【0005】1つもしくはそれ以上のレーザーによるカ
ットが抵抗層に施されて、抵抗体をその初期の調整され
ていないときの値よりも大きい予め定めた値にするよう
にトリム調整される。この代わりに、間隔を隔てられて
レーザー切込み加工された複数のラインを使用すること
ができる。
ットが抵抗層に施されて、抵抗体をその初期の調整され
ていないときの値よりも大きい予め定めた値にするよう
にトリム調整される。この代わりに、間隔を隔てられて
レーザー切込み加工された複数のラインを使用すること
ができる。
【0006】このような抵抗体の他の知られている形態
は、“トップハット”抵抗体として知られているもので
ある。これはトップハットの横断面とほぼ同じ形状をし
ている。
は、“トップハット”抵抗体として知られているもので
ある。これはトップハットの横断面とほぼ同じ形状をし
ている。
【0007】このような抵抗体において、抵抗材料の何
れのレーザー切込み加工が行われるよりも前には、抵抗
体の接点を形成する2つの電導部材の間に抵抗材料によ
る基本的な抵抗体の値が存在する。切込み加工が施され
るにつれて、また、抵抗材料の連続性が中断されるにつ
れて、抵抗部材の値はこの初期の基本的な値から増大し
ていく。
れのレーザー切込み加工が行われるよりも前には、抵抗
体の接点を形成する2つの電導部材の間に抵抗材料によ
る基本的な抵抗体の値が存在する。切込み加工が施され
るにつれて、また、抵抗材料の連続性が中断されるにつ
れて、抵抗部材の値はこの初期の基本的な値から増大し
ていく。
【0008】初期の基本的な値は、抵抗体の形状および
付着材料の抵抗特性すなわち面積当たりのオーム、並び
に、抵抗材料によって充満される2つの電導部材の物理
的間隔、によって決定される。
付着材料の抵抗特性すなわち面積当たりのオーム、並び
に、抵抗材料によって充満される2つの電導部材の物理
的間隔、によって決定される。
【0009】厚いフィルムの付着形成される抵抗部材
は、薄いフィルム技術で達成できる寸法をこれまで可能
となし得なかった。従来技術の厚いフィルム付着技術に
おける制約の1つは、部材間に保持されて互いの電気的
分離を保証しなければならない間隔の大きさとなってい
た。
は、薄いフィルム技術で達成できる寸法をこれまで可能
となし得なかった。従来技術の厚いフィルム付着技術に
おける制約の1つは、部材間に保持されて互いの電気的
分離を保証しなければならない間隔の大きさとなってい
た。
【0010】例えば、厚いフィルムの抵抗体および電導
体をプリント成形する既知の方法は特定のライン幅およ
び電導部材および抵抗部材の間隔に依存している。典型
的には、0.254mm(10ミル)幅のラインおよび部
材間の0.254mm(10ミル)間隔が、高度な接続技
術によって達成される。
体をプリント成形する既知の方法は特定のライン幅およ
び電導部材および抵抗部材の間隔に依存している。典型
的には、0.254mm(10ミル)幅のラインおよび部
材間の0.254mm(10ミル)間隔が、高度な接続技
術によって達成される。
【0011】ある例では、困難ではあるが、6〜7ミル
の範囲にまで狭めることは可能である。しかしながら、
この寸法低減は一般に工程速度を低下させ、付加的な検
査段階を必要にする。この寸法における問題には、ライ
ンの一体性の保証およびライン間に短絡のないことの保
証が含まれる。従って、厚いフィルム形式の技術は優れ
たいっそう信頼性の高いラインおよびライン間隔を達成
できないことのために制限されていた。
の範囲にまで狭めることは可能である。しかしながら、
この寸法低減は一般に工程速度を低下させ、付加的な検
査段階を必要にする。この寸法における問題には、ライ
ンの一体性の保証およびライン間に短絡のないことの保
証が含まれる。従って、厚いフィルム形式の技術は優れ
たいっそう信頼性の高いラインおよびライン間隔を達成
できないことのために制限されていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】それ故に、極めて高価
につく薄いフィルム形成技術を使用して達成できる程度
の寸法に近い寸法を有する正確な電気部材を、比較的安
価で利用可能な厚いフィルムの付着技術を使用して形成
できるようにすることが望まれるのであり、この達成を
目的とする。更に、抵抗層および電導層を付着させる比
較的不正確な厚いフィルムの付着技術を使用して周密な
正確な抵抗部材を形成できるようにすることが望まれる
のであり、この達成を目的とする。
につく薄いフィルム形成技術を使用して達成できる程度
の寸法に近い寸法を有する正確な電気部材を、比較的安
価で利用可能な厚いフィルムの付着技術を使用して形成
できるようにすることが望まれるのであり、この達成を
目的とする。更に、抵抗層および電導層を付着させる比
較的不正確な厚いフィルムの付着技術を使用して周密な
正確な抵抗部材を形成できるようにすることが望まれる
のであり、この達成を目的とする。
【0013】
【課題を達成するための手段】細密な可変抵抗装置は、
ノイズ特性の低いことおよび接触抵抗の小さいことの両
方を示す。様々な抵抗の関数が与えられることができ
る。これらの関数には線形並びに対数が含まれる。
ノイズ特性の低いことおよび接触抵抗の小さいことの両
方を示す。様々な抵抗の関数が与えられることができ
る。これらの関数には線形並びに対数が含まれる。
【0014】この装置は、細長い抵抗部材と、この抵抗
部材と接触して延在された実質的な電導部材とを含む。
抵抗部材および電導部材の両方は安価な従来の厚いフィ
ルム製造技術を使用して付着されることができる。
部材と接触して延在された実質的な電導部材とを含む。
抵抗部材および電導部材の両方は安価な従来の厚いフィ
ルム製造技術を使用して付着されることができる。
【0015】電導部材は複数の間隔を隔てられた断絶部
すなわちスロットによって中断されている。少なくとも
幾つかの断絶部が抵抗部材の隣接するそれぞれの部分に
予め定めた長さだけ切り込んでいる。
すなわちスロットによって中断されている。少なくとも
幾つかの断絶部が抵抗部材の隣接するそれぞれの部分に
予め定めた長さだけ切り込んでいる。
【0016】抵抗部材は湾曲されるか、或いは一般に直
線的な形状とされることができる。抵抗部材および電導
部材の何れも絶縁ベース上に担持されることができる。
ベースは平面形状とされるか、湾曲されることができ
る。
線的な形状とされることができる。抵抗部材および電導
部材の何れも絶縁ベース上に担持されることができる。
ベースは平面形状とされるか、湾曲されることができ
る。
【0017】抵抗部材を選択的に切込み加工して非電導
オープン領域を形成することによって、複数の抵抗値が
それぞれの抵抗部材に定められる。切込み加工は複数の
不連続部を有する部材に隣接して施される。
オープン領域を形成することによって、複数の抵抗値が
それぞれの抵抗部材に定められる。切込み加工は複数の
不連続部を有する部材に隣接して施される。
【0018】対をなす不連続部によって分離され且つま
た抵抗部材の部分によって互いに電気的に連結されてい
る1つまたはそれ以上の電導部材によって、特定の抵抗
値が形成できる。2つの間隔を隔てられた電導領域の間
に配置される増分的な抵抗部材の値は、隣接する細長い
抵抗材料が切込み加工されてその抵抗経路を変化される
度合いによって決定される。
た抵抗部材の部分によって互いに電気的に連結されてい
る1つまたはそれ以上の電導部材によって、特定の抵抗
値が形成できる。2つの間隔を隔てられた電導領域の間
に配置される増分的な抵抗部材の値は、隣接する細長い
抵抗材料が切込み加工されてその抵抗経路を変化される
度合いによって決定される。
【0019】部材の全抵抗値の増大には、すでに抵抗経
路の一部とされた部材に対する更に増分的な抵抗部材の
追加を伴う。増分的な抵抗値もまた、異なる抵抗値を有
する2つまたはそれ以上のフィルムまたは層から細長い
抵抗部材を形成することによって変化されることができ
る。
路の一部とされた部材に対する更に増分的な抵抗部材の
追加を伴う。増分的な抵抗値もまた、異なる抵抗値を有
する2つまたはそれ以上のフィルムまたは層から細長い
抵抗部材を形成することによって変化されることができ
る。
【0020】増大された範囲の抵抗値は、第2の細長い
抵抗部材を電導部材に接触させ且つ初期抵抗部材から間
隔を隔てて付着することによって達成できる。また第2
の細長い抵抗部材を切込み加工することによっても追加
の電導経路が形成されて、多数の付加的な増分抵抗部材
を形成できる。この部材は装置内で他の抵抗部材にリン
クさせることによってその装置に備えられている抵抗範
囲を実質的に増大させるように使用できるのである。
抵抗部材を電導部材に接触させ且つ初期抵抗部材から間
隔を隔てて付着することによって達成できる。また第2
の細長い抵抗部材を切込み加工することによっても追加
の電導経路が形成されて、多数の付加的な増分抵抗部材
を形成できる。この部材は装置内で他の抵抗部材にリン
クさせることによってその装置に備えられている抵抗範
囲を実質的に増大させるように使用できるのである。
【0021】抵抗部材は何れかの従来方法を使用して絶
縁基体に付着できる。厚いフィルムおよび薄いフィルム
の付着方法が使用できる。更に、厚いフィルムの抵抗部
材は従来の厚いフィルムの技術を使用して基体上にプリ
ントでき、また、物理的に安定した構造を形成するよう
に焼成されることができる。
縁基体に付着できる。厚いフィルムおよび薄いフィルム
の付着方法が使用できる。更に、厚いフィルムの抵抗部
材は従来の厚いフィルムの技術を使用して基体上にプリ
ントでき、また、物理的に安定した構造を形成するよう
に焼成されることができる。
【0022】上述した抵抗装置の可変ワイパーに対する
接点は何れの抵抗部材の上ではなく電導材料上に形成さ
れる。この結果、それらの装置の抵抗値に何等の制約も
生じないのである。ワイパーは電導部材に接触されるの
で、この装置は接触ノイズが低く且つまた接触抵抗が小
さいという両方を呈することになる。
接点は何れの抵抗部材の上ではなく電導材料上に形成さ
れる。この結果、それらの装置の抵抗値に何等の制約も
生じないのである。ワイパーは電導部材に接触されるの
で、この装置は接触ノイズが低く且つまた接触抵抗が小
さいという両方を呈することになる。
【0023】増分的な抵抗値が切込み加工もしくはレー
ザートリミング加工によって設定されるので、抵抗材料
の付着層は抵抗値に関して制御された物理的幾何形状に
依存するような品質の高い付着を必要としないのであ
る。従って、基準寸法に対してプラスマイナス1%もし
くはそれ以下の非常に正確な増分的な抵抗セグメントが
比較的安価な厚いフィルムのプリント技術を使用して達
成できる。
ザートリミング加工によって設定されるので、抵抗材料
の付着層は抵抗値に関して制御された物理的幾何形状に
依存するような品質の高い付着を必要としないのであ
る。従って、基準寸法に対してプラスマイナス1%もし
くはそれ以下の非常に正確な増分的な抵抗セグメントが
比較的安価な厚いフィルムのプリント技術を使用して達
成できる。
【0024】この装置はハウジングの中に取り付けら
れ、また、直線移動されるか回転移動されるノブが装置
の一端と可動接点との間の抵抗を手操作で変更させる目
的でワイパー部材に組み付けられることができる。組み
立てられた装置はしかる後に半田付けかその他の方法で
プリント回路基盤もしくは関連回路に取り付けられる。
れ、また、直線移動されるか回転移動されるノブが装置
の一端と可動接点との間の抵抗を手操作で変更させる目
的でワイパー部材に組み付けられることができる。組み
立てられた装置はしかる後に半田付けかその他の方法で
プリント回路基盤もしくは関連回路に取り付けられる。
【0025】抵抗材料がプリント技術使用して付与され
るので、何れの形状に形成することも容易である。他方
において、従来技術とは違って正確な抵抗値が連続的に
延在する抵抗部材にレーザートリミング加工することに
よって達成されるので、複数の個別のフィルム抵抗装置
の幾何形状を正確に制御することは必要とされないので
ある。上述したように、レーザービームによるトリミン
グが使用されて下の値を達成できるので、正確な増分的
な抵抗値はプリントおよび/または付着の変種とは比較
的無関係に達成できるということも、装置の更に他の利
点である。
るので、何れの形状に形成することも容易である。他方
において、従来技術とは違って正確な抵抗値が連続的に
延在する抵抗部材にレーザートリミング加工することに
よって達成されるので、複数の個別のフィルム抵抗装置
の幾何形状を正確に制御することは必要とされないので
ある。上述したように、レーザービームによるトリミン
グが使用されて下の値を達成できるので、正確な増分的
な抵抗値はプリントおよび/または付着の変種とは比較
的無関係に達成できるということも、装置の更に他の利
点である。
【0026】上述したように抵抗部材の他の利点は、レ
ーザートリミング加工の間に増分的な抵抗値の測定のた
めに使用されるプローブが電導部材の両端に配置され、
トリミング加工される抵抗部材に隣接して配置されない
ということである。それ故にプローブ接触端部領域が抵
抗部材の間に存在する接触端部領域よりも大きな領域と
して備えられることができる。更に、これらのプローブ
はトリミング加工の間に動かされる必要はない。
ーザートリミング加工の間に増分的な抵抗値の測定のた
めに使用されるプローブが電導部材の両端に配置され、
トリミング加工される抵抗部材に隣接して配置されない
ということである。それ故にプローブ接触端部領域が抵
抗部材の間に存在する接触端部領域よりも大きな領域と
して備えられることができる。更に、これらのプローブ
はトリミング加工の間に動かされる必要はない。
【0027】第1および第2の接触領域の間に異なる抵
抗値を与える方法は、細長い電導部材を準備し、その電
導部材の部分に接触された細長い実質的に連続した抵抗
部材を準備する諸段階を含む。
抗値を与える方法は、細長い電導部材を準備し、その電
導部材の部分に接触された細長い実質的に連続した抵抗
部材を準備する諸段階を含む。
【0028】第1および第2の接触領域の間を延在し、
且つまた電導部材の一部と連続的な抵抗部材の一部とを
含んでなる経路によって、その領域間に特定の抵抗値が
決定される。第1領域と、第2領域から離れている他の
領域との間の長い経路を選択することによって、第2の
高い抵抗値が達成できる。この経路は、電導部材の部分
と、望まれた高い抵抗値に等しい連続的な抵抗部材の長
い部分とを含んで構成される。
且つまた電導部材の一部と連続的な抵抗部材の一部とを
含んでなる経路によって、その領域間に特定の抵抗値が
決定される。第1領域と、第2領域から離れている他の
領域との間の長い経路を選択することによって、第2の
高い抵抗値が達成できる。この経路は、電導部材の部分
と、望まれた高い抵抗値に等しい連続的な抵抗部材の長
い部分とを含んで構成される。
【0029】更に、本発明によれば、正確な電子部材お
よびその部材を製造する方法が提供される。この部材は
予め定めた電気特性を有する金属層を絶縁基体に付着さ
せて形成される。レーザーはその層の中に0.0508
mm(2ミル)のラインを切込み加工するのに使用され、
これによってこの部材の特徴が正確に定められる。レー
ザーの切込み加工幅は必要とされるならば0.0254
mm(1ミル)または0.0508mm(2ミル)で変化さ
れることができる。
よびその部材を製造する方法が提供される。この部材は
予め定めた電気特性を有する金属層を絶縁基体に付着さ
せて形成される。レーザーはその層の中に0.0508
mm(2ミル)のラインを切込み加工するのに使用され、
これによってこの部材の特徴が正確に定められる。レー
ザーの切込み加工幅は必要とされるならば0.0254
mm(1ミル)または0.0508mm(2ミル)で変化さ
れることができる。
【0030】正確な抵抗体は、電導材料および抵抗材料
の連続的に延在する層を基体に付着させることで形成で
きる。これらの層は互いに一部でオーバーラップされ
る。
の連続的に延在する層を基体に付着させることで形成で
きる。これらの層は互いに一部でオーバーラップされ
る。
【0031】電導層のオーバーラップされていない端縁
から始まっているレーザー切込み加工ラインは電導領域
を抵抗層によって連結される2つの部分に切断する。こ
のラインは抵抗層の中にも切り込んでいて、これにより
2つの電導領域の間に抵抗値を正確に設定する。
から始まっているレーザー切込み加工ラインは電導領域
を抵抗層によって連結される2つの部分に切断する。こ
のラインは抵抗層の中にも切り込んでいて、これにより
2つの電導領域の間に抵抗値を正確に設定する。
【0032】この抵抗値は実質的にゼロに等しい値から
変化し、従って抵抗材料の性質および付着層領域の寸法
に基づく最大値に迄増大することができる。このような
幾つかの抵抗体は直列または並列に連結されて組み合わ
された性質に基づく全抵抗値を与えることができる。
変化し、従って抵抗材料の性質および付着層領域の寸法
に基づく最大値に迄増大することができる。このような
幾つかの抵抗体は直列または並列に連結されて組み合わ
された性質に基づく全抵抗値を与えることができる。
【0033】2つまたはそれ以上の異なる形式の抵抗材
料が組み合わされて1つの層に付着されることができ
る。大きなオーム/面積の値を有する抵抗材料と組み合
わせて比較的小さなオーム/面積の値を有する抵抗材料
を使用することは、1つの抵抗材料を使用する形式で達
成できた以上の広い範囲の値を有する複合された多抵抗
部材を生み出す。
料が組み合わされて1つの層に付着されることができ
る。大きなオーム/面積の値を有する抵抗材料と組み合
わせて比較的小さなオーム/面積の値を有する抵抗材料
を使用することは、1つの抵抗材料を使用する形式で達
成できた以上の広い範囲の値を有する複合された多抵抗
部材を生み出す。
【0034】本発明の更に他の実施例においては、複数
の電導部材が形成できる。電導材料の層は通常の厚いフ
ィルムの付着方法を使用して付着もしくは印刷される。
様々な電導部材が1つまたはそれ以上の0.0508mm
(2ミル)のレーザー切込み加工ラインによって互いに
分離されることができる。
の電導部材が形成できる。電導材料の層は通常の厚いフ
ィルムの付着方法を使用して付着もしくは印刷される。
様々な電導部材が1つまたはそれ以上の0.0508mm
(2ミル)のレーザー切込み加工ラインによって互いに
分離されることができる。
【0035】仕上げられた構造において複数の間隔を隔
てられた電導部材は比較的安価な厚いフィルムの技法を
使用して製造できる。しかしながら0.0508mm(2
ミル)の間隔はコスト的に有効でなく、厚いフィルムの
プリント技術を使用して達成された。
てられた電導部材は比較的安価な厚いフィルムの技法を
使用して製造できる。しかしながら0.0508mm(2
ミル)の間隔はコスト的に有効でなく、厚いフィルムの
プリント技術を使用して達成された。
【0036】同様に、本発明を具現する抵抗部材は0.
0508mm(2ミル)の間隔を有してパックできるが、
厚いフィルムのプリント技術だけでは簡単に達成できな
い。更に、基本的な抵抗部材は付着した厚いフィルム層
を使用して形成された。
0508mm(2ミル)の間隔を有してパックできるが、
厚いフィルムのプリント技術だけでは簡単に達成できな
い。更に、基本的な抵抗部材は付着した厚いフィルム層
を使用して形成された。
【0037】この結果は本発明によれば、部材、および
それらの部材を互いに0.0508mm(2ミル)の間隔
で隔絶する他の部材を形成する1つまたは複数の層を付
着させるために、1つの技術を使用して達成された。従
って、厚いフィルムの技術で達成できるこの結果はレー
ザービームに基づく光学的な切込み加工を使用して格段
に向上できるのである。
それらの部材を互いに0.0508mm(2ミル)の間隔
で隔絶する他の部材を形成する1つまたは複数の層を付
着させるために、1つの技術を使用して達成された。従
って、厚いフィルムの技術で達成できるこの結果はレー
ザービームに基づく光学的な切込み加工を使用して格段
に向上できるのである。
【0038】典型的な0.635mm(25ミル)×0.
254mm(10ミル)の寸法の抵抗体はそれらの抵抗体
の間に0.0508mm(2ミル)の間隔を隔てて容易に
達成できる。同様に、様々な形状および寸法の複数の電
導体はそれらの間に0.0508mm(2ミル)の間隔を
隔てて達成できる。
254mm(10ミル)の寸法の抵抗体はそれらの抵抗体
の間に0.0508mm(2ミル)の間隔を隔てて容易に
達成できる。同様に、様々な形状および寸法の複数の電
導体はそれらの間に0.0508mm(2ミル)の間隔を
隔てて達成できる。
【0039】本発明の更に他の利点は、非常に対裂く簡
単な抵抗体形状が他の部材のために基体面積を節約する
ことである。本発明の他の様な利点はトリム範囲の拡大
である。それ故に1つの抵抗体のペーストをプリントで
き、且つまた従来技術において2つのペーストが必要と
されてきた場合の所望の抵抗を達成できるのである。
単な抵抗体形状が他の部材のために基体面積を節約する
ことである。本発明の他の様な利点はトリム範囲の拡大
である。それ故に1つの抵抗体のペーストをプリントで
き、且つまた従来技術において2つのペーストが必要と
されてきた場合の所望の抵抗を達成できるのである。
【0040】例えば、従来技術のデザインが異なる形状
の100、300および800オームを含み、新しいデ
ザインが更に1600オームを必要とするならば、本発
明によればレーザー切込み加工ラインの長さを変化させ
ることだけによって、同じ形状がこれら4つの全ての抵
抗体に使用できる。
の100、300および800オームを含み、新しいデ
ザインが更に1600オームを必要とするならば、本発
明によればレーザー切込み加工ラインの長さを変化させ
ることだけによって、同じ形状がこれら4つの全ての抵
抗体に使用できる。
【0041】更にトリムのための範囲が非常に大きいの
で、焼成されたペーストの抵抗は非常に高い範囲にわた
って変化でき、また、許容できる付着を生ずることがで
きる(殆ど工程制御を必要としない)。
で、焼成されたペーストの抵抗は非常に高い範囲にわた
って変化でき、また、許容できる付着を生ずることがで
きる(殆ど工程制御を必要としない)。
【0042】最後に、抵抗体の終端は0.0508mm
(0.002インチ)だけ分離され、これは厚いフィル
ムのプリント技術では達成できない。上述した全ては非
常に狭い間隔および非常に大きな抵抗のトリム範囲(更
に大きな抵抗値は1つのペーストによる)を有して、非
常に小さな単一の抵抗体のデザインによって達成され
る。
(0.002インチ)だけ分離され、これは厚いフィル
ムのプリント技術では達成できない。上述した全ては非
常に狭い間隔および非常に大きな抵抗のトリム範囲(更
に大きな抵抗値は1つのペーストによる)を有して、非
常に小さな単一の抵抗体のデザインによって達成され
る。
【0043】0.0508mm(0.002インチ)の抵
抗体のターミナル分離は1回の簡単な真っ直ぐなレーザ
ー切断によって達成できる。それ故にこれは、かなり大
きくて複雑な形状をしていて、しばしば真っ直ぐな切断
よりも複雑なレーザー切断を必要とするような標準的な
抵抗体のデザインよりも、大きな利点となる。注目すべ
きは、上述において全ては従来の技術以外の何れの工程
段階を使用せずに達成されていることである。
抗体のターミナル分離は1回の簡単な真っ直ぐなレーザ
ー切断によって達成できる。それ故にこれは、かなり大
きくて複雑な形状をしていて、しばしば真っ直ぐな切断
よりも複雑なレーザー切断を必要とするような標準的な
抵抗体のデザインよりも、大きな利点となる。注目すべ
きは、上述において全ては従来の技術以外の何れの工程
段階を使用せずに達成されていることである。
【0044】この代わりに、レーザーを完全なパターン
を描き出す工具として使用することは可能となる。しか
しながら、簡単にレーザーによるトリミングを可能にす
る容易にプリント可能な0.254mm(10ミル)のラ
インおよび0.254mm(10ミル)の空間を使用し
て、本発明による抵抗体/電導体のプリントパターンを
上手にデザインすることによって、A) 0.0508
mm(0.002インチ)のターミナルパッドを有する抵
抗体の製造、B) 20もしくはそれ以上の抵抗範囲を
有する従来のものよりも小型な、非常に小さい抵抗部材
の製造、C) 1つの直線的な切込み加工のトリムライ
ンの形成、D) 全ての抵抗体の寸法を同じ寸法にする
こと、極端な範囲を得るために長い形状に形成すること
ができること、E) 1つのペースト材料に関していっ
そうおおきな抵抗値を作り出すこと、が可能とされるの
である。
を描き出す工具として使用することは可能となる。しか
しながら、簡単にレーザーによるトリミングを可能にす
る容易にプリント可能な0.254mm(10ミル)のラ
インおよび0.254mm(10ミル)の空間を使用し
て、本発明による抵抗体/電導体のプリントパターンを
上手にデザインすることによって、A) 0.0508
mm(0.002インチ)のターミナルパッドを有する抵
抗体の製造、B) 20もしくはそれ以上の抵抗範囲を
有する従来のものよりも小型な、非常に小さい抵抗部材
の製造、C) 1つの直線的な切込み加工のトリムライ
ンの形成、D) 全ての抵抗体の寸法を同じ寸法にする
こと、極端な範囲を得るために長い形状に形成すること
ができること、E) 1つのペースト材料に関していっ
そうおおきな抵抗値を作り出すこと、が可能とされるの
である。
【0045】更に、小さな寸法を利用して、電子パッケ
ージ全体が小型にできる。抵抗体は直列か並列に並べら
れ、小数のエクストラトリムによって抵抗体/抵抗体、
抵抗体/電導体、電導体/電導体の間に0.0508mm
(0.002インチ)の程度の空間が備えられる。
ージ全体が小型にできる。抵抗体は直列か並列に並べら
れ、小数のエクストラトリムによって抵抗体/抵抗体、
抵抗体/電導体、電導体/電導体の間に0.0508mm
(0.002インチ)の程度の空間が備えられる。
【0046】パッド寸法はできるだけ小さくされる。ま
た必要とされる場合は大きく作ることができ、利用空間
は微細空間とできることによって節約されるほんの小数
のエクストラレーザー切断によって、2つの電導体が
0.254mm(0.010インチ)の空間の間に延在さ
れる。これは、一般的なプリント基準では実現できな
い。最後に、本発明の結果として、薄いフィルムの技術
によって得られる寸法および精度のレベルにまで、厚い
フィルムの技術の利点を有して達成することができるの
である。
た必要とされる場合は大きく作ることができ、利用空間
は微細空間とできることによって節約されるほんの小数
のエクストラレーザー切断によって、2つの電導体が
0.254mm(0.010インチ)の空間の間に延在さ
れる。これは、一般的なプリント基準では実現できな
い。最後に、本発明の結果として、薄いフィルムの技術
によって得られる寸法および精度のレベルにまで、厚い
フィルムの技術の利点を有して達成することができるの
である。
【0047】本発明の多くのその他の利点および特徴は
以下の本発明の詳細な説明およびその実施例から、特許
請求の範囲の欄から、添付図面から容易に明白となろ
う。図面には、本発明の詳細が十分且つ完全に明細書の
一部として開示されている。
以下の本発明の詳細な説明およびその実施例から、特許
請求の範囲の欄から、添付図面から容易に明白となろ
う。図面には、本発明の詳細が十分且つ完全に明細書の
一部として開示されている。
【0048】本発明は多くの異なる形態において可能で
あるが、その特別な実施例が図面に示されここに詳細に
説明されるのであり、この開示内容は本発明の原理の実
施例であると考えられるべきものであり、本発明をこの
図示した特別な実施例に限定する意図のないことが理解
されるべきである。
あるが、その特別な実施例が図面に示されここに詳細に
説明されるのであり、この開示内容は本発明の原理の実
施例であると考えられるべきものであり、本発明をこの
図示した特別な実施例に限定する意図のないことが理解
されるべきである。
【0049】
【実施例】図1および図2は、本発明を具現する直線ポ
テンシオメーター10を示している。基体12はAl2
O3 で形成でき、第1および第2細長い間隔を隔てられ
た電導体14および16を担持している。各電導体はそ
れぞれ細長い端部領域18および20を有している。各
端部領域は外部回路に対する接点領域すなわち連結領域
として作用する。
テンシオメーター10を示している。基体12はAl2
O3 で形成でき、第1および第2細長い間隔を隔てられ
た電導体14および16を担持している。各電導体はそ
れぞれ細長い端部領域18および20を有している。各
端部領域は外部回路に対する接点領域すなわち連結領域
として作用する。
【0050】ポテンシオメーター10はまた抵抗材料の
第1および第2の細長い層24および26を含んでい
る。これらの層24および26は電導体の層14および
16の電導層が付着される前もしくは後に付着できる。
第1および第2の細長い層24および26を含んでい
る。これらの層24および26は電導体の層14および
16の電導層が付着される前もしくは後に付着できる。
【0051】抵抗層24および26を付着させる方法
は、本発明の方法を制限するものではないが、従来の厚
いフィルムの付着方法によってできる。例えば、厚いフ
ィルムのプリントに続いて層の焼成が行われる従来の方
法が使用できる。
は、本発明の方法を制限するものではないが、従来の厚
いフィルムの付着方法によってできる。例えば、厚いフ
ィルムのプリントに続いて層の焼成が行われる従来の方
法が使用できる。
【0052】最終製品において基準寸法のプラスマイナ
ス1%もしくはそれ以上の優れた正確な抵抗値を達成す
るために、層24および26が高精度で付着される必要
がなく、非常に均一とされる必要がなく、非常に正確な
幾何形状とされる必要のないことが、本発明の特に大き
な利点である。この結果、ポテンシオメーター10のよ
うなポテンシオメーターは非常に安価に製造できる。
ス1%もしくはそれ以上の優れた正確な抵抗値を達成す
るために、層24および26が高精度で付着される必要
がなく、非常に均一とされる必要がなく、非常に正確な
幾何形状とされる必要のないことが、本発明の特に大き
な利点である。この結果、ポテンシオメーター10のよ
うなポテンシオメーターは非常に安価に製造できる。
【0053】ポテンシオメーター10は2つの間隔を隔
てられた細長い抵抗層24および26を有しているもの
として示されているが、ただ1つの層が作動装置を形成
するのに必要とされることは理解されよう。更に、層2
4および26は抵抗材料と同じ形式の連続的に延在した
層として形成されているものとして示されているが、何
れの層24および26も2つまたはそれ以上の異なる形
式の抵抗材料で形成され、それらが領域18および20
に隣接して始まるように付着され、基体10に沿って領
域30へと或る予め定めた距離だけ延在されることがで
きる。
てられた細長い抵抗層24および26を有しているもの
として示されているが、ただ1つの層が作動装置を形成
するのに必要とされることは理解されよう。更に、層2
4および26は抵抗材料と同じ形式の連続的に延在した
層として形成されているものとして示されているが、何
れの層24および26も2つまたはそれ以上の異なる形
式の抵抗材料で形成され、それらが領域18および20
に隣接して始まるように付着され、基体10に沿って領
域30へと或る予め定めた距離だけ延在されることがで
きる。
【0054】高い抵抗値を有する第2の抵抗材料が次に
領域30の近くから電導層14の先端32へ延在されて
付着される。端部領域32は外部回路に対する接点領域
として、また、製造の間のプローブ領域として使用でき
る。
領域30の近くから電導層14の先端32へ延在されて
付着される。端部領域32は外部回路に対する接点領域
として、また、製造の間のプローブ領域として使用でき
る。
【0055】注目すべきは、電導層14および抵抗層2
4および26は互いに一部で領域34aおよび34bに
おけるようにオーバーラップされていることである。
4および26は互いに一部で領域34aおよび34bに
おけるようにオーバーラップされていることである。
【0056】スライダー36が電導層14および電導層
16と電気的に接触されているこのスライダー36は基
体12上をそれぞれ方向38aおよび38bに沿って軸
線方向に移動できる。
16と電気的に接触されているこのスライダー36は基
体12上をそれぞれ方向38aおよび38bに沿って軸
線方向に移動できる。
【0057】スライダー36を移動させることによっ
て、接点すなわちプローブ点18および20の間のポテ
ンシオメーター10の抵抗が変化される。領域14の先
端領域32は、ポテンシオメーター10に対する第3の
電気接点を通常のように形成する。
て、接点すなわちプローブ点18および20の間のポテ
ンシオメーター10の抵抗が変化される。領域14の先
端領域32は、ポテンシオメーター10に対する第3の
電気接点を通常のように形成する。
【0058】フィルム付着工程の終了後、連続的に延在
する電導経路として付着された電導層14は一群の中央
に配置されたスロット40a〜40lによってスライス
される。これらのスロット40a〜40lはコンピュー
ター制御レーザーによって切断される。これらのスロッ
トは電導体14を通して延在され、また、抵抗層24お
よび26の間の領域において基体12を部分的もしくは
完全に通して延在される。
する電導経路として付着された電導層14は一群の中央
に配置されたスロット40a〜40lによってスライス
される。これらのスロット40a〜40lはコンピュー
ター制御レーザーによって切断される。これらのスロッ
トは電導体14を通して延在され、また、抵抗層24お
よび26の間の領域において基体12を部分的もしくは
完全に通して延在される。
【0059】従って40a〜40lは複数の電導セグメ
ント42a〜42kをこのようにして定めている。接点
領域36aはスライダー36が方向38aまたは38b
に沿って前後方向へ移動することで領域42a〜42k
とスライド係合される。第2接点領域36bは電導層1
6とスライド係合される。
ント42a〜42kをこのようにして定めている。接点
領域36aはスライダー36が方向38aまたは38b
に沿って前後方向へ移動することで領域42a〜42k
とスライド係合される。第2接点領域36bは電導層1
6とスライド係合される。
【0060】スロット40a〜40lは0.0508mm
(0.002インチ)の幅でベース部材12を完全にも
しくは一部通して切断される。これはセグメント間の電
導材料の抵抗移動を行うためである。この移動は1つの
セグメントから、例えば42aから介在開口40bを横
断して第2セグメント42bへと接点領域36aが移動
することによって促進される。
(0.002インチ)の幅でベース部材12を完全にも
しくは一部通して切断される。これはセグメント間の電
導材料の抵抗移動を行うためである。この移動は1つの
セグメントから、例えば42aから介在開口40bを横
断して第2セグメント42bへと接点領域36aが移動
することによって促進される。
【0061】次の製造段階においては、電導層14と同
様に抵抗層24および26に於ける複数の不連続部がレ
ーザー切込み加工動作によって形成できる。スロットす
なわち不連続部44a〜44fは抵抗層24に組み合わ
される。スロット46a〜46fは抵抗層24に組み合
わされる。レーザー切込み加工による不連続部すなわち
44a〜44fおよび46a〜46fは、層24の抵抗
部材50a〜50fおよび層26の52a〜52fのよ
うな抵抗部材の複数の抵抗部材を形成する。
様に抵抗層24および26に於ける複数の不連続部がレ
ーザー切込み加工動作によって形成できる。スロットす
なわち不連続部44a〜44fは抵抗層24に組み合わ
される。スロット46a〜46fは抵抗層24に組み合
わされる。レーザー切込み加工による不連続部すなわち
44a〜44fおよび46a〜46fは、層24の抵抗
部材50a〜50fおよび層26の52a〜52fのよ
うな抵抗部材の複数の抵抗部材を形成する。
【0062】抵抗部材50a〜50fおよび52a〜5
2fは適当に調整された後にポテンシオメーター10の
ための高精度の抵抗セグメントを形成する。抵抗部材5
0a〜50fおよび52a〜52fの調整は、開口40
a〜40lの各々に関連した更に他のレーザー切込み加
工と組み合わされて、プローブ点18および32と接触
された2つのプローブを使用して達成される。
2fは適当に調整された後にポテンシオメーター10の
ための高精度の抵抗セグメントを形成する。抵抗部材5
0a〜50fおよび52a〜52fの調整は、開口40
a〜40lの各々に関連した更に他のレーザー切込み加
工と組み合わされて、プローブ点18および32と接触
された2つのプローブを使用して達成される。
【0063】抵抗部材52aはレーザー切込み加工によ
り不連続部56aを形成することによって予め定めた正
確な値に調整される。レーザー切込み加工によって形成
された不連続部56aの長さは、プローブ18および3
2を介して非常に簡単且つ素早く読みとられる領域52
aと組み合わされる所望の抵抗値によって決定される。
り不連続部56aを形成することによって予め定めた正
確な値に調整される。レーザー切込み加工によって形成
された不連続部56aの長さは、プローブ18および3
2を介して非常に簡単且つ素早く読みとられる領域52
aと組み合わされる所望の抵抗値によって決定される。
【0064】部材42aと先端プローブ32との間には
電導性が存在する。不連続部56aの形成に続いて、抵
抗部材50aの値は不連続部58aを形成する他のレー
ザー切込み加工によって調整できる。
電導性が存在する。不連続部56aの形成に続いて、抵
抗部材50aの値は不連続部58aを形成する他のレー
ザー切込み加工によって調整できる。
【0065】この例では、切込み加工領域58aの長さ
はプローブ18と先端プローブ点32との間を測定する
ことで設定でき、これは既にトリム調整された52aの
抵抗値および切込み加工領域58aの形成によってトリ
ム調整されるべき抵抗部材50aの現在の値を含む有効
全抵抗を生み出す。次に残された抵抗例52b〜52f
および50b〜50fの各々が連続切込み加工によって
トリム調整される。
はプローブ18と先端プローブ点32との間を測定する
ことで設定でき、これは既にトリム調整された52aの
抵抗値および切込み加工領域58aの形成によってトリ
ム調整されるべき抵抗部材50aの現在の値を含む有効
全抵抗を生み出す。次に残された抵抗例52b〜52f
および50b〜50fの各々が連続切込み加工によって
トリム調整される。
【0066】領域50cおよび52fに示すように、レ
ーザー切込み加工を方向決めして長いスライスもしくは
スロットをそれぞれの部材に形成するようになすこと
で、各部材の有効抵抗が増大できる。様々なそれぞれの
レーザー切込み加工作動が遂行される方法によって、ポ
テンシオメーター10は直線的な抵抗特性、体数的な抵
抗特性、または領域52a〜領域50fへと抵抗が増大
するようなその他の特性を形成されることができる。
ーザー切込み加工を方向決めして長いスライスもしくは
スロットをそれぞれの部材に形成するようになすこと
で、各部材の有効抵抗が増大できる。様々なそれぞれの
レーザー切込み加工作動が遂行される方法によって、ポ
テンシオメーター10は直線的な抵抗特性、体数的な抵
抗特性、または領域52a〜領域50fへと抵抗が増大
するようなその他の特性を形成されることができる。
【0067】上述したポテンシオメーター10は平面基
体12上にて図示されているが、本発明の精神および範
囲から逸脱せずにこの基体12は湾曲され或いは円筒形
とされることができることは理解されよう。
体12上にて図示されているが、本発明の精神および範
囲から逸脱せずにこの基体12は湾曲され或いは円筒形
とされることができることは理解されよう。
【0068】抵抗層24および26は細長い全体的に四
角い形状でポテンシオメーター10に示されたが、他の
形状が本発明の精神および範囲から逸脱せずに使用でき
ることは理解されよう。
角い形状でポテンシオメーター10に示されたが、他の
形状が本発明の精神および範囲から逸脱せずに使用でき
ることは理解されよう。
【0069】ポテンシオメーター10は非常にノイズの
小さな装置である。何故ならば、スライダー36は電導
層14上に接触するが、抵抗層24および26の何れか
に接触しないからである。更に、レーザー切込み加工に
より、そして付着抵抗層24および26に形成されたそ
れぞれの切断部58aおよび56aにより、図1に示し
た比較的単純な幾何形状を保持したまま、抵抗値をポテ
ンシオメーター10の最小値から最大値まで広い範囲の
レンジにわたって変化させることが可能になるのであ
る。
小さな装置である。何故ならば、スライダー36は電導
層14上に接触するが、抵抗層24および26の何れか
に接触しないからである。更に、レーザー切込み加工に
より、そして付着抵抗層24および26に形成されたそ
れぞれの切断部58aおよび56aにより、図1に示し
た比較的単純な幾何形状を保持したまま、抵抗値をポテ
ンシオメーター10の最小値から最大値まで広い範囲の
レンジにわたって変化させることが可能になるのであ
る。
【0070】ポテンシオメーター10の抵抗の実質的な
変化は50aおよび52bのような抵抗部材の標準化さ
れた形状を使用して容易に達成できる。何故ならば、レ
ーザー切込み加工は抵抗領域50fに示しているように
回旋状の電気経路を作り出すことができるからである。
この結果、非常にコスト高価に優れた構造が生まれる。
何故ならば、レーザー切込み加工は所望の抵抗変種を達
成するようにコンピューター制御できるからである。
変化は50aおよび52bのような抵抗部材の標準化さ
れた形状を使用して容易に達成できる。何故ならば、レ
ーザー切込み加工は抵抗領域50fに示しているように
回旋状の電気経路を作り出すことができるからである。
この結果、非常にコスト高価に優れた構造が生まれる。
何故ならば、レーザー切込み加工は所望の抵抗変種を達
成するようにコンピューター制御できるからである。
【0071】また、様々な形式の材料、例えばエポキシ
ベースのプリント回路基盤が基体12として使用できる
ことが理解されよう。ポテンシオメーター10の他の利
点は非常に小型に作ることができ、そして製造が非常に
安価且つ簡単となることである。
ベースのプリント回路基盤が基体12として使用できる
ことが理解されよう。ポテンシオメーター10の他の利
点は非常に小型に作ることができ、そして製造が非常に
安価且つ簡単となることである。
【0072】図1を参照すれば、レーザーを使用した第
1の一連の切断部44a〜44fが50a〜55fのよ
うな個々の抵抗部材を表している。
1の一連の切断部44a〜44fが50a〜55fのよ
うな個々の抵抗部材を表している。
【0073】しかしながら、このスライス加工手順は連
続した電導経路をその抵抗体がトリムされる迄残す。こ
のように抵抗体を定めることは抵抗体の部分と電導体の
部分とを0.0508mm(0.002インチ)に分離で
きるようにする。この分離距離はプリント技術によって
達成できない。それ故にこの厚いフィルムの工程によれ
ばフォトライトグラフィックによる寸法決めの利点を得
られる。これは難しい整合を必要としない小型で高価な
技法に匹敵するパターン寸法を得られるようにする。本
発明の方法は2つのプローブのみを使用して全てのトリ
ム値を測定できるようにし、更に必要な面積を最小限に
する。
続した電導経路をその抵抗体がトリムされる迄残す。こ
のように抵抗体を定めることは抵抗体の部分と電導体の
部分とを0.0508mm(0.002インチ)に分離で
きるようにする。この分離距離はプリント技術によって
達成できない。それ故にこの厚いフィルムの工程によれ
ばフォトライトグラフィックによる寸法決めの利点を得
られる。これは難しい整合を必要としない小型で高価な
技法に匹敵するパターン寸法を得られるようにする。本
発明の方法は2つのプローブのみを使用して全てのトリ
ム値を測定できるようにし、更に必要な面積を最小限に
する。
【0074】第2の群をなす切断部58aのような切断
部は各抵抗部材の抵抗値をトリム調整する。通常の厚い
フィルムの処理およびプリントの空間によって、ここで
0.0508mm(2ミル)のレーザーを使用して達成さ
れるような切断部のようには部材間に0.0508mm
(2ミル)の離隔を達成することはできない。
部は各抵抗部材の抵抗値をトリム調整する。通常の厚い
フィルムの処理およびプリントの空間によって、ここで
0.0508mm(2ミル)のレーザーを使用して達成さ
れるような切断部のようには部材間に0.0508mm
(2ミル)の離隔を達成することはできない。
【0075】図3は湾曲されたポテンシオメーター60
を示している。このポテンシオメーター60は平面基体
62上に形成され、半円形の電導層64を含んでいる。
この電導層は端部プローブ領域66および68を有して
いる。プローブ領域66および68は通常のポテンシオ
メーターに対する端部連結点に相当する中央に位置され
た電導領域70は基体62上に付着されていて、回転す
るスライダー部材71のための中央接触領域を形成して
いる。
を示している。このポテンシオメーター60は平面基体
62上に形成され、半円形の電導層64を含んでいる。
この電導層は端部プローブ領域66および68を有して
いる。プローブ領域66および68は通常のポテンシオ
メーターに対する端部連結点に相当する中央に位置され
た電導領域70は基体62上に付着されていて、回転す
るスライダー部材71のための中央接触領域を形成して
いる。
【0076】ポテンシオメーター60はまた第1および
第2の間隔を隔てられた湾曲する抵抗層72、74、7
6および78を含む。層72および76は同じ抵抗材料
によって作られている。層74および78は高抵抗材料
によって作られている。
第2の間隔を隔てられた湾曲する抵抗層72、74、7
6および78を含む。層72および76は同じ抵抗材料
によって作られている。層74および78は高抵抗材料
によって作られている。
【0077】図1の直線形のポテンシオメーターの場合
と同様に、円弧形の電導部材64は複数のスロット、例
えばスロット80によって断絶されており、これらのス
ロットは基体62を部分的にもしくは完全に通って延在
されている。各スロット、例えばスロット80に組み合
わされてレーザー切込み加工された0.0508mm(2
ミル)幅の切断部82が開口80の端部から隣接する抵
抗層72を通して延在されている。
と同様に、円弧形の電導部材64は複数のスロット、例
えばスロット80によって断絶されており、これらのス
ロットは基体62を部分的にもしくは完全に通って延在
されている。各スロット、例えばスロット80に組み合
わされてレーザー切込み加工された0.0508mm(2
ミル)幅の切断部82が開口80の端部から隣接する抵
抗層72を通して延在されている。
【0078】第1の抵抗部材76aは、プローブ領域6
6および68をそれぞれ使用して、レーザー切断部84
によってトリム調整されて正確な抵抗値を与えるように
なされる。ポテンシオメーター10に関連して既に説明
したように、切断部84aおよび84bを含む複数の引
き続きレーザー切込み加工によって切断される切断部
は、層74および78と同様にそれぞれの抵抗層72お
よび76に形成される。これらの切断部はポテンシオメ
ーター60のそれぞれの抵抗部材の値を基準値のプラス
マイナス1%もしくはそれ以内にトリム調整する。
6および68をそれぞれ使用して、レーザー切断部84
によってトリム調整されて正確な抵抗値を与えるように
なされる。ポテンシオメーター10に関連して既に説明
したように、切断部84aおよび84bを含む複数の引
き続きレーザー切込み加工によって切断される切断部
は、層74および78と同様にそれぞれの抵抗層72お
よび76に形成される。これらの切断部はポテンシオメ
ーター60のそれぞれの抵抗部材の値を基準値のプラス
マイナス1%もしくはそれ以内にトリム調整する。
【0079】ポテンシオメーター60は隣接する電気回
路に、その回路をポテンシオメーターの端部接点66お
よび68並びにその可変中心接点に電気的に連結するこ
とによって、連結されることができる。
路に、その回路をポテンシオメーターの端部接点66お
よび68並びにその可変中心接点に電気的に連結するこ
とによって、連結されることができる。
【0080】図5はほぼ円筒形のハウジング90に取り
付けられたポテンシオメーター60を示している。ハウ
ジング90は回転取り付け中心領域92を有する。
付けられたポテンシオメーター60を示している。ハウ
ジング90は回転取り付け中心領域92を有する。
【0081】領域92の回転はポテンシオメーター60
のワイパー94を回転させることになる。96a〜96
cを通しての送りは端部領域66および68、並びにワ
イパー中央領域70を、組み合わされている電気回路に
電気的に連結するのに使用される。
のワイパー94を回転させることになる。96a〜96
cを通しての送りは端部領域66および68、並びにワ
イパー中央領域70を、組み合わされている電気回路に
電気的に連結するのに使用される。
【0082】ハウジング90は基体60に対して通常の
様々な接着剤を介して取り付けられる。ハウジング90
のこの特定の形状が本発明を限定することはないこと
は、理解されよう。
様々な接着剤を介して取り付けられる。ハウジング90
のこの特定の形状が本発明を限定することはないこと
は、理解されよう。
【0083】ポテンシオメーター60および組み合わさ
れたハウジング90は物理的に非常に小さく、聴覚目的
のような様々な応用例に使用でき、このような分野では
寸法が重大である。ハウジング90の回転部分92はポ
テンシオメーターの手操作による設定機構を与える。
れたハウジング90は物理的に非常に小さく、聴覚目的
のような様々な応用例に使用でき、このような分野では
寸法が重大である。ハウジング90の回転部分92はポ
テンシオメーターの手操作による設定機構を与える。
【0084】図8は直線形のポテンシオメーター10ま
たは回転式のポテンシオメーター60のようなポテンシ
オメーターを作る方法を概略的に示している。最初の段
階において、ステーション120において、電導材料の
層は基体122にプリント形成されるか、他の方法で付
着される。付着方法の形式に応じて、ステーション12
0は焼成する構造を含むか、付着電導材料を基体122
に固定する他の物理的な固定のための構造を含む。
たは回転式のポテンシオメーター60のようなポテンシ
オメーターを作る方法を概略的に示している。最初の段
階において、ステーション120において、電導材料の
層は基体122にプリント形成されるか、他の方法で付
着される。付着方法の形式に応じて、ステーション12
0は焼成する構造を含むか、付着電導材料を基体122
に固定する他の物理的な固定のための構造を含む。
【0085】ステーション124における他の段階にお
いて、1つまたはそれ以上の抵抗材料の層が基体122
に付着される。抵抗材料は使用された付着方法に応じて
焼成されることもできる。このステーション120およ
び124における付着工程は製造工程制御ユニット12
6の制御の下に遂行される。使用される工程に応じて抵
抗材料はまず最初に付着されることができる。
いて、1つまたはそれ以上の抵抗材料の層が基体122
に付着される。抵抗材料は使用された付着方法に応じて
焼成されることもできる。このステーション120およ
び124における付着工程は製造工程制御ユニット12
6の制御の下に遂行される。使用される工程に応じて抵
抗材料はまず最初に付着されることができる。
【0086】引き続く段階において、ステーション12
8において、間隔を隔てられた主スロット、例えばスロ
ット40a〜40lまたはスロット80、は付着層に切
り込まれ、基体122を部分的または完全に通ってい
る。これらのスロット形成作業は比較的大出力のレーザ
ー切断装置を使用して行われる。
8において、間隔を隔てられた主スロット、例えばスロ
ット40a〜40lまたはスロット80、は付着層に切
り込まれ、基体122を部分的または完全に通ってい
る。これらのスロット形成作業は比較的大出力のレーザ
ー切断装置を使用して行われる。
【0087】引き続く段階において、ステーション13
0では、第1の切込み加工がユニットの上で遂行され
る。この段階においては、レーザー切断部は抵抗層およ
びスロット44a〜44fに対応する電導層の部分に切
り込まれて形成される。
0では、第1の切込み加工がユニットの上で遂行され
る。この段階においては、レーザー切断部は抵抗層およ
びスロット44a〜44fに対応する電導層の部分に切
り込まれて形成される。
【0088】最終ステーションにおいては、様々な抵抗
体セグメント、例えば抵抗体セグメント50a、がプロ
ーブP1およびP2およびレーザー切断装置を使用して
トリム加工される。この装置は各セグメントの有効抵抗
値を正確に調整する目的のために、ステーション130
で使用されたのと同じ装置とされ得る。ステーション1
28、130および132の様々なスロット形成作業、
切込み加工は製造制御ユニット134の制御の下で遂行
される。
体セグメント、例えば抵抗体セグメント50a、がプロ
ーブP1およびP2およびレーザー切断装置を使用して
トリム加工される。この装置は各セグメントの有効抵抗
値を正確に調整する目的のために、ステーション130
で使用されたのと同じ装置とされ得る。ステーション1
28、130および132の様々なスロット形成作業、
切込み加工は製造制御ユニット134の制御の下で遂行
される。
【0089】加工された部材は次にワイパー接点および
ハウジングと組み合わされる。直線式または回転式のポ
テンシオメーターが形成され得る。
ハウジングと組み合わされる。直線式または回転式のポ
テンシオメーターが形成され得る。
【0090】本発明の精神および範囲から逸脱せずに様
々な変種が上述の段階から作りだされ得ることは理解さ
れよう。
々な変種が上述の段階から作りだされ得ることは理解さ
れよう。
【0091】抵抗部材は基体62の両側を使用して形成
できる。この実施例では、基体62の第1側に付着され
ている図3に示した電導部材64に加えて、第2の円形
の電導部材が基体62の第1の側から離れている第2の
側に付着されることができる。
できる。この実施例では、基体62の第1側に付着され
ている図3に示した電導部材64に加えて、第2の円形
の電導部材が基体62の第1の側から離れている第2の
側に付着されることができる。
【0092】電導部材64は穴を通されたプレートまた
他の形態を介して基体62の第2の面に付着された電導
体に対して電導的に連結されることができる。第2の付
着電導面は部材64の各領域に対応する複数の隔絶され
た領域の中にスライス加工されることができる。
他の形態を介して基体62の第2の面に付着された電導
体に対して電導的に連結されることができる。第2の付
着電導面は部材64の各領域に対応する複数の隔絶され
た領域の中にスライス加工されることができる。
【0093】ワイパー94のようなワイパーは基体62
の第2面に回転可能に取り付けられて領域66のような
端部領域と回転ワイパーとの間の抵抗を変化させるよう
になされることができる。この実施例の利点はワイパー
がセグメントの各々に関して大きな面積で接触できるこ
とである。
の第2面に回転可能に取り付けられて領域66のような
端部領域と回転ワイパーとの間の抵抗を変化させるよう
になされることができる。この実施例の利点はワイパー
がセグメントの各々に関して大きな面積で接触できるこ
とである。
【0094】本発明の更に他の実施例において、正確な
電気的部材がプリントされた厚いフィルムの抵抗体およ
び電導体の部材を使用して0.0508mm(2ミル)の
間隔を隔てて形成できる。これらの構造および関連する
製造方法は、抵抗フィルムおよび電導フィルムを付着さ
せる比較的安価な厚いフィルムスクリーニングまたはプ
リント方法を使用する。しかしながらレーザー切込み加
工が様々な抵抗部材および電導部材の間に0.0508
mm(2ミル)の間隔を作り出すのに使用される。
電気的部材がプリントされた厚いフィルムの抵抗体およ
び電導体の部材を使用して0.0508mm(2ミル)の
間隔を隔てて形成できる。これらの構造および関連する
製造方法は、抵抗フィルムおよび電導フィルムを付着さ
せる比較的安価な厚いフィルムスクリーニングまたはプ
リント方法を使用する。しかしながらレーザー切込み加
工が様々な抵抗部材および電導部材の間に0.0508
mm(2ミル)の間隔を作り出すのに使用される。
【0095】更に、作られた抵抗部材の特定の構造は、
付着された抵抗フィルムの変動の影響および性質を最小
限にした。この結果、オーム/面積パラメーターの変動
はもはや十分なファクターではなくなった。
付着された抵抗フィルムの変動の影響および性質を最小
限にした。この結果、オーム/面積パラメーターの変動
はもはや十分なファクターではなくなった。
【0096】本発明の抵抗体構造は約20対1の縦横比
を有する。抵抗体の高さを増大すると、電導体/抵抗体
のインターフェースはそのファクターをいっそう増大さ
せる。この結果、実際のオーム/面積のパラメーター値
はもはや重要でなくなる。
を有する。抵抗体の高さを増大すると、電導体/抵抗体
のインターフェースはそのファクターをいっそう増大さ
せる。この結果、実際のオーム/面積のパラメーター値
はもはや重要でなくなる。
【0097】本発明を具現した抵抗部材150が図9に
示されている。この部材150は絶縁基体上に形成され
担持されている。部材150は付着された抵抗領域15
4および付着された電導領域156を含む。抵抗領域1
54および電導領域156は互いに領域155にてオー
バーラップされている。
示されている。この部材150は絶縁基体上に形成され
担持されている。部材150は付着された抵抗領域15
4および付着された電導領域156を含む。抵抗領域1
54および電導領域156は互いに領域155にてオー
バーラップされている。
【0098】部材150の典型的な寸法は0.635mm
(25ミル)の長さ×0.254mm(10ミル)の幅に
まで縮小できる。0.254×0.254mm(10×1
0ミル)、または抵抗部材の最も適当な寸法にまで縮小
できる。抵抗部材154は100オーム/面積の抵抗ト
ラックを有する。
(25ミル)の長さ×0.254mm(10ミル)の幅に
まで縮小できる。0.254×0.254mm(10×1
0ミル)、または抵抗部材の最も適当な寸法にまで縮小
できる。抵抗部材154は100オーム/面積の抵抗ト
ラックを有する。
【0099】部材150を形成するために、連続的に延
在した電導層156がレーザー切込み加工ライン158
によって半分をスライスされた。このラインは電導体1
56の外縁160で始まり、抵抗層154の近くの内縁
162まで延在された。この切込み加工による部分の結
果として、2つの電導層156は独立した電導領域15
6aおよび156bに分離された。2つのこれらの領域
は、抵抗部材150の入力および出力接点もしくはター
ミナルを形成した。
在した電導層156がレーザー切込み加工ライン158
によって半分をスライスされた。このラインは電導体1
56の外縁160で始まり、抵抗層154の近くの内縁
162まで延在された。この切込み加工による部分の結
果として、2つの電導層156は独立した電導領域15
6aおよび156bに分離された。2つのこれらの領域
は、抵抗部材150の入力および出力接点もしくはター
ミナルを形成した。
【0100】レーザー切込み加工ライン158は次に縁
部162から付着抵抗材料154の層の中に延在され、
同時にターミナル156aとターミナル156bとの間
で抵抗で測定された。レーザー切込み加工されたライン
158は付着された抵抗層154の中に必要とされるだ
け延在され、ターミナル156aとターミナル156b
との間に所望の抵抗値を形成するようになされた。ター
ミナル156aからターミナル156bへと抵抗部材1
50の中を電流156cが流された。
部162から付着抵抗材料154の層の中に延在され、
同時にターミナル156aとターミナル156bとの間
で抵抗で測定された。レーザー切込み加工されたライン
158は付着された抵抗層154の中に必要とされるだ
け延在され、ターミナル156aとターミナル156b
との間に所望の抵抗値を形成するようになされた。ター
ミナル156aからターミナル156bへと抵抗部材1
50の中を電流156cが流された。
【0101】付着層154として100オーム/面積の
抵抗材料を使用すれば、100オームの値の抵抗体が縁
部162から抵抗層154の中に0.0254(1ミ
ル)程度で入り込むレーザー切込み加工切断部158に
よって得られることが見いだされた。500オーム部材
を得るためには、切込み加工ライン158は縁部162
から抵抗層154の中に0.1778mm(7ミル)程度
切り込まれる。
抵抗材料を使用すれば、100オームの値の抵抗体が縁
部162から抵抗層154の中に0.0254(1ミ
ル)程度で入り込むレーザー切込み加工切断部158に
よって得られることが見いだされた。500オーム部材
を得るためには、切込み加工ライン158は縁部162
から抵抗層154の中に0.1778mm(7ミル)程度
切り込まれる。
【0102】従って、付着層154のオーム/面積の実
際の値は重要ではない。同様に、層154の付着材料の
均一性もまた重要でない。抵抗部材150の最終値の精
度はレーザー切込み加工ライン158が縁部162から
層154の中に切り込まれる長さによって殆ど一義的に
決定されるのである。
際の値は重要ではない。同様に、層154の付着材料の
均一性もまた重要でない。抵抗部材150の最終値の精
度はレーザー切込み加工ライン158が縁部162から
層154の中に切り込まれる長さによって殆ど一義的に
決定されるのである。
【0103】多部材抵抗体構造170が図10に示され
ている。この構造170は図9の単一抵抗体部材150
の原理を組み合わせている。
ている。この構造170は図9の単一抵抗体部材150
の原理を組み合わせている。
【0104】部材170は絶縁基体172の上に担持さ
れている。第1および第2の連続的に延在した抵抗層1
74および176が基体172上に付着されている。
れている。第1および第2の連続的に延在した抵抗層1
74および176が基体172上に付着されている。
【0105】連続して延在する電導層178は抵抗層1
74の部分174aおよび抵抗層176の部分176a
に接触されて基体172上に付着されている。付着され
た抵抗材料174は層176と同じか異なる材料とする
ことができる。
74の部分174aおよび抵抗層176の部分176a
に接触されて基体172上に付着されている。付着され
た抵抗材料174は層176と同じか異なる材料とする
ことができる。
【0106】約0.0508mm(2ミル)のレーザー切
込み加工ライン180が連続電導層178を通して軸線
方向に延在し、その層を2つの部分178aおよび17
8bに分けている。更に、複数の0.0508mm(2ミ
ル)のレーザー切込み加工ライン182a〜182dが
連続的に延在している抵抗層174をスライスして個別
の抵抗体174−1〜174−5を形成している。
込み加工ライン180が連続電導層178を通して軸線
方向に延在し、その層を2つの部分178aおよび17
8bに分けている。更に、複数の0.0508mm(2ミ
ル)のレーザー切込み加工ライン182a〜182dが
連続的に延在している抵抗層174をスライスして個別
の抵抗体174−1〜174−5を形成している。
【0107】ライン182a〜182dはライン180
に対して実質的に直角である。次の説明で明かとなるよ
うに、切込み加工ライン182a〜182dの小さな変
化は各抵抗体、例えば抵抗体174−1、がトリムされ
ることのできる精度に影響を及ぼさない。
に対して実質的に直角である。次の説明で明かとなるよ
うに、切込み加工ライン182a〜182dの小さな変
化は各抵抗体、例えば抵抗体174−1、がトリムされ
ることのできる精度に影響を及ぼさない。
【0108】ライン182a〜182dは完全にライン
180へ延在していない。従って、電導経路がターミナ
ルT1およびターミナルT2の間に連続して存在する。
抵抗体174をトリム加工するために、トリムライン1
86aは中心ライン180を通して抵抗体174−1ま
で延在しているならば、プローブをターミナルT1およ
びT2におくことだけが必要とされる。複数の付加的な
トリムライン186b〜186eが抵抗体174−2〜
174−5の各々に対して切込み加工できる。
180へ延在していない。従って、電導経路がターミナ
ルT1およびターミナルT2の間に連続して存在する。
抵抗体174をトリム加工するために、トリムライン1
86aは中心ライン180を通して抵抗体174−1ま
で延在しているならば、プローブをターミナルT1およ
びT2におくことだけが必要とされる。複数の付加的な
トリムライン186b〜186eが抵抗体174−2〜
174−5の各々に対して切込み加工できる。
【0109】抵抗部材174−1〜174−5は互いに
直列に配置され、他の円形部材がそれらの抵抗体の間に
後述のように介在されることができる。
直列に配置され、他の円形部材がそれらの抵抗体の間に
後述のように介在されることができる。
【0110】同様な説明が切込み加工ライン183a〜
183dに関して与えられ、これらのラインは抵抗部材
176−1〜176−5を分離している。切込み加工ト
リムライン187a〜187eは各部材176−1〜1
76−5の抵抗値を正確に設定する。
183dに関して与えられ、これらのラインは抵抗部材
176−1〜176−5を分離している。切込み加工ト
リムライン187a〜187eは各部材176−1〜1
76−5の抵抗値を正確に設定する。
【0111】図9の1つの抵抗部材150の場合のよう
に、個別の抵抗体、例えば抵抗体174−1、は抵抗値
を前述のライン180にほぼ直角に発光されたレーザー
切込み加工ライン186aによって正確に決定される。
ライン186aが抵抗部材174−1を組み合わされた
抵抗層174の部分の中に切り込まれて、ターミナル接
点領域T1およびT2の間の抵抗値を決定する。
に、個別の抵抗体、例えば抵抗体174−1、は抵抗値
を前述のライン180にほぼ直角に発光されたレーザー
切込み加工ライン186aによって正確に決定される。
ライン186aが抵抗部材174−1を組み合わされた
抵抗層174の部分の中に切り込まれて、ターミナル接
点領域T1およびT2の間の抵抗値を決定する。
【0112】テスト電流I1がターミナルT1から抵抗
体174−1を経てターミナルT2へ流され、この間に
ライン186aが切込み加工される。この切込み加工工
程は適当な抵抗値に達したときに終了される。
体174−1を経てターミナルT2へ流され、この間に
ライン186aが切込み加工される。この切込み加工工
程は適当な抵抗値に達したときに終了される。
【0113】同様な切込み加工ライン、例えば抵抗部材
174−2のライン186b、は切込み加工ライン18
2a、182bによって境界されて抵抗値を調整する。
各々の抵抗部材174−1〜174−5は電導部分17
8aに電気的に連結される。同様に、抵抗部材176−
1〜176−5は176bを通して連結される。
174−2のライン186b、は切込み加工ライン18
2a、182bによって境界されて抵抗値を調整する。
各々の抵抗部材174−1〜174−5は電導部分17
8aに電気的に連結される。同様に、抵抗部材176−
1〜176−5は176bを通して連結される。
【0114】構造170における1つまたはそれ以上の
抵抗体を電気的に横断することが望まれる場合には、図
11に示された実施例が使用される。複数のパッド20
2、204、206が基体172の上に付着される。ワ
イヤー、例えばワイヤー208a、208bおよび20
8c、が半田付けされるか、或いは抵抗パッド202−
206の間のワイヤーおよびそれぞれの電導領域178
aの接点210a〜210cが金である場合にはワイヤ
ー結合される。
抵抗体を電気的に横断することが望まれる場合には、図
11に示された実施例が使用される。複数のパッド20
2、204、206が基体172の上に付着される。ワ
イヤー、例えばワイヤー208a、208bおよび20
8c、が半田付けされるか、或いは抵抗パッド202−
206の間のワイヤーおよびそれぞれの電導領域178
aの接点210a〜210cが金である場合にはワイヤ
ー結合される。
【0115】従って、パッド202とターミナルT1と
の間の電気経路は4つの抵抗体を含むことになる。同様
に、パッド204とターミナルT1との間は3つの抵抗
体を含むことになる。
の間の電気経路は4つの抵抗体を含むことになる。同様
に、パッド204とターミナルT1との間は3つの抵抗
体を含むことになる。
【0116】従って、202、204および206のよ
うなパッドを確立する代わりに、複数の電導体、例えば
電導体214a〜214eが集積回路216のような集
積回路のターミナルに直接に連結されることができる。
電導体214a〜214eが連結されている電導領域1
78に応じて、集積回路216の様々なターミナルの間
のてこが決定される。
うなパッドを確立する代わりに、複数の電導体、例えば
電導体214a〜214eが集積回路216のような集
積回路のターミナルに直接に連結されることができる。
電導体214a〜214eが連結されている電導領域1
78に応じて、集積回路216の様々なターミナルの間
のてこが決定される。
【0117】本発明の更に他の実施例が図12の構造2
40に示されている。この構造240は絶縁基体242
を含み、その上に連続して延在する導電層244が付着
されている。導電層244は、0.0508mm(2ミ
ル)の複数のレーザー切込み加工ラインによって複数の
分離された電導部材244a〜244eにスライスされ
ている。
40に示されている。この構造240は絶縁基体242
を含み、その上に連続して延在する導電層244が付着
されている。導電層244は、0.0508mm(2ミ
ル)の複数のレーザー切込み加工ラインによって複数の
分離された電導部材244a〜244eにスライスされ
ている。
【0118】抵抗部材に関連して既に説明したように、
抵抗体構造244は比較的安価な厚いフィルム付着プリ
ント技術を使用して、連続従って延在する電導領域24
4を作り出しており、正確に制御できるレーザー切込み
加工ラインと組み合わされて、複数の分離された電導部
材を作り出している。この部材は様々な電気的機能を改
善するのに使用できる。図12に示す実施例は様々な方
法で使用できる。
抵抗体構造244は比較的安価な厚いフィルム付着プリ
ント技術を使用して、連続従って延在する電導領域24
4を作り出しており、正確に制御できるレーザー切込み
加工ラインと組み合わされて、複数の分離された電導部
材を作り出している。この部材は様々な電気的機能を改
善するのに使用できる。図12に示す実施例は様々な方
法で使用できる。
【0119】図13および図14の構造の目的は電導ラ
インの間の1つまたはそれ以上のパターンを走らせるこ
とのできる(プリント技術では通常はなし得ない)こと
の容易さを示すことである。図13および図14は厚い
フィルムがプリントされた基体の間の空間を示してお
り、そこに、例えば表面取り付けキャパシターが取り付
けられる。レーザートリム加工技術を施さないで、電導
体ラインは部材の回りにルートを有するべきようにさ
れ、最も必要とされる真の面積(エステート)を取り上
げるようにする。
インの間の1つまたはそれ以上のパターンを走らせるこ
とのできる(プリント技術では通常はなし得ない)こと
の容易さを示すことである。図13および図14は厚い
フィルムがプリントされた基体の間の空間を示してお
り、そこに、例えば表面取り付けキャパシターが取り付
けられる。レーザートリム加工技術を施さないで、電導
体ラインは部材の回りにルートを有するべきようにさ
れ、最も必要とされる真の面積(エステート)を取り上
げるようにする。
【0120】図13は作り上げることのできる更に複雑
な電導構造250を示している。この構造250はベー
ス部材252の上に形成されている。
な電導構造250を示している。この構造250はベー
ス部材252の上に形成されている。
【0121】構造250は選択された任意の形状を有す
る付着した電導層254を含む。この構造254は付着
された後、レーザー切込み加工ライン256a、256
bおよび256cによって複数の分離された電気的構造
に変換される。
る付着した電導層254を含む。この構造254は付着
された後、レーザー切込み加工ライン256a、256
bおよび256cによって複数の分離された電気的構造
に変換される。
【0122】構造250は0.254mm(10ミル)の
ライン、例えばそれらの間に0.254mm(10ミル)
の間隔を隔てて終端され且つその0.254mm(10ミ
ル)の間隔を通して延在する電導体を有しているような
電導ライン260aおよび260b、をプリントするの
に必要とされる解決方法を与えている。例えば、特定の
場合は表面取り付けキャパシターの半田付けされたター
ミナルの間の空間とされる。
ライン、例えばそれらの間に0.254mm(10ミル)
の間隔を隔てて終端され且つその0.254mm(10ミ
ル)の間隔を通して延在する電導体を有しているような
電導ライン260aおよび260b、をプリントするの
に必要とされる解決方法を与えている。例えば、特定の
場合は表面取り付けキャパシターの半田付けされたター
ミナルの間の空間とされる。
【0123】厚いフィルムの付着およびプリント技術は
領域260aおよび260bの間に電導部材を高い信頼
性で位置決めするには不適当である。上述した方法を採
用する結果として、厚いフィルム付着技術によって得る
ことのできるコスト上の利点および製造の容易さは依然
として保有される。
領域260aおよび260bの間に電導部材を高い信頼
性で位置決めするには不適当である。上述した方法を採
用する結果として、厚いフィルム付着技術によって得る
ことのできるコスト上の利点および製造の容易さは依然
として保有される。
【0124】しかしながら、レーザー切込み加工は2つ
の分離された電導ラインを空間256a、256bおよ
び256cの間に0.254mm(10ミル)の幅の領域
内で作り出すことができ、大きな空間は節約できる。何
故ならば、電導ラインは部材の回りにルート形成される
べきでないからである。実際には、0.254mm(0.
010インチ)の空間の間に電導ラインはプリントでき
ない。例えば、0.254mm(10ミル)の空間内にプ
リントされたラインは両側に0.0762mm(3ミル)
空間を有して0.1016mm(4ミル)のラインを必要
とする。これは現在の技術では非常に困難である。
の分離された電導ラインを空間256a、256bおよ
び256cの間に0.254mm(10ミル)の幅の領域
内で作り出すことができ、大きな空間は節約できる。何
故ならば、電導ラインは部材の回りにルート形成される
べきでないからである。実際には、0.254mm(0.
010インチ)の空間の間に電導ラインはプリントでき
ない。例えば、0.254mm(10ミル)の空間内にプ
リントされたラインは両側に0.0762mm(3ミル)
空間を有して0.1016mm(4ミル)のラインを必要
とする。これは現在の技術では非常に困難である。
【0125】0.254mm(10ミル)のラインおよび
0.254mm(10ミル)の空間(現在の技術で容易に
得ることができる)の本発明の方法を使用すれば、この
空間を通して1本ならず2本のラインを配置できる。結
局必要なのは3つのレーザーによる真っ直ぐな切断部な
のである。
0.254mm(10ミル)の空間(現在の技術で容易に
得ることができる)の本発明の方法を使用すれば、この
空間を通して1本ならず2本のラインを配置できる。結
局必要なのは3つのレーザーによる真っ直ぐな切断部な
のである。
【0126】他の実施例270が図14に示されてい
る。この実施例270は基体272で形成され、その上
に領域274a、274bおよび274cを有する電導
層が形成されている。領域274aおよび274cは領
域274bから0.0508mm(2ミル)のレーザー切
込み加工ライン276aおよび276bによって隔絶さ
れている。領域274は3つの異なる電導体に副分割さ
れており、それぞれが付加的なレーザー切込み加工ライ
ン278aおよび278bによって0.1016mm(4
ミル)の幅を有している。
る。この実施例270は基体272で形成され、その上
に領域274a、274bおよび274cを有する電導
層が形成されている。領域274aおよび274cは領
域274bから0.0508mm(2ミル)のレーザー切
込み加工ライン276aおよび276bによって隔絶さ
れている。領域274は3つの異なる電導体に副分割さ
れており、それぞれが付加的なレーザー切込み加工ライ
ン278aおよび278bによって0.1016mm(4
ミル)の幅を有している。
【0127】図14の構造270は、1つの0.177
8mm(7ミル)の電導体が、0.1651mm(6.5ミ
ル)の空間を各側に有して、電導体274aおよび27
4cのような2つの電導体の間に形成された0.508
mm(20ミル)幅の開口を通して通過できる、厚いフィ
ルム技術の現在のレベルを上回るようになされた、0.
508mm(20ミル)の空間を安全且つ高い信頼性で通
過された3つの電導体を示している。この結果は、困難
な且つ多数回の検査を伴う厚いフィルムプリント技術に
よってのみ達成されることができる。この構造では、図
14の構造は高い信頼性で、且つ容易に作り上げること
ができる。何故ならば、ライン276a、276b並び
にライン278aおよび278bを形成するためにレー
ザー切込み加工ラインを使用した結果として、高いレベ
ルの信頼性を得ているからである。
8mm(7ミル)の電導体が、0.1651mm(6.5ミ
ル)の空間を各側に有して、電導体274aおよび27
4cのような2つの電導体の間に形成された0.508
mm(20ミル)幅の開口を通して通過できる、厚いフィ
ルム技術の現在のレベルを上回るようになされた、0.
508mm(20ミル)の空間を安全且つ高い信頼性で通
過された3つの電導体を示している。この結果は、困難
な且つ多数回の検査を伴う厚いフィルムプリント技術に
よってのみ達成されることができる。この構造では、図
14の構造は高い信頼性で、且つ容易に作り上げること
ができる。何故ならば、ライン276a、276b並び
にライン278aおよび278bを形成するためにレー
ザー切込み加工ラインを使用した結果として、高いレベ
ルの信頼性を得ているからである。
【0128】他の抵抗体構造280が図15に示されて
いる。この抵抗体280はセラミック基体282に形成
されており、付着された電導体領域284が形成されて
いる。抵抗材料286の付着領域は部分的に電導体領域
284とオーバーラップされている。
いる。この抵抗体280はセラミック基体282に形成
されており、付着された電導体領域284が形成されて
いる。抵抗材料286の付着領域は部分的に電導体領域
284とオーバーラップされている。
【0129】部材280に係わる実際の抵抗値は、レー
ザー切込み加工で形成されたライン288a、288b
および288cによって設定される。トリムライン28
8aおよび288cの各々は電導層284を通して延在
され、抵抗層286の中に切込まれている。トリムライ
ン288bは抵抗層286を通して延在し、部分的に電
導層284の中に切込まれている。この結果、蛇行した
電流経路が第1ターミナル領域284aと第2ターミナ
ル領域284bとの間に形成される。
ザー切込み加工で形成されたライン288a、288b
および288cによって設定される。トリムライン28
8aおよび288cの各々は電導層284を通して延在
され、抵抗層286の中に切込まれている。トリムライ
ン288bは抵抗層286を通して延在し、部分的に電
導層284の中に切込まれている。この結果、蛇行した
電流経路が第1ターミナル領域284aと第2ターミナ
ル領域284bとの間に形成される。
【0130】構造280は非常に簡単な形態である。2
50オーム/平方cm(250オーム/平方インチ)が使
用されるならば、構造280は200オーム〜6000
オームの範囲の値にトリム調整できる。300オーム/
平方cm(300オーム/平方インチ)が使用されるなら
ば、250オーム〜7200オームの間の範囲にトリム
調整される。
50オーム/平方cm(250オーム/平方インチ)が使
用されるならば、構造280は200オーム〜6000
オームの範囲の値にトリム調整できる。300オーム/
平方cm(300オーム/平方インチ)が使用されるなら
ば、250オーム〜7200オームの間の範囲にトリム
調整される。
【0131】部材280の非常に簡単な構造は高い密度
基準で付着させることが非常に容易にできるようにす
る。回路が多数の抵抗体を有するならば、部材280は
多数倍複製できる。この場合、作られた抵抗体はほぼ同
じ構造を有することになる。
基準で付着させることが非常に容易にできるようにす
る。回路が多数の抵抗体を有するならば、部材280は
多数倍複製できる。この場合、作られた抵抗体はほぼ同
じ構造を有することになる。
【0132】抵抗体構造280および図9に関して説明
した同様な構造体150もまた入力/出力、電導体/抵
抗体のインターフェース領域が電流通路に関して全てお
なじである。従って、構造280および150は電導体
/抵抗体インターフェースの作用によって抵抗値に影響
するような複雑な形状には以ていない。構造280およ
び150がトリム調整される値の広い範囲は、多くの回
路がたった1つまたは2つの形式の抵抗対構造によって
構成できることを意味している。
した同様な構造体150もまた入力/出力、電導体/抵
抗体のインターフェース領域が電流通路に関して全てお
なじである。従って、構造280および150は電導体
/抵抗体インターフェースの作用によって抵抗値に影響
するような複雑な形状には以ていない。構造280およ
び150がトリム調整される値の広い範囲は、多くの回
路がたった1つまたは2つの形式の抵抗対構造によって
構成できることを意味している。
【0133】前述から、多数の変形および変更が本発明
の精神および範囲から逸脱せずになし得ることが認めら
れる。ここに示した特定の装置に関する限定は意図され
ておらず、そのように推測されるべきでないことが理解
されねばならない。勿論、特許請求の範囲に記載の範囲
に合致する全ての変更は特許請求の範囲の欄によって網
羅されることが意図されている。
の精神および範囲から逸脱せずになし得ることが認めら
れる。ここに示した特定の装置に関する限定は意図され
ておらず、そのように推測されるべきでないことが理解
されねばならない。勿論、特許請求の範囲に記載の範囲
に合致する全ての変更は特許請求の範囲の欄によって網
羅されることが意図されている。
【図1】厚いフィルム技術を使用した線形の抵抗部材の
頂部平面図。
頂部平面図。
【図2】図1の面2−2に沿う断面図。
【図3】代替の非線形の抵抗部材の頂部平面図。
【図4】図3の面4−4に沿う断面図。
【図5】図3の抵抗部材を使用可能なハウジングの頂部
平面図。
平面図。
【図6】図5の面6−6に沿う側部断面図。
【図7】図5の面7−7に沿う、図6の視図に直角な側
部断面図。
部断面図。
【図8】図1〜図7による抵抗部材を製造する段階を図
示した概略線図。
示した概略線図。
【図9】本発明による個々の抵抗部材の頂部平面図。
【図10】本発明による複数の個別の相互連結された抵
抗体の頂部平面図。
抗体の頂部平面図。
【図11】本発明による相互連結された複数の抵抗体の
代替実施例の頂部平面図。
代替実施例の頂部平面図。
【図12】本発明による代替電導部材の頂部平面図。
【図13】本発明による電導部材の他の群の拡大した頂
部平面図。
部平面図。
【図14】本発明による電導部材の更に他の拡大した頂
部平面図。
部平面図。
【図15】本発明による代替抵抗部材の拡大した頂部平
面図。
面図。
10 ポテンシオメーター 14,16 細長い電導層 24,26 細長い抵抗層 36 スライダー 40a〜40l スロット 42a〜42k 電導セグメント 44a〜44f スロット 46a〜46f スロット 50a〜50f 抵抗部材領域 52a〜52f 抵抗部材領域 58a 切込み加工領域 60 ポテンシオメーター 64 電導層 66,68 プローブ領域 72〜78 抵抗層 90 ハウジング 94 ワイパー 120 ステーション 122 基体 130 ステーション 150 抵抗部材 154 抵抗材料 156 電導体 170 抵抗構造 174,176 抵抗層 187a〜187e 切込み加工トリミングライン 202〜206 パッド 244 電導層 246 レーザー切込み加工ライン 254 電導層 272 基体 276,278 ライン 284 電導領域
【手続補正書】
【提出日】平成4年5月18日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
Claims (15)
- 【請求項1】 予め定めた抵抗値を有する正確な低電力
抵抗部材であって、 絶縁基体と、 前記基体の一部に付着された電導層と、 前記基体の一部に付着された抵抗層であって、前記2つ
の層は一部でオーバーラップされており、また、前記電
導層は、その電導層を横断して延在し且つ前記抵抗層の
範囲内へ予め定めた長さだけ入り込んでいる少なくとも
1つのスクライブ(切込み)加工された非電導ラインに
よって、互いに電気的に分離された少なくとも第1およ
び第2の非オーバーラップ領域を有していて、これによ
って予め定めた抵抗値がこれらの領域間に与えられるよ
うになされている、前記抵抗層と、 を含んで構成されたことを特徴とする正確な低電力抵抗
部材。 - 【請求項2】 請求項1に記載された抵抗部材であっ
て、前記電導層が前記抵抗層を一部覆っていることを特
徴とする正確な低電力抵抗部材。 - 【請求項3】 請求項1に記載された抵抗部材であっ
て、前記層がそれぞれ厚いフィルムのプリント方法によ
って形成されていることを特徴とする正確な低電力抵抗
部材。 - 【請求項4】 請求項1に記載された抵抗部材であっ
て、前記切込み加工されたラインが実質的に真っ直ぐで
あることを特徴とする正確な低電力抵抗部材。 - 【請求項5】 請求項1に記載された抵抗部材であっ
て、前記切込み加工されたラインが前記基体に一部入り
込んでいることを特徴とする正確な低電力抵抗部材。 - 【請求項6】 請求項1に記載された抵抗部材であっ
て、前記層の各々が湾曲形状をしていることを特徴とす
る正確な低電力抵抗部材。 - 【請求項7】 請求項1に記載された抵抗部材であっ
て、前記電導層を横断して延在する複数の切込み加工さ
れ間隔を隔てられた非電導ラインを含み、前記複数の中
の少なくとも幾つかの部材が前記抵抗層の中に入り込ん
でいることを特徴とする正確な低電力抵抗部材。 - 【請求項8】 請求項7に記載された抵抗部材であっ
て、抵抗パラメーターを変化させる手操作部材を含んで
いることを特徴とする正確な低電力抵抗部材。 - 【請求項9】 請求項7に記載された抵抗部材を組み込
んだポテンシオメーターであって、更に、 前記電導層に連結された少なくとも第1ターミナルと、 ポテンシオメーターのインピーダンス特性を調整するた
めに前記基体に担持されている手操作部材と、 を含んでいることを特徴とするポテンシオメーター。 - 【請求項10】 請求項1に記載された抵抗部材を1つ
またはそれ以上使用した第1および第2の接触領域の間
に異なる抵抗値を与える方法であって、 電導部材を準備し、 細長い実質的に連続した抵抗部材を準備し、 前記抵抗部材を前記電導部材と接触させて配置し、 第1および第2の前記領域の間に、予め定めた抵抗値に
応じて前記電導部材の一部および前記連続した抵抗部材
の一部を含んでなる経路を選択し、そして第1領域と、
第2領域から離れている他の領域との間に、大きな予め
定めた抵抗値に応じて電導部材の一部および連続した抵
抗部材の長い部分を含んでなる他の長い経路を選択す
る、 諸段階を含むことを特徴とする異なる抵抗値を与える方
法。 - 【請求項11】 請求項10に記載された方法であっ
て、 第2の細長い実質的に連続した抵抗部材を準備し、 前記第2の抵抗部材を、その第2の抵抗部材から離れて
いる電導部材と電気的に接触させて配置し、そして電導
部材の一部および両方の抵抗部材の部分とを含んでなる
予め定めた抵抗値を有する更に他の経路を選択する、 諸段階を含むことを特徴とする異なる抵抗値を与える方
法。 - 【請求項12】 請求項1に記載された抵抗部材を使用
して選択された抵抗値を有する正確な抵抗部材を形成す
る方法であって、 連続して延在する抵抗層を付着し、 連続して延在する電導層を付着し、前記両方の層を一部
でオーバーラップさせるようになし、 前記電導層をスクライブ(切込み)加工して前記抵抗部
材のための電気的入力領域と、この入力領域から絶縁さ
れている電気的出力領域とを形成し、そして前記抵抗層
を切込み加工することによって前記入力領域と前記出力
領域との間に選択された値に応じた抵抗経路を形成する
ように、入力領域と出力領域との間の抵抗値をトリミン
グ調整する、 諸段階を含むことを特徴とする正確な抵抗部材を形成す
る方法。 - 【請求項13】 請求項12に記載された方法であっ
て、前記両方の層が厚いフィルムのプリント方法によっ
て付着されることを特徴とする正確な抵抗部材を形成す
る方法。 - 【請求項14】 請求項12に記載された方法であっ
て、切込み加工の段階を遂行するために、前記両方の層
へ向けてのレーザービームの方向決めおよびレーザービ
ームの反射を含むことを特徴とする正確な抵抗部材を形
成する方法。 - 【請求項15】 請求項12に記載された方法であっ
て、抵抗層の切込み加工と同時に、抵抗値の測定を含む
ことを特徴とする正確な抵抗部材を形成する方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/685,453 US5243318A (en) | 1991-04-11 | 1991-04-12 | Low noise precision resistor |
| US710161 | 1991-06-04 | ||
| US07/710,161 US5148143A (en) | 1991-04-12 | 1991-06-04 | Precision thick film elements |
| US685453 | 2000-10-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05308001A true JPH05308001A (ja) | 1993-11-19 |
| JP2635263B2 JP2635263B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=27103598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4091167A Expired - Lifetime JP2635263B2 (ja) | 1991-04-12 | 1992-04-10 | 正確な低電力抵抗部材 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5148143A (ja) |
| EP (1) | EP0509420A2 (ja) |
| JP (1) | JP2635263B2 (ja) |
| CA (1) | CA2064679A1 (ja) |
| GB (1) | GB2255236B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2753042B1 (fr) * | 1996-09-03 | 1998-11-20 | Valeo Vision | Procede de realisation d'un circuit de reglage asservi de la position d'un organe mobile notamment dans un correcteur de l'orientation du faisceau d'un projecteur de vehicule automobile, et circuit de reglable asservi |
| FR2753043B1 (fr) * | 1996-09-03 | 1998-11-20 | Valeo Vision | Procede de realisation d'un circuit de reglage asservi de la position d'un organe mobile, notamment dans un correcteur de l'orientation du faisceau d'un projecteur de vehicule automobile, et circuit de reglage selon le procede |
| DE19755753A1 (de) * | 1997-12-16 | 1999-06-17 | Bosch Gmbh Robert | Widerstandsbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6169664B1 (en) * | 1998-01-05 | 2001-01-02 | Texas Instruments Incorporated | Selective performance enhancements for interconnect conducting paths |
| ES2147530B1 (es) * | 1998-11-16 | 2001-03-16 | Navarra Componentes Electro | Procedimiento de fabricacion de resistencias variables, ajustadas a una ley de variacion predeterminada, y resistencia variable obtenida. |
| JP2004014697A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Denso Corp | 抵抗体およびそのトリミング方法 |
| TWI229387B (en) * | 2004-03-11 | 2005-03-11 | Au Optronics Corp | Laser annealing apparatus and laser annealing process |
| US7733212B2 (en) * | 2007-04-26 | 2010-06-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Resistor |
| US20090193647A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Bui Tanh M | Method for fabricating a feedback potentiometer |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01302802A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Toshiba Corp | 印刷抵抗体 |
| JPH04254302A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 機能修正用角形チップ抵抗器およびそのトリミング方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2597674A (en) * | 1949-10-29 | 1952-05-20 | Gen Electric | Precision resistance device |
| DE1540167C3 (de) * | 1965-06-04 | 1974-10-03 | Micro-Electric Ag, Zuerich (Schweiz) | Cermet-Widerstandsschicht für ein Potentiometer |
| JPS5432182Y2 (ja) * | 1976-07-02 | 1979-10-06 | ||
| US4163315A (en) * | 1978-05-17 | 1979-08-07 | Gte Automatic Electric Laboratories Incorporated | Method for forming universal film resistors |
| IT7953416U1 (it) * | 1979-07-13 | 1981-01-13 | Borletti Spa | Resistori variabile, del tipo a film spesso. |
| US4329676A (en) * | 1980-01-10 | 1982-05-11 | Resistance Technology, Inc. | Potentiometer |
| US4345235A (en) * | 1980-09-12 | 1982-08-17 | Spectrol Electronics Corporation | Variable resistance device having a resistance element with laser cuts |
| US4352084A (en) * | 1980-11-13 | 1982-09-28 | Eeco Incorporated | Variable resistor disk assembly |
| US4345236A (en) * | 1980-12-29 | 1982-08-17 | General Electric Company | Abrasion-resistant screen-printed potentiometer |
| US4435691A (en) * | 1982-03-22 | 1984-03-06 | Cts Corporation | Dual track resistor element having nonlinear output |
| US4527041A (en) * | 1983-06-02 | 1985-07-02 | Kazuo Kai | Method of forming a wiring pattern on a wiring board |
| US4647899A (en) * | 1984-04-30 | 1987-03-03 | Beltone Electronics Corporation | Electrical film resistor |
| US4649366A (en) * | 1985-10-04 | 1987-03-10 | Resistance Technology, Inc. | Trimmer control mounted in potentiometer knob |
| JPS63140558A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-13 | Toshiba Corp | 厚膜回路基板 |
| JPH0268902A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 抵抗値トリミング法 |
| GB2231728A (en) * | 1989-05-16 | 1990-11-21 | Lucas Ind Plc | Trimming a variable resistor |
| US5051719A (en) * | 1990-06-11 | 1991-09-24 | Ford Motor Company | Thick-film non-step resistor with accurate resistance characteristic |
-
1991
- 1991-06-04 US US07/710,161 patent/US5148143A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-04-01 CA CA002064679A patent/CA2064679A1/en not_active Abandoned
- 1992-04-07 GB GB9207755A patent/GB2255236B/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-10 EP EP92106278A patent/EP0509420A2/en not_active Withdrawn
- 1992-04-10 JP JP4091167A patent/JP2635263B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01302802A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Toshiba Corp | 印刷抵抗体 |
| JPH04254302A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 機能修正用角形チップ抵抗器およびそのトリミング方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2064679A1 (en) | 1992-10-13 |
| GB2255236B (en) | 1995-07-12 |
| US5148143A (en) | 1992-09-15 |
| GB9207755D0 (en) | 1992-05-27 |
| EP0509420A3 (ja) | 1994-01-19 |
| GB2255236A (en) | 1992-10-28 |
| JP2635263B2 (ja) | 1997-07-30 |
| EP0509420A2 (en) | 1992-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0336497B1 (en) | Method of manufacturing a chip resistor | |
| EP1441370A1 (en) | Resistor and method of manufacturing the same | |
| JP2635263B2 (ja) | 正確な低電力抵抗部材 | |
| JPH08306503A (ja) | チップ状電子部品 | |
| US4910492A (en) | Electric laminar resistor and method of making same | |
| US3680013A (en) | Film attenuator | |
| US6806167B2 (en) | Method of making chip-type electronic device provided with two-layered electrode | |
| US5428339A (en) | Trimmable resistors with reducible resistance and method of manufacture | |
| JP2002270402A (ja) | チップ抵抗器 | |
| JP3190120B2 (ja) | 計測用抵抗器およびその製造方法 | |
| US5504986A (en) | Method of manufacturing collinear terminated transmission line structure with thick film circuitry | |
| US4100525A (en) | Single setting variable resistor | |
| JPH10135014A (ja) | チップ部品の製造方法 | |
| CN118451517A (zh) | 电阻器的制造方法 | |
| JP2000269012A (ja) | 抵抗素子付きチップ型電子部品及びその製造方法 | |
| JP2001155903A (ja) | 電子部品 | |
| JPH07176403A (ja) | 厚膜回路およびその製造方法 | |
| JPH0897003A (ja) | 厚膜抵抗回路及びその製造方法 | |
| JPH0983215A (ja) | マイクロ波用小形チップアッテネータの製造方法及びマイクロ波用小形チップアッテネータ | |
| JPH0193193A (ja) | 印刷抵抗体の抵抗値調整方法 | |
| JP2003297670A (ja) | チップ型複合部品 | |
| JP3679677B2 (ja) | 抵抗付き回路基板及びその製造方法 | |
| JPH0818240A (ja) | 厚膜回路基板 | |
| JPH04250682A (ja) | 混成集積回路用基板とその製造方法 | |
| JPH05167216A (ja) | 印刷抵抗 |