JPH05311072A - 高密着性ポリイミド樹脂組成物 - Google Patents
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- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title abstract description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title abstract description 12
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 title abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims abstract description 12
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 9
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HPQDUYPSZCYLJL-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxysilyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)O[SiH2]OC(C(=C)C)=O HPQDUYPSZCYLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- -1 -OC2H5 Chemical group 0.000 abstract description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 4
- JCLFHZLOKITRCE-UHFFFAOYSA-N 4-pentoxyphenol Chemical compound CCCCCOC1=CC=C(O)C=C1 JCLFHZLOKITRCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 abstract 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 abstract 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 abstract 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNCUZNQRGFIIDO-UHFFFAOYSA-N 3-(2,2-dimethoxyethylsilyl)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC[SiH2]CC(OC)OC JNCUZNQRGFIIDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N dodecane-2,11-diamine Chemical compound CC(N)CCCCCCCCC(C)N CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- VQXBKCWOCJSIRT-UHFFFAOYSA-N octadecane-1,12-diamine Chemical compound CCCCCCC(N)CCCCCCCCCCCN VQXBKCWOCJSIRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- NAAPEBXKBIAQRT-UHFFFAOYSA-N (3-dimethylsilyl-3-methoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC([SiH](C)C)OC NAAPEBXKBIAQRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTCGLFCOUJIOQH-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-oxadiazole-2,5-diamine Chemical compound NC1=NN=C(N)O1 YTCGLFCOUJIOQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RILDMGJCBFBPGH-UHFFFAOYSA-N 1,4,5,8-tetrachloronaphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(Cl)=C2C(Cl)=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=C(Cl)C2=C1Cl RILDMGJCBFBPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMXCPDQUXVZBGQ-UHFFFAOYSA-N 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)C(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=C(Cl)C(Cl)=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O XMXCPDQUXVZBGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGKKWUNSNDTGDS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylheptane-1,7-diamine Chemical compound NCC(C)CCC(C)CCN XGKKWUNSNDTGDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXOKJIRTNWHPFS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCC(C)CCC(C)CN YXOKJIRTNWHPFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNQVZBMRPWXYME-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylnonane-1,9-diamine Chemical compound NCC(C)CCC(C)CCCCN DNQVZBMRPWXYME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZWGLBCZWLGCDT-UHFFFAOYSA-N 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound ClC1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC(Cl)=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O JZWGLBCZWLGCDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLUPKIRNOCKJB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n,n-dimethylacetamide Chemical compound COCC(=O)N(C)C DZLUPKIRNOCKJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMDGQEQWSSYZKX-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenoxy)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O SMDGQEQWSSYZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMXFZZAJHRLHGP-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O FMXFZZAJHRLHGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXGRHCEHPFUSU-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)aniline Chemical group NC1=CC=CC(C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 NDXGRHCEHPFUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQQGVSONEPNPAB-UHFFFAOYSA-N 3-(diethoxymethylsilyl)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CCCOC(=O)C(C)=C BQQGVSONEPNPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIVRRNUEJAYDMX-UHFFFAOYSA-N 3-(diethoxymethylsilyl)propyl prop-2-enoate Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CCCOC(=O)C=C UIVRRNUEJAYDMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLZDYNDUVLBNLD-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethoxymethylsilyl)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCOC(=O)C(C)=C VLZDYNDUVLBNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHHPYRGQUSPESB-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethoxymethylsilyl)propyl prop-2-enoate Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCOC(=O)C=C HHHPYRGQUSPESB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(CC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(2,3-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEEIWUUBRYZFEH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(OC)CCCN YEEIWUUBRYZFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGEWZUYVXQESSB-UHFFFAOYSA-N 3-methylheptane-1,7-diamine Chemical compound NCCC(C)CCCCN SGEWZUYVXQESSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWIBGDOHXGXHEV-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylheptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCC(C)(C)CCCN ZWIBGDOHXGXHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGRZMPCVIHBQOE-UHFFFAOYSA-N 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C(C(O)=O)CC(C)=C2C(C(O)=O)C(C(O)=O)CC(C)=C21 QGRZMPCVIHBQOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LURZHSJDIWXJOH-UHFFFAOYSA-N 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound C1C(C(O)=O)C(C(O)=O)C(C)=C2CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C(C)=C21 LURZHSJDIWXJOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQWWWAQUMVHHQN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-4-phenylcyclohexa-1,5-dien-1-yl)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CCC(N)(C=2C=CC=CC=2)C=C1 QQWWWAQUMVHHQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWXCYYWDGDDPAC-UHFFFAOYSA-N 4-[(3,4-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IWXCYYWDGDDPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(3,4-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSBOCPVKJMBWTF-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)C1=CC=C(N)C=C1 HSBOCPVKJMBWTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N)C=C1N IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKOKYHXXOGPYKR-UHFFFAOYSA-N 5-(3-aminophenyl)-2-phenylaniline Chemical group NC1=CC=CC(C=2C=C(N)C(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 LKOKYHXXOGPYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIEKUGPEYLGWQQ-UHFFFAOYSA-N 5-[4-(4-amino-2-methylpentyl)phenyl]-4-methylpentan-2-amine Chemical compound CC(N)CC(C)CC1=CC=C(CC(C)CC(C)N)C=C1 IIEKUGPEYLGWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 5-methylnonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCC(C)CCCCN MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- HFLXGRASHDSVFM-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)OCCC(OC)[SiH](C)C Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC)[SiH](C)C HFLXGRASHDSVFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOWVDKCBDGFUKX-UHFFFAOYSA-N CC[SiH](CC)C(CCOC(=O)C(=C)C)OC Chemical compound CC[SiH](CC)C(CCOC(=O)C(=C)C)OC AOWVDKCBDGFUKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHRJFOBFQGUAOU-UHFFFAOYSA-N CC[SiH](CC)C(CCOC(=O)C=C)OC Chemical compound CC[SiH](CC)C(CCOC(=O)C=C)OC JHRJFOBFQGUAOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QBLDFAIABQKINO-UHFFFAOYSA-N barium borate Chemical compound [Ba+2].[O-]B=O.[O-]B=O QBLDFAIABQKINO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229940012017 ethylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N methanediamine Chemical compound NCN RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBYQSYQIKWRMOE-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 BBYQSYQIKWRMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diamine Chemical compound C1=C(N)C=CC2=CC(N)=CC=C21 GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- AVRVTTKGSFYCDX-UHFFFAOYSA-N perylene-1,2,7,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C2=C(C(C(=O)O)=CC=3C2=C2C=CC=3)C(O)=O)=C3C2=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC3=C1 AVRVTTKGSFYCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBGIFSWRDUBQIC-UHFFFAOYSA-N perylene-2,3,8,9-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=3C4=C5C=C(C(C(O)=O)=C4C=CC=3)C(O)=O)=C2C5=C1 UBGIFSWRDUBQIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYPCCLLEICQOCV-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,2,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C3=CC=C(C(=O)O)C(C(O)=O)=C3C=CC2=C1 CYPCCLLEICQOCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMSVUULWTOXCQY-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,2,7,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C3=CC=C(C(=O)O)C(C(O)=O)=C3C=CC2=C1C(O)=O UMSVUULWTOXCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVRYJZTZEUPARA-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,2,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C3=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C3C2=C1 RVRYJZTZEUPARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTHVZRHBNXZKKB-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N=C1C(O)=O RTHVZRHBNXZKKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JREWFSHZWRKNBM-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O JREWFSHZWRKNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIROPXUFDXCYLG-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,5-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)N=C1 MIROPXUFDXCYLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=N1 VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- LUEGQDUCMILDOJ-UHFFFAOYSA-N thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1SC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(O)=O LUEGQDUCMILDOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Details Of Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 1,4−ビス(3−アミノプロピル)テトラ
メチルジシロキサン0.03モル、4,4’−オキシジ
アニリン0.97モルを溶剤に溶かし、次に3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
0.50モル、ピロメリット酸二無水物0.50モルを
加えた後、80℃で3時間反応させ、得られたポリアミ
ド酸の固形分100重量部にトリメトキシシリルプロピ
ルメタクリレートを20重量部加えたポリアミド酸組成
物である。 【効果】 Si等の基板に対する密着性のみならずエポ
キシ系封止材料との密着性をも向上できる。
メチルジシロキサン0.03モル、4,4’−オキシジ
アニリン0.97モルを溶剤に溶かし、次に3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
0.50モル、ピロメリット酸二無水物0.50モルを
加えた後、80℃で3時間反応させ、得られたポリアミ
ド酸の固形分100重量部にトリメトキシシリルプロピ
ルメタクリレートを20重量部加えたポリアミド酸組成
物である。 【効果】 Si等の基板に対する密着性のみならずエポ
キシ系封止材料との密着性をも向上できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子、多層配線基
板、マイクロエレクトロニクス素子などに用いられるポ
リアミド酸組成物に関するもので、Si,SiO,Si
N,SiON等のシリコン含有膜に対し高密着性を付与
するだけでなく、又プラスチックパッケージに使用され
るエポキシ系封止材料に対しても、吸湿処理後等におい
ても密着性が低下しないことを特徴とするものである。
板、マイクロエレクトロニクス素子などに用いられるポ
リアミド酸組成物に関するもので、Si,SiO,Si
N,SiON等のシリコン含有膜に対し高密着性を付与
するだけでなく、又プラスチックパッケージに使用され
るエポキシ系封止材料に対しても、吸湿処理後等におい
ても密着性が低下しないことを特徴とするものである。
【0002】
【従来の技術】半導体チップの微細化・大型化につれ、
信頼性確保のためポリイミド樹脂コートは必須の技術と
なっている。ポリイミド樹脂コートには、硬化後のポリ
イミドフィルム特性が極めて重要であり、1,4−ビス
(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、
4,4’−オキシジアニリン、ピロメリット酸二無水
物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物の四元共重合体において良好であることを
既に見出している(特開昭61−64730号公報)。
又、シランカップリング剤としては、アルコキシシラン
等の添加についても知られている(特開昭59−160
140号公報,63−15847号公報)。しかし、目
的がSi等の基板に対する密着性向上であり、添加量も
ポリイミド樹脂100重量部に対して2重量部程度と少
なかった。この為、エポキシ系封止材料との密着性が低
く問題になっていた。
信頼性確保のためポリイミド樹脂コートは必須の技術と
なっている。ポリイミド樹脂コートには、硬化後のポリ
イミドフィルム特性が極めて重要であり、1,4−ビス
(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、
4,4’−オキシジアニリン、ピロメリット酸二無水
物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物の四元共重合体において良好であることを
既に見出している(特開昭61−64730号公報)。
又、シランカップリング剤としては、アルコキシシラン
等の添加についても知られている(特開昭59−160
140号公報,63−15847号公報)。しかし、目
的がSi等の基板に対する密着性向上であり、添加量も
ポリイミド樹脂100重量部に対して2重量部程度と少
なかった。この為、エポキシ系封止材料との密着性が低
く問題になっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は特定のポリア
ミド酸と特定のアクリロキシ(メタクリロキシ)シラン
カップリング剤を特定量配合することで、Si等の基板
に対する密着性を保ちつつエポキシ系封止材料との密着
性をも向上させた高密着性ポリイミド樹脂組成物を提供
するものである。
ミド酸と特定のアクリロキシ(メタクリロキシ)シラン
カップリング剤を特定量配合することで、Si等の基板
に対する密着性を保ちつつエポキシ系封止材料との密着
性をも向上させた高密着性ポリイミド樹脂組成物を提供
するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、1,4−ビス
(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンaモ
ル%(1≦a≦20)、4,4' −オキシジアニリンb
モル%(70≦b≦109)、ピロメリット酸二無水物
cモル%(0≦c≦105)、3,3’,4,4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物dモル%(0≦
d≦105)[ただし、90≦(a+b)≦110、9
0≦(c+d)≦105、且つ(c+d):(a+b)
=0.90〜1.10]を、重付加反応させ得られるポ
リアミド酸100重量部に下記式〔1〕で示されるアク
リロキシ(メタクリロキシ)シランカップリング剤を5
〜50重量部、
(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンaモ
ル%(1≦a≦20)、4,4' −オキシジアニリンb
モル%(70≦b≦109)、ピロメリット酸二無水物
cモル%(0≦c≦105)、3,3’,4,4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物dモル%(0≦
d≦105)[ただし、90≦(a+b)≦110、9
0≦(c+d)≦105、且つ(c+d):(a+b)
=0.90〜1.10]を、重付加反応させ得られるポ
リアミド酸100重量部に下記式〔1〕で示されるアク
リロキシ(メタクリロキシ)シランカップリング剤を5
〜50重量部、
【0005】
【化2】
【0006】(式中:R1 =H又は−CH3 ,R2 ,R
3 ,R4 =−OCH3 ,−OC2H5、−CH3 ,−C2
H5で ,R2 ,R3 ,R4 は同一であっても、異なって
も良い)添加して得られることを特徴とする高密着性ポ
リイミド樹脂組成物である。
3 ,R4 =−OCH3 ,−OC2H5、−CH3 ,−C2
H5で ,R2 ,R3 ,R4 は同一であっても、異なって
も良い)添加して得られることを特徴とする高密着性ポ
リイミド樹脂組成物である。
【0007】
【作用】本発明で使用する1,4−ビス(3−アミノプ
ロピル)テトラメチルジシロキサンの量は、1モル%以
上20モル%以下が好ましい。より好ましくは3〜10
モル%が適当である。20モル%を越えると重合度の著
しい低下が起き、硬化物特性が低下するので好ましくな
い。また1モル%未満では充分な密着性が得られないの
で好ましくない。本発明で使用する4,4’−オキシジ
アニリンは、硬化フィルムの強度、伸び等を向上させ、
結果的に密着性を向上させるものである。4,4' −オ
キシジアニリン量は70モル%以上109モル%以下が
好ましい。70モル%未満もしくは109モル%を越え
ると分子量が低下し、密着力が低下するので好ましくな
い。更に、加工性等の他特性とのバランスをとる為に、
若干量の他のジアミン類を併用することもかまわない。
ロピル)テトラメチルジシロキサンの量は、1モル%以
上20モル%以下が好ましい。より好ましくは3〜10
モル%が適当である。20モル%を越えると重合度の著
しい低下が起き、硬化物特性が低下するので好ましくな
い。また1モル%未満では充分な密着性が得られないの
で好ましくない。本発明で使用する4,4’−オキシジ
アニリンは、硬化フィルムの強度、伸び等を向上させ、
結果的に密着性を向上させるものである。4,4' −オ
キシジアニリン量は70モル%以上109モル%以下が
好ましい。70モル%未満もしくは109モル%を越え
ると分子量が低下し、密着力が低下するので好ましくな
い。更に、加工性等の他特性とのバランスをとる為に、
若干量の他のジアミン類を併用することもかまわない。
【0008】併用する他のジアミン類としては、m−フ
ェニレン−ジアミン、1−イソプロピル−2,4−フェ
ニレン−ジアミン、4,4’−ジアミノ−ジフェニルプ
ロパン、3,3’−ジアミノ−ジフェニルプロパン、
4,4’−ジアミノ−ジフェニルエタン、3,3’−ジ
アミノ−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−ジフ
ェニルメタン、3,3’−ジアミノ−ジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、3,
3’−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、4,4’−ジ
アミノ−ジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−ジ
フェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−ジフェニルエ
ーテル、ベンジジン、3,3’−ジアミノ−ビフェニ
ル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノ−ビフェ
ニル、3,3’−ジメトキシ−ベンジジン、4,4’−
ジアミノ−p−テルフェニル、3,3’−ジアミノ−p
−テルフェニル、ビス(p−アミノ−シクロヘキシル)
メタン、ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)
エーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミノペンチ
ル)ベンゼン、p−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペ
ンチル)ベンゼン、p−ビス(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン、1,5−ジアミノ−ナフ
タレン、2,6−ジアミノ−ナフタレン、2,4−ビス
(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、2,4−ジアミ
ノ−トルエン、2,6−ジアミノ−ピリジン、2,5−
ジアミノ−ピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−
オキサジアゾール、1,4−ジアミノ−シクロヘキサ
ン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジア
ミン、プロピレン−ジアミン、2,2−ジメチル−プロ
ピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタ
メチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、2,
5−ジメチル−ヘキサメチレン−ジアミン、3−メトキ
シ−ヘキサメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジア
ミン、2,5−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、
3−メチル−ヘプタメチレン−ジアミン、4,4−ジメ
チル−ヘプタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジ
アミン、ノナメチレン−ジアミン、5−メチル−ノナメ
チレン−ジアミン、2,5−ジメチル−ノナメチレン−
ジアミン、デカメチレン−ジアミン、1,10−ジアミ
ノ−1,10−ジメチル−デカン、2,11−ジアミノ
−ドデカン、1,12−ジアミノ−オクタデカン、1,
12−ジアミノ−オクタデカン、2,17−ジアミノ−
アイコサン、ジアミノシロキサン、2,6−ジアミノ−
4−カルボキシリックベンゼン、3,3’−ジアミノ−
4,4’−ジカルボキシリックベンジジン等が挙げられ
るが、これらに限定されるのではない。また使用にあた
っては、1種類でも2種類以上の混合物でもかまわな
い。
ェニレン−ジアミン、1−イソプロピル−2,4−フェ
ニレン−ジアミン、4,4’−ジアミノ−ジフェニルプ
ロパン、3,3’−ジアミノ−ジフェニルプロパン、
4,4’−ジアミノ−ジフェニルエタン、3,3’−ジ
アミノ−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−ジフ
ェニルメタン、3,3’−ジアミノ−ジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、3,
3’−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、4,4’−ジ
アミノ−ジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−ジ
フェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−ジフェニルエ
ーテル、ベンジジン、3,3’−ジアミノ−ビフェニ
ル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノ−ビフェ
ニル、3,3’−ジメトキシ−ベンジジン、4,4’−
ジアミノ−p−テルフェニル、3,3’−ジアミノ−p
−テルフェニル、ビス(p−アミノ−シクロヘキシル)
メタン、ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)
エーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミノペンチ
ル)ベンゼン、p−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペ
ンチル)ベンゼン、p−ビス(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン、1,5−ジアミノ−ナフ
タレン、2,6−ジアミノ−ナフタレン、2,4−ビス
(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、2,4−ジアミ
ノ−トルエン、2,6−ジアミノ−ピリジン、2,5−
ジアミノ−ピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−
オキサジアゾール、1,4−ジアミノ−シクロヘキサ
ン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジア
ミン、プロピレン−ジアミン、2,2−ジメチル−プロ
ピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタ
メチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、2,
5−ジメチル−ヘキサメチレン−ジアミン、3−メトキ
シ−ヘキサメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジア
ミン、2,5−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、
3−メチル−ヘプタメチレン−ジアミン、4,4−ジメ
チル−ヘプタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジ
アミン、ノナメチレン−ジアミン、5−メチル−ノナメ
チレン−ジアミン、2,5−ジメチル−ノナメチレン−
ジアミン、デカメチレン−ジアミン、1,10−ジアミ
ノ−1,10−ジメチル−デカン、2,11−ジアミノ
−ドデカン、1,12−ジアミノ−オクタデカン、1,
12−ジアミノ−オクタデカン、2,17−ジアミノ−
アイコサン、ジアミノシロキサン、2,6−ジアミノ−
4−カルボキシリックベンゼン、3,3’−ジアミノ−
4,4’−ジカルボキシリックベンジジン等が挙げられ
るが、これらに限定されるのではない。また使用にあた
っては、1種類でも2種類以上の混合物でもかまわな
い。
【0009】本発明に用いる酸二無水物はピロメリット
酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物である。これらは1種でも2種を
混合して用いても良いが、好ましくは、ピロメリット酸
二無水物:c%、30<c<80、3,3’,4,4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物:d%、3
0<d<80程度の2種混合系が密着性及びその他の特
性を良好にするので好ましい。又、反応性等、その他の
特性のバランスをとる為、その他の酸二無水物を若干量
併用してもかまわない。
酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物である。これらは1種でも2種を
混合して用いても良いが、好ましくは、ピロメリット酸
二無水物:c%、30<c<80、3,3’,4,4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物:d%、3
0<d<80程度の2種混合系が密着性及びその他の特
性を良好にするので好ましい。又、反応性等、その他の
特性のバランスをとる為、その他の酸二無水物を若干量
併用してもかまわない。
【0010】併用する他の酸二無水物としては、例えば
ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水
物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、ナフタレン−2,3,6,7
−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,
5,6−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,
2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−1,2,6,7−テトラカルボン酸二無水物、4,
8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロ
ナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水
物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキ
サヒドロナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン
酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロ
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、1,4,5,
8−テトラクロロナフタレン−2,3,6,7−テトラ
カルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボ
キシフェニル)−プロパン二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−プロパン二無水
物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メ
タン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ベ
リレン−2,3,8,9−テトラカルボン酸二無水物、
ペリレン3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、ペリレン−4,5,10,11−テトラカルボン酸
二無水物、ペリレン−5,6,11,12−テトラカル
ボン酸二無水物、フェナンスレン−1,2,7,8−テ
トラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,2,
6,7−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−
1,2,9,10−テトラカルボン酸二無水物、シクロ
ペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水
物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無
水物、ピリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二
無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン
酸二無水物等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。また、使用にあたっては、1種類でも2種類
以上の混合物でもかまわない。
ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水
物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、ナフタレン−2,3,6,7
−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,
5,6−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,
2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−1,2,6,7−テトラカルボン酸二無水物、4,
8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロ
ナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水
物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキ
サヒドロナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン
酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロ
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、1,4,5,
8−テトラクロロナフタレン−2,3,6,7−テトラ
カルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボ
キシフェニル)−プロパン二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−プロパン二無水
物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メ
タン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ベ
リレン−2,3,8,9−テトラカルボン酸二無水物、
ペリレン3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、ペリレン−4,5,10,11−テトラカルボン酸
二無水物、ペリレン−5,6,11,12−テトラカル
ボン酸二無水物、フェナンスレン−1,2,7,8−テ
トラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,2,
6,7−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−
1,2,9,10−テトラカルボン酸二無水物、シクロ
ペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水
物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無
水物、ピリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二
無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン
酸二無水物等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。また、使用にあたっては、1種類でも2種類
以上の混合物でもかまわない。
【0011】本発明におけるジアミンとテトラカルボン
酸二無水物との反応は、できる限り等モルで行なうこと
が好ましく、重合度も大きくなる。いずれか一方が10
モル%以上多くなると、重合度が著しく低下し、皮膜形
成性の悪い低分子量物になるので好ましくない。通常ジ
アミン成分もしくは酸成分を1〜3モル%多く用いるこ
とが皮膜特性を良くする上で好ましい。
酸二無水物との反応は、できる限り等モルで行なうこと
が好ましく、重合度も大きくなる。いずれか一方が10
モル%以上多くなると、重合度が著しく低下し、皮膜形
成性の悪い低分子量物になるので好ましくない。通常ジ
アミン成分もしくは酸成分を1〜3モル%多く用いるこ
とが皮膜特性を良くする上で好ましい。
【0012】本発明における反応系の溶媒は、その官能
基がテトラカルボン酸二無水物又はジアミンと反応しな
い、ダイポールモーメントを有する有機極性溶媒であ
る。系に対しては不活性であり、生成物に対しては溶媒
であること以外に、この有機極性溶媒は反応成分の少な
くとも一方の成分、好ましくは両者に対して溶媒でなけ
ればならない。この種の溶媒として代表的なものは、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジ
エチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセト
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフォスホ
アミド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメ
チルスルホン、テトラメチルスルホン、ジメチルテトラ
メチレンスルホン等があり、これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。この他にも溶媒として組合せて用い
られるものとして、ベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキ
サン、プチロラクトン、キシレン、トルエン、シクロヘ
キサノン等の非溶媒が、原料の分散媒、反応調節剤、あ
るいは生成物からの溶媒の揮散調節剤、皮膜平滑剤等と
して使用される。
基がテトラカルボン酸二無水物又はジアミンと反応しな
い、ダイポールモーメントを有する有機極性溶媒であ
る。系に対しては不活性であり、生成物に対しては溶媒
であること以外に、この有機極性溶媒は反応成分の少な
くとも一方の成分、好ましくは両者に対して溶媒でなけ
ればならない。この種の溶媒として代表的なものは、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジ
エチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセト
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフォスホ
アミド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメ
チルスルホン、テトラメチルスルホン、ジメチルテトラ
メチレンスルホン等があり、これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。この他にも溶媒として組合せて用い
られるものとして、ベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキ
サン、プチロラクトン、キシレン、トルエン、シクロヘ
キサノン等の非溶媒が、原料の分散媒、反応調節剤、あ
るいは生成物からの溶媒の揮散調節剤、皮膜平滑剤等と
して使用される。
【0013】反応は、一般に無水の条件下で行なうこと
が好ましい。これはテトラカルボン酸二無水物が水によ
り開環し、不活性化し、反応を停止させる恐れがあるた
めである。このため、仕込原料中の水分も溶媒中の水分
も除去する必要がある。また、反応は不活性ガス雰囲気
中で行なうことが好ましい。これはジアミンの酸化を防
止するためである。不活性ガスとしては、一般に乾燥窒
素ガスが使用される。
が好ましい。これはテトラカルボン酸二無水物が水によ
り開環し、不活性化し、反応を停止させる恐れがあるた
めである。このため、仕込原料中の水分も溶媒中の水分
も除去する必要がある。また、反応は不活性ガス雰囲気
中で行なうことが好ましい。これはジアミンの酸化を防
止するためである。不活性ガスとしては、一般に乾燥窒
素ガスが使用される。
【0014】本発明に使用するアクリロキシ(メタクリ
ロキシ)シランカップリング剤としては、トリメトキシ
シリルプロピルメタクリレート、トリメトキシシリルプ
ロピルアクリレート、トリエトキシシリルプロピルメタ
クリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレー
ト、ジメトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、
ジメトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジエト
キシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシ
メチルシリルプロピルアクリレート、メトキシジメチル
シリルプロピルメタクリレート、メトキシジメチルシリ
ルプロピルアクリレート、メトキシジエチルシリルプロ
ピルメタクリレート、メトキシジエチルシリルプロピル
アクリレート、ジメトキシエチルシリルプロピルメタク
リレート、ジメトキシエチルシリルプロピルメタクリレ
ート等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。本発明のアクリロキシ(メタクリロキシ)シランカ
ップリング剤の添加量はポリアミド酸100重量部に対
し5〜50重量部が好ましく、より好ましくは10〜3
0重量部が良い。5重量部以下であるとSi等基板との
密着性は良いがエポキシ系封止材料との密着性が向上せ
ず好ましくない。50重量部以上であると溶解しきれ
ず、塗膜が白濁してしまうので好ましくない。
ロキシ)シランカップリング剤としては、トリメトキシ
シリルプロピルメタクリレート、トリメトキシシリルプ
ロピルアクリレート、トリエトキシシリルプロピルメタ
クリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレー
ト、ジメトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、
ジメトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジエト
キシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシ
メチルシリルプロピルアクリレート、メトキシジメチル
シリルプロピルメタクリレート、メトキシジメチルシリ
ルプロピルアクリレート、メトキシジエチルシリルプロ
ピルメタクリレート、メトキシジエチルシリルプロピル
アクリレート、ジメトキシエチルシリルプロピルメタク
リレート、ジメトキシエチルシリルプロピルメタクリレ
ート等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。本発明のアクリロキシ(メタクリロキシ)シランカ
ップリング剤の添加量はポリアミド酸100重量部に対
し5〜50重量部が好ましく、より好ましくは10〜3
0重量部が良い。5重量部以下であるとSi等基板との
密着性は良いがエポキシ系封止材料との密着性が向上せ
ず好ましくない。50重量部以上であると溶解しきれ
ず、塗膜が白濁してしまうので好ましくない。
【0015】本発明の方法により製造されたポリイミド
樹脂は、使用にあたってその他のシランカップリング
剤、ボランカップリング剤、チタネート系カップリング
剤、アルミニウム系カップリング剤、その他のキレート
系の接着性・密着性向上剤や各種溶剤、フローエージェ
ントを併用してもよく、またこれらに加えて通常の酸硬
化剤、アミン硬化剤、ポリアミド硬化剤及びイミダゾー
ル、3級アミン等の硬化促進剤の少量を加えてもよく、
またゴムやポリサルファイド、ポリエステル、低分子エ
ポキシ等の可撓性賦与剤及び粘度調節剤、タルク、クレ
ー、マイカ、長石粉末、石英粉末、酸化マグネシウム等
の充填剤、カーボンブラック、フタロシアニンブルー等
の着色剤、テトラブロモフェニルメタン、トリブチルフ
ォスフェート等の難燃剤、三酸化アンチモン、メタ硼酸
バリウム等の難燃助剤の少量を加えてもよく、これらを
添加することにより多くの用途が開かれる。
樹脂は、使用にあたってその他のシランカップリング
剤、ボランカップリング剤、チタネート系カップリング
剤、アルミニウム系カップリング剤、その他のキレート
系の接着性・密着性向上剤や各種溶剤、フローエージェ
ントを併用してもよく、またこれらに加えて通常の酸硬
化剤、アミン硬化剤、ポリアミド硬化剤及びイミダゾー
ル、3級アミン等の硬化促進剤の少量を加えてもよく、
またゴムやポリサルファイド、ポリエステル、低分子エ
ポキシ等の可撓性賦与剤及び粘度調節剤、タルク、クレ
ー、マイカ、長石粉末、石英粉末、酸化マグネシウム等
の充填剤、カーボンブラック、フタロシアニンブルー等
の着色剤、テトラブロモフェニルメタン、トリブチルフ
ォスフェート等の難燃剤、三酸化アンチモン、メタ硼酸
バリウム等の難燃助剤の少量を加えてもよく、これらを
添加することにより多くの用途が開かれる。
【0016】
【実施例】以下本発明を実施例で具体的に説明する。 実施例1 1,4−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン0.03モル、4,4’−オキシジアニリン
0.97モルをN−メチル−2−ピロリドン3310g
に撹拌しつつ溶かした。次に3,3’,4,4’−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物0.50モル、ピ
ロメリット酸二無水物0.50モルを加えた後、80℃
で3時間反応させた。得られたポリアミド酸の固形分1
00重量部にトリメトキシシリルプロピルメタクリレー
トを20重量部加え、ポリアミド酸組成物を得た。これ
を窒化膜(SiN)付シリコンウエハにスピンナーを用
いて、硬化膜厚が5μmになるようにして塗布した。更
に硬化炉で窒素中150℃/30分、350℃/60分
硬化し、ポリイミド被膜を得た。このフィルムのSiN
付シリコンウエハへの密着性をJIS−D−0202に
準じて測定したところ、プレッシャクッカーで125℃
/2.3気圧下にて48時間処理後も0/100(剥が
れ数/総数)で高い密着性を示した。次に同様な方法で
別途作成したポリイミド被膜付きウエハ上に金型を用
い、2×2×2mmのEME−6300(住友ベークライ
ト社製)エポキシ系封止材料を175℃、3分で成形し
た。この後175℃、8時間でポストベークした。この
試験片をプレッシャクッカーにて48時間処理し、更に
テンシロンを用いてせん断密着力を測定した。密着力は
2.8kg/mm2 と高い値を示した。評価結果を表1に示
す。
ロキサン0.03モル、4,4’−オキシジアニリン
0.97モルをN−メチル−2−ピロリドン3310g
に撹拌しつつ溶かした。次に3,3’,4,4’−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物0.50モル、ピ
ロメリット酸二無水物0.50モルを加えた後、80℃
で3時間反応させた。得られたポリアミド酸の固形分1
00重量部にトリメトキシシリルプロピルメタクリレー
トを20重量部加え、ポリアミド酸組成物を得た。これ
を窒化膜(SiN)付シリコンウエハにスピンナーを用
いて、硬化膜厚が5μmになるようにして塗布した。更
に硬化炉で窒素中150℃/30分、350℃/60分
硬化し、ポリイミド被膜を得た。このフィルムのSiN
付シリコンウエハへの密着性をJIS−D−0202に
準じて測定したところ、プレッシャクッカーで125℃
/2.3気圧下にて48時間処理後も0/100(剥が
れ数/総数)で高い密着性を示した。次に同様な方法で
別途作成したポリイミド被膜付きウエハ上に金型を用
い、2×2×2mmのEME−6300(住友ベークライ
ト社製)エポキシ系封止材料を175℃、3分で成形し
た。この後175℃、8時間でポストベークした。この
試験片をプレッシャクッカーにて48時間処理し、更に
テンシロンを用いてせん断密着力を測定した。密着力は
2.8kg/mm2 と高い値を示した。評価結果を表1に示
す。
【0017】実施例2〜11 表1に示す配合及び反応条件に従い、実施例1と同様に
して反応させ、ポリアミック酸を得、実施例1と同様に
評価した。評価結果を表1に示す。硬化後の密着性はS
iN基板、エポキシ系封止材料共に良好の値を示した。
評価結果を表1に示す。
して反応させ、ポリアミック酸を得、実施例1と同様に
評価した。評価結果を表1に示す。硬化後の密着性はS
iN基板、エポキシ系封止材料共に良好の値を示した。
評価結果を表1に示す。
【0018】比較例1 実施例1中の1,4−ビス(3−アミノプロピル)テト
ラメチルジシロキサンを4,4’−オキシジアニリン
1.00モルに変更し、ポリアミド酸を得、その他は実
施例1と同様の配合を行ないポリアミド酸組成物を得
た。評価結果を表2に示す。実施例1と同様の評価を行
なったところ、SiN基板に対しては100/100と
全て剥がれてしまい、又、エポキシ系封止材料との密着
性も0.7kg/mm2 と低いことが判った。
ラメチルジシロキサンを4,4’−オキシジアニリン
1.00モルに変更し、ポリアミド酸を得、その他は実
施例1と同様の配合を行ないポリアミド酸組成物を得
た。評価結果を表2に示す。実施例1と同様の評価を行
なったところ、SiN基板に対しては100/100と
全て剥がれてしまい、又、エポキシ系封止材料との密着
性も0.7kg/mm2 と低いことが判った。
【0019】比較例2〜11 表2に示す配合及び反応条件に従い、実施例1と同様に
して反応させポリアミック酸を得、実施例1と同様に評
価した。評価結果を表2に示す。硬化後の密着性はSi
N基板、エポキシ系封止材料に対しいずれかもしくはい
ずれも悪いことが判った。
して反応させポリアミック酸を得、実施例1と同様に評
価した。評価結果を表2に示す。硬化後の密着性はSi
N基板、エポキシ系封止材料に対しいずれかもしくはい
ずれも悪いことが判った。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【発明の効果】従来、SiN,SiO2 等の基板やポリ
イミド/ポリイミド間の接着性に対する発明は多くみら
れた。しかし、ポリイミド/エポキシ系封止材料に対し
て密着性を向上させる手法はあまり知られていなかっ
た。特にシランカップリング剤等の添加により密着性を
向上させるというポリイミド構造の変更なしに対応でき
る技術を初めて見い出したものである。しかし、従来よ
りポリイミドにシランカップリング剤を添加するという
手法は常法であったが、SiN,SiO2 等基板に対す
る密着性に着目したものであり、添加量も少ないもので
あった。本発明は、同様の組み合わせであるが、添加量
が従来用いられていた10倍以上の添加することで初め
てエポキシ系封止材料へも密着性を向上させることを見
い出したものである。
イミド/ポリイミド間の接着性に対する発明は多くみら
れた。しかし、ポリイミド/エポキシ系封止材料に対し
て密着性を向上させる手法はあまり知られていなかっ
た。特にシランカップリング剤等の添加により密着性を
向上させるというポリイミド構造の変更なしに対応でき
る技術を初めて見い出したものである。しかし、従来よ
りポリイミドにシランカップリング剤を添加するという
手法は常法であったが、SiN,SiO2 等基板に対す
る密着性に着目したものであり、添加量も少ないもので
あった。本発明は、同様の組み合わせであるが、添加量
が従来用いられていた10倍以上の添加することで初め
てエポキシ系封止材料へも密着性を向上させることを見
い出したものである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31
Claims (1)
- 【請求項1】 1,4−ビス(3−アミノプロピル)テ
トラメチルジシロキサンaモル%(1≦a≦20)、
4,4' −オキシジアニリンbモル%(70≦b≦10
9)、ピロメリット酸二無水物cモル%(0≦c≦10
5)、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物dモル%(0≦d≦105)[ただし、
90≦(a+b)≦110、90≦(c+d)≦10
5、且つ(c+d):(a+b)=0.90〜1.1
0]を、重付加反応させ得られるポリアミド酸100重
量部に下記式〔1〕で示されるアクリロキシ(メタクリ
ロキシ)シランカップリング剤を5〜50重量部、 【化1】 (式中:R1 =H又は−CH3 ,R2 ,R3 ,R4 =−
OCH3 ,−OC2H5、−CH3 ,−C2H5で ,R
2 ,R3 ,R4 は同一であっても、異なっても良い)添
加して得られることを特徴とする高密着性ポリイミド樹
脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12039892A JPH05311072A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 高密着性ポリイミド樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12039892A JPH05311072A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 高密着性ポリイミド樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05311072A true JPH05311072A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14785226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12039892A Pending JPH05311072A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 高密着性ポリイミド樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05311072A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003124406A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-04-25 | Denso Corp | 半導体装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57212230A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Novel polyimide resin molded article |
| JPS59179650A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 耐熱導電性ペ−スト組成物 |
| JPS6164730A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
| JPS6315847A (ja) * | 1986-07-05 | 1988-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性ポリイミド組成物 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP12039892A patent/JPH05311072A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57212230A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Novel polyimide resin molded article |
| JPS59179650A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 耐熱導電性ペ−スト組成物 |
| JPS6164730A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
| JPS6315847A (ja) * | 1986-07-05 | 1988-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性ポリイミド組成物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003124406A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-04-25 | Denso Corp | 半導体装置 |
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