JPH05317772A - レジスト塗布方法及び塗布装置 - Google Patents

レジスト塗布方法及び塗布装置

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Publication number
JPH05317772A
JPH05317772A JP4154076A JP15407692A JPH05317772A JP H05317772 A JPH05317772 A JP H05317772A JP 4154076 A JP4154076 A JP 4154076A JP 15407692 A JP15407692 A JP 15407692A JP H05317772 A JPH05317772 A JP H05317772A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist
shaped material
belt
roller
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4154076A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Nakamura
信一 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP4154076A priority Critical patent/JPH05317772A/ja
Publication of JPH05317772A publication Critical patent/JPH05317772A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 リードフレームやシャドウマスク等の製造に
使用される帯状材料にレジストを連続的に、ピンホール
等の欠陥を少なく、塗布する方法および装置を提案す
る。 【構成】 レジストを満したディップ槽内で、ディップ
ローラーを使用せずに、帯状材料を弛ませる構成であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレームやシャ
ドウマスク等の製造において使用される帯状材料にレジ
ストを塗布する方法および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】フォトファブリケーション(写真製版)
によるエッチング工程では、感光性のレジストにより、
製品の形状を帯状材料に形成している。このレジストに
は均一な膜厚と、ピンホールなどの欠陥がないことが要
求される。従来、帯状材料の両面にレジストを塗布する
場合、図2に示す様な連続ディップ法による塗布が行な
われている。ディップローラー6は、塗布開始時にディ
ップ槽2へ降下され、レジストへ浸漬される。ディップ
ローラー6をレジストに浸漬した状態で帯状材料7を搬
送することにより、帯状材料7にレジストが塗布され
る。塗布の終了はディップローラー6をディップ槽2か
ら引き上げることにより完了する。
【0003】しかし、ディップローラー6をレジフト槽
2に浸漬する場合、ディップローラー6と帯状材料7の
間に挟まれた空気がレジスト中に放出され、気泡が発生
する。その気泡が帯状材料7に付着したままレジスト塗
布の後乾燥されると、レジストの薄い部分やピンホール
などのレジスト欠陥を生じる。また、ディップローラー
6と帯状材料7の間にレジストが入ると、レジストが潤
滑材となり、ディップローラー6と帯状材料7の間に滑
りを生じ、帯状材料7表面に傷が生じる。また、ディッ
プローラー6に付着したレジストが乾燥してしまうと、
これを除去しないと、レジスト中にレジストの固形物が
混入して欠陥の原因となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、気泡の付着
によるピンホールなどのレジスト欠陥、ディップローラ
ーと帯状材料との間の滑り現象による帯状材料表面の
傷、固形状レジストにより起る欠陥等が生じないレジス
ト塗布方法および塗布装置を提案することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明によるレジスト塗布方法は、帯状材料にレジス
トを連続的に塗布するレジスト塗布方法において、レジ
ストを満たしたディップ槽内で帯状材料を弛ませる点に
特徴がある。
【0006】また、本発明によるレジスト塗布装置は、
帯状材料を搬送する材料搬送ローラーと、ディップ槽内
の材料の弛みの下端を検知するセンサーと、帯状材料を
送り出す材料送り出しローラーと、材料送りだしローラ
ーの速度を制御するコントローラーとを備えた点に特徴
がある。
【0007】
【作用】ディップ槽内に浸漬するローラーがないため、
レジスト中への気泡の浸入がなく、ディップローラーに
よる帯状材料表面の傷も無くなる。
【0008】
【実施例】図1に於て、材料搬送ローラー1は、一定の
速度で帯状材料7を送っている。レジストはディップ槽
2に塗布に十分なだけの量が入れられている。超音波セ
ンサー3はディップ槽2の底部に設置され、コントロー
ラー4へディップ槽2内にある帯状材料7の弛み下端の
位置情報を送る。コントローラー4は、ディップ槽2内
の帯状材料7の弛み下端の位置が一定になるように、材
料送り出しローラー5の速度を調節する。
【0009】本発明は上記の構造なので塗布中に、ディ
ップ槽2の中の帯状材料7の弛み下端の位置が設定位置
より高くなった場合、材料送り出しローラー5の速度を
速くして帯状材料7の弛みを多くする。逆に弛み量が多
すぎる場合は、材料送り出しローラー5の速度を遅くし
て弛み量を少なくする。ディップ槽2の中での帯状材料
7の弛みの量は、帯状材料7に塗布されたレジスト層の
状態を観察しながら決めれば良いが、弛んだ部分がレジ
ストの液面から200mm以上の深さにするのが望まし
い。
【0010】なお、レジスト槽2でレジストを塗布され
た帯状材料7は、通常、図1の如く乾燥機8で乾燥され
た後に材料搬送ローラー1により搬送される。
【0011】なお、本実施例において、材料搬送ローラ
ー1の速度を一定とし、材料送り出しローラー5で材料
搬送の速度を可変としてもよい。
【0012】帯状材料として320mm巾、板厚0.1
25mmの銅系合金フィルムを1m/分の速度で搬送
し、図1に示した装置により、カゼイン系のレジストを
15μmの厚さに塗布した。ここで、材料搬送ローラー
1の寸法は250φ×350mm、材料送り出しローラ
ー5の寸法は100φ×350mmであり、デップ槽2
(深さ500mm)での帯状材料7の弛み部分のレジス
ト液面からの深さは210mmである。得られた帯状材
料は表面に傷がなく、レジスト塗布層にはピンホールが
見られなかった。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は連続ディ
ップ法におけるディップローラーを使用することによっ
て生ずる欠点をなくし、従来の装置に比べて高品位なレ
ジスト塗布材を提供することで、品質の高い製品を効率
的に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレジスト塗布装置の一例を示す説明図
である。
【図2】従来のレジスト塗布装置を示す説明図である。
【符号の説明】 1 材料搬送ローラー 2 ディップ槽 3 超音波センサー 4 コントローラー 5 材料送り出しローラー 6 ディップローラー 7 帯状材料 8 乾燥機

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 帯状材料にレジストを連続的に塗布する
    レジスト塗布方法において、レジストを満たしたディッ
    プ槽内で帯状材料を弛ませることを特徴とするレジスト
    塗布方法。
  2. 【請求項2】 帯状材料を搬送する材料搬送ローラー
    と、ディップ槽内の材料の弛みの下端を検知するセンサ
    ーと、帯状材料を送り出す材料送り出しローラーと、材
    料送りだしローラーの速度を制御するコントローラーと
    を備えたことを特徴とするレジスト塗布装置。
JP4154076A 1992-05-22 1992-05-22 レジスト塗布方法及び塗布装置 Pending JPH05317772A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4154076A JPH05317772A (ja) 1992-05-22 1992-05-22 レジスト塗布方法及び塗布装置

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JP4154076A JPH05317772A (ja) 1992-05-22 1992-05-22 レジスト塗布方法及び塗布装置

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JPH05317772A true JPH05317772A (ja) 1993-12-03

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ID=15576369

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JP4154076A Pending JPH05317772A (ja) 1992-05-22 1992-05-22 レジスト塗布方法及び塗布装置

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JP (1) JPH05317772A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005347298A (ja) * 2004-05-31 2005-12-15 Satsuma Tsushin Kogyo Kk フレキシブルプリント基板の被膜形成方法とそのシステム
JP5884932B1 (ja) * 2015-05-27 2016-03-15 千住金属工業株式会社 液体塗布装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005347298A (ja) * 2004-05-31 2005-12-15 Satsuma Tsushin Kogyo Kk フレキシブルプリント基板の被膜形成方法とそのシステム
JP5884932B1 (ja) * 2015-05-27 2016-03-15 千住金属工業株式会社 液体塗布装置

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