JPH05323232A - 偏倍可能な投影装置 - Google Patents
偏倍可能な投影装置Info
- Publication number
- JPH05323232A JPH05323232A JP4132787A JP13278792A JPH05323232A JP H05323232 A JPH05323232 A JP H05323232A JP 4132787 A JP4132787 A JP 4132787A JP 13278792 A JP13278792 A JP 13278792A JP H05323232 A JPH05323232 A JP H05323232A
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- JP
- Japan
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- prism
- projection
- image
- projection lens
- telecentric
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B15/00—Optical objectives with means for varying the magnification
- G02B15/02—Optical objectives with means for varying the magnification by changing, adding, or subtracting a part of the objective, e.g. convertible objective
- G02B15/04—Optical objectives with means for varying the magnification by changing, adding, or subtracting a part of the objective, e.g. convertible objective by changing a part
- G02B15/06—Optical objectives with means for varying the magnification by changing, adding, or subtracting a part of the objective, e.g. convertible objective by changing a part by changing the front part
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/34—Means for automatic focusing therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/04—Prisms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Variable Magnification In Projection-Type Copying Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 像高によらず一定の倍率で像を偏倍すること
ができる偏倍可能な投影装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 被投影面１０に形成されたパターンを像面上
に結像させる機能を有し、像側、物体側の少なくとも一
方に対してテレセントリックな投影レンズ３０と、像
面、被投影面とのうちの少なくともテレセントリックな
側と投影レンズ３０との間に設けられ、一方向のみに屈
折力を持つプリズム４０と、プリズムを投影レンズの光
軸と垂直な面内で屈折力を持つ方向と垂直な軸回りに回
動させる駆動手段５０とを有することを特徴とする。
ができる偏倍可能な投影装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 被投影面１０に形成されたパターンを像面上
に結像させる機能を有し、像側、物体側の少なくとも一
方に対してテレセントリックな投影レンズ３０と、像
面、被投影面とのうちの少なくともテレセントリックな
側と投影レンズ３０との間に設けられ、一方向のみに屈
折力を持つプリズム４０と、プリズムを投影レンズの光
軸と垂直な面内で屈折力を持つ方向と垂直な軸回りに回
動させる駆動手段５０とを有することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、プリント基板製造や
印刷、製版等に用いられる投影装置に関し、特に、投影
倍率を一方向にのみ変化させることができる偏倍可能な
投影装置に関する。
印刷、製版等に用いられる投影装置に関し、特に、投影
倍率を一方向にのみ変化させることができる偏倍可能な
投影装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】投影装置の偏倍方法は、例えば特開昭６
０-１１２０２５号公報に開示されている。この公報に
は、複写機における偏倍方法として三角プリズムを使用
する例が開示されている。
０-１１２０２５号公報に開示されている。この公報に
は、複写機における偏倍方法として三角プリズムを使用
する例が開示されている。
【０００３】図８に示すように、物体面上の異なる２点
Ａ，Ｂが投影レンズ１により像面上でそれぞれａ，ｂに
結像する場合、ディストーションがなければ各点の像倍
率は等しい。
Ａ，Ｂが投影レンズ１により像面上でそれぞれａ，ｂに
結像する場合、ディストーションがなければ各点の像倍
率は等しい。
【０００４】ここで投影レンズと像面との間に破線で示
したようなプリズムを挿入すると、物点Ａ，Ｂからの主
光線Ｒ1、Ｒ2は破線で示したように各々ｃ，ｄに向か
い、結像系としての倍率をプリズムが屈折作用を有する
一方向にのみ変化させ、偏倍させることができる。
したようなプリズムを挿入すると、物点Ａ，Ｂからの主
光線Ｒ1、Ｒ2は破線で示したように各々ｃ，ｄに向か
い、結像系としての倍率をプリズムが屈折作用を有する
一方向にのみ変化させ、偏倍させることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記結
像光学系の倍率は、プリズムに入射する光線の入射角に
よって変化する。従って、図８のように光線Ｒ1、Ｒ2の
プリズムへの入射角が異なる場合には、それぞれの光線
に対する倍率が異なり、ディストーションと同じ現像が
生じる。
像光学系の倍率は、プリズムに入射する光線の入射角に
よって変化する。従って、図８のように光線Ｒ1、Ｒ2の
プリズムへの入射角が異なる場合には、それぞれの光線
に対する倍率が異なり、ディストーションと同じ現像が
生じる。
【０００６】露光するパターンの精度によっては、この
倍率の相違が許容される場合もあるが、プリント基板パ
ターンのように数百ミリ角の基板上で百μオーダーの精
細なパターンを形成する場合には、わずかな倍率相違も
許容されないことがある。
倍率の相違が許容される場合もあるが、プリント基板パ
ターンのように数百ミリ角の基板上で百μオーダーの精
細なパターンを形成する場合には、わずかな倍率相違も
許容されないことがある。
【０００７】
【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、像高によらず一定の倍率で
像を偏倍することができる偏倍可能な投影装置を提供す
ることを目的とする。
鑑みてなされたものであり、像高によらず一定の倍率で
像を偏倍することができる偏倍可能な投影装置を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる偏倍可
能な投影装置は、上記の目的を達成させるため、被投影
面に形成されたパターンを像面上に結像させる機能を有
し、像側、物体側の少なくとも一方に対してテレセント
リックな投影レンズと、像面、被投影面とのうちの少な
くともテレセントリックな側と投影レンズとの間に設け
られ、一方向のみに屈折力を持つプリズムと、プリズム
を投影レンズの光軸と垂直な面内で屈折力を持つ方向と
垂直な軸回りに回動させる駆動手段とを有することを特
徴とする。
能な投影装置は、上記の目的を達成させるため、被投影
面に形成されたパターンを像面上に結像させる機能を有
し、像側、物体側の少なくとも一方に対してテレセント
リックな投影レンズと、像面、被投影面とのうちの少な
くともテレセントリックな側と投影レンズとの間に設け
られ、一方向のみに屈折力を持つプリズムと、プリズム
を投影レンズの光軸と垂直な面内で屈折力を持つ方向と
垂直な軸回りに回動させる駆動手段とを有することを特
徴とする。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。まず、
図１に基づいてプリズムによる倍率変化の作用につき説
明する。
図１に基づいてプリズムによる倍率変化の作用につき説
明する。
【００１０】プリズムの倍率ｍは、プリズムに対する入
射角をθ1、屈折角をθ2、θ3、射出角をθ4とすると、
以下の式(1)で表される。また、媒質の屈折率をｎ、プ
リズムの屈折率をｎ’とすると、スネルの法則により、
以下の関係式(2),(3)が成立する。ここで、プリズムの
頂角をαとすると、幾何学的関係から以下の関係式(4)
が導かれる。
射角をθ1、屈折角をθ2、θ3、射出角をθ4とすると、
以下の式(1)で表される。また、媒質の屈折率をｎ、プ
リズムの屈折率をｎ’とすると、スネルの法則により、
以下の関係式(2),(3)が成立する。ここで、プリズムの
頂角をαとすると、幾何学的関係から以下の関係式(4)
が導かれる。
【００１１】
【数１】 ｍ＝(cosθ2／cosθ1)・(cosθ4／cosθ3) …(1) ｎsinθ1＝ｎ’sinθ2 …(2) ｎ’sinθ3＝ｎsinθ4 …(3) α＝θ2 ＋ θ3 …(4)
【００１２】上記の関係式によりα、ｎ、ｎ’のデータ
を与えることにより、任意の入射角θ1に対する倍率ｍ
を計算することができる。
を与えることにより、任意の入射角θ1に対する倍率ｍ
を計算することができる。
【００１３】
【実施例１】図２は、この発明にかかる投影装置の実施
例１を示す。実施例の装置は、例えばプリント基板を製
造する際に、アートワークマスクと呼ばれるフィルム上
に描かれた回路パターンを銅薄膜、フォトレジストの塗
布された基板上に投影するために用いられる。露光され
た基板には、現像、エッチング工程により回路パターン
が形成される。
例１を示す。実施例の装置は、例えばプリント基板を製
造する際に、アートワークマスクと呼ばれるフィルム上
に描かれた回路パターンを銅薄膜、フォトレジストの塗
布された基板上に投影するために用いられる。露光され
た基板には、現像、エッチング工程により回路パターン
が形成される。
【００１４】このような方法により回路パターンを形成
する場合、現像等の工程において基板の収縮、膨張が発
生することがある。また、アートワークマスク自体もフ
ィルムを用いるために現像により収縮が生じる。
する場合、現像等の工程において基板の収縮、膨張が発
生することがある。また、アートワークマスク自体もフ
ィルムを用いるために現像により収縮が生じる。
【００１５】複数の基板を重ね合わせて構成される多層
膜基板を製造する場合、上記のような膨張、収縮により
パターンの倍率が誤差を持つと、上、下の基板間を接続
するスルーホール等の位置が各基板毎に誤差を持ち、結
果的にホール位置が一致せず接続できないという不都合
が生じる。なお、これらの収縮、膨張の度合は一般的に
等方的でなく、方向によって異なるという特徴がある。
膜基板を製造する場合、上記のような膨張、収縮により
パターンの倍率が誤差を持つと、上、下の基板間を接続
するスルーホール等の位置が各基板毎に誤差を持ち、結
果的にホール位置が一致せず接続できないという不都合
が生じる。なお、これらの収縮、膨張の度合は一般的に
等方的でなく、方向によって異なるという特徴がある。
【００１６】実施例の投影装置は、マスク毎に異なる膨
張、収縮の度合に応じて投影倍率を一方向にのみ変化さ
せる偏倍機能を有している。
張、収縮の度合に応じて投影倍率を一方向にのみ変化さ
せる偏倍機能を有している。
【００１７】実施例１の投影装置は、回路基板等のパタ
ーンが描画されたアートワークマスクが配置される被投
影面１０と、ワークマスクのパターンを−１倍（等倍）
で像面である基板２０上に投影する投影レンズ３０と、
基板２０と投影レンズ３０との間に回動自在に設けられ
たプリズム４０と、投影レンズ３０の光軸と垂直な面内
でプリズム４０が屈折力を持つ方向と垂直な軸Ａｘ（紙
面に対して垂直な軸）回りに回動させる駆動手段５０と
から構成されている。
ーンが描画されたアートワークマスクが配置される被投
影面１０と、ワークマスクのパターンを−１倍（等倍）
で像面である基板２０上に投影する投影レンズ３０と、
基板２０と投影レンズ３０との間に回動自在に設けられ
たプリズム４０と、投影レンズ３０の光軸と垂直な面内
でプリズム４０が屈折力を持つ方向と垂直な軸Ａｘ（紙
面に対して垂直な軸）回りに回動させる駆動手段５０と
から構成されている。
【００１８】被投影面１０は、図示せぬ光源により照明
され、アートワークマスクを透過した光束が投影レンズ
３０を介して基板２０上にパターンを形成する。
され、アートワークマスクを透過した光束が投影レンズ
３０を介して基板２０上にパターンを形成する。
【００１９】投影レンズ３０は、対称型の８枚構成で物
体側、像側の両方に対してテレセントリックである。プ
リズム４０は、頂角４°、中央厚（光軸上の厚さ）５ミ
リ、屈折率１．５１６の三角プリズムである。
体側、像側の両方に対してテレセントリックである。プ
リズム４０は、頂角４°、中央厚（光軸上の厚さ）５ミ
リ、屈折率１．５１６の三角プリズムである。
【００２０】図３及び図４は、プリズムの回動による偏
倍作用を示す。倍率ｍ＝１のとき被投影面１０上の２点
Ａ，Ｂの基板２０上での像点ａ，ｂの間隔をｄ0とし、
プリズム４０を回動させて像面がθ回転したときの結像
点ｃ，ｄの間隔をｄ1とする。実際には基板２０は固定
されているため、回動後の倍率ｍ1は以下の式(5)で表さ
れる。
倍作用を示す。倍率ｍ＝１のとき被投影面１０上の２点
Ａ，Ｂの基板２０上での像点ａ，ｂの間隔をｄ0とし、
プリズム４０を回動させて像面がθ回転したときの結像
点ｃ，ｄの間隔をｄ1とする。実際には基板２０は固定
されているため、回動後の倍率ｍ1は以下の式(5)で表さ
れる。
【００２１】
【数２】ｍ1 ＝ cosθ …(5)
【００２２】なお、図３と垂直な断面内では、プリズム
４０は屈折力を持たないため、倍率は変化せず、結果と
して一方向のみの偏倍が可能となる。
４０は屈折力を持たないため、倍率は変化せず、結果と
して一方向のみの偏倍が可能となる。
【００２３】プリズム４０の第１面に対する入射角が３
°となる状態では、倍率ｍ＝１となり偏倍作用は生じな
い。入射角が８°となると、ｍ＝１．００５となり、５
°の調整で０．００５倍という微妙な倍率調整を行なう
ことができる。
°となる状態では、倍率ｍ＝１となり偏倍作用は生じな
い。入射角が８°となると、ｍ＝１．００５となり、５
°の調整で０．００５倍という微妙な倍率調整を行なう
ことができる。
【００２４】投影レンズ３０は像側にもテレセントリッ
クであるため、各像高に対する主光線が全て光軸に対し
て平行となり、プリズムに対する入射角度が一定となる
ため、像の場所に依らず偏倍率が一定となる。
クであるため、各像高に対する主光線が全て光軸に対し
て平行となり、プリズムに対する入射角度が一定となる
ため、像の場所に依らず偏倍率が一定となる。
【００２５】なお、実施例のプリズムは光軸上の点を中
心に回動する構成となっているが、回動中心は光軸外の
点であってもよい。
心に回動する構成となっているが、回動中心は光軸外の
点であってもよい。
【００２６】
【実施例２】図５は、この発明にかかる投影装置の実施
例２を示す。この例では、投影レンズ３０と基板２０と
の間に、２枚のプリズムが貼合わされて構成される色消
しプリズム４１が回動自在に配置されている。他の構成
は実施例１と同様である。
例２を示す。この例では、投影レンズ３０と基板２０と
の間に、２枚のプリズムが貼合わされて構成される色消
しプリズム４１が回動自在に配置されている。他の構成
は実施例１と同様である。
【００２７】アートワークマスクを照明する光源として
単色光源を用いる場合には、実施例１のような単独プリ
ズム４０を用いても問題ない。しかし、この種の投影装
置で一般的に使用される超高圧水銀灯は発光スペクトル
が分散しており、プリズムにより色収差が発生するとい
う問題がある。また、単色光として用いるためにダイク
ロイックフィルター等を用いると光量を有効に利用する
ことができない。
単色光源を用いる場合には、実施例１のような単独プリ
ズム４０を用いても問題ない。しかし、この種の投影装
置で一般的に使用される超高圧水銀灯は発光スペクトル
が分散しており、プリズムにより色収差が発生するとい
う問題がある。また、単色光として用いるためにダイク
ロイックフィルター等を用いると光量を有効に利用する
ことができない。
【００２８】そこで、実施例２では、頂角４°で屈折率
１．５２程度の２種類の分散の異なる硝材を貼り合わせ
て構成される色消しプリズム４１を用いている。なお、
偏倍に関する性能は実施例１と同一である。
１．５２程度の２種類の分散の異なる硝材を貼り合わせ
て構成される色消しプリズム４１を用いている。なお、
偏倍に関する性能は実施例１と同一である。
【００２９】実施例２の構成によれば、複数の波長の光
束を同一の角度で屈折させることができ、色収差の発生
を抑えることができる。
束を同一の角度で屈折させることができ、色収差の発生
を抑えることができる。
【００３０】
【実施例３】図６は、この発明にかかる投影装置の実施
例３を示す。この例では、投影レンズ３０と基板２０と
の間に、プリズム４０と平行平面板４２とが共に回動自
在に設けられている。平行平面板４２の回転軸Ａｘ1
は、プリズム４０の回転軸Ａｘに対して平行である。他
の構成は実施例１と同様である。
例３を示す。この例では、投影レンズ３０と基板２０と
の間に、プリズム４０と平行平面板４２とが共に回動自
在に設けられている。平行平面板４２の回転軸Ａｘ1
は、プリズム４０の回転軸Ａｘに対して平行である。他
の構成は実施例１と同様である。
【００３１】実施例１，２の場合には、いずれも図４に
示されるようにプリズムを回動させることによりテレセ
ントリックな主光線のプリズムへの入射角を変化させて
倍率を変えると、同時に像面上での像位置が光軸に垂直
な方向に移動する。この移動による影響を避けるために
は、像面に置かれた基板等を像の移動量に応じて移動さ
せる構成としてもよいが、基板２０を移動させるために
は大がかりな機構が必要となって装置のコストアップを
招来する。
示されるようにプリズムを回動させることによりテレセ
ントリックな主光線のプリズムへの入射角を変化させて
倍率を変えると、同時に像面上での像位置が光軸に垂直
な方向に移動する。この移動による影響を避けるために
は、像面に置かれた基板等を像の移動量に応じて移動さ
せる構成としてもよいが、基板２０を移動させるために
は大がかりな機構が必要となって装置のコストアップを
招来する。
【００３２】そこで、実施例３の装置は、平行平面板４
２をプリズムの回動に同期して回動させることにより、
プリズム４０の回動により移動した像を逆方向に移動さ
せ、像の移動を相殺する構成としている。
２をプリズムの回動に同期して回動させることにより、
プリズム４０の回動により移動した像を逆方向に移動さ
せ、像の移動を相殺する構成としている。
【００３３】
【実施例４】図７は、この発明にかかる投影装置の実施
例４を示す。この例では、被投影面１０と投影レンズ３
０との間にプリズム４３が固定して設けられ、投影レン
ズ４０と基板２０との間にプリズム４０が回動自在に設
けられている。他の構成は実施例１と同様である。
例４を示す。この例では、被投影面１０と投影レンズ３
０との間にプリズム４３が固定して設けられ、投影レン
ズ４０と基板２０との間にプリズム４０が回動自在に設
けられている。他の構成は実施例１と同様である。
【００３４】２つのプリズム４０，４３は同一形状、同
一材質で形成されており、屈折力がほぼ１８０°反対方
向を向くような状態で配置されている。
一材質で形成されており、屈折力がほぼ１８０°反対方
向を向くような状態で配置されている。
【００３５】実施例１のように三角プリズムを単独で結
像光学系中に用いると、色収差及びコマ収差が発生す
る。しかし、同形状のプリズムを中心対称の形で２個用
いるとそれぞれのプリズムで発生する色収差、コマ収差
が互いに相殺され、光学系全体としてみるとこれらの収
差の発生を抑えるとができる。
像光学系中に用いると、色収差及びコマ収差が発生す
る。しかし、同形状のプリズムを中心対称の形で２個用
いるとそれぞれのプリズムで発生する色収差、コマ収差
が互いに相殺され、光学系全体としてみるとこれらの収
差の発生を抑えるとができる。
【００３６】なお、完全に対称形とすると倍率も相殺さ
れて偏倍効果がなくなるのため、物体側のプリズム４３
は倍率ｍ＝１となるよう固定しておき、像面側のプリズ
ム４０のみを実施例１と同様に偏倍可能なよう回動自在
に配置する。
れて偏倍効果がなくなるのため、物体側のプリズム４３
は倍率ｍ＝１となるよう固定しておき、像面側のプリズ
ム４０のみを実施例１と同様に偏倍可能なよう回動自在
に配置する。
【００３７】このような構成により、コマ収差、色収差
を発生させずに像の偏倍を行なうことができる。
を発生させずに像の偏倍を行なうことができる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の投影装
置は、投影レンズの像面側、あるいは物体側の少なくと
もテレセントリックな部分にプリズムを回動自在に設け
ることにより、像の倍率を一方向にのみ変化させること
ができ、かつ、異なる像高の像を一定の倍率で偏倍する
ことができる。
置は、投影レンズの像面側、あるいは物体側の少なくと
もテレセントリックな部分にプリズムを回動自在に設け
ることにより、像の倍率を一方向にのみ変化させること
ができ、かつ、異なる像高の像を一定の倍率で偏倍する
ことができる。
【図１】 プリズムの偏倍作用を示す説明図である。
【図２】 実施例１の投影装置の光学系の説明図であ
る。
る。
【図３】 実施例１の偏倍作用を説明するための概略図
である。
である。
【図４】 図３の像面近傍の拡大図である。
【図５】 実施例２の投影装置の光学系の説明図であ
る。
る。
【図６】 実施例３の投影装置の光学系の説明図であ
る。
る。
【図７】 実施例４の投影装置の光学系の説明図であ
る。
る。
【図８】 従来の投影装置の偏倍方法の説明図である。
１０…被投影面 ２０…基板 ３０…投影レンズ ４０，４１，４３…プリズム ４２…平行平面板 ５０…駆動手段
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
Claims (6)
- 【請求項１】被投影面に形成されたパターンを像面上に
結像させる機能を有し、像側、物体側の少なくとも一方
に対してテレセントリックな投影レンズと、 前記像面、前記被投影面とのうちの少なくともテレセン
トリックな側と前記投影レンズとの間に設けられ、一方
向のみに屈折力を持つプリズムと、 前記プリズムを投影レンズの光軸と垂直な面内で前記屈
折力を持つ方向と垂直な軸回りに回動させる駆動手段と
を有することを特徴とする偏倍可能な投影装置。 - 【請求項２】前記投影レンズは、像側に対してテレセン
トリックであり、前記プリズムは前記投影レンズと前記
像面との間に設けられていることを特徴とする請求項１
に記載の偏倍可能な投影装置。 - 【請求項３】前記投影レンズは、物体側に対してテレセ
ントリックであり、前記プリズムは前記投影レンズと前
記被投影面との間に設けられていることを特徴とする請
求項１に記載の偏倍可能な投影装置。 - 【請求項４】前記プリズムは色消しプリズムであること
を特徴とする請求項１に記載の偏倍可能な投影装置。 - 【請求項５】プリズム回転による像の横シフトを補正す
るための平行平面板を有することを特徴とする請求項１
に記載の偏倍可能な投影装置。 - 【請求項６】前記投影レンズは、物体側、像側のいずれ
に対してもテレセントリックであり、前記プリズムは、
前記投影レンズと前記被投影面の間、及び前記投影レン
ズと前記像面との間に設けられていることを特徴とする
請求項１に記載の偏倍可能な投影装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4132787A JPH05323232A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 偏倍可能な投影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4132787A JPH05323232A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 偏倍可能な投影装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05323232A true JPH05323232A (ja) | 1993-12-07 |
Family
ID=15089539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4132787A Pending JPH05323232A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 偏倍可能な投影装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05323232A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5696631A (en) * | 1996-02-22 | 1997-12-09 | Anvik Corporation | Unit magnification projection lens system |
| JP2001237183A (ja) * | 2000-01-20 | 2001-08-31 | Asm Lithography Bv | マイクロリソグラフィ投影装置 |
| JP2005202216A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Nitto Kogaku Kk | 双眼拡大鏡 |
| CN105474067A (zh) * | 2013-10-30 | 2016-04-06 | 奥林巴斯株式会社 | 摄像装置 |
-
1992
- 1992-05-25 JP JP4132787A patent/JPH05323232A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5696631A (en) * | 1996-02-22 | 1997-12-09 | Anvik Corporation | Unit magnification projection lens system |
| JP2001237183A (ja) * | 2000-01-20 | 2001-08-31 | Asm Lithography Bv | マイクロリソグラフィ投影装置 |
| JP2005202216A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Nitto Kogaku Kk | 双眼拡大鏡 |
| CN105474067A (zh) * | 2013-10-30 | 2016-04-06 | 奥林巴斯株式会社 | 摄像装置 |
| EP3064983A4 (en) * | 2013-10-30 | 2017-06-21 | Olympus Corporation | Image capture device |
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