JPH05323628A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH05323628A
JPH05323628A JP15727792A JP15727792A JPH05323628A JP H05323628 A JPH05323628 A JP H05323628A JP 15727792 A JP15727792 A JP 15727792A JP 15727792 A JP15727792 A JP 15727792A JP H05323628 A JPH05323628 A JP H05323628A
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JP
Japan
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group
resin
general formula
represented
weight
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Application number
JP15727792A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To always maintain stable and good electrostatic characteristics and to obtain high definition and good picture images by incorporating specified resin into a binder resin. CONSTITUTION:The binder resin consists of at least a resin [A1] and/or resin [A2] and a medium to high mol.wt. resin [B]. The resin [A1] is a copolymer containing macromonomers (M1) and monomers expressed by formula I and the end of this copolymer is coupled with a specified polar group. The resin [A2] is a copolymer consisting of macromonomers (M2) having a component containing a specified polar group and of monomers expressed by formula II. The resin [B] is an AB-block copolymer consisting of block A having a component containing a specified polar group and of block B containing a polymer component expressed by formula II in which a specified polar group is coupled with the end of the polymer main chain of the block A opposite to the end coupled with the block B. In formula I, a<1> and a<2> are hydrogen atoms, etc., and R<3> is a hydrocarbon group. In formula II, R<4> is -COO-, etc., b<1> and b<2> are hydrogen atoms, halogen atoms, etc., which may be same or different.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor,
Specifically, it relates to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and moisture resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various structures in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process applied. Typical electrophotographic photoconductors are a photoconductor having a photoconductive layer formed on a support and a photoconductor having an insulating layer on the surface thereof, which are widely used.

【0003】支持体と少なくとも1つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。
Photoreceptors comprising a support and at least one photoconductive layer are used in the most common electrophotographic processes, ie, charging, imagewise exposure and development, and optionally, image formation by transfer. Furthermore, a method of using an electrophotographic photosensitive member as an offset original plate for direct plate making is widely used. In recent years, in particular, direct electrophotographic lithographic printing plates have become important as a method of printing high-quality printed matter with a printing number of several hundreds to several thousands. In such a situation, the binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photosensitive member has excellent film-forming property of itself and dispersibility in the binder resin of the photoconductive powder,
The formed recording layer has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, small dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and shooting It is necessary to have various electrostatic characteristics such as that these characteristics need to be stably maintained due to changes in humidity with time, and excellent image pickup properties.

【0004】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗中電荷保持率(D.R.
R.)や光感度が大きく左右される。
Further, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photosensitive member has been earnestly conducted, and a photoconductive layer for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photosensitive member and printing characteristics as a printing original plate has been made. Binder resin is required. Inorganic photoconductive material,
It has been found that, in the photoconductive layer containing at least the spectral sensitizing dye and the binder resin, not only the smoothness but also the electrostatic properties are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Especially in the electrostatic characteristics, the charge retention ratio in the dark (D.R.
R. ) And light sensitivity are greatly affected.

【0005】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量(103 〜104 程度)の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭63−217354号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同64−70761号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平2−67563
号、同2−236561号、同2−238458号、同
2−236562号及び同2−247656号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同3−181948号には酸性基をブロック
で含有するAB型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。
On the other hand, various techniques for improving smoothness and electrostatic characteristics have been studied by using a resin having a relatively low molecular weight (about 10 3 to 10 4 ) containing an acidic group as a binder resin. ing. For example, JP-A-63-217354 discloses a resin in which an acidic group-containing polymerization component is randomly present in the polymer main chain, and JP-A No. 64-70761 is a resin in which an acidic group is bonded to one end of the polymer main chain. Resin, JP-A-2-67563
Nos. 2,236,561, 2,238,458, 2,236,562, and 2,247,656, etc., each have a resin or an acidic group formed by bonding an acidic group to the end of the main chain of the graft copolymer. Resins contained in the graft portion of the graft type copolymer, and JP-A No. 3-181948 describe AB type block copolymers containing an acidic group as a block. These are such that the low molecular weight resin has an effect of sufficiently dispersing the photoconductor and suppressing the aggregation of the photoconductors, and the adsorption of the photoconductor and the spectral sensitizing dye is not excluded from the inorganic substance. It is presumed that this is due to the fact that the photoconductor is sufficiently adsorbed to the stoichiometric defects and the surface of the photoconductor is covered gently and sufficiently.

【0006】更に、これらの低分子量の樹脂のみでは不
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術が種々検討され
ている。例えば、特開平2−68561号にはポリマー
間に架橋構造を形成する熱硬化性樹脂、特開平2−68
562号には一部が架橋構造を有する樹脂、特開平2−
69759号には酸性基をグラフト型共重合体の主鎖末
端に結合して成る樹脂が記載されている。また、特定の
中〜高分子量の樹脂を用いることで、環境が著しく変動
した場合においても比較的安定した性能を維持する技術
が検討され、例えば同3−29954号、同3−779
54号、同3−92861号及び同3−53257号に
は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部の末端に結
合する樹脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト
部に含有する樹脂が記載されている。更に、同3−20
6464号、同3−238463号及び同4−1565
5号によれば、酸性基含有のAブロックと酸性基非含有
のBブロックから成るABブロック型共重合体をグラフ
ト部に有するグラフト型共重合体を用いる事で、環境の
変化や半導体レ−ザ−光を用いたスキャニング露光方式
を用いた場合においても比較的高い性能を維持すること
が明らかになった。
Further, in order to make the mechanical strength of the photoconductive layer sufficient by using only these low molecular weight resins,
Various techniques of using other resins of medium to high molecular weight in combination have been studied. For example, JP-A-2-68561 discloses a thermosetting resin which forms a crosslinked structure between polymers, and JP-A-2-6856.
No. 562, a resin partially having a cross-linked structure, disclosed in JP-A-2-
No. 69759 describes a resin having an acidic group bonded to the end of the main chain of a graft copolymer. Further, by using a specific medium to high molecular weight resin, a technique for maintaining a relatively stable performance even when the environment is significantly changed has been studied. For example, JP-A-3-29954 and JP-A-3-7795.
No. 54, No. 3-92861, and No. 3-53257, there is a resin that binds an acidic group to the end of the graft portion of the graft copolymer or a resin that contains an acidic group in the graft portion of the graft copolymer. Have been described. Furthermore, 3-20
No. 6464, No. 3-23846 and No. 4-1565
According to No. 5, by using a graft type copolymer having an AB block type copolymer composed of an acidic group-containing A block and an acidic group-free B block in a graft portion, environmental changes and semiconductor lasers can be improved. It has been revealed that a relatively high performance is maintained even when the scanning exposure method using the light is used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動
した場合における安定した性能の維持においてはいまだ
不充分であることが判った。半導体レーザー光を用いた
スキャンニング露光方式では、従来の可視光による全面
同時露光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強
度にも制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持
特性、光感度に対して、より高い性能が要求される。
However, even if various low molecular weight resins containing these acidic groups, and further various medium to high molecular weight resins are used in combination with these resins, the environment at high temperature and high temperature is high. It was found that it is still insufficient to maintain stable performance when there is a significant change from humidity to low temperature / low humidity. The scanning exposure method that uses a semiconductor laser beam has a longer exposure time than the conventional simultaneous full-exposure method that uses visible light, and also has a limited exposure intensity, so electrostatic characteristics, especially dark charge retention characteristics, are used. In terms of photosensitivity, higher performance is required.

【0008】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合,従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にE1/2 とE1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
In particular, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam was adopted, when actually tested with a conventional photoreceptor, the above electrostatic characteristics were found to be sufficient. This is not satisfactory, and especially the difference between E 1/2 and E 1/10 is large and the gradation of the copied image becomes soft, and it becomes difficult to reduce the residual potential after exposure, causing fog in the copied image. Became noticeable, and again
Even when printing as an offset master, a problem such as a print original sticking mark on the printed matter appeared.

【0009】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術において
は、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によ
って、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の
樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体
は、前述の様な高精細な画像(特に連続階調画像)の忠
実な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を
用いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、
問題を生じ得ることが明らかになった。
Further, in recent years, it has been desired to realize a technique for faithfully reproducing not only a copied image of an image composed of line drawings and halftone dots but also a high-definition image composed of continuous gradations by using a liquid developer. However, the above-mentioned known technology has not been able to sufficiently satisfy these demands. In the conventionally known technology, the medium to high molecular weight resin used in combination with the low molecular weight resin may lower the electrostatic properties of the high performance of the low molecular weight resin. The electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer used in combination with a known resin is capable of reproducing a faithful copy image of a high-definition image (especially continuous tone image) as described above or a low-output laser beam. For the imaging ability by the scanning exposure method used,
It became clear that it could cause problems.

【0010】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
The present invention is to improve the problems of the above-described conventionally known electrophotographic photoreceptors. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a clear and high-quality image, which constantly maintains good electrostatic properties even when the environment during copy image formation changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. Is to provide.

【0011】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷原版として、静電特性(特に暗電荷保持性及
び光感度)に優れ、原画(特に高精細な連続階調画像)
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photosensitive member which is excellent in electrostatic characteristics and has little environmental dependence. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure system using a semiconductor laser beam. A further object of the present invention is as an electrophotographic lithographic printing original plate, which is excellent in electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity) and has an original image (particularly a high-definition continuous tone image).
Reproduces a copy image that is faithful to, and does not generate spot stains as well as uniform stains on the entire printed matter.
Another object is to provide a lithographic printing original plate having excellent printing durability.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記樹脂〔A1 〕及び樹脂〔A2 〕のうちの少なく
とも一種並びに下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を各々
含有して成る事を特徴とする電子写真感光体により達成
されることが見出された。
The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral sensitizing dye and a binder resin. 1 ] and at least one resin [A 2 ] and at least one resin [B] below, respectively.

【0013】樹脂〔A1 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上含有する重合体主鎖の一方の末端にの
み下記一般式(II)で示される重合性二重結合基を結
合して成る重量平均分子量2×104 以下の一官能性マ
クロモノマー(M1 )と、該一般式(I)で示される繰
り返し単位に相当するモノマーとから少なくとも成る共
重合体であって、且つ該共重合体主鎖の片末端に−PO
3 2 、−SO3 H、−COOH、−P(=O)(O
H)R1 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化
水素基を表す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択さ
れる少なくとも1種の極性基を結合して成る樹脂。 樹脂〔A2 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上及び上記樹脂〔A1 〕で示される特定
の極性基から選択される少なくとも一種の極性基を含有
する重合体成分を1〜50重量%含有する重合体主鎖の
一方の末端にのみ下記一般式(II)で示される重合性
二重結合基を結合して成る重量平均分子量2×104
下の一官能性マクロモノマー(M2 )と、該一般式
(I)で示される繰り返し単位に相当するモノマーとか
ら少なくとも成る共重合体である樹脂。
Resin [A 1 ] A polymer having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and containing a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component in an amount of 30% by weight or more. A monofunctional macromonomer (M 1 ) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less, in which a polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) is bonded to only one end of the chain; A copolymer comprising at least a monomer corresponding to the repeating unit represented by (I), and -PO at one end of the main chain of the copolymer.
3 H 2 , -SO 3 H, -COOH, -P (= O) (O
H) R 1 [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] and a resin formed by bonding at least one polar group selected from a cyclic acid anhydride group .. Resin [A 2 ] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and containing a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component in an amount of 30% by weight or more and the above resin [A 1 ]. The polymerizability represented by the following general formula (II) only at one terminal of the polymer main chain containing 1 to 50% by weight of a polymer component containing at least one polar group selected from the specific polar groups shown. Copolymer containing at least a monofunctional macromonomer (M 2 ) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by bonding a double bond group and a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I). Resin that is a united body.

【0014】[0014]

【化5】 [Chemical 5]

【0015】〔式(I)中、a1 、a2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R
3 は炭化水素基を表す。好ましくはa1 が水素原子、a
2 がメチル基の場合である。〕
[In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R
3 represents a hydrocarbon group. Preferably, a 1 is a hydrogen atom, a
This is the case where 2 is a methyl group. ]

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】〔式(II)中、R4 は−COO−、−O
CO−、−CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O
−、−SO2 −、−CO−、−CON(R5 )−、−S
2 N(R5 )−(ここでR5 は水素原子又は炭化水素
基を表わす)、−CONHCOO−、−CONHCON
H−又は−C6 4 −を表わす。b1 及びb2 は、互い
に同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、炭化水素基、−COOR6 又は炭化水素
を介した−COOR6 (ここでR6 は置換されてもよい
炭化水素基を表す)を表す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、上記
樹脂〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから選択さ
れる少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分を少
なくとも1種含有するAブロックと上記樹脂〔A1 〕で
示される一般式(I)で示される重合体成分を少なくと
も含有するBブロックとから構成されるABブロック共
重合体から成り、且つAブロックにおいて、Bブロック
と結合する反対側の重合体主鎖の末端に上記樹脂
〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから選択される
少なくとも1種の極性基を結合してなる樹脂。
[In the formula (II), R 4 is -COO-, -O
CO -, - CH 2 OCO - , - CH 2 COO -, - O
-, - SO 2 -, - CO -, - CON (R 5) -, - S
O 2 N (R 5) - ( wherein R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), - CONHCOO -, - CONHCON
H- or -C 6 H 4 - represents a. b 1 and b 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COOR 6 (wherein R 6 through a -COOR 6 or hydrocarbons substituted Represents a good hydrocarbon group). Resin [B] having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the above resin [A 1 ]. An AB block copolymer composed of an A block containing at least one polymer component and a B block containing at least one polymer component represented by the general formula (I) represented by the resin [A 1 ]. In the A block, at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the above resin [A 1 ] is bonded to the end of the polymer main chain on the opposite side to which the B block is bonded. Resin.

【0018】即ち、本発明の結着樹脂は、上記マクロモ
ノマー(M1 )と上記一般式(I)に相当するモノマー
とを含有する共重合体の片末端に特定の極性基を結合し
て成る樹脂〔A1 〕及び/又は特定の極性基含有成分を
含有する上記マクロモノマー(M2 )と上記一般式
(I)に相当するモノマーとを含有する共重合体である
樹脂〔A2 〕(以下、マクロモノマー(M1 )及び(M
2 )をマクロモノマー(M)と総称し、樹脂〔A1 〕及
び〔A2 〕を樹脂〔A〕と総称することもある)と上記
特定の極性基含有成分を含有するAブロックと上記一般
式(I)で示される重合体成分を含有するBブロックと
のABブロック共重合体でAブロックにおいて、Bブロ
ックと結合する反対側の重合体主鎖の末端に、上記特定
の極性基を結合して成る中〜高分子量体の樹脂〔B〕と
から少なくとも構成される。
That is, the binder resin of the present invention has a specific polar group bonded to one end of a copolymer containing the macromonomer (M 1 ) and the monomer corresponding to the general formula (I). Resin [A 1 ] and / or resin [A 2 ] which is a copolymer containing the macromonomer (M 2 ) containing a specific polar group-containing component and the monomer corresponding to the general formula (I). (Hereinafter, macromonomer (M 1 ) and (M
2 ) is collectively referred to as macromonomer (M), and resins [A 1 ] and [A 2 ] may be collectively referred to as resin [A]), an A block containing the above specific polar group-containing component, and the above general In the AB block copolymer with the B block containing the polymer component represented by the formula (I), in the A block, the above-mentioned specific polar group is bonded to the end of the polymer main chain on the opposite side to which the B block is bonded. And a medium to high molecular weight resin [B].

【0019】種々検討の結果、前述の如く、公知の低分
子量の極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する
公知の技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂に
より、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下してしまうことのあることが判った。そして、これ
らの中〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、
分光増感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に
適切に相互作用させることも、予想以上に重要な原因で
あることが明らかになってきた。
As a result of various studies, as described above, in the known technique of using a known low molecular weight polar group-containing resin in combination with a medium to high molecular weight resin, depending on the medium to high molecular weight resin used in combination, It was found that the high-performance electrostatic properties of the resin may deteriorate. And, these medium to high molecular weight resins are photoconductors in the photoconductive layer,
It has become clear that the more appropriate interaction with the interaction between the spectral sensitizing dye and the resin having a low molecular weight is more important than expected.

【0020】かかる検討を重ねた結果、極性基を含有す
る低分子量の樹脂〔A〕と併用すべき中〜高分子量の樹
脂として、本発明に従う極性基を重合体主鎖の片末端及
びAブロック中に含有し、該Aブロックと極性基非含有
のBブロックとを有するABブロック共重合体を用いる
ことにより、前記課題が有効に解決されることが見出さ
れたものである。
As a result of repeated studies, a polar group according to the present invention was used as a medium to high molecular weight resin which should be used in combination with a low molecular weight resin [A] containing a polar group and one end of the polymer main chain and A block. It has been found that the above problems can be effectively solved by using an AB block copolymer contained therein and having the A block and a B block containing no polar group.

【0021】この事は、本発明の結着樹脂〔A〕及び
〔B〕の相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散さ
れ且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光
導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電
体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着して
トラップを補償していること等によるものと推定され
る。
This is because, due to the synergistic effect of the binder resins [A] and [B] of the present invention, the photoconductor particles are present in a state in which they are sufficiently dispersed and do not condense, and the spectral sensitizing dye is photoconductive. It is presumed that this is due to the fact that it is sufficiently adsorbed on the surface of the body particles and that the binder resin sufficiently adsorbs the extra active sites on the surface of the photoconductor to compensate the traps.

【0022】即ち、特定の極性基を含有する低分子量の
グラフト型共重合体の樹脂〔A〕は、光導電体粒子に充
分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分子鎖が非常
に短いことにより凝集を抑制すること、又、分光増感色
素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作用を有す
る。又、本発明の特定の極性基を重合体主鎖の片末端及
びAブロック中に含有し、且つ、それを含まないBブロ
ックとで構成された中〜高分子量のABブロック共重合
体を用いることで、静電特性が向上し且つ光導電層の機
械的強度が充分に保持された。これは、この樹脂〔B〕
の主鎖片末端に結合されている特定の極性基が選択的に
光導電体粒子に吸着し、且つAブロックの部分が極性の
状態を有し且つ光導電体粒子の表面及びその近傍に存在
することから、分光増感色素、更には化学増感剤等の光
導電体粒子への吸着を容易にする状態が形成されたこと
によると推定される。
That is, the low molecular weight graft type copolymer resin [A] containing a specific polar group is sufficiently adsorbed on the photoconductor particles to uniformly disperse the particles, and the polymer chain is The extremely short length has an important effect of suppressing aggregation and preventing adsorption of the spectral sensitizing dye. In addition, a medium to high molecular weight AB block copolymer containing the specific polar group of the present invention at one end of the polymer main chain and at the A block and not containing it is used. As a result, the electrostatic characteristics were improved and the mechanical strength of the photoconductive layer was sufficiently maintained. This is this resin [B]
The specific polar group bonded to one end of the main chain of the is selectively adsorbed on the photoconductor particles, and the A block portion has a polar state and is present on the surface of the photoconductor particles and in the vicinity thereof. Therefore, it is presumed that this is due to the formation of a state that facilitates the adsorption of the spectral sensitizing dye, further the chemical sensitizer, etc., to the photoconductor particles.

【0023】即ち、樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の末端に結
合した極性基及びAブロックとの相互効果で、光導電体
粒子の活性サイトを充分にトラップして、静電特性の安
定化を図るとともに、各種増感剤の光導電体表面への吸
着を疎外しない状態を形成することで高性能なレベルで
静電特性を維持できる様になったと考えられる。更に
は、樹脂〔B〕中の特定の極性基を含有しないBブロッ
クの部分が高分子鎖間でお互いに充分な絡み合い効果を
生じ、その結果、光導電層の機械的強度を向上したもの
と推定される。
That is, the interaction between the resin [A] and the polar group bonded to the terminal of the resin [B] and the A block sufficiently traps the active sites of the photoconductor particles to stabilize the electrostatic characteristics. It is considered that the electrostatic properties can be maintained at a high level by forming a state in which the adsorption of various sensitizers to the surface of the photoconductor is not excluded. Further, the B block portion not containing a specific polar group in the resin [B] has a sufficient entanglement effect between polymer chains, and as a result, the mechanical strength of the photoconductive layer is improved. Presumed.

【0024】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。
This effect was particularly remarkable with polymethine dyes or phthalocyanine pigments which are particularly effective as dyes for spectral sensitization from near infrared to infrared light. On the other hand, when the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as the photoconductor is used as a conventionally known direct printing plate, it exhibits excellent image pick-up property and remarkably good water retention.

【0025】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発
明の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が
充分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛
躍的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一
に分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する
結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂
化反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することに
よるものと考えられる。
That is, the photoconductor of the present invention, on which a copied image is formed through an electrophotographic process, is desensitized by chemically treating the non-image area with a conventionally known desensitizing treatment liquid to prepare a printing original plate. Shows excellent performance as an original plate for printing when it is printed by offset printing. When the photosensitizer of the present invention is desensitized, the non-image areas are sufficiently hydrophilized and the water retention is improved, so that the number of printed sheets is dramatically improved. This is because the zinc oxide particles are uniformly dispersed and the presence state of the binder resin present on the surface of the zinc oxide particles is appropriate and the desensitizing reaction with the desensitizing treatment liquid is not alienated and quickly. It is considered that this is due to effective progress.

【0026】更には本発明では、低分子量の樹脂
〔A1 〕及び樹脂〔A2 〕において、一般式(I)とし
て、下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で示され
る、2位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有
するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、
特定の置換基をもつメタクリレート成分を含有する樹脂
(以降この低分子量体をとくに樹脂〔AA〕と称する)
であることが好ましい。
Further, in the present invention, in the low molecular weight resin [A 1 ] and resin [A 2 ], the 2-position represented by the following general formula (Ia) and general formula (Ib) as the general formula (I): And / or containing a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring having a specific substituent at the 2- and 6-positions,
A resin containing a methacrylate component having a specific substituent (hereinafter, this low molecular weight compound is particularly referred to as resin [AA])
Is preferred.

【0027】[0027]

【化7】 [Chemical 7]

【0028】[0028]

【化8】 [Chemical 8]

【0029】〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA
2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化
水素基、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子)、シアノ基、−COR7 又は−COOR7 (ここで
7 は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表し、B
1 及びB2 はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合す
る単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕 上記特定の樹脂〔AA〕を用いると樹脂〔A〕の場合よ
りもより一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E
1/10)の向上が達成できる。
[In the formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A
2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, -COR 7 or -COOR 7 (wherein R 7 is a carbon number 1 Represents a hydrocarbon group of 10), B
1 and B 2 each represent a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms for connecting —COO— and the benzene ring. ] When the above-mentioned specific resin [AA] is used, the electrophotographic characteristics (particularly V 10 , DRR, E) are further improved as compared with the case of the resin [A].
1/10 ) improvement can be achieved.

【0030】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。
The reason for this is not clear, but one reason is that due to the effect of a planar benzene ring or naphthalene ring having a substituent at the ortho position, which is an ester component of methacrylate, the zinc oxide interface in the film is affected. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains in 1 is appropriately performed.

【0031】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔A〕について説明す
る。樹脂〔A〕は、一般式(I)で示される重合体成分
に相当する単量体と一官能性マクロモノマー(M)とを
少なくとも含有するグラフト型共重合体であり、更に特
定の極性基を該重合体の主鎖の片末端(樹脂〔A1 〕)
あるいはグラフト部分中(樹脂〔A2 〕)に各々含有す
ることを特徴とする重量平均分子量1×103 〜2×1
4 の低分子量の樹脂である。
The binder resin of the present invention will be described in detail below. First, the resin [A] of the present invention will be described. The resin [A] is a graft copolymer containing at least a monomer corresponding to the polymer component represented by the general formula (I) and a monofunctional macromonomer (M), and further has a specific polar group. At one end of the main chain of the polymer (resin [A 1 ])
Alternatively, each of them is contained in the graft portion (resin [A 2 ]), and has a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 1.
It is a low molecular weight resin of 0 4 .

【0032】樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、
安定した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れ
てしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film forming ability is deteriorated and sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, when the molecular weight is more than 2 × 10 4 , even in the case of the resin of the present invention, particularly in a photoreceptor using a near infrared to infrared spectral sensitizing dye, high temperature / high humidity, low temperature / low humidity under severe conditions. Fluctuations in dark decay retention rate and light sensitivity at
The effect of the present invention that a stable copy image is obtained is diminished.

【0033】樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−
30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜90℃で
ある。樹脂〔A〕における一般式(I)の繰り返し単位
に相当する重合体成分の存在割合は樹脂〔A〕中30重
量%以上、好ましくは50重量%以上であり、極性基を
含有する成分の総量は、樹脂〔A〕中0.5〜15重量
%、好ましくは1〜10重量%である。
The glass transition point of the resin [A] is preferably −
It is 30 ° C to 110 ° C, and more preferably -20 ° C to 90 ° C. The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more in the resin [A], and the total amount of the components containing a polar group. Is 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight in the resin [A].

【0034】樹脂〔A〕における極性基含有量が0.5
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有量が15重
量%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大する。
The content of polar groups in the resin [A] is 0.5
If it is less than wt%, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. On the other hand, when the content of the polar group is more than 15% by weight, dispersibility of the low molecular weight compound decreases, and scumming increases when used as an offset master.

【0035】樹脂〔A〕におけるマクロモノマー(M)
の含有量は、樹脂〔A〕中1〜70重量%、好ましくは
5〜50重量%である。マクロモノマー(M)に相当す
る共重合成分が1重量%未満では、グラフト型共重合体
の特徴が失われ、静電特性(特に暗中電荷保持率、感
度)の低下が生じ、またオフセット印刷用原版として用
いたときに保水性も低下する。該含有量が70重量%を
超えると、グラフト型共重合体の共重合性が充分に進行
しにくくなり、その結果として上記のような静電特性及
び保水性の低下が生じる。
Macromonomer (M) in resin [A]
Is 1 to 70% by weight, preferably 5 to 50% by weight in the resin [A]. When the amount of the copolymerization component corresponding to the macromonomer (M) is less than 1% by weight, the characteristics of the graft type copolymer are lost and the electrostatic properties (particularly the charge retention ratio in the dark and the sensitivity) are deteriorated, and the offset printing is performed. When used as an original plate, water retention is also reduced. If the content exceeds 70% by weight, the copolymerizability of the graft-type copolymer will not sufficiently proceed, and as a result, the above-mentioned electrostatic properties and water retention will be deteriorated.

【0036】次に樹脂〔A〕の共重合体中に30重量%
以上含有される、前記一般式(I)で示される繰り返し
単位を更に説明する。a1 及びa2 は各々水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シアノ基又
は炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等)等を表す。
Next, 30% by weight in the copolymer of resin [A]
The repeating unit represented by the general formula (I) contained above will be further described. a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) and the like. ..

【0037】R3 は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。
R 3 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. is there.

【0038】更に、R3 は好ましくは炭素数1〜18の
置換されていてもよい炭化水素基を表わす。置換基とし
ては樹脂〔A〕における上記該極性基含有の重合体成分
に含有される前記極性基以外の置換基であればいずれで
もよく、例えば、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩
素原子、臭素原子等)、−OR12、−COOR12、−O
COR12(R12は炭素数1〜22のアルキル基を表わ
し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基等である)等の置換基
が挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数1
〜18の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−
ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモ
プロピル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよいア
ルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、
2−ブテニル基、2−ぺンテニル基、3−メチル−2−
ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキセニル基、
2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基
等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチル
ベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8
の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル
基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺンチル
エチル基等)又は炭素数6〜12の置換されてもよい芳
香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、
オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、
デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、ア
セチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェ
ニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)等があげら
れる。
Further, R 3 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polar group-containing polymer component in the resin [A], and examples thereof include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom). Etc.), -OR 12 , -COOR 12 , -O.
COR 12 (R 12 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Hexadecyl group, octadecyl group, etc.) and the like. The preferred hydrocarbon group has 1 carbon atom.
To 18 optionally substituted alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group) , 2-
A bromoethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group, and the like, an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1 A propenyl group,
2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-
Pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group,
2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms and optionally substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2- Naphthylethyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5-8
An optionally substituted alicyclic group (for example, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group). , Naphthyl group, tolyl group,
Xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group,
Octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group,
Decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyl Roylamidophenyl group, etc.) and the like.

【0039】R3 の示す炭化水素基において、R3 が脂
肪族基の場合には好ましくは炭素数1〜5の炭化水素基
を式(I)で表わされる成分中の60重量%以上含有す
ることが好ましい。
[0039] In the hydrocarbon group represented by R 3, preferably when R 3 is an aliphatic group containing more than 60 wt% in component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) Preferably.

【0040】このような置換基R3 を有する成分である
一般式(I)の繰り返し単位において、より好ましくは
前記一般式(Ia)及び/又は一般式(Ib)で示され
る繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。
In the repeating unit of the general formula (I) which is a component having such a substituent R 3 , a polymer of the repeating unit represented by the general formula (Ia) and / or the general formula (Ib) is more preferable. Ingredients are included.

【0041】式(Ia)において、好ましいA1 及びA
2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9のアラ
ルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基)、並びに−COR7 及び−COOR
7 (好ましいR7 としては上記の炭素数1〜10の好ま
しい炭化水素基として記載したものを挙げることができ
る)を挙げることができる。
In formula (Ia), preferred A 1 and A
As 2 , each independently of one another, a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group) , Chloromethylbenzyl group) and aryl groups (eg phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and —COR 7 and —COOR
7 (preferable R 7 includes those described as the above-mentioned preferable hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).

【0042】式(Ia)及び(Ib)において、B1
びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合
又は−(CH2 a −(aは1〜3の整数を表す)、−
CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2
O)b −(bは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基を
挙げることができる。
In the formulas (Ia) and (Ib), B 1 and B 2 are each a single bond connecting --COO-- and a benzene ring or-(CH 2 ) a- (a represents an integer of 1 to 3). ,-
CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (CH 2
O) b - (b represents an integer of 1 or 2), - CH 2 CH
A connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as 2 O- and the like, more preferably, a single bond or a connecting group having 1 to 2 connecting atoms can be mentioned.

【0043】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の(a−1)〜(a−20)
において、cは1〜4の整数、dは0又は1〜3の整
数、eは1〜3の整数、R8 はいずれも−CcH2c+1
は−(CH2 d −C6 5 (ただし、c、dは上記と
同じ)を表し、D1 及びD2 は同じでも異なってもよ
く、水素原子、−Cl、−Br、−Iのいずれかを表
す。
The formula (I) used in the resin [A] of the present invention is
Specific examples of the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this. In addition, the following (a-1) to (a-20)
In the formula, c is an integer of 1 to 4, d is an integer of 0 or 1 to 3, e is an integer of 1 to 3, and R 8 is -CcH 2c + 1 or-(CH 2 ) d -C 6 H 5. (However, c and d are the same as the above), D 1 and D 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, —Cl, —Br, or —I.

【0044】[0044]

【化9】 [Chemical 9]

【0045】[0045]

【化10】 [Chemical 10]

【0046】[0046]

【化11】 [Chemical 11]

【0047】次に低分子量の樹脂〔A〕が含有する極性
基について説明する。該極性基は、−PO3 2 、−S
3 H、−COOH、−P(=O)(OH)R1 −及び
環状酸無水物含有基から少なくとも1種選ばれるもので
あることが好ましい。
Next, the polar group contained in the low molecular weight resin [A] will be described. Polar group, -PO 3 H 2, -S
At least one selected from O 3 H, —COOH, —P (═O) (OH) R 1 — and cyclic acid anhydride-containing groups is preferred.

【0048】ここで、−P(=O)(OH)R1 は、下
記化12で表わされる基を示し、ここにおいて該R1
炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素基を表す)
を表し、具体的にはR1 は炭素数1〜6の置換されてい
てもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロムエ
チル基、2−フロロエチル基、3−クロロプロピル基、
3−メトキシプロピル基、2−メトキシブチル基、ベン
ジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、2−エトキシエチル基)等であ
り、R2 はR1 と同一の内容を表す。
Here, -P (= O) (OH) R 1 represents a group represented by the following chemical formula 12, wherein R 1 is a hydrocarbon group or an -OR 2 group (R 2 is a hydrocarbon group. Represents)
Specifically, R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2 -Fluoroethyl group, 3-chloropropyl group,
3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group) and the like, and R 2 represents the same content as R 1. ..

【0049】[0049]

【化12】 [Chemical formula 12]

【0050】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. Things can be mentioned.

【0051】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、
2,3−ビシクロ〔2.2.2〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include:
Succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2- Dicarboxylic acid anhydride ring,
2,3-bicyclo [2.2.2] octadicarboxylic acid anhydride ring and the like can be mentioned, and these rings are, for example, chlorine atom,
A halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a hexyl group may be substituted.

【0052】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. These rings are
For example, chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group,
Hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, methoxy group,
Ethoxy group etc.) may be substituted.

【0053】樹脂〔A1 〕の場合には、該極性基は重合
体主鎖の末端に結合されて含有される。該極性基の含有
量は、特に限定的ではないが、0.5〜15重量%であ
ることが好ましい。該極性基は重合体主鎖の末端に直接
結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。か
かる連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、
例えば具体的に挙げるとすれば、−C(R16)(R17
−〔ここでR16、R17は同じでも異なっていてもよく、
各々水素原子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子
等)、OH基、シアノ基、アルキル基(メチル基、エチ
ル基、2−クロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、アラルキル基
(ベンジル基、フェネチル基等)、フェニル基等を表
す〕、−CH(R16)−CH(R17)−、−C6
10−、−C6 4 −、−O−、−S−、−N(R18)−
〔ここでR18は水素原子又は炭化水素基{炭化水素基と
して具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシ
エチル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、
ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フェニ
ル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ブチルフェニル基等)が挙げられる}を表す〕、−
CO−、−COO−、−OCO−、−CON(R18
−、−SO2 N(R18)−、−SO2 −、−NHCON
H−、−NHCOO−、−NHSO2 −、−CONHC
OO−、−CONHCONH−、複素環(ヘテロ原子と
してO、S、N等を少なくとも一種含有する5もしくは
6員環又はこれらの縮合環であればいずれでもよく、例
えばチオフェン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾー
ル環、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる)又
は−Si (R19)(R20)−〔ここでR19、R20は同じ
でも異なっていてもよく、各々炭化水素基又は−OR21
(ここでR21は炭化水素基を表す)を表す。これらの炭
化水素基としては、R18で挙げたものと同様のものを挙
げることができる〕等の結合基の単独又はこれらの2以
上の組合せにより構成された連結基等が挙げられる。
In the case of the resin [A 1 ], the polar group is contained by being bonded to the end of the polymer main chain. The content of the polar group is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 15% by weight. The polar group may be directly bonded to the end of the polymer main chain or may be bonded via a linking group. The linking group may be any bonding group,
For example, specifically, -C (R 16 ) (R 17 ).
-[Wherein R 16 and R 17 may be the same or different,
Hydrogen atom, halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.), OH group, cyano group, alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, respectively)
Propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group, etc.], —CH (R 16 ) —CH (R 17 ) —, —C 6 H
10 -, - C 6 H 4 -, - O -, - S -, - N (R 18) -
[Here, R 18 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, Decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group,
Benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.)}]-
CO -, - COO -, - OCO -, - CON (R 18)
-, - SO 2 N (R 18) -, - SO 2 -, - NHCON
H -, - NHCOO -, - NHSO 2 -, - CONHC
OO-, -CONHCONH-, heterocycle (a 5- or 6-membered ring containing at least one kind of O, S, N etc. as a hetero atom, or a condensed ring thereof may be used, and examples thereof include a thiophene ring, a pyridine ring, and a furan ring. , an imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring and the like), or -S i (R 19) (R 20) - [wherein R 19, R 20 may be the same or different, each hydrocarbon radical or - OR 21
(Wherein R 21 represents a hydrocarbon group). Examples of these hydrocarbon groups include the same groups as those listed for R 18 ] and the like, and a linking group composed of a single bonding group or a combination of two or more thereof.

【0054】一方、樹脂〔A2 〕の場合には、上記極性
基は一官能性マクロモノマー(M2)中における重合体
成分中に含有される。樹脂〔A2 〕における極性基を含
有する共重合成分は、例えば一般式(I)〔一般式(I
a)、(Ib)も含む〕で示される繰り返し単位に相当
する単量体と共重合し得る該極性基を含有するビニル系
化合物であればいずれでもよく、例えば、高分子学会編
「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(1
986年刊)等に記載されている。具体的には、アクリ
ル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセ
トキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミ
ノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロ
ロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−ク
ロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、
α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、
イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロ
トン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペン
テン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン
酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オ
クテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、
マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビ
ニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホ
スホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半
エステル誘導体及びこれらのカルボン又はスルホン酸の
エステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を
含有する化合物等が挙げられる。
On the other hand, in the case of the resin [A 2 ], the polar group is contained in the polymer component in the monofunctional macromonomer (M 2 ). The copolymerizable component containing a polar group in the resin [A 2 ] is, for example, represented by the general formula (I) [the general formula (I
a) and (Ib)], any vinyl-based compound containing the polar group that can be copolymerized with the monomer corresponding to the repeating unit represented by the formula: Data Handbook [Basic] "Baifukan (1
986) and the like. Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α -Fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form,
α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid,
Itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (for example, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters,
Maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, half-ester derivatives of vinyl group or allyl group of dicarboxylic acids and ester derivatives and amide derivatives of these carboxylic or sulfonic acids Examples thereof include compounds having the polar group in the substituent.

【0055】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b3 はH又はCH3 を示し、b4
H、CH3 又はCHCOOCH3 を示し、R10は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、R11は炭素数1〜6のアル
キル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、fは1〜3
の整数を示し、gは2〜11の整数を示し、hは1〜1
1の整数を示し、iは2〜4の整数を示し、jは2〜1
0の整数を示す。
The polar group-containing copolymerization component will be exemplified below. Here, b 3 represents H or CH 3, b 4 is H, CH 3 or CHCOOCH 3, R 10 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 11 is alkyl of 1 to 6 carbon atoms Group, benzyl group or phenyl group, and f is 1 to 3
Is an integer, g is an integer of 2 to 11, and h is 1 to 1.
1 represents an integer, i represents an integer of 2 to 4, and j represents 2-1.
Indicates an integer of 0.

【0056】[0056]

【化13】 [Chemical 13]

【0057】[0057]

【化14】 [Chemical 14]

【0058】[0058]

【化15】 [Chemical 15]

【0059】[0059]

【化16】 [Chemical 16]

【0060】[0060]

【化17】 [Chemical 17]

【0061】[0061]

【化18】 [Chemical 18]

【0062】[0062]

【化19】 [Chemical 19]

【0063】また、本発明ではマクロモノマー中に極性
基を含有する樹脂〔A2 〕が、更に上記極性基のなかの
いずれか少なくとも一種を重合体主鎖の末端に結合して
いてもよい(かかる樹脂を特に樹脂〔A12〕と呼ぶこと
もある)。
In the present invention, the resin [A 2 ] containing a polar group in the macromonomer may further have at least one of the polar groups bonded to the end of the polymer main chain ( Such a resin is sometimes called a resin [A 12 ]).

【0064】樹脂〔A12〕において、マクロモノマーに
おける共重合成分として含有される極性基と、重合体主
鎖の片末端に結合される極性基とは同じでも異なってい
てもよく、またその存在割合は、本発明の光導電層を構
成する他の結着樹脂、分光増感色素、化学増感剤又はそ
れ以外の添加剤の種類、量によって異なり、その割合は
任意に調節することが好ましい。重要なことは、両者の
極性基の総量が0.5〜15重量%の範囲内で使用され
ることである。
In the resin [A 12 ], the polar group contained as a copolymerization component in the macromonomer and the polar group bonded to one end of the polymer main chain may be the same or different, and their presence The ratio varies depending on the kind and amount of other binder resin, spectral sensitizing dye, chemical sensitizer or other additive constituting the photoconductive layer of the present invention, and the ratio is preferably adjusted arbitrarily. .. What is important is that the total amount of both polar groups is used within the range of 0.5 to 15% by weight.

【0065】更に、発明のグラフト型共重合樹脂の共重
合成分として供せられる、一官能性マクロモノマー
(M)について詳述する。一官能性マクロモノマー(M
1 )は、一般式(II)で示される重合性二重結合基
を、前記一般式(I)〔一般式(Ia)及び(Ib)も
含む〕で示される重合体成分のうちの少なくとも一種を
含有する重合体主鎖の一方の末端にのみ結合してなる、
重量平均分子量2×104 以下のものであり、マクロモ
ノマー(M2)は、上記マクロモノマー(M1 )の繰り
返し単位である重合体成分として更に前記したと同様の
特定の極性基を含有する重合体成分のうちの少なくとも
一種を含有するものである。
Further, the monofunctional macromonomer (M) to be used as the copolymerization component of the graft type copolymer resin of the present invention will be described in detail. Monofunctional macromonomer (M
1 ) is at least one of the polymer components represented by the above general formula (I) [also includes the general formulas (Ia) and (Ib)], the polymerizable double bond group represented by the general formula (II). Formed by bonding only to one end of the polymer main chain containing
The weight average molecular weight is 2 × 10 4 or less, and the macromonomer (M 2 ) further contains the same specific polar group as described above as a polymer component which is a repeating unit of the macromonomer (M 1 ). It contains at least one of the polymer components.

【0066】[0066]

【化20】 [Chemical 20]

【0067】〔式(II)中、R4 は−COO−、−O
CO−、−CH2 OCO−、−CH 2 COO−、−O
−、−SO2 −、−CO−、−CON(R5 )−、−S
2 N(R5 )−(ここでR5 は水素原子又は炭化水素
基を表わす)、−CONHCOO−、−CONHCON
H−又は−C6 4 −を表わす。
[In the formula (II), RFourIs -COO-, -O
CO-, -CH2OCO-, -CH 2COO-, -O
-, -SO2-, -CO-, -CON (RFive)-, -S
O2N (RFive)-(Where RFiveIs a hydrogen atom or hydrocarbon
Represents a group), -CONHCOO-, -CONHCON
H- or -C6HFourRepresents-.

【0068】b1 及びb2 は、互いに同じでも異なって
もよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化
水素基、−COOR6 又は炭化水素を介した−COOR
6 (ここでR6 は置換されてもよい炭化水素基を表す)
を表す。〕 マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104
越えると、式(I)に相当する単量体との共重合性が低
下するため好ましくない。他方重量平均分子量が小さす
ぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなる
ため、1×103 以上であることが好ましい。
B 1 and b 2 may be the same or different from each other and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, —COOR 6 or —COOR 6 via a hydrocarbon.
6 (wherein R 6 represents an optionally substituted hydrocarbon group)
Represents. When the weight average molecular weight of the macromonomer (M) exceeds 2 × 10 4 , the copolymerizability with the monomer corresponding to the formula (I) decreases, which is not preferable. On the other hand, when the weight average molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic characteristics of the photosensitive layer becomes small, so that it is preferably 1 × 10 3 or more.

【0069】該重合性二重結合基を片末端に結合してな
る一官能性マクロモノマー(M)の繰り返し単位を構成
する重合体成分として、一般式(I)、(Ia)及び/
又は(Ib)で表される成分が挙げられ、その含有量は
マクロモノマー中30重量%以上、好ましくは50重量
%以上である。
As the polymer component constituting the repeating unit of the monofunctional macromonomer (M) having the polymerizable double bond group bonded to one end, one of the general formulas (I), (Ia) and / or
Alternatively, the component represented by (Ib) may be mentioned, and the content thereof is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more in the macromonomer.

【0070】これらの一般式(I)、(Ia)及び(I
b)で表される重合体成分の具体的記載は前記したマク
ロモノマーと共重合し得る共重合成分として記載した通
りであり、具体例としても、前記と同様の物が挙げられ
る。樹脂〔A〕において、樹脂〔A〕の共重合体成分と
して含まれる式(I)の成分と、マクロモノマー(M)
中の重合成分として含まれる式(I)の成分とは同じで
も異なっていてもよい。
These general formulas (I), (Ia) and (I
The specific description of the polymer component represented by b) is as described for the above-mentioned copolymerizable component that can be copolymerized with the macromonomer, and specific examples thereof include the same ones as described above. In the resin [A], the component of the formula (I) contained as a copolymer component of the resin [A] and the macromonomer (M)
It may be the same as or different from the component of formula (I) contained as a polymerization component therein.

【0071】更にマクロモノマー(M)中の重合体成分
として上記以外の他の重合体成分を含有していてもよ
く、例えば重合し得る他の繰り返し単位に相当する単量
体として、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン及びそ
の誘導体(例えばビニルトルエン、クロロスチレン、ブ
ロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N,N−ジ
メチルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例
えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニル
ジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
Further, as the polymer component in the macromonomer (M), a polymer component other than the above may be contained. For example, as the monomer corresponding to the other repeating unit capable of being polymerized, acrylonitrile, methacrylic acid, etc. Ronitrile, acrylamides, methacrylamides, styrene and derivatives thereof (eg vinyltoluene, chlorostyrene, bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, etc.), heterocyclic vinyls (eg vinylpyridine, vinyl) Imidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.) and the like.

【0072】これら他の単量体が含有される場合には、
マクロモノマー(M)の全重合体成分中1〜30重量%
であることが好ましい。また、マクロモノマー(M2
において更に含有される特定の極性基含有成分は、マク
ロモノマー中好ましくは1〜50重量%、より好ましく
は3〜30重量%である。
When these other monomers are contained,
1 to 30% by weight in all polymer components of macromonomer (M)
Is preferred. In addition, macromonomer (M 2 )
In the macromonomer, the specific polar group-containing component further contained in 1 is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 3 to 30% by weight.

【0073】一方、一般式(II)において、炭化水素
基の具体的内容は、一般式(I)におけるR3 で記載し
た炭化水素基の内容と同様である。R4 が−C6 4
を表わす場合、ベンゼン環は置換基を有してもよい。置
換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原
子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
On the other hand, in the general formula (II), the specific content of the hydrocarbon group is the same as the content of the hydrocarbon group described for R 3 in the general formula (I). R 4 is -C 6 H 4 -
When represented by, the benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, Ethoxy group,
Propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0074】b1 及びb2 は互いに同じでも異なってい
てもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば
塩素原子、臭素原子)、シアノ基、炭素数1〜4のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)、−COOR6 又は炭化水素を介した−COO
6 (R6 は好ましくは炭素数1〜18のアルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリール基
を表し、これらは置換されていてもよく、具体的には上
記R3 にて説明したと同様のものを挙げることができ
る。
B 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg a methyl group, (Ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), -COOR 6 or -COO via hydrocarbon
R 6 (R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms,
It represents an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, and specific examples thereof include those described for R 3 .

【0075】上記炭化水素を介した−COOR6 基にお
ける炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式
(II)において、R4 は−COO−、−OCO−、−
CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−CON
H−、−SO2 NH−又は−C6 4 −を表し、b1
びb2 は互いに同じでも異なっていてもよく、各々水素
原子、メチル基、−COOR6 又は−CH2 COOR6
〔R6 はより好ましくは炭素数1〜6のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等)を表す〕を表す。更に好ましくはb1 及びb
2 においていずれか一方が水素原子を表す。
Examples of the hydrocarbon group in the —COOR 6 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like. More preferably, in the general formula (II), R 4 is -COO -, - OCO -, -
CH 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CON
H -, - SO 2 NH- or -C 6 H 4 - represents, b 1 and b 2 may be the same as or different from each other, each represents a hydrogen atom, a methyl group, -COOR 6 or -CH 2 COOR 6
[R 6 more preferably represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.)]. More preferably b 1 and b
In 2 , one of them represents a hydrogen atom.

【0076】本発明に供されるマクロモノマーは、上記
の如き一般式(I)、(Ia)及び/又は(Ib)で示
される繰り返し単位、及びマクロモノマー(M2 )の場
合には更に特定の極性基を含有する繰り返し単位から少
なくともなるランダムな重合体主鎖の一方の末端にの
み、一般式(II)で示される重合性二重結合基が直接
結合するか或いは任意の連結基で結合された化学構造を
有するものである。
The macromonomer used in the present invention is further specified in the case of the repeating unit represented by the general formula (I), (Ia) and / or (Ib) as described above, and the macromonomer (M 2 ). The polymerizable double bond group represented by the general formula (II) is bonded directly to only one terminal of the main chain of the random polymer including at least repeating units containing a polar group of It has a defined chemical structure.

【0077】式(II)成分と重合体成分部分とを連結
する連結基としては、炭素−炭素結合(単結合又は二重
結合)、炭素−ヘテロ原子結合及びヘテロ原子−ヘテロ
原子結合(上記においてヘテロ原子としては、例えば酸
素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等)の原子
団の任意の組合せで構成されるものである。
The linking group for linking the component of the formula (II) and the polymer component part includes a carbon-carbon bond (single bond or double bond), a carbon-heteroatom bond and a heteroatom-heteroatom bond (in the above-mentioned case). The hetero atom is composed of an arbitrary combination of atomic groups such as oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, silicon atom and the like.

【0078】更に具体的な連結基としては、前記樹脂
〔A1 〕において重合体主鎖と極性基とを連結する連結
基として記載したものと同様のものを挙げることがで
き、これらの連結基のうちの単独又は二以上の連結基の
組合せである。
Specific examples of the linking group include the same as those described as the linking group for linking the polymer main chain and the polar group in the resin [A 1 ]. Or a combination of two or more linking groups.

【0079】本発明に供されるマクロモノマー(M)
は、従来公知の合成方法によって製造することができ
る。具体的には、分子中にカルボキシル基、カルボキシ
ハライド基、ヒドロキシル基、アミノ基、ハロゲン原
子、エポキシ基等の反応性基を含有する重合開始剤及び
/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合して得られる末
端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬を反応させて
マクロマーにするラジカル重合法による方法等により合
成される。
Macromonomer (M) used in the present invention
Can be produced by a conventionally known synthesis method. Specifically, radical polymerization using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a reactive group such as a carboxyl group, a carboxyhalide group, a hydroxyl group, an amino group, a halogen atom and an epoxy group in a molecule. It is synthesized by a method such as a radical polymerization method in which the obtained oligomer having a terminal reactive group bond is reacted with various reagents to form a macromer.

【0080】具体的には、P.Dreyfuss an
d R.P.Quirk、Encycl.Polym.
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Rempp、E.Franta、Adu.Polym.
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38、56(1987)、山下雄也、高分子、31、9
88(1982)、小林四郎、高分子、30、伊藤浩
一、高分子加工、35、262(1986)、東貴四
郎、津田隆、機能材料、1987、No.10、5等の
総説及びそれに引例の文献、特許等に記載の方法にした
がって合成することができる。
Specifically, P. Dreyfuss an
d R. P. Quirk, Encycl. Polym.
Sci. Eng. 7, 551 (1987), p. F.
Rempp, E .; Franta, Adu. Polym.
Sci, 58, 1 (1984), Yusuke Kawakami, Chemical Industry,
38, 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31, 9
88 (1982), Shiro Kobayashi, High Polymer, 30, Koichi Ito, Polymer Processing, 35,262 (1986), Kishiro Azuma, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987, No. It can be synthesized according to the methods described in the review articles of 10, 5 and the like and references therein, patents and the like.

【0081】但し、本発明のマクロモノマー(M2
は、その繰り返し単位の成分として前記極性基を含有す
ることから、合成上、例えば次の配慮をして合成され
る。その一つの方法としては、例えば反応式(A)で示
される様に、該極性基を保護した官能基の形で含有する
単量体を用いて上記の方法でラジカル重合及び末端反応
性基を導入するものである。
However, the macromonomer (M 2 ) of the present invention
Contains the above polar group as a component of its repeating unit, and is thus synthesized in consideration of the following points. As one of the methods, for example, as shown in the reaction formula (A), a radical polymerization and a terminal reactive group are carried out by the above method using a monomer containing a functional group in which the polar group is protected. It is to be introduced.

【0082】[0082]

【化21】 [Chemical 21]

【0083】本発明のマクロモノマー(M2 )中にラン
ダムに含有される該極性基の保護反応及び脱保護反応
(例えば加水分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応
等)については、従来公知の方法により行うことができ
る。具体的には、J.F.W.McOmie、「Pro
tective Groups in Organic
Chemistry」Plenum Press(19
73)、T.W.Greene、「Protectiv
e Groups in Organic Synth
esis」、John Wiley and Sous
(1981)、小田良平「高分子ファインケミカル」講
談社(1976)、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分
子」講談社(1977)、G.Berner eta
l、J.Radiation Curing、198
6、No.10、p10、特開昭62−212669
号、同62−286064号、同62−210475
号、同62−195684号、同62−258476
号、同63−260439号、特願昭62−22052
0号、同62−226692号等に記載の方法を用いて
合成することができる。
The protection reaction and deprotection reaction (for example, hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction, etc.) of the polar group randomly contained in the macromonomer (M 2 ) of the present invention are conventionally known. It can be performed by the method. Specifically, J. F. W. McOmie, "Pro
tective Groups in Organic
Chemistry "Plenum Press (19
73), T.S. W. Greene, "Protectiv
e Groups in Organic Synth
sis ", John Wiley and Sous
(1981), Ryohei Oda "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (1976), Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita "Reactive Polymer" Kodansha (1977), G.I. Berner eta
1, J.I. Radiation Curing, 198
6, No. 10, p10, JP-A-62-212669
No. 62-286064, No. 62-210475.
No. 62-195648, 62-258476.
No. 63-260439, Japanese Patent Application No. 62-22052
It can be synthesized using the method described in No. 0, No. 62-226692 and the like.

【0084】他の一つの方法としては、例えば反応式
(B)で示される様に、前記のようにしてオリゴマーを
合成した後、オリゴマーの片末端に結合した特定の反応
性基とオリゴマー中に含有される該極性基の反応性の差
を利用して、特定の反応性基とのみ反応する重合性二重
結合基含有の試薬と反応させることで合成する方法であ
る。
As another method, for example, as shown in the reaction formula (B), after synthesizing an oligomer as described above, a specific reactive group bonded to one end of the oligomer and It is a method of synthesizing by reacting with a reagent containing a polymerizable double bond group, which reacts only with a specific reactive group, by utilizing the difference in reactivity of the contained polar groups.

【0085】[0085]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0086】反応式(B)に示したように、各特定の官
能基の組合せについての具体例を下記表−1に示す。し
かし、本発明はこれらに限定されるものではなく、重要
なことは通常の有機化学反応における反応の選択性を利
用することで、オリゴマー中の該極性基を保護すること
なくマクロモノマー化が達成されればよいものである。
As shown in the reaction formula (B), specific examples of combinations of specific functional groups are shown in Table 1 below. However, the present invention is not limited to these, and importantly, by utilizing the selectivity of the reaction in a normal organic chemical reaction, macromonomerization can be achieved without protecting the polar group in the oligomer. It should be done.

【0087】[0087]

【表1】 [Table 1]

【0088】用いることのできる連鎖移動剤としては、
例えば該極性基又は後に該極性基に誘導しうる置換基含
有のメルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオ
リンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン
酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪
酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2
−メルカプトニコチン酸、3−〔N−(2−メルカプト
エチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2
−メルカプトエチル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3
−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプト
エタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン
酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプト
エタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオー
ル、1−メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプ
ト−2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メル
カプトエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2
−メルカプト−3−ピリジノール等)又はこれらのメル
カプト化合物の酸化体であるジスルフィド化合物、ある
いは上記極性基又は置換基含有のヨード化アルキル化合
物(例えばヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨー
ドエタノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨー
ドプロパンスルホン酸等)等が挙げられる。好ましくは
メルカプト化合物である。
As chain transfer agents that can be used,
For example, the polar group or a substituent-containing mercapto compound that can be induced to the polar group later (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2
-Mercaptonicotinic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2
-Mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3
-Mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol , 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2
-Mercapto-3-pyridinol, etc.) or a disulfide compound that is an oxidized form of these mercapto compounds, or an iodinated alkyl compound having the polar group or the substituent (for example, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2- Iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.) and the like. Preferred are mercapto compounds.

【0089】用いることのできる特定の反応性基含有の
重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(2
−シアノプロパノール)、2,2’−アゾビス(2−シ
アノペンタノール)、4,4’−アゾビス(4−シアノ
吉草酸)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸クロ
ライド)、2,2’−アゾビス〔2−(5−メチル−2
−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2’−ア
ゾビス〔2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジ
ン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス{2−
〔1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−
2−イル〕プロパン}、2,2’−アゾビス〔2−メチ
ル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド〕
等又はこれらの誘導体等が挙げられる。
Specific examples of the reactive group-containing polymerization initiator that can be used include 2,2'-azobis (2
-Cyanopropanol), 2,2'-azobis (2-cyanopentanol), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid chloride), 2, 2'-azobis [2- (5-methyl-2
-Imidazolin-2-yl) propane], 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane], 2,2'-azobis {2-
[1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazoline-
2-yl] propane}, 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide]
Etc. or their derivatives and the like.

【0090】これらの連鎖移動剤又は重合開始剤は、各
々全単量体に対して好ましくは0.1〜15重量%、よ
り好ましくは0.5〜10重量%である。
The amount of each of these chain transfer agents or polymerization initiators is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on all monomers.

【0091】本発明のマクロモノマー(M)は、具体的
に下記の化合物を例として挙げることができる。但し、
マクロモノマー(M1 )は、以下の具体例に極性基含有
成分を含まないものとして同様のものが挙げられる。
Specific examples of the macromonomer (M) of the present invention include the following compounds. However,
As the macromonomer (M 1 ), the same as the following specific examples may be mentioned as those containing no polar group-containing component.

【0092】また、以下の各例において、R26は−H又
は−CH3 を示し、R27、R28又はR29は各々−H、−
CH3 又は−CH2 COOCH3 を示し、R30は−Ck
2k+1(kは1〜18の整数を示す)、−CH2 6
5 、−C6 5 (R31)(R32)、(R31、R32は各々−
H、−Cl、−Br、−CH3 又は−COOCH3 を示
す)、−C107 又は−CH2 −C107 を示し、R33
は−CN、−OCOCH3 、−CONH2 又は−C6
5 を示し、R34は−Cl、−Br、−CN又は−OCH
3 を示し、mは2〜18の整数を示し、nは2〜12の
整数を示し、pは2〜4の整数を示す。
In each of the following examples, R 26 represents —H or —CH 3 , and R 27 , R 28 or R 29 represent —H or —, respectively.
CH 3 or indicates -CH 2 COOCH 3, R 30 is -C k
H 2k + 1 (k represents an integer of 1 to 18), —CH 2 C 6 H
5, -C 6 H 5 (R 31) (R 32), (R 31, R 32 are each -
Shows H, -Cl, -Br, and -CH 3 or -COOCH 3), - C 10 H 7 or indicates -CH 2 -C 10 H 7, R 33
-CN is, -OCOCH 3, -CONH 2 or -C 6 H
5 shows a, R 34 is -Cl, -Br, -CN or -OCH
3 , m is an integer of 2 to 18, n is an integer of 2 to 12, and p is an integer of 2 to 4.

【0093】[0093]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0094】[0094]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0095】[0095]

【化25】 [Chemical 25]

【0096】[0096]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0097】[0097]

【化27】 [Chemical 27]

【0098】[0098]

【化28】 [Chemical 28]

【0099】また、本発明の樹脂〔A〕は、前記した一
般式(I)及びマクロモノマー(M)に相当する単量体
とともにこれら以外の単量体を更なる共重合成分として
含有してもよい。
Further, the resin [A] of the present invention contains a monomer corresponding to the above-mentioned general formula (I) and macromonomer (M) together with a monomer other than these as a further copolymerization component. Good.

【0100】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリ
ン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙
げられる。但し、これら他の単量体は、樹脂〔A〕の共
重合体中20重量%を越えないことが好ましい。
Examples of such other copolymerization components include, for example, methacrylic acid esters, acrylic acid esters and crotonic acid esters having a substituent other than those described in the general formula (I), and α-olefins. , Vinyl carboxylates or allyl esters (for example, as carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (for example, Dimethyl ester, diethyl ester, etc., acrylamides, methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinyl chloride) Naphthalene), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketones containing compounds, heterocyclic vinyl compounds (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.) and the like. However, it is preferable that these other monomers do not exceed 20% by weight in the copolymer of the resin [A].

【0101】本発明に供される樹脂〔A〕において、重
合体主鎖の末端に上記極性基を結合してなる樹脂
〔A1 〕又は樹脂〔A12〕を合成するには、少なくとも
前記したマクロモノマー(M)と一般式(I)に相当す
る単量体との重合反応時に、該極性基又はこれに誘導で
きる特定の反応基を分子中に含有した重合開始剤又は連
鎖移動剤を併用することで達成される。
In the resin [A] used in the present invention, at least the above-mentioned procedure is required to synthesize the resin [A 1 ] or the resin [A 12 ] in which the polar group is bonded to the terminal of the polymer main chain. During the polymerization reaction of the macromonomer (M) and the monomer corresponding to the general formula (I), a polymerization initiator or a chain transfer agent containing the polar group or a specific reactive group that can be induced in the polar group is used in combination. It is achieved by doing.

【0102】具体的には、マクロモノマーの合成におい
て前記した様に片末端反応結合のオリゴマーの方法と同
様にして得ることができる。次に本発明の樹脂〔B〕に
ついて説明する。樹脂〔B〕はABブロック共重合体で
あり、且つ特定の極性基を重合体主鎖のAブロックのB
ブロックと結合する反対側の片末端に、直接もしくは連
結基を介して結合している事とAブロック中に重合体成
分として含有している事を特徴とするものである。
Specifically, it can be obtained in the same manner as in the method of the oligomer having one end reactive bond as described above in the synthesis of the macromonomer. Next, the resin [B] of the present invention will be described. The resin [B] is an AB block copolymer and has a specific polar group B in the A block of the polymer main chain.
It is characterized in that it is bound to one end on the opposite side to which it is bound to the block, either directly or through a linking group, and that it is contained as a polymer component in the A block.

【0103】ABブロック共重合体樹脂〔B〕における
特定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合体
〔B〕100重量部当り好ましくは0.1〜5重量部、
より好ましくは0.2〜3重量部の割合で含有される。
結着樹脂〔B〕における極性基含有量が0.1重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができず、該極性基含有量が5重量%よりも多いと、
分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温高湿
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大するため、好ましくない。
The amount of the specific polar group-containing component in the AB block copolymer resin [B] is preferably 0.1 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer [B].
More preferably, the content is 0.2 to 3 parts by weight.
When the content of the polar group in the binder resin [B] is less than 0.1% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained, and when the content of the polar group is more than 5% by weight. ,
It is not preferable because the dispersibility decreases, the film smoothness and the high temperature and high humidity of the electrophotographic characteristics decrease, and the background stain increases when it is used as an offset master.

【0104】また、樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、前
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることが好
ましい。樹脂〔B〕における該総量が樹脂〔A〕のそれ
の10重量%未満であると、電子写真特性(特に暗中電
荷保持率、光感度)の低下が著しく、膜の強度も低下す
る。また、50重量%を超えると、分散の均一化が不充
分となり、電子写真特性が低下し、オフセット原版とし
ては保水性が低下する。
In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is the same as the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A]. It is preferably 10% by weight to 50% by weight with respect to the total amount. When the total amount of the resin [B] is less than 10% by weight of that of the resin [A], the electrophotographic properties (particularly the charge retention in the dark and the photosensitivity) are significantly deteriorated and the strength of the film is also decreased. On the other hand, if it exceeds 50% by weight, the homogenization of dispersion becomes insufficient, the electrophotographic characteristics are deteriorated, and the water retention property is lowered as an offset original plate.

【0105】共重合体〔B〕の重量平均分子量は2×1
4 〜1×106 、好ましくは4×104 〜5×105
である。
The weight average molecular weight of the copolymer [B] is 2 × 1.
0 4 to 1 × 10 6 , preferably 4 × 10 4 to 5 × 10 5.
Is.

【0106】樹脂〔B〕の分子量が2×104 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、
また分子量が1×106 より大きくなると本発明の樹脂
〔B〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の
電子特性になってしまう。該樹脂〔B〕のガラス転移点
は、−10℃〜100℃の範囲のものが好ましいが、よ
り好ましくは0℃〜90℃である。
When the molecular weight of the resin [B] is less than 2 × 10 4 , the film forming ability is deteriorated and the sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, when the molecular weight is larger than 1 × 10 6, the effect of the resin [B] of the present invention is reduced, and the electronic characteristics are the same as those of the conventionally known resin. The glass transition point of the resin [B] is preferably in the range of -10 ° C to 100 ° C, more preferably 0 ° C to 90 ° C.

【0107】本発明の樹脂〔B〕中に含有される特定の
極性基の具体的な例は、前記した樹脂〔A〕中に含有さ
れる特定の極性基と同様の内容のものが挙げられる。樹
脂〔B〕において、該極性基が重合体主鎖の片末端に結
合する場合には、該極性基は重合体主鎖の片末端に直接
結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。か
かる連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、
例えば具体的に挙げるとすれば、前記樹脂〔A1 〕にお
いて重合体主鎖と極性基とを連結する連結基として記載
したものが挙げることができ、これらの連結基のうちの
単独又は2以上の連結基の組み合わせである。
Specific examples of the specific polar group contained in the resin [B] of the present invention include those having the same contents as the specific polar group contained in the resin [A] described above. .. In the resin [B], when the polar group is bonded to one end of the polymer main chain, the polar group may be directly bonded to one end of the polymer main chain or may be bonded via a linking group. You may. The linking group may be any bonding group,
Specific examples thereof include those described as the linking group that links the polymer main chain and the polar group in the resin [A 1 ], and one or more of these linking groups may be mentioned. Is a combination of linking groups.

【0108】本発明のABブロック共重合体(樹脂
〔B〕)のAブロックを構成する特定の極性基を含有す
る重合成分の具体例としては、前記した樹脂〔A〕の特
定の極性基を含有する重合体成分と同様のものを挙げる
ことができる。
Specific examples of the polymerization component containing a specific polar group constituting the A block of the AB block copolymer (resin [B]) of the present invention include the specific polar group of the resin [A] described above. The same thing as the polymer component contained can be mentioned.

【0109】上記の如き特定の極性基を含有する重合体
成分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよ
く、その場合における該2種以上の極性基含有成分は該
Aブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、上記
極性基含有の重合体成分以外の重合体成分をAブロック
中に含有していてもよく、かかる重合体成分としては好
ましくは下記一般式(III)の繰り返し単位に相当する重
合体成分が挙げられる。
Two or more kinds of the polymer component containing a specific polar group as described above may be contained in the A block, and in that case, the two or more kinds of polar group containing components are contained in the A block. It may be contained in any form of random copolymerization or block copolymerization. Further, a polymer component other than the polar group-containing polymer component may be contained in the A block, and such a polymer component is preferably a polymer component corresponding to a repeating unit of the following general formula (III). Is mentioned.

【0110】[0110]

【化29】 [Chemical 29]

【0111】〔式(III)中、X1 は−COO−、−OC
O−、−(CH2 p −OCO−、−(CH2 p −C
OO−(p は1〜3の整数を表わす)、−O−、−SO
2 −、−CO−、−CON(Q2 )−、−SO2 N(Q
2 )−、−CONHCOO−、−CONHCONH−又
は−C6 4 −を表わす(ここでQ2 は水素原子又は炭
化水素基を表わす)。Q1 は炭化水素基を表わす。m1
及びm2 は、互いに同じでも異なってもよく、前記式
(I)中のa1 、a2 とそれぞれ同一の内容を表わ
す。〕
[In the formula (III), X 1 is -COO- or -OC.
O -, - (CH 2) p -OCO -, - (CH 2) p -C
OO- (p represents an integer of 1 to 3), -O-, -SO
2 -, - CO -, - CON (Q 2) -, - SO 2 N (Q
2) -, - CONHCOO -, - CONHCONH- or -C 6 H 4 - are expressed (here Q 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). Q 1 represents a hydrocarbon group. m 1
And m 2 may be the same as or different from each other and represent the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I). ]

【0112】ここで、Q2 は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺ
ンテニル基、3−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエ
チル基、2−シクロぺンチルエチル基等)、又は炭素数
6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフ
ェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ド
デシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボキシフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイル
アミドフェニル基等)が挙げられる。
Here, Q 2 is not only a hydrogen atom, but also a preferable hydrocarbon group is a C 1-18 optionally substituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). Group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
Methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, 2
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
Methyl-2-hexenyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group) , A bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), and an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, a cyclohexyl group, 2- A cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group) , Octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyf Nyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group , Dodecylylamidophenyl group, etc.).

【0113】X1 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
When X 1 represents —C 6 H 4 —, the benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0114】Q1 は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
Q 1 represents a hydrocarbon group, and a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms and which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-perenyl group). Mentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.) and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group). Group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5-8 optionally substituted alicyclic groups (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc. An optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, Propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.).

【0115】更に好ましくは、一般式(III)において、
1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 4 −を表わす。更には、式(III)に示さ
れる重合体成分とともに該Aブロック中に含有され得る
重合体成分として、該式(III)の重合体成分と共重合し
うる他の繰り返し単位に相当する単量体、例えばアクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、複素環ビニル類(例
えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニル
ジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。こ
れら他の単量体はAブロックの全重合体成分100重量
部中20重量部を超えない範囲で用いられる。
More preferably, in the general formula (III),
X 1 is -COO-, -OCO-, -CH 2 OCO-,-.
CH 2 COO -, - O - , - CONH -, - SO 2 NH
- or -C 6 H 4 - represents a. Further, as a polymer component that can be contained in the A block together with the polymer component represented by the formula (III), a unit amount corresponding to another repeating unit copolymerizable with the polymer component of the formula (III). Examples thereof include acrylonitrile, methacrylonitrile, and heterocyclic vinyls (for example, vinyl pyridine, vinyl imidazole, vinyl pyrrolidone, vinyl thiophene, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl oxazine, etc.). These other monomers are used within a range not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer component of the A block.

【0116】次にABブロック共重合体樹脂〔B〕にお
いて、Bブロック成分を構成する重合成分について詳し
く説明する。Bブロック成分は、少なくとも前記一般式
(I)で示される繰り返し単位で示される重合体成分を
含有し、該式(I)で示される成分は好ましくBブロッ
ク成分中、30〜100重量%、より好ましくは50〜
100重量%含有される。
Next, the polymerization components constituting the B block component in the AB block copolymer resin [B] will be described in detail. The B block component contains at least a polymer component represented by the repeating unit represented by the general formula (I), and the component represented by the formula (I) is preferably 30 to 100% by weight in the B block component. Preferably 50-
100% by weight is contained.

【0117】一般式(I)の成分の具体的内容について
は、樹脂〔A〕で説明したと同様のものに準じる。他に
含有され得る重合体成分としては、前記Aブロックで含
有され得る一般式(III) で示される成分又はその他の
成分として記載したものと同様のものが挙げられる。但
し、Bブロックにおいては、Aブロックで含有される特
定の極性基含有成分を含有しないことを特徴とする。
The specific contents of the component of the general formula (I) are the same as those described for the resin [A]. Examples of the other polymer component that can be contained include the same as those described as the component represented by the general formula (III) that can be contained in the A block or the other components. However, the B block is characterized by not containing the specific polar group-containing component contained in the A block.

【0118】本発明のABブロック共重合体〔B〕は、
従来公知の重合反応法によって製造することができる。
具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体において該極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム
類、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシ
ウムハライド類等)もしくはヨウ化水素/ヨウ素系等に
よるイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とす
る光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のいわ
ゆるリビング重合反応でABブロック共重合体を重合反
応した後、停止反応時に特定の極性基を直接導入する
か、あるいは該極性基を結合できる官能基を導入した後
極性基を化学結合させる、その後、重合体成分中の極性
基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、
酸化分解反応又は光分解反応等によって脱保護反応を行
ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。その1つ
の例を下記の反応スキーム(1)に示した。
The AB block copolymer [B] of the present invention is
It can be produced by a conventionally known polymerization reaction method.
Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium) is used. Halides, etc.) or ionic polymerization reaction with hydrogen iodide / iodine system, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as catalyst, group transfer polymerization reaction, or other known so-called living polymerization reaction to polymerize the AB block copolymer. After that, a specific polar group is directly introduced at the termination reaction, or a polar group is chemically bonded after introducing a functional group capable of binding the polar group, and then a functional group protecting the polar group in the polymer component is added. Hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction,
A method of forming a polar group by performing a deprotection reaction by an oxidative decomposition reaction, a photodecomposition reaction or the like can be mentioned. One example thereof is shown in the following reaction scheme (1).

【0119】[0119]

【化30】 [Chemical 30]

【0120】これらは、例えば、P.Lutz、P.M
asson etal、Polym.Bull.
.,79(1984)、B.C.Anderson、
G.D.Andrews etal、Macromol
ecules、14、1601(1981)、K.Ha
tada、K.Ute.etal、Polym.J.
、977(1985)、18、1037(198
6)、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366
(1987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、
、189(1989)、M.Kuroki、T.Ai
da、J.Am.Chem.Soc.109、4737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、
、300(1985)、D.Y.Sogah、W.
R.Hertleretal.Macromolecu
les、20、1473(1987)等に記載の合成方
法に従って容易に合成することができる。
These are described, for example, in P. Lutz, P.M. M
asson et al, Polym. Bull. 1
2 . , 79 (1984), B.I. C. Anderson,
G. D. Andrews et al, Macromol
ecules, 14 , 1601 (1981), K .; Ha
tada, K .; Ute. et al, Polym. J. 1
7 , 977 (1985), 18 , 1037 (198)
6), Koichi Right Hand, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36 , 366
(1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Transactions on Polymers, 4
6 , 189 (1989), M.S. Kuroki, T .; Ai
da, J. Am. Chem. Soc. 109 , 4737
(1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 4.
3 , 300 (1985), D.I. Y. Sogah, W.C.
R. Hertletal. Macromolecule
It can be easily synthesized according to the synthetic method described in Les, 20 , 1473 (1987) and the like.

【0121】更に、ABブロック共重合体〔B〕は、極
性基を保護しないままの単量体を用い、且つ特定の極性
基を置換基として含むジシオカーバメント基を含有する
化合物及び/又はザンテート基を含有する化合物を開始
剤として、光照射下に重合反応を行なって合成すること
もできる。例えば、大津隆行、高分子、37,248
(1988)、檜森俊一、大津隆一、Polym.Re
p.Jap.37.3508(1988)、特開昭64
−111号、特開昭64−26619号、東信行等、P
olymer Preprints、Japan、
、(6)、1511(1987)、M.Niwa、
N.Higashi、etal、J.Macromo
l.Sci.Chem.A24(5)、567(198
7)等に記載の合成方法に従って合成することができ
る。
Further, the AB block copolymer [B] is a compound containing a diiocarbamento group containing a specific polar group as a substituent, and / or a monomer containing a polar group not protected. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation using a compound containing a xanthate group as an initiator. For example, Takayuki Otsu, Polymer, 37 , 248.
(1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Polym. Re
p. Jap. 37 . 3508 (1988), JP-A-64
No. 111, JP-A No. 64-26619, Nobuyuki Higashi, et al., P.
polymer Preprints, Japan, 3
6 , (6), 1511 (1987), M.A. Niwa,
N. Higashi, et al. Macromo
l. Sci. Chem. A24 (5), 567 (198
It can be synthesized according to the synthesis method described in 7) or the like.

【0122】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊
(1977年)、T.W.Greene、「Prote
ctive Groups in Organic S
ynthesis」,John Wiley & So
ns(1981年)、J.F.W.McOmie、「P
rotective Groups in Organ
ic Chemistry」Plenum Pres
s、(1973年)等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。
Further, regarding the protection of a specific polar group with a protecting group and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) of the present invention,
This can be easily performed by utilizing the conventionally known knowledge.
For example, various descriptions are given in the above cited document, and further,
Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" published by Kodansha Ltd. (1977), T.S. W. Greene, "Prote
ctive Groups in Organic S
"Thensis", John Wiley & So
ns (1981), J. F. W. McOmie, "P
Protective Groups in Organ
ic Chemistry "Plenum Pres
s, (1973) and the like, which are described in detail in the review article, can be appropriately selected and performed.

【0123】一方、本発明の樹脂〔B〕は、Bブロック
の方がAブロックよりも高分子鎖が長い方が好ましい。
本発明の光導電層に供される結着樹脂として、本発明の
樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した無機光導電体
用の公知の樹脂を併用することもできる。但し、これら
の他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂100重量部中3
0重量%を越えない範囲が好ましい。この割合を越える
と、本発明の効果は著しく低下してしまう。
On the other hand, in the resin [B] of the present invention, it is preferable that the B block has a longer polymer chain than the A block.
As the binder resin used for the photoconductive layer of the present invention, the above-mentioned known resins for inorganic photoconductors may be used in combination in addition to the resins [A] and [B] of the present invention. However, the ratio of these other resins used is 3 in 100 parts by weight of the total binder resin.
A range not exceeding 0% by weight is preferable. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced.

【0124】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
Typical other resins that can be used in combination are, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer. , Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.

【0125】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」1973(No.8)第9
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.
Tatt、S.C.Heidecker、Tappi、
49(No.10)、439(1966)、E.S.B
altazzi、R.G.Blanclotte et
al、Photo.Sci.Eng.16(No.
5)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、
28(1980)、特公昭50−31011号、特開昭
53−54027号、同54−20735号、同57−
202544号、同58−68046号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, “Polymer”, Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto.
Hidehiko Takei "Imaging" 1973 (No.8) 9th
P., Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Insulating Materials," Chapter 10, C.I. H. C. Published (1985), D.M. D.
Tatt, S. C. Heidecker, Tappi,
49 (No. 10), 439 (1966), E.I. S. B
Altazzi, R .; G. Blanklotte et
al, Photo. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan Kay, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, The Institute of Electrophotography 18 (No. 2),
28 (1980), JP-B-50-31011, JP-A-53-54027, 54-20735, 57-.
The resins disclosed in JP-A-202544 and JP-A-58-68046 are cited.

【0126】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対して、1
0重量部〜100重量部であることが好ましく、より好
ましくは15重量部〜50重量部である。
The total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is 1 with respect to 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
The amount is preferably 0 to 100 parts by weight, more preferably 15 to 50 parts by weight.

【0127】本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合は、樹脂〔A〕/樹脂〔B〕の重量比で0.05〜
0.6/0.95〜0.40であることが好ましく、よ
り好ましくは0.10〜0.40/0.90〜0.60
である。結着樹脂の総量比が10重量部以下となると、
光導電層の膜強度が維持できなくなる。又100重量部
以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性におい
ても複写画像の悪化を生じてしまう。
The ratio of the resin [A] and the resin [B] used in the present invention is 0.05 to 0.05 by weight ratio of resin [A] / resin [B].
It is preferably 0.6 / 0.95 to 0.40, and more preferably 0.10 to 0.40 / 0.90 to 0.60.
Is. When the total amount ratio of the binder resin is 10 parts by weight or less,
The film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. On the other hand, when the amount is 100 parts by weight or more, the electrostatic characteristics are deteriorated and the copy image is deteriorated in the actual image pickup property.

【0128】又、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使
用割合において樹脂〔A〕の重量比が0.05以下にな
ると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方0.6
以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる
場合(特に電子写真式平版印刷用原版として)が生じ
る。
If the weight ratio of the resin [A] to the resin [A] and the resin [B] of the present invention is 0.05 or less, the effect of improving the electrostatic characteristics is diminished. On the other hand, 0.6
If the above is the case, the film strength of the photoconductive layer cannot be sufficiently maintained (particularly as an electrophotographic lithographic printing plate precursor).

【0129】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。本発明に
使用する分光増感色素としては、必要に応じて各種の色
素を単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視、武井
英彦、イメージング1973(No.8)第12頁、
C.J.Young等、RCA Review 15
469(1054)、清田航平等、電気通信学会論文誌
J63C(No.2)、97(1980)、原崎勇
次等、工業科学雑誌66 78及び188(196
3)、谷忠昭、日本写真学会誌35、208(197
2)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメ
タン色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色
素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキ
ソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダ
シアニン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン色素
(金属を含有してもよい)等が挙げられる。
Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide and lead sulfide. As the spectral sensitizing dye used in the present invention, various dyes are used alone or in combination as necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No. 8), page 12,
C. J. Young et al., RCA Review 15 ,
469 (1054), Kouhei Kiyota et al., IEICE Transactions
J63 - C (No. 2 ), 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Magazines 66 78 and 188 (196).
3), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35 , 208 (197).
2) Carbonyl dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanines Examples thereof include dyes (which may contain a metal).

【0130】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同4,054,45
0号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げ
られる。
More specifically, those mainly containing carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 51-45.
No. 2, JP-A Nos. 50-90334 and 50-11422.
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
U.S. Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,45
No. 0, those described in JP-A-57-16456, and the like.

【0131】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer 「The Cyani
neDyes and Related Compou
nd」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3,047,384号、同第3,11
0,591号、同第3,121,008号、同第3,1
25,447号、同第3,128,179号、同第3,
132,942号、同第3,622,317号、英国特
許第1,226,892号、同第1,309,274
号、同第1,405,898号、特公昭48−7814
号、同55−18892号等に記載の色素が挙げられ
る。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F.I. M. Harmmer "The Cyani
neDyes and Related Compou
The dyes described in "nd" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,11.
No. 0,591, No. 3,121,008, No. 3,1
No. 25,447, No. 3,128,179, No. 3,
132,942, 3,622,317, British Patents 1,226,892, 1,309,274.
No. 1,405,898, JP-B-48-7814
No. 55-18892 and the like.

【0132】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141
号、同57−157254号、同61−26044号、
同61−27551号、米国特許第3,619,154
号、同第4,175,956号、「Research
Disclosure」1982年、216、第117
〜118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光
体は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色
素により変動しにくい点において優れている。更には、
必要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写
真感光層用各種添加剤を併用することもできる。例え
ば、前記した総説:イメージング1973(No.8)
第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハ
ロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カル
ボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の
開発・実用化」第4章〜第6章・日本科学情報(株)出
版部(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン
化合物、ヒンダートフェノール化合物、p −フェニレン
ジアミン化合物等が挙げられる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-4,
No. 7-840, No. 47-44180, Japanese Patent Publication No. 51-4
1061, JP-A-49-5034, and JP-A-49-451.
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141.
No. 57-157254, No. 61-26044,
No. 61-27551, U.S. Pat. No. 3,619,154.
No. 4,175,956, "Research
Disclosure ", 1982, 216, 117.
To those described on page 118 and the like. The photoconductor of the present invention is excellent in that its performance does not easily change depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore,
If necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers may be used in combination. For example, the aforementioned review article: Imaging 1973 (No. 8)
Electron-accepting compounds (for example, halogen, benzoquinone, chloranil, organic carboxylic acid anhydrides, etc.) in the review article on page 12, etc., Hiroshi Komon, et al. Chapter 4 to Chapter 6 • Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds and the like, which are cited as reference articles of the Japanese Science Information Publishing Co., Ltd. (1986).

【0133】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜1
00μ、特に10〜50μが好適である。また、電荷発
生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光
導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは0.01〜
1μ、特に0.05〜0.5μが好適である。
The addition amount of these various additives is not particularly limited, but usually 0.0 to 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight. The thickness of the photoconductive layer is 1 to 1
00μ, particularly 10 to 50μ is suitable. When the photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is from 0.01 to
1 μ, particularly 0.05 to 0.5 μ is preferable.

【0134】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。後者の場合、絶縁層の厚さは、5
〜70μ、特には、10〜50μに設定される。
In some cases, an insulating layer may be additionally provided for the purpose of protecting the photoreceptor and improving durability and dark decay characteristics.
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and the insulating layer provided when the photoconductor is used in a specific electrophotographic process is set to be relatively thick. In the latter case, the insulating layer has a thickness of 5
It is set to ˜70 μ, particularly 10 to 50 μ.

【0135】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜
用いられる。
Examples of the charge transport material for the laminated type photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μ, particularly 10 to 30 μ. Typical resins used for forming the insulating layer or the charge transport layer are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin,
Vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl chloride copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, silicone resin thermoplastic resin and effective resin are appropriately used. .

【0136】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1相以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, metal, paper, plastic sheet or the like is basically impregnated with a low resistance substance. Conductive treated by, for example, a basic back surface (surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) to have conductivity, and at least one layer coated for the purpose of preventing curling,
Paper having a water-resistant adhesive layer provided on the surface of the support, having a precoat layer of at least one phase or more provided on the surface layer of the support, and a conductive electroconductive plastic substrate on which Al or the like is vapor-deposited. It is possible to use those laminated to.

【0137】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.
1)、P2〜11(1975)、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoo
ver,J.Macromol.Sci.Chem.A
−4(6)、第1327〜第1417頁(1970)等
に記載されているもの等を用いる。
Concrete examples of the conductive substrate or the conductive material are Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No.
1), P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing (1975), M.P. F. Hoo
ver., J. Macromol. Sci. Chem. A
-4 (6), 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

【0138】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はPPC方式お
よびCPC方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention can be used in applications using any conventionally known electrophotographic process. That is, the photoconductor of the present invention can be used for both PPC and CPC recording systems, and
As the developer, any combination of a dry developer and a liquid developer can be used.

【0139】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる(例えば、滝
沢九郎、「写真工業」33、34(1975年)、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告77、17(197
7年)等に記載の方法)。
In particular, since it is possible to form a copy image of a high-definition original faithfully, the effect of the present invention can be more exerted when used in combination with a liquid developer. Also, by combining with a color developer, not only black and white copy images,
It can also be applied to color copy images (for example, Kuro Takizawa, “Photo Industry” 33 , 34 (1975), Masayasu Anzai, “Technical Report of IEICE 77 , 17 (197).
7 years) and the like).

【0140】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。
Further, it is also effective in a system used for other purposes using the electrophotographic process in recent years. For example, the photoconductor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as an offset lithographic printing plate precursor and is made of photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide which is pollution-free and has a good whiteness. The photoconductor can be used as an underprinting material used in an offset printing process, a color group, or the like.

【0141】[0141]

〔マクロモノマー(M)の合成〕[Synthesis of macromonomer (M)]

マクロモノマーの合成例1:(MM−1) メチルメタクリレート75g、メチルアクリレート25
g、チオグリコール酸5g及びトルエン200gの混合
溶液を、窒素気流下攪拌しながら、温度75℃に加温し
た。2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(略称A.
I.B.N.)1.0gを加え、8時間反応した。次に
この反応溶液にグリシジルメタクリレート8g、N,N
−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハイ
ドロキノン0.5gを加え、温度100℃にて12時間
攪拌した。冷却後この反応溶液をn−ヘキサン2リット
ル中に再沈し、白色粉末を82g得た。重合体の重量平
均分子量(Mw)は3.8×103 であった。
Macromonomer Synthesis Example 1: (MM-1) 75 g of methyl methacrylate, 25 methyl acrylate
A mixed solution of g, 5 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation A.
I. B. N. ) 1.0 g was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, N, N was added to this reaction solution.
-1.0 g of dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 2 liters of n-hexane to obtain 82 g of white powder. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer was 3.8 × 10 3 .

【0142】[0142]

【化31】 [Chemical 31]

【0143】マクロモノマーの合成例2:(MM−2) ブチルメタクリレート90g、メタアクリル酸10g、
2−メルカプトエタノール4g、テトラヒドロフラン2
00gの混合溶液を窒素気流下温度70℃に加温した。
A.I.B.N. 1.2gを加え、8時間反応した。
Synthesis Example 2 of Macromonomer: (MM-2) 90 g of butyl methacrylate, 10 g of methacrylic acid,
2-mercaptoethanol 4 g, tetrahydrofuran 2
00 g of the mixed solution was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream.
A. I. B. N. 1.2 g was added and reacted for 8 hours.

【0144】次に反応溶液を水浴中で冷却して温度20
℃とし、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリ
ル酸クロライド14.5gを温度25℃以下で攪拌して
滴下した。滴下後そのまま1時間更に攪拌した。その
後、t−ブチルハイドロキノン0.5gを加え温度60
℃に加温し、4時間攪拌した。冷却後、水1リットル中
に攪拌しながら滴下し(約10分間)、そのまま1時間
攪拌して静置後、水をデカンテーションで除去した。水
での洗浄を更に2回行なった後、テトラヒドロフラン1
00mlに溶解し、石油エーテル2リットル中に再沈し
た。沈澱物をデカンテーションで捕集し、減圧下に乾燥
した。得られた粘稠物の収量は65gでMw3.3×1
3 であった。
Then, the reaction solution was cooled in a water bath to a temperature of 20.
C., 10.2 g of triethylamine was added, and 14.5 g of methacrylic acid chloride was stirred and added dropwise at a temperature of 25.degree. After dropping, the mixture was further stirred for 1 hour as it was. Then, 0.5 g of t-butyl hydroquinone was added and the temperature was adjusted to 60.
The mixture was warmed to ℃ and stirred for 4 hours. After cooling, the mixture was dropped into 1 liter of water with stirring (about 10 minutes), stirred for 1 hour as it was, and allowed to stand, and then water was removed by decantation. After washing with water twice more, tetrahydrofuran 1
It was dissolved in 00 ml and reprecipitated in 2 liters of petroleum ether. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The obtained viscous product had a yield of 65 g and had a Mw of 3.3 × 1.
It was 0 3 .

【0145】[0145]

【化32】 [Chemical 32]

【0146】マクロモノマーの合成例3:(MM−3) ベンジルメタクリレート95g、2−ホスホノエチルメ
タクリレート5g、2−アミノエチルメルカプタン6g
及びテトラヒドロフラン200gの混合物を、窒素気流
下攪拌下に温度70℃に加温した。
Synthesis Example 3 of Macromonomer: (MM-3) benzyl methacrylate 95 g, 2-phosphonoethyl methacrylate 5 g, 2-aminoethyl mercaptan 6 g
And a mixture of 200 g of tetrahydrofuran were heated to a temperature of 70 ° C. with stirring under a nitrogen stream.

【0147】A.I.B.N. 1.5gを加え4時間
反応させ、更にA.I.B.N.0.5gを加え4時間
反応させた。次に、この反応溶液を温度20℃に冷却
し、アクリル酸無水物10gを加えて温度20〜25℃
で1時間攪拌した。次にt−ブチルハイドロキノン1.
0gを加え温度50〜60℃で4時間攪拌した。冷却
後、水1リットル中に攪拌しながら、この反応混合物を
約10分間で滴下し、そのまま1時間攪拌した後静置し
て、水をデカンテーションで除去した。水での洗浄を更
に2回繰り返した後、テトラヒドロフラン100mlに
溶解し、石油エーテル2リットル中に再沈した。沈澱物
をデカンテーションで捕集し、減圧下に乾燥した。得ら
れた粘稠物の収量は70gでMw6×103 であった。
A. I. B. N. 1.5 g was added and the reaction was carried out for 4 hours. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. Next, this reaction solution is cooled to a temperature of 20 ° C., 10 g of acrylic anhydride is added, and the temperature is 20 to 25 ° C.
It was stirred for 1 hour. Then t-butyl hydroquinone 1.
0 g was added and the mixture was stirred at a temperature of 50 to 60 ° C. for 4 hours. After cooling, the reaction mixture was added dropwise to water (1 liter) with stirring for about 10 minutes, and the mixture was stirred for 1 hour and allowed to stand, and water was removed by decantation. The washing with water was repeated twice more, then, the residue was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran and reprecipitated in 2 liters of petroleum ether. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained viscous product was 70 g, and the Mw was 6 × 10 3 .

【0148】[0148]

【化33】 [Chemical 33]

【0149】マクロモノマーの合成例4:(MM−4) 2−クロロフェニルメタクリレート90g、下記構造
(I)の単量体10g、チオグリコール酸4g及びトル
エン200gの混合溶液を、窒素気流下温度70℃に加
温した。A.I.B.N. 1.5gを加え5時間反応
し、更にA.I.B.N. 0.5gを加え4時間反応
した。次にグリシジルメタクリレート12.4g、N,
N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt−ブチルハ
イドロキノン1.5gを加え温度110℃で8時間反応
した。冷却後この反応混合物をp−トルエンスルホン酸
3g、90vol%テトラヒドロフラン水溶液100m
lに溶液を加え、温度30〜35℃で1時間攪拌した。
水/エタノール〔(1/3)容積地〕混合溶液2リット
ル中に、上記混合物を再沈し、デカンテーションで沈澱
物を捕集した。この沈澱物をテトラヒドロフラン200
mlに溶解しn−ヘキサン2リットル中に再沈し、粉末
58gを得た。Mwは7.6×103 であった。
Macromonomer Synthesis Example 4: (MM-4) A mixed solution of 90 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 10 g of the monomer of the following structure (I), 4 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. under a nitrogen stream. Warmed to. A. I. B. N. 1.5 g was added and reacted for 5 hours. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. Next, 12.4 g of glycidyl methacrylate, N,
1.0 g of N-dimethyldodecylamine and 1.5 g of t-butylhydroquinone were added and the reaction was carried out at a temperature of 110 ° C. for 8 hours. After cooling, the reaction mixture was added with p-toluenesulfonic acid 3 g, 90 vol% tetrahydrofuran aqueous solution 100 m.
The solution was added to 1 and stirred at a temperature of 30 to 35 ° C. for 1 hour.
The above mixture was reprecipitated in 2 liters of a mixed solution of water / ethanol [(1/3) volume), and the precipitate was collected by decantation. This precipitate was added to tetrahydrofuran 200
It was dissolved in ml and reprecipitated in 2 liters of n-hexane to obtain 58 g of powder. The Mw was 7.6 × 10 3 .

【0150】[0150]

【化34】 [Chemical 34]

【0151】[0151]

【化35】 [Chemical 35]

【0152】マクロモノマーの合成例5:(MM−5) 2,6−ジクロロフェニルメタクリレート95g、3−
(2′−ニトロベンジルオキシスルホニル)プロピルメ
タクリレート5g、トルエン150g及びイソプロピル
アルコール50gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃
に加温した。2,2′−アゾビス(2−シアノ吉草酸)
(略称:A.C.V.)5.0gを加え5時間反応し、
更にA.C.V. 1.0gを加えて4時間反応した。
冷却後、メタノール2リットル中にこの反応物を再沈
し、粉末を濾集し、減圧乾燥した。
Macromonomer Synthesis Example 5: (MM-5) 2,6-dichlorophenyl methacrylate 95 g, 3-
A mixed solution of 5 g of (2′-nitrobenzyloxysulfonyl) propyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropyl alcohol was placed under a nitrogen stream at a temperature of 80 ° C.
Warmed to. 2,2'-azobis (2-cyanovaleric acid)
(Abbreviation: ACV) 5.0 g was added and reacted for 5 hours,
Furthermore, A. C. V. 1.0g was added and it reacted for 4 hours.
After cooling, the reaction product was reprecipitated in 2 liters of methanol, the powder was collected by filtration, and dried under reduced pressure.

【0153】上記粉末50g、グリシジルメタクリレー
ト14g、N,N−ジメチルデシルアミン0.6g、t
−ブチルハイドロキノン1.0g及びトルエン100g
の混合物を温度110℃で10時間攪拌した。室温に冷
却後80Wの高圧水銀灯にて、この混合物を攪拌下に1
時間光照射した。その後反応混合物をメタノール1リッ
トル中に再沈し、粉末を濾集・減圧乾燥した。収量34
gでMw7.3×103 であった。
50 g of the above powder, 14 g of glycidyl methacrylate, 0.6 g of N, N-dimethyldecylamine, t
-Butyl hydroquinone 1.0 g and toluene 100 g
The mixture was stirred at a temperature of 110 ° C. for 10 hours. After cooling to room temperature, the mixture was stirred with an 80W high pressure mercury lamp for 1 hour.
Irradiated for hours. Then, the reaction mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. Yield 34
Mw was 7.3 × 10 3 in g.

【0154】[0154]

【化36】 [Chemical 36]

【0155】マクロモノマーの合成例6:(MM−6) エチルメタクリレート80g、N−ビニルピロリドン5
g、トリメチルシリルメタクリレート29g、β−メル
カプトエタノール3g及びテトラヒドロフラン200g
の混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加
温した。これにA.I.B.N. 1gを加え4時間反
応し、更にA.I.B.N. 0.5gを加え4時間反
応した。この反応混合物を冷却し、温度25℃に設定し
た後メタクリル酸6.6 gを加え、これにジカルボキシル
カルボンジイミド(D.C.C.)8g、4−(N,N
−ジメチルアミノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン
20gの混合溶液を温度25〜30℃で滴下し、更にそ
のまま4時間攪拌した。次にこの反応混合物にギ酸10
gを加え1時間攪拌した。析出した不溶物を濾別した
後、濾液をメタノール1リットル中に再沈し油状物を濾
集した。更に、この油状物をテトラヒドロフラン200
gに溶解し、不溶物を濾別後再びメタノール1リットル
中に再沈し、油状物を捕集し乾燥した。収量65gでM
w7×103 であった。
Synthesis Example 6 of Macromonomer: (MM-6) 80 g of ethyl methacrylate, 5 of N-vinylpyrrolidone
g, trimethylsilyl methacrylate 29 g, β-mercaptoethanol 3 g and tetrahydrofuran 200 g
The mixed solution of (1) was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1 g was added and the reaction was carried out for 4 hours. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. After the reaction mixture was cooled and the temperature was set to 25 ° C., 6.6 g of methacrylic acid was added, to which 8 g of dicarboxylcarboxylic diimide (D.C.C.) and 4- (N, N) were added.
A mixed solution of 0.2 g of dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise at a temperature of 25 to 30 ° C., and the mixture was further stirred as it was for 4 hours. The reaction mixture was then charged with formic acid 10
g was added and the mixture was stirred for 1 hour. The precipitated insoluble matter was filtered off, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and an oily matter was collected by filtration. Furthermore, this oily substance was added to tetrahydrofuran 200
It was dissolved in g, the insoluble matter was filtered off, and then reprecipitated again in 1 liter of methanol, and an oily matter was collected and dried. Yield 65g M
It was w7 × 10 3 .

【0156】[0156]

【化37】 [Chemical 37]

【0157】〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート70g、マクロモノマー(MM
−1)30g、トルエン150g及びイソプロパノール
50gの混合溶液を、窒素気流下に温度80℃に加温し
た。これにA.C.V. 5gを加え4時間反応させ、
更にA.C.V. 0.5gを加え4時間反応させた。
得られた共重合体の重量平均分子量(Mw)は1.0×
104 であった。
[Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example of Resin [A] 1: [A-1] 70 g of benzyl methacrylate, macromonomer (MM
-1) A mixed solution of 30 g, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 80 ° C under a nitrogen stream. A. C. V. 5g was added and reacted for 4 hours,
Furthermore, A. C. V. 0.5 g was added and reacted for 4 hours.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained copolymer was 1.0 ×.
It was 10 4 .

【0158】[0158]

【化38】 [Chemical 38]

【0159】樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 2−クロロフェニルメタクリレート80g、下記構造に
相当するマクロモノマー(Mw5×103 )20g、β
−メルカプトプロピオン酸3g及びトルエン200gの
混合溶液を窒素気流下に温度75℃に加温した。これ
に、A.I.B.N. 1.5gを加え4時間反応し、
更に0.5gを加え4時間反応させた。得られた共重合
体のMwは8.8×103 であった。
Synthesis Example 2 of Resin [A]: [A-2] 80 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 20 g of macromonomer (Mw 5 × 10 3 ) corresponding to the following structure, β
-A mixed solution of 3 g of mercaptopropionic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C under a nitrogen stream. In addition to this, I. B. N. 1.5g was added and reacted for 4 hours,
Further, 0.5 g was added and reacted for 4 hours. The Mw of the obtained copolymer was 8.8 × 10 3 .

【0160】[0160]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0161】樹脂〔A〕の合成例3〜9:〔A−3〕〜
〔A−9〕 樹脂〔A〕の合成例において、2−クロロフェニルメタ
クリレート80g、マクロモノマー20gの代わりに、
下記表−Aに相当する各単量体及びマクロモノマーに代
えた他は樹脂〔A〕の合成例2と同様にして各共重合体
を製造した。各重合体のMwは7.5×103 〜9×1
3 の範囲であった。
Synthesis Examples 3 to 9 of Resin [A]: [A-3] to
[A-9] In the synthesis example of the resin [A], instead of 80 g of 2-chlorophenyl methacrylate and 20 g of macromonomer,
Copolymers were produced in the same manner as in Synthesis Example 2 of Resin [A] except that the monomers and macromonomers corresponding to the following Table-A were replaced. Mw of each polymer is 7.5 × 10 3 to 9 × 1.
It was in the range of 0 3 .

【0162】又、用いた各マクロモノマーのMwは3.
5×103 〜5×103 の範囲であった。
The Mw of each macromonomer used was 3.
It was in the range of 5 × 10 3 to 5 × 10 3 .

【0163】[0163]

【表2】 [Table 2]

【0164】[0164]

【表3】 [Table 3]

【0165】樹脂〔A〕の合成例10:〔A−10〕ベ
ンジルメタクリレート70g、マクロモノマー(MM−
4)30g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気
流下温度80℃に加温した。2,2′−アゾビスバレロ
ニトリル(A.I.V.N.)8gを加え3時間反応
し、更にA.I.V.N. 1gを加えて4時間反応し
た。
Synthesis Example 10 of resin [A]: [A-10] benzyl methacrylate 70 g, macromonomer (MM-
4) A mixed solution of 30 g and 200 g of toluene was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream. 8 g of 2,2'-azobisvaleronitrile (AIVN) was added and reacted for 3 hours. I. V. N. 1 g was added and reacted for 4 hours.

【0166】得られた重合体のMwは8.5×103
あった。
The Mw of the obtained polymer was 8.5 × 10 3 .

【0167】[0167]

【化40】 [Chemical 40]

【0168】樹脂〔A〕の合成例11:〔A−11〕 2−クロロフェニルメタクリレート60g、マクロモノ
マー(MM−2)35g、2−メトキシエチルメタクリ
レート5g、オクタデシルメタクリレート3g及びトル
エン200gの混合溶液を窒素気流下温度75℃に加温
した。A.I.B.N. 1.0gを加え3時間反応
し、更に、A.I.B.N. 0.5gを加え3時間反
応する操作を2回続けた。
Synthesis Example 11 of Resin [A]: [A-11] A mixed solution of 60 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 35 g of macromonomer (MM-2), 5 g of 2-methoxyethyl methacrylate, 3 g of octadecyl methacrylate and 200 g of toluene was added with nitrogen. The temperature was raised to 75 ° C. under an air stream. A. I. B. N. 1.0 g was added and the reaction was carried out for 3 hours. I. B. N. The operation of adding 0.5 g and reacting for 3 hours was continued twice.

【0169】冷却後、エーテル1リットル中にこの反応
物を再沈し、沈澱物を捕集・乾燥し、Mw6.5×10
3 の粘稠物を63g得た。
After cooling, the reaction product was reprecipitated in 1 liter of ether, the precipitate was collected and dried, and Mw was 6.5 × 10.
63 g of a viscous product of 3 was obtained.

【0170】[0170]

【化41】 [Chemical 41]

【0171】樹脂〔A〕の合成例12〜19:〔A−1
2〕〜〔A−19〕 樹脂〔A〕の合成例11において、各単量体及びマクロ
モノマーの代わりに下記表−Bに示される重合成分に相
当する各単量体及びマクロモノマーに代えた他は、該合
成例11と同様にして反応して、各重合体を製造した。
Synthesis Examples 12 to 19 of Resin [A]: [A-1
2] to [A-19] In Synthesis Example 11 of resin [A], instead of each monomer and macromonomer, each monomer and macromonomer corresponding to the polymerization component shown in Table B below was used. Others were reacted in the same manner as in Synthesis Example 11 to produce each polymer.

【0172】各共重合体のMwは6×103 〜8×10
3 の範囲であった。
The Mw of each copolymer is 6 × 10 3 to 8 × 10.
It was in the range of 3 .

【0173】[0173]

【表4】 [Table 4]

【0174】[0174]

【表5】 [Table 5]

【0175】樹脂〔A〕の合成例20:〔A−20〕 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(MM−3)30g、チオグリコール酸3.0g及
びトルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温度80
℃に加温した。A.I.B.N. 1.0gを加え4時
間反応し、後A.I.B.N. 0.5gを加え2時
間、更にA.I.B.N. 0.3gを加え3時間反応
した。
Synthesis Example 20 of Resin [A]: [A-20] A mixed solution of 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 30 g of macromonomer (MM-3), 3.0 g of thioglycolic acid and 150 g of toluene was heated under a nitrogen stream at a temperature. 80
Warmed to ° C. A. I. B. N. 1.0 g was added and reacted for 4 hours. I. B. N. 0.5 g was added for 2 hours, and A. I. B. N. 0.3 g was added and reacted for 3 hours.

【0176】得られた共重合体のMwは8.5×103
であった。
The Mw of the obtained copolymer was 8.5 × 10 3.
Met.

【0177】[0177]

【化42】 [Chemical 42]

【0178】樹脂〔A〕の合成例21〜28:〔A−2
1〕〜〔A−28〕 樹脂〔A〕の合成例20と同様にして、下記表−Cに示
す成分に相当する単量体60g、マクロモノマー40g
及びメルカプト化合物0.04モルを用いて重合反応を
行なった。
Synthesis Examples 21 to 28 of Resin [A]: [A-2
1] to [A-28] In the same manner as in Synthesis Example 20 of Resin [A], 60 g of a monomer corresponding to the components shown in Table C below and 40 g of a macromonomer.
And 0.04 mol of the mercapto compound was used to carry out the polymerization reaction.

【0179】得られた共重合体のMwは6×103 〜9
×103 であった。
The Mw of the obtained copolymer was 6 × 10 3 to 9
It was × 10 3 .

【0180】[0180]

【表6】 [Table 6]

【0181】[0181]

【表7】 [Table 7]

【0182】[0182]

【表8】 [Table 8]

【0183】本発明の樹脂〔A〕の合成例29:〔A−
29〕 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート60
g、マクロモノマー(MM−4)25g、メチルアクリ
レート15g、トルエン150g及びイソプロパノール
50gの混合溶液を窒素気流下温度80℃に加温した。
A.C.V. 5gを加え5時間反応し更にA.C.
V. 1.0gを加え4時間反応した。得られた共重合
体のMwは9.8×103 であった。
Synthesis Example 29 of Resin [A] of the Present Invention: [A-
29] 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate 60
A mixed solution of g, 25 g of macromonomer (MM-4), 15 g of methyl acrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream.
A. C. V. 5 g was added and reacted for 5 hours. C.
V. 1.0 g was added and reacted for 4 hours. The Mw of the obtained copolymer was 9.8 × 10 3 .

【0184】[0184]

【化43】 [Chemical 43]

【0185】〔樹脂(B)の合成〕 樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 メチルアクリレート42.5g、アクリル酸2.5g、
2−カルボキシエチルN,N−ジエチルジチオカーバメ
ート:〔I−1〕7.6g及びテトラヒドロフラン50
gの混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度50℃
に加温した。これに、400Wの高圧水銀灯で10cm
の距離からガラスフィルターを通して、8時間光照射し
光重合した。
[Synthesis of Resin (B)] Synthesis Example of Resin [B] 1: [B-1] 42.5 g of methyl acrylate, 2.5 g of acrylic acid,
2-Carboxyethyl N, N-diethyldithiocarbamate: [I-1] 7.6 g and tetrahydrofuran 50
The mixture of g was sealed in a container under a nitrogen stream and the temperature was 50 ° C.
Warmed to. 10 cm with a 400 W high pressure mercury lamp
Light was irradiated from a distance of 8 hours through a glass filter for 8 hours for photopolymerization.

【0186】この反応物を石油エーテル500ミリリッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集・乾燥した。得られた重
合体は収量41gでMw1.0×104 であった。更
に、上記重合体(高分子開始剤となる)10g、メチル
メタクリレート65g、メチルアクリレート25g及び
テトラヒドロフラン100gの混合物を、窒素気流下に
温度50℃とした。これに上記と同条件で光照射し、1
0時間光重合した。得られた混合物をメタノール1リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集・乾燥した。得られたブ
ロック重合体は収量85gでMw8.5×104 であっ
た。
The reaction product was reprecipitated in 500 ml of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The yield of the obtained polymer was 41 g, and the Mw was 1.0 × 10 4 . Further, a mixture of 10 g of the above-mentioned polymer (which serves as a polymer initiator), 65 g of methyl methacrylate, 25 g of methyl acrylate and 100 g of tetrahydrofuran was heated to 50 ° C. under a nitrogen stream. This is irradiated with light under the same conditions as above, and 1
Photopolymerized for 0 hours. The obtained mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. The yield of the obtained block polymer was 85 g, and the Mw was 8.5 × 10 4 .

【0187】[0187]

【化44】 [Chemical 44]

【0188】樹脂〔B−2〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート67g、メチルアクリレート33
g、ベンジルN−エチル−N−(2−カルボキシルエチ
ルジチオカーバメート:〔I−2〕2.2g及びテトラ
ヒドロフラン100gの混合溶液を窒素気流下温度50
℃とした。これに合成例1と同様の光照射条件で8時間
光重合した。反応混合物を、メタノール1リットル中に
再沈し、沈殿物を捕集・乾燥して、Mw8×104 の重
合体を収量85gで得た。上記重合体85g、メチルメ
タクリレート14g、メタクリル酸1g及びテトラヒド
ロフラン150gの混合物を窒素気流下に温度50℃と
した。これを、合成例1と同様の光照射条件下で16時
間光重合した。反応物をメタノール1リットル中に再沈
し、沈殿物を捕集・乾燥して、Mw9.5×104のブ
ロック共重合体を収量83gで得た。
Synthesis Example 2 of Resin [B-2]: [B-2] 67 g of methyl methacrylate, 33 g of methyl acrylate
g, benzyl N-ethyl-N- (2-carboxyethyldithiocarbamate: [I-2] 2.2 g and a mixed solution of 100 g of tetrahydrofuran under a nitrogen stream at a temperature of 50.
℃ was made. This was photopolymerized under the same light irradiation conditions as in Synthesis Example 1 for 8 hours. The reaction mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a polymer having a Mw of 8 × 10 4 in a yield of 85 g. A mixture of 85 g of the above polymer, 14 g of methyl methacrylate, 1 g of methacrylic acid and 150 g of tetrahydrofuran was heated to 50 ° C. under a nitrogen stream. This was photopolymerized for 16 hours under the same light irradiation conditions as in Synthesis Example 1. The reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a block copolymer with an Mw of 9.5 × 10 4 in a yield of 83 g.

【0189】[0189]

【化45】 [Chemical 45]

【0190】樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 エチルメタクリレート80g及びトルエン200gの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20℃に冷却し
た。次いで1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリ
チウム2.0gを加え、12時間攪拌した。更にこの混
合物にメチルメタクリレート19g及び4−ビニルフェ
ニルカルボニルオキシトリメチルシラン1.5gを加え
12時間反応した後、二酸化炭素気流下に2時間そのま
ま反応し、更に温度0℃で2時間反応した。
Synthesis Example 3 of Resin [B]: [B-3] A mixed solution of 80 g of ethyl methacrylate and 200 g of toluene was sufficiently deaerated under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C. Next, 2.0 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added, and the mixture was stirred for 12 hours. Further, 19 g of methyl methacrylate and 1.5 g of 4-vinylphenylcarbonyloxytrimethylsilane were added to this mixture and reacted for 12 hours, then reacted for 2 hours as it was under a carbon dioxide stream, and further reacted for 2 hours at a temperature of 0 ° C.

【0191】この反応混合物に、30%塩酸10gを含
有したメタノール溶液1リットルを30分間で攪拌下に
滴下し、そのまま1時間攪拌した。析出した粉末を濾別
し、更にメタノールで洗浄し、乾燥した。収量75gで
Mw6.5×104 のブロック共重合体を得た。
To this reaction mixture, 1 liter of a methanol solution containing 10 g of 30% hydrochloric acid was added dropwise over 30 minutes with stirring, and the mixture was stirred for 1 hour as it was. The precipitated powder was filtered off, washed with methanol and dried. A block copolymer having an Mw of 6.5 × 10 4 was obtained with a yield of 75 g.

【0192】[0192]

【化46】 [Chemical 46]

【0193】樹脂〔B〕の合成例4〜13:〔B−4〕
〜〔B−13〕 樹脂〔B〕の合成例2と同様の反応方法で、下記表−D
に示す樹脂〔B〕を合成した。得られた各重合体のMw
は7×104 〜9×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 4 to 13 of Resin [B]: [B-4]
~ [B-13] In the same reaction method as in Synthesis Example 2 of Resin [B], the following Table-D was used.
The resin [B] shown in was synthesized. Mw of each polymer obtained
Was in the range of 7 × 10 4 to 9 × 10 4 .

【0194】[0194]

【表9】 [Table 9]

【0195】[0195]

【表10】 [Table 10]

【0196】[0196]

【表11】 [Table 11]

【0197】樹脂〔B〕の合成例14〜20:〔B−1
4〕〜〔B−20〕 樹脂〔B−1〕の合成例において、開始剤〔I−1〕
7.6gの代わりに、下記表−Eの各開始剤4.2×1
-3モルを用いた他は、合成例1と同様にして、各ブロ
ック共重合体を合成した。各共重合体のMwは8×10
4 〜10×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 14 to 20 of Resin [B]: [B-1
4] to [B-20] In the synthesis example of the resin [B-1], the initiator [I-1]
Instead of 7.6 g, 4.2 x 1 of each initiator shown in Table-E below.
0 -3 other with moles, in the same manner as in Synthesis Example 1, it was synthesized the block copolymer. Mw of each copolymer is 8 × 10
It was in the range of 4 to 10 × 10 4 .

【0198】[0198]

【表12】 [Table 12]

【0199】樹脂〔B〕の合成例21〜30:〔B−2
1〕〜〔B−30〕 下記表−Fに相当する各重合体を合成例〔B−2〕の方
法と同様に光重合反応で重合した。
Synthesis Examples 21 to 30 of Resin [B]: [B-2
1] to [B-30] Each polymer corresponding to the following Table-F was polymerized by a photopolymerization reaction in the same manner as in the method of Synthesis Example [B-2].

【0200】[0200]

【表13】 [Table 13]

【0201】[0201]

【表14】 [Table 14]

【0202】実施例1及び比較例1〜3 (実施例1)樹脂〔A−7〕7g(固形分量として)、
下記構造の樹脂〔B−1〕33g(固形分量として)、
光導電性酸化亜鉛200g、下記構造のメチン色素
〔I〕0.017g、無水フタル酸0.18g及びトル
エン300gの混合物を、ホモジナイザー(日本精機
(株)製)中で6×103 r.p.m.の回転数で7分
間分散した。この感光層形成用分散物を導電処理した紙
に乾燥付着量が25g/m2となるようにワイヤーバー
で塗布し、100℃で30秒間乾燥した。ついで暗所で
20℃、65%RHの条件下で24時間放置することに
より、電子写真感光材料を作製した。
Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 (Example 1) 7 g of resin [A-7] (as solid content),
33 g of resin [B-1] having the following structure (as solid content),
A mixture of 200 g of photoconductive zinc oxide, 0.017 g of methine dye [I] having the following structure, 0.18 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was added in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at 6 × 10 3 r.p. p. m. Was dispersed for 7 minutes at the rotation speed of. This photosensitive layer-forming dispersion was applied to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 30 seconds. Then, the mixture was left in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material.

【0203】[0203]

【化47】 [Chemical 47]

【0204】比較例1:実施例1において、樹脂〔B−
1〕33gの代わりに下記構造の樹脂〔R−1〕33g
を用いた他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光
材料を作製した。
Comparative Example 1 In Example 1, the resin [B-
1] 33 g of resin [R-1] having the following structure instead of 33 g
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that was used.

【0205】[0205]

【化48】 [Chemical 48]

【0206】比較例2:実施例1において、樹脂〔B−
1〕33gの代わりに下記構造の樹脂〔R−2〕33g
とした他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。
Comparative Example 2: In Example 1, the resin [B-
1] 33 g of resin [R-2] having the following structure instead of 33 g
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that.

【0207】[0207]

【化49】 [Chemical 49]

【0208】比較例3:実施例1において、樹脂〔B−
1〕33gの代わりに下記構造の樹脂〔R−3〕33g
とした他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。
Comparative Example 3: In Example 1, the resin [B-
1] 33 g of resin [R-3] having the following structure instead of 33 g
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that.

【0209】[0209]

【化50】 [Chemical 50]

【0210】これらの感光材料については、静電特性、
撮像性及び環境条件(20℃、65%RH)及び(30
℃、80%RH)とした時の撮像性を調べた。以上の結
果を表−Gに示す。
For these photosensitive materials, the electrostatic characteristics,
Imaging and environmental conditions (20 ° C, 65% RH) and (30
The image pick-up property when the temperature was 80 ° C. and 80% RH was examined. The above results are shown in Table-G.

【0211】[0211]

【表15】 [Table 15]

【0212】表−Gに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1)光導電層の強度:得られた感光材料表面をヘイド
ン−14型表面性試験材(新東化学(株)製)をもちい
て荷重50g/cm2 のものでエメリー紙(#100
0)で1000回繰り返し探り磨耗粉を取り除き感光層
の重量減少から残膜率(%)を求め機械的強度とした。 注2)静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー(川口電機(株)製
ペーパーアナライザーSP−428型)を用いて−6k
Vで20秒間コロナ放電させた後、10秒間放置し、こ
の時の表面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中で
90秒間静置させた後の電位V100 を測定し、90秒間
暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率
〔DRR(%)〕を(V100/V10)×100(%)で
求めた。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-G are as follows. Note 1) Strength of photoconductive layer: The surface of the obtained light-sensitive material was emery paper (# 100) with a load of 50 g / cm 2 using Haydon-14 type surface test material (manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.).
0) was repeated 1000 times to remove the abrasion powder, and the residual film rate (%) was calculated from the weight reduction of the photosensitive layer to obtain the mechanical strength. Note 2) Electrostatic characteristics: In a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH,
-6k using a paper analyzer (Paper Analyzer SP-428 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) for each light-sensitive material
After corona discharge was performed for 20 seconds at V, the surface potential V 10 at this time was measured after standing for 10 seconds. Then, the potential V 100 after standing still in the dark for 90 seconds was measured, and the potential retention after dark decay for 90 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)] was calculated as (V 100 / V 10 ) × 100 (%).

【0213】又コロナ放電により光導電層表面を−40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/10(erg/cm
2 )を算出する。又、同様の表面電位(V10)が1/1
00に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/100 (erg/cm2)を算出する。測定時の環境条
件は、20℃、65%RH(I)と30℃、80%RH
(II)で行なった。 注3)撮像性:各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放
置した後、各感光材料を−6kVで帯電し、光源として
2.8mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体
レーザー(発振波長780nm)を用いて、感光材料表
面上で64erg/cm2 の照射量下、ピッチ25μm
及びスキャニング速度300m/secのスピード露光
後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム
(株)製)を用いて現像し、イソパラフィンアイソパー
G(エッソ化学(株)製)溶媒のリンス液で洗浄後定着
することが得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を
目視評価した。
The surface of the photoconductive layer was -40 by corona discharge.
After being charged to 0 V, the surface of the photoconductive layer was gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm).
The time until the surface potential (V 10 ) is attenuated to 1/10 by irradiation with light is calculated, and from this, the exposure amount E 1/10 (erg / cm
2 ) is calculated. Also, the same surface potential (V 10 ) is 1/1
The time until it decays to 00 is calculated, and from this, the exposure amount E
Calculate 1/100 (erg / cm 2 ). Environmental conditions at the time of measurement are 20 ° C, 65% RH (I) and 30 ° C, 80% RH
(II). Note 3) Imaging property: After leaving each light-sensitive material under the following environmental conditions for one day and night, each light-sensitive material is charged at −6 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) is used as a light source. With a pitch of 25 μm on the surface of the photosensitive material under an irradiation amount of 64 erg / cm 2.
And, after speed exposure with a scanning speed of 300 m / sec, as a liquid developer, ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used for development and isoparaffin Isopar G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) as a solvent rinse solution. The copied image (fogging, image quality) obtained by fixing after washing was visually evaluated.

【0214】撮像時の環境条件は20℃65%RH
(I)と30℃80%RH(II)で実施した。表−Gに
示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実
際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。一方、比較例1、2及び3は、光感度(E1/10及び
1/100 )の低下が生じ、実際の複写画像でも微かな細
線・文字等のカスレや、リンス処理した後でも地カブリ
が除去されずに残存してしまった。又、静電特性とは一
致しないが、複写原稿の連続階調部分の中間濃度でのム
ラの発生が生じてしまった。
Environmental conditions at the time of imaging are 20 ° C. and 65% RH
(I) and 30 ° C. 80% RH (II). As shown in Table-G, the light-sensitive material of the present invention had good electrostatic characteristics, and the actual copied image had no background fog and the copied image quality was clear. On the other hand, in Comparative Examples 1, 2 and 3, the photosensitivity (E 1/10 and E 1/100 ) was lowered, and even in the actual copy image, fine lines, letters and the like were scratched, and the background was observed even after the rinse treatment. The fog remained without being removed. Further, although it does not match the electrostatic characteristic, unevenness occurs in the intermediate density of the continuous tone portion of the copy document.

【0215】本発明の感光体と比較例の感光体とではE
1/100 値が大きく異なる。E1/100値は、実際の撮像性
において、露光後、非画像部(既に露光された部位)に
どれだけの電位が残っているかを示すものであり、この
値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる
事を示す。具体的には−10V以下の残留電位にするこ
とが必要となり、即ち実際にはVR −10V以下とする
ために、どれだけ露光量が必要となるかということで、
半導体レーザー光によるスキャニング露光方式では、小
さい露光量でVR を−10V以下にすることは、複写機
の光学系の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度
等)非常に重要なことである。
[0215] The photoreceptor of the present invention and the photoreceptor of the comparative example have E
1/100 value is greatly different. The E 1/100 value indicates how much potential remains in the non-image portion (exposed portion) after exposure in the actual image pickup property. It indicates that the image area is free of background stains. Specifically, it is necessary to set the residual potential to −10 V or less, that is, how much exposure amount is required to set V R −10 V or less,
The scanning exposure method according to the semiconductor laser beam, to a V R below -10V with a small amount of exposure, (cost of the device, the accuracy of the optical system optical path, etc.) optical system design of the copying machine is very important is there.

【0216】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体
が得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式
の感光体システムに優位になることが明らかとなった。 実施例2 樹脂〔A−9〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
2〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛20
0g、下記構造のメチン色素(II)0.020g、N−
ヒドロキシマレインイミド0.20g及びトルエン30
0gの混合物を、実施例1と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
From the above, an electrophotographic photosensitive member satisfying the electrostatic characteristics and the image pick-up property can be obtained only when the resin of the present invention is used, and it is particularly advantageous for a semiconductor laser light scanning exposure type photosensitive system. It became clear. Example 2 Resin [A-9] 6 g (as solid content), Resin [B-
2] 34 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
0 g, 0.020 g of methine dye (II) having the following structure, N-
Hydroxymaleimide 0.20g and toluene 30
An electrophotographic light-sensitive material was produced by operating 0 g of the mixture in the same manner as in Example 1.

【0217】[0217]

【化51】 [Chemical 51]

【0218】この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、
静電特性、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。これ
らの結果を表−Hに示す。
The film properties (surface smoothness) of this photosensitive material,
The electrostatic characteristics, the imaging characteristics, and the electrostatic characteristics and the imaging characteristics were examined when the environmental conditions were 30 ° C. and 80% RH. Furthermore, the printability when used as an original plate for electrophotographic lithographic printing was examined. The results are shown in Table-H.

【0219】[0219]

【表16】 [Table 16]

【0220】表−Hに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注4)表面層の平滑性:得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1c
cの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測定し
た。 注5)水との接触角:各感光材料を不感脂化処理液EP
L−EX(富士写真フイルム(株)製)を蒸留水を2倍
に稀釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。 注6)耐刷性:前記注2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記注5)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所(株)製オリバー52型)に
かけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問
題が生じないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い
程、耐刷性が良好なことを表わす。)表−Hに示す様
に、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性膜の機械的
強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も地カブリ
がなく複写画質も鮮明であった。このことは光導電体と
結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被覆してい
ることによるものと推定される。同様の理由で、オフセ
ットマスター原版として用いた場合でも不感脂化処理液
により不感脂化処理が充分に進行し、非画像部の水との
接触角が0°と小さく、充分に親水化されていることが
判る。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚
れは全く認められず、鮮明な画質の印刷物が1万枚得ら
れた。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-H are as follows. Note 4) Smoothness of surface layer: The photosensitive material obtained was measured using a Beck's smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) with an air capacity of 1 c.
The smoothness (sec / cc) was measured under the condition of c. Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material is desensitized EP
A solution of L-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluted with distilled water twice is used for an etching processor.
The surface of the photoconductive layer is passed around to be desensitized, and then a drop of distilled water (2 μl) is placed on the surface, and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer. Note 6) Printing durability: Under the same conditions as those of the above-mentioned Note 2), plate making was performed to form a toner image, and desensitization processing was performed under the same conditions as the above Note 5), and this was used as an offset master. Shows the number of prints that can be printed on an offset printing machine (Oliver 52 type, manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) without causing scumming on the non-image area of the printed matter and on the image quality of the image area. As shown in Table-H, the light-sensitive material of the present invention has good mechanical strength and electrostatic properties of the smooth film of the photoconductive layer, and the actual copy image has no background fog. The copy quality was also clear. It is presumed that this is because the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed and the particle surface is covered. For the same reason, even when it is used as an offset master original plate, the desensitizing treatment is sufficiently advanced by the desensitizing treatment liquid, the contact angle with water of the non-image area is as small as 0 °, and it is sufficiently hydrophilized. I know that there is. Even when the print was actually printed and the print stain was observed, the print stain was not observed at all, and 10,000 prints with clear image quality were obtained.

【0221】以上のことは、本発明の樹脂〔A〕と樹脂
〔B〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔B〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例3〜20 実施例2において、樹脂〔A−9〕及び樹脂〔B−2〕
に代えて、下記表−Iの各樹脂〔A〕及び各樹脂〔B〕
に代えた他は、実施例2と同様に操作して、各電子写真
感光体を作製した。
As described above, the resin [A] and the resin [B] of the present invention appropriately interact with the zinc oxide particles, and the desensitizing reaction by the desensitizing treatment liquid easily and easily proceeds. It shows that the state is formed and the film strength is remarkably improved by the action of the resin [B]. Examples 3 to 20 In Example 2, resin [A-9] and resin [B-2]
Instead of, each resin [A] and each resin [B] in the following Table-I
In the same manner as in Example 2 except that the above was replaced with, electrophotographic photosensitive members were produced.

【0222】[0222]

【表17】 [Table 17]

【0223】実施例2と同様にして静電特性を測定した
所、いずれも良好な結果を示した。又、これらの感光材
料の実際の操作性を調べた所、細線・文字の再現性良好
で中間調のムラの発生もなく、地カブリの全くない鮮明
な複写画像のものが得られ、又、オフセットマスター原
版として用いて、実施例2と同様にして印刷した所、い
ずれも少なくとも1万枚以上印刷することができた。
When electrostatic properties were measured in the same manner as in Example 2, all showed good results. Further, when the actual operability of these light-sensitive materials was examined, fine reproducibility of fine lines / characters was not generated, halftone unevenness was not generated, and clear copy images having no background fog were obtained. When used as an offset master original plate and printed in the same manner as in Example 2, at least 10,000 sheets or more could be printed.

【0224】以上から、本発明の各感光材料は光導電層
の平滑性、膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点にお
いて良好なものであった。 実施例21〜24 実施例1において用いた、メチン色素〔I〕の代わりに
下記表−Jの色素に代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
From the above, each of the light-sensitive materials of the present invention was good in all of the smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer. Examples 21 to 24 Electrophotographic photosensitive materials were produced under the same conditions as in Example 1 except that the methine dye [I] used in Example 1 was replaced with the dyes shown in Table J below.

【0225】[0225]

【表18】 [Table 18]

【0226】[0226]

【表19】 [Table 19]

【0227】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の(30℃、8%RH)の過酷な条件においても、地
カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。 実施例25及び26並びに比較例4 樹脂〔A−19〕(実施例25)又は樹脂〔A−29〕
(実施例26)のいずれか6.5g、樹脂〔B−6〕3
3.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、ロ
ーズベンガル0.035g、ブロムフェノールブルー
0.025g、p−ヒドロキシ安息香酸0.18g及び
トルエン300gの混合物をホモジナイザー中で回転数
7×103 r.p.m.で5分間分散して感光層形成物
を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25
g/m2 となる様にワイヤーバーで塗布し、110℃で
20秒間乾燥した。次いで暗所で20℃、65%RHの
条件下で24時間放置することにより各電子写真感光体
を作製した。 比較例4 実施例25において、樹脂〔B−6〕33.5gの代わ
りに、前記比較用樹脂〔R−2〕33.5gを用いた他
は、実施例25と同様にして、感光材料を作製した。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention rate, and photosensitivity, and actual copied images can be obtained even under severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 8% RH). It gave a clear image with no background fog. Examples 25 and 26 and Comparative Example 4 Resin [A-19] (Example 25) or Resin [A-29]
6.5 g of any of (Example 26), resin [B-6] 3
A mixture of 3.5 g, 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.035 g of rose bengal, 0.025 g of bromphenol blue, 0.18 g of p-hydroxybenzoic acid and 300 g of toluene was rotated in a homogenizer at a rotation speed of 7 × 10 3 r. . p. m. For 5 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, and apply it to a paper that has been subjected to conductive treatment so that the dry adhesion amount is 25
It was coated with a wire bar so as to be g / m 2 and dried at 110 ° C. for 20 seconds. Next, each electrophotographic photosensitive member was prepared by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. Comparative Example 4 A photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 25 except that 33.5 g of the resin [B-6] was used instead of 33.5 g of the resin [B-6]. It was made.

【0228】実施例2と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Kにまとめた。
In the same manner as in Example 2, each characteristic of each photosensitive material was examined. The results are summarized in Table-K below.

【0229】[0229]

【表20】 [Table 20]

【0230】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行なった。 注6)静電特性のE1/10及びE1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で
照射し、表面電位(V10)が1/10又はE1/100 に減
衰するまでの時間を求め、これから露光量E1/10又はE
1/100 (ルックス・秒)を算出する。 注7)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)
製)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮
像時の環境条件は、20℃65%RH(I)と30℃8
0%RH(II)で実施した。但し、複写用の原稿(即
ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込
みを行なって作成したものを用いた。
In the above measurement, the electrostatic properties and the image pickup properties were the same as in Example 1 except that the following operations were performed. Note 6) Method for measuring E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was exposed to visible light with an illuminance of 2.0 lux. The time until the surface potential (V 10 ) decays to 1/10 or E 1/100 after irradiation is determined, and from this, the exposure amount E 1/10 or E
Calculate 1/100 (lux seconds). Note 7) Imaging property After leaving each light-sensitive material for 1 day under the following environmental conditions, fully automatic plate-making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Manufactured by EPL-T as a toner, and a copy image (fog, image quality of the image) obtained by plate making was visually evaluated. The environmental conditions at the time of imaging are 20 ° C 65% RH (I) and 30 ° C 8
Performed at 0% RH (II). However, the original for copying (that is, the original copy) was prepared by cutting out and pasting other originals.

【0231】各感光材料において、光導電層の平滑性及
び強度において、その差は認められなかった。本発明の
感光材料の静電特性は良好であり、更に、特定の置換基
を有する樹脂〔A〕を用いた実施例26は、非常に良好
であり、特にE1/100 の値が小さくなった。
In each light-sensitive material, no difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer. The electrostatic characteristics of the photographic material of the present invention are good, and Example 26 using the resin [A] having a specific substituent is very good, and especially the value of E 1/100 is small. It was

【0232】実際の撮像性を調べて見ると、比較例4
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとし
て認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地
汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。更に、これ
らをオフセット印刷用原版として不感脂化処理して印刷
した所、本発明のものはいずれも地汚れのない鮮明な画
質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比較例4は、上
記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去されず、刷り
出しの印刷物から発生してしまった。
Examination of the actual image pickup property shows that Comparative Example 4
In addition to the original as a copy image, the frame (that is, the trace of pasting) of the part cut out and stuck was recognized as the background stain of the non-image part. However, in all cases of the present invention, clear images having no background stain were obtained. Further, when these were subjected to a desensitizing treatment as offset printing original plates and printed, all of the present invention produced 10,000 printed matters with clear image quality without background stains. However, in Comparative Example 4, the above-mentioned sticking mark was not removed even by the desensitizing treatment, and was generated from the printed matter.

【0233】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例27〜42 実施例25において、樹脂〔A−19〕6.5g及び樹
脂〔B−6〕33.5gの代わりに、下記表−Lの樹脂
〔A〕6.5g及び樹脂〔B〕33.5gを用いた他
は、実施例25と同様にして各感光材料を作製した。
From the above, only the light-sensitive material of the present invention could give good characteristics. Examples 27 to 42 In Example 25, instead of 6.5 g of resin [A-19] and 33.5 g of resin [B-6], 6.5 g of resin [A] and resin [B] of the following Table-L. Each light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 25 except that 33.5 g was used.

【0234】[0234]

【表21】 [Table 21]

【0235】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の過酷な条件においても地カブ
リの発生のない鮮明な画像を与えた。更にオフセットマ
スター原版として印刷した所、1万枚印刷しても地汚れ
の発生のない鮮明な画質の印刷物が得られた。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention rate and photosensitivity, and the actual copied image also causes fog in the harsh conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH). Gave a clear image. Further, when printed as an offset master original plate, a printed matter having a clear image quality with no background stain was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0236】更に、特定のアリール基を置換基とするメ
タクリレートを含有する樹脂〔A〕の感光体はより良好
な性能を示した。
Further, the photoreceptor of the resin [A] containing a methacrylate having a specific aryl group as a substituent showed better performance.

【0237】[0237]

【発明の効果】本発明によれば、静電特性(とくに厳し
い条件下での静電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。式(Ia)又は(I
b)で示される特定のメタクリレート成分を含有する繰
り返し単位を本発明の樹脂に用いることにより、更に静
電特性が向上する。
According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having a clear and high-quality image excellent in electrostatic characteristics (especially electrostatic characteristics under severe conditions) and further having excellent mechanical strength. Can be obtained. In particular, it is effective for a scanning exposure method using semiconductor laser light. Formula (Ia) or (I
By using the repeating unit containing the specific methacrylate component represented by b) in the resin of the present invention, the electrostatic characteristics are further improved.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A1 〕及び樹
脂〔A2 〕のうちの少なくとも1種並びに下記樹脂
〔B〕の少なくとも1種を各々含有して成ることを特徴
とする電子写真感光体。 樹脂〔A1 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上含有する重合体主鎖の一方の末端にの
み下記一般式(II)で示される重合性二重結合基を結
合して成る重量平均分子量2×104 以下の一官能性マ
クロモノマー(M1 )と、該一般式(I)で示される繰
り返し単位に相当するモノマーとから少なくとも成る共
重合体であって、且つ該共重合体主鎖の片末端に−PO
3 2 、−SO3 H、−COOH、−P(=O)(O
H)R1 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化
水素基を表す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択さ
れる少なくとも1種の極性基を結合して成る樹脂。 樹脂〔A2 〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上及び上記樹脂〔A1 〕で示される特定
の極性基から選択される少なくとも一種の極性基を含有
する重合体成分を1〜50重量%含有する重合体主鎖の
一方の末端にのみ下記一般式(II)で示される重合性
二重結合基を結合して成る重量平均分子量2×104
下の一官能性マクロモノマー(M2 )と、該一般式
(I)で示される繰り返し単位に相当するモノマーとか
ら少なくとも成る共重合体である樹脂。 【化1】 〔式(I)中、a1 、a2 は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R3 は炭化水素基
を表す。〕 【化2】 〔式(II)中、R4 は−COO−、−OCO−、−C
2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−SO
2 −、−CO−、−CON(R5 )−、−SO2 N(R
5 )−(ここでR5 は水素原子又は炭化水素基を表わ
す)、−CONHCOO−、−CONHCONH−又は
−C6 4 −を表わす。b1 及びb2 は、互いに同じで
も異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、炭化水素基、−COOR6 又は炭化水素を介した
−COOR6 (ここでR6 は置換されてもよい炭化水素
基を表す)を表す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、上記
樹脂〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから選択さ
れる少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分を少
なくとも1種含有するAブロックと上記樹脂〔A1 〕で
示される一般式(I)で示される重合体成分を少なくと
も含有するBブロックとから構成されるABブロック共
重合体から成り、且つAブロックにおいて、Bブロック
と結合する反対側の重合体主鎖の末端に上記樹脂
〔A1 〕で示される特定の極性基のうちから選択される
少なくとも1種の極性基を結合してなる樹脂。
1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, wherein the binder resin is the following resin [A 1 ] or resin [A 2 ] ] And at least one of the following resins [B]. An electrophotographic photosensitive member comprising: Resin [A 1 ] One of the polymer main chains having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and containing a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component in an amount of 30% by weight or more. A monofunctional macromonomer (M 1 ) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less, which is formed by bonding a polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) only to the terminal of the general formula (I) Is a copolymer comprising at least a monomer corresponding to the repeating unit represented by
3 H 2 , -SO 3 H, -COOH, -P (= O) (O
H) R 1 [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] and a resin formed by bonding at least one polar group selected from a cyclic acid anhydride group .. Resin [A 2 ] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and containing a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component in an amount of 30% by weight or more and the above resin [A 1 ]. The polymerizability represented by the following general formula (II) only at one terminal of the polymer main chain containing 1 to 50% by weight of a polymer component containing at least one polar group selected from the specific polar groups shown. Copolymer containing at least a monofunctional macromonomer (M 2 ) having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 or less formed by bonding a double bond group and a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I). Resin that is a united body. [Chemical 1] [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 3 represents a hydrocarbon group. ] [Chemical 2] [In the formula (II), R 4 is —COO—, —OCO—, —C
H 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - SO
2 -, - CO -, - CON (R 5) -, - SO 2 N (R
5) - (wherein R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), - CONHCOO -, - CONHCONH- or -C 6 H 4 - represents a. b 1 and b 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COOR 6 (wherein R 6 through a -COOR 6 or hydrocarbons substituted Represents a good hydrocarbon group). Resin [B] having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the above resin [A 1 ]. An AB block copolymer composed of an A block containing at least one polymer component and a B block containing at least one polymer component represented by the general formula (I) represented by the resin [A 1 ]. In the A block, at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the above resin [A 1 ] is bonded to the end of the polymer main chain on the opposite side to which the B block is bonded. Resin.
【請求項2】 上記樹脂〔A2 〕が、更に上記樹脂〔A
1 〕で示される特定の極性基のうちから選択される少な
くとも1種の極性基を共重合体主鎖の末端に結合して成
ることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。
2. The resin [A 2 ] further comprises the resin [A 2 ].
[1 ] The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein at least one polar group selected from the specific polar groups represented by [ 1 ] is bonded to the terminal of the main chain of the copolymer.
【請求項3】 上記樹脂〔A1 〕又は〔A2 〕が、一般
式(I)で示される重合体成分として下記一般式(I
a)及び下記一般式(Ib)で示されるアリール基含有
のメタクリレート成分のうちの少なくとも1つを含有す
ることを特徴とする請求項1又は2記載の電子写真感光
体。 【化3】 【化4】
〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互いに独
立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、−COR7 又は−COOR7 (R
7 は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B1
及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結
合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
3. The resin [A 1 ] or [A 2 ] as a polymer component represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (I
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2, containing at least one of a) and an aryl group-containing methacrylate component represented by the following general formula (Ib). [Chemical 3] [Chemical 4]
[In formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, —COR 7 or —COOR 7 (R
7 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B 1
And B 2 each represent a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms for connecting —COO— and the benzene ring. ]
【請求項4】 上記樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
記樹脂〔A1 〕及び〔A2 〕中に含有される特定の極性
基含有重合体成分の総量に対し10重量%〜50重量%
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載
の電子写真感光体。
4. In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is specified in the resins [A 1 ] and [A 2 ]. 10% to 50% by weight based on the total amount of the polar group-containing polymer component
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein
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