JPH05330843A - 光ファイバ用母材の製造方法 - Google Patents

光ファイバ用母材の製造方法

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Publication number
JPH05330843A
JPH05330843A JP16331992A JP16331992A JPH05330843A JP H05330843 A JPH05330843 A JP H05330843A JP 16331992 A JP16331992 A JP 16331992A JP 16331992 A JP16331992 A JP 16331992A JP H05330843 A JPH05330843 A JP H05330843A
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JP
Japan
Prior art keywords
rod
burner
optical fiber
angle
flame
Prior art date
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Pending
Application number
JP16331992A
Other languages
English (en)
Inventor
Kohei Nishioka
耕平 西岡
Koichi Harada
光一 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP16331992A priority Critical patent/JPH05330843A/ja
Publication of JPH05330843A publication Critical patent/JPH05330843A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C03B37/0142—Reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/60—Relationship between burner and deposit, e.g. position
    • C03B2207/64—Angle

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 石英系ガラスロッドの外周にクラッド部を形
成するに際して、ロッドの垂線に対するバーナーの角度
を50°以下、好ましくは10°〜40°に傾斜させて
配置し、粒子をロッド上に堆積させる光ファイバ用母材
の製造方法。 【効果】 温度分布が広くなり、サーモホレシス現象を
効果的に利用し生成した粒子を能率よく堆積させること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光通信、エネルギー
伝送、直接画像伝送路として利用される光ファイバの母
材の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光ファイバは光ファイバ用母材を溶融線
引きして得られるが、この光ファイバ用母材の製造方法
に外付法がある。この方法は周知のように図3に示す如
く、少なくとも光ファイバのコアとなる部分を含む透明
な石英系ガラスロッドを出発部材としてこれを回転させ
ながら、その軸に沿って例えば複数の同心多重管バーナ
ーをトラバースさせて火炎加水分解反応によりその外周
に、光ファイバのクラッドとなるガラス微粉末(スー
ト)を堆積させて多孔質のスート層を形成し、次いで、
加熱炉内にてHeガス雰囲気中で焼成して透明なガラス
化された光ファイバ用母材とする方法であるが、その際
バーナー2はロッド1に対して直角に配置して行なって
いた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の外付
法では、上記の如き焼成に際してバーナーの炎のロッド
2の上部における温度分布3bは前記図3に示したよう
に、ロッド1の下部におけるバーナー2の火炎の幅と略
等しく狭い。一般にバーナーから出てくる原料例えばS
iCl4 が炎の中で化学反応によりSiO2 粒子とな
り、ロッド上に堆積するが、この粒子は炎内をサーモホ
レシス(Thermophoresis)現象に従い移
動する性質を持っている。このサーモホレシス現象と
は、大気中の熱エネルギー差(温度差)により粒子が低
エネルギー(低温度)の方へ移動して行く現象である。
前記の従来の技術によると、上記のようにバーナー2の
ロッド1に対する角度が直角であるので炎の当たる面積
が小さく、しかも炎内での温度分布3が極端なために、
粒子が移動する性質を生かしきれず、そのためにロッド
1に粒子が付着し難く原料が無駄になっているのが現状
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の如き
課題を解決するために改良されたもので、ロッドの垂線
に対してバーナーを傾斜させてスートをロッド上に堆積
させることを特徴とする光ファイバ用母材の製造方法で
あり、これによりサーモホレシス効果を活用して粒子の
付着率を上昇させ、ロッド上に堆積する速度を上昇させ
るものである。なお、上記バーナーのロッドの垂線に対
する角度は50°以下、好ましくは10°〜40°とさ
れる。
【0005】
【実施例】本発明におけるロッドの垂線とバーナーの角
度は、図1に示すようにロッド1の垂線に対してバーナ
ー2の角度αを50°以下に傾斜させて配置している。
しかるときロッド上部の炎の温度分布3aは炎が傾斜し
てロッド1に当たっているのに対応して広くなってい
る。このようにしたものは、従来より炎の温度分布がな
だらかとなり、粒子がロッドに当たる率が上昇し、その
ため粒子の付着率が上がり、粒子の堆積速度すなわち単
位時間当たりの堆積量(重さ)が上昇した。図2は、バ
ーナーを傾斜させた本発明の方法のスートの堆積速度と
時間との関係を定性的に示したもので、図中破線は従来
のバーナーの角度0°の場合を示している。なお、本発
明において、ロッド1の垂線に対してバーナー2の角度
を50°以下に傾斜させているが、傾斜角度を50°以
下にした理由は以下のとおりである。角度を50°を超
えて大きくすると、炎のロッドまでの距離が非常に長い
ものが出来、結局生成した粒子が拡散し過ぎその堆積速
度が従来と変わらないことが確認されたためである。
又、50°以下といっても0では従来の技術であり、こ
れを超えて僅かでも傾斜させたものはそれだけ効果があ
る。尤も能率を考えると、10°〜40°が好ましい。
【0006】次に本発明の具体例について述べる。 具体例1:石英系ガラスロッドからなる少なくともコア
となる部分を含む出発部材の外周に外付法によりクラッ
ド部を形成するに際して、バーナーのロッドに対する角
度を10°に傾斜させてバーナーからSiCl4 を火炎
噴射せしめ、SiCl4 を火炎中でSiO2 粒子とし、
ロッド上に堆積させた。SiO2 粒子堆積量は従来と比
較して単位時間当たり8%上昇した。 具体例2:石英系ガラスロッドからなる少なくともコア
となる部分を含む出発部材の外周に外付法によりクラッ
ド部を形成するに際して、バーナーのロッドに対する角
度を30°に傾斜させてバーナーからSiCl4 を火炎
噴射せしめ、SiCl4 を火炎中でSiO2 粒子とし、
ロッド上に堆積させた。SiO2 粒子堆積量は従来と比
較して単位時間当たり10%上昇した。 具体例3:石英系ガラスロッドからなる少なくともコア
となる部分を含む出発部材の外周に外付法によりクラッ
ド部を形成するに際して、バーナーのロッドに対する角
度を40°に傾斜させてバーナーからSiCl4 を火炎
噴射せしめ、SiCl4 を火炎中でSiO2 粒子とし、
ロッド上に堆積させた。SiO2 粒子堆積量は従来と比
較して単位時間当たり8%上昇した。
【0007】
【発明の効果】この発明の製造方法によれば、従来の技
術とは異なり、サーモホレシス現象を有効に利用するこ
とができるので、バーナーによって生成される原料粒子
が短時間に効果的にロッドに付着するので、生産能率を
向上し、しかも原料ロスが少なくなるので製品コストを
低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ファイバ用母材の製造方法におけ
る、ロッドとバーナーの角度と温度の分布の説明図。
【図2】バーナーをロッドに対して傾斜させた場合(本
発明)と、90°にした場合(従来)の粒子の堆積速度
と時間の関係グラフ。
【図3】従来の光ファイバ用母材の製造方法における、
ロッドとバーナーの角度と温度の分布の説明図。
【符号の説明】
1 ロッド 2 バーナー 3a,3b 炎の温度分布

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 石英系ガラスロッドからなる少なくとも
    コアとなる部分を含む出発部材の外周に外付法によりク
    ラッド部を形成する光ファイバ用母材の製造方法におい
    て、バーナーをロッドの垂線に対して傾斜させて配置
    し、スートをロッド上に堆積させることを特徴とする光
    ファイバ用母材の製造方法。
  2. 【請求項2】 バーナーのロッドの垂線に対する角度が
    50°以下好ましくは10°〜40°であることを特徴
    とする請求項1記載の光ファイバ用母材の製造方法。
JP16331992A 1992-06-01 1992-06-01 光ファイバ用母材の製造方法 Pending JPH05330843A (ja)

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JPH05330843A true JPH05330843A (ja) 1993-12-14

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JP (1) JPH05330843A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030070223A (ko) * 2002-02-21 2003-08-29 주식회사 세미텔 광섬유 모재 제조장치
US7159418B2 (en) * 2000-08-18 2007-01-09 Shin-Etsu Chemical Co, Ltd. Method of producing synthetic quartz glass

Cited By (2)

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US7159418B2 (en) * 2000-08-18 2007-01-09 Shin-Etsu Chemical Co, Ltd. Method of producing synthetic quartz glass
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